CN107145005A - 适用于窄边框产品的框胶层曝光的基板 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及显示技术领域，公开了适用于窄边框产品的框胶层曝光的基板，该基板从上至下依次包括：CF玻璃层、遮光层和ITO层，其中，所述遮光层为非连续的，且包括连续遮光区和非连续遮光区。本发明除了提供窄边框产品技术外，基板中的框胶层依然能够维持完全遮挡水气，防止水气从遮光层窜入至CF玻璃层和TFT玻璃层之间的区域；本发明的适用于窄边框产品的框胶层曝光的基板在制作过程中不需要将基板翻转以进行曝光，从而缩短了生产周期。
Description
技术领域
本发明涉及显示技术领域，特别涉及显示器领域，具体涉及适用于窄边框产品的框胶层曝光的基板。
背景技术
2014年以后，窄边框显示器大行其道，如今这种潮流可以说是遍及各个显示领域。
手机也流行窄边框，电视也流行窄边框，就连一直滞后发展的笔记本电脑，也出现了窄边框的产品。
窄边框对于产品的品质提升，其作用也是非常明显的。窄边框可以让产品更加时尚，这是最直观的作用。采用窄边框设计的显示产品，对于尺寸的利用更有优势，同样的尺寸(包含外边框)，窄边框的产品屏幕显示面积更大，对于笔记本以及手机来说，意味着更小的机身，更大的尺寸。
对于大屏幕的显示器来说，产品的气质提升，对于追求时尚的用户来说也是很有意义的。
目前现有技术的窄边框设计是将框胶(Sealant)设计于遮光层(BM)上，由于BM本身不透光，这会导致框胶的接著力或是强度不足，因此现有技术中采用在TFT玻璃(又称T侧玻璃)对应框胶的位置上，将金属层由原本的全部遮蔽改为狭缝设计，并将原本由CF玻璃(又称C侧玻璃)侧曝光方式改为T侧玻璃曝光方式，以由上述的设计方式来确保框胶的设计强度可与预期相同。然而，这种设计方式需要将C侧玻璃翻转才能通过T侧玻璃以进行曝光，不利于生产效率的提高。
发明内容
本发明的目的是为了克服现有技术的缺陷，提供一种能够通过C侧玻璃进行曝光的适用于窄边框产品的框胶层曝光的基板。
框胶的设置目的主要在于阻挡水气，框胶与玻璃的接著力很强，而BM与玻璃的接著力差。如果框胶完全站在BM上，那水气有可能会从BM渗入或是在面板有变形的状况下，BM可能会从玻璃上面剥离。所以现有技术如果要做窄边框的产品，均要保持框胶与玻璃有接著，这样才能同时实现产品的窄边框化和保留框胶良好的接著力，因此，现有技术在设计窄边框产品时采用的均是将BM层设置在CF玻璃层，而将TFT玻璃层侧的金属层设计成狭缝式以方便框胶层曝光。但是现有技术的这种工艺需要在制作过程中将基板翻转以进行曝光，从而使得基板的制作过程延长。本发明的发明人发现，将设置在CF玻璃层和ITO层之间的BM设置成非连续的，能够在保证框胶与玻璃的优异的接著力的同时实现框胶层的曝光，从而能够避免在基板的制作过程中需要将基板进行翻转，缩短了工艺时间。
为了实现上述目的，本发明提供一种适用于窄边框产品的框胶层曝光的基板，该基板从上至下依次包括：CF玻璃层、遮光层和ITO层，其中，所述遮光层为非连续的，且包括连续遮光区和非连续遮光区。
“基板从上至下依次包括”并不表示基板的被应用的方向，本发明仅是为了方便描述清楚而设定了从上至下的方向。
优选地，所述非连续遮光区中含有至少两个遮光部分，相邻两个遮光部分之间具有间隙。
优选地，相邻两个遮光部分之间的间隙的宽度为S，且各个所述S独立地为大于25微米。
优选地，所述连续遮光区和所述非连续遮光区之间具有宽度为S的间隙，所述S为大于25微米。
优选地，各个所述遮光部分的宽度L相同或不同，各个所述L独立地为大于50微米且大于等于S。
本发明的发明人发现，设置L独立地为大于50微米且大于等于S时，可以在保证框胶层进行照光的同时保证框胶层具有优异的接著强度。
优选地，所述连续遮光区设置在近基板中心区，以及所述非连续遮光区设置在远基板中心区。
所述远基板中心区也为近基板边缘区域。
优选地，所述ITO层的上表面的一部分与所述遮光层直接接触而另一部分与所述CF玻璃层中未覆盖有所述遮光层的区域直接接触。在本发明中，所述ITO层连续设置在所述CF玻璃层的覆盖有所述遮光层的下表面上，从而使得所述ITO层为连续层，该处的连续层与前述的不连续的遮光层是相对的概念。通过前文描述可知，遮光层为不连续的层，这种不连续的遮光层使得未覆盖遮光层的那部分CF玻璃层裸露。同时，通过设置连续的ITO层，使得该ITO层的上表面的一部分与所述遮光层直接接触而另一部分与所述CF玻璃层中未覆盖有所述遮光层的区域直接接触。
优选地，所述ITO层的材料的成分主要为铟锡氧化物。
优选地，该基板还包括框胶层，该框胶层设置在所述ITO层的下表面的远基板中心区，且所述框胶层的至少部分在所述基板的厚度方向上与所述遮光层有重叠长度d，且该重叠长度d小于所述框胶层的宽度D。所述框胶层的至少部分在所述基板的厚度方向上与所述遮光层有重叠长度d表示，所述框胶层的至少部分与所述遮光层之间间隔有ITO层，因此，所述框胶层与所述遮光层之间通过间隔ITO层而在所述基板的厚度方向上有重叠长度d(并不是直接接触而重叠)。
优选情况下，形成所述框胶层的材料包括丙烯酸、环氧树脂和光引发剂。
优选地，所述d大于等于1/2D且小于D。更优选地，所述D为500～1500微米。本发明的发明人发现，通过限定所述d大于等于1/2D且小于D时能够确保采用本发明所述结构的基板的框胶层充分曝光。
优选情况下，所述ITO层的下表面上具有第一台阶部，且该第一台阶部的踢面设置在所述遮光层的远基板中心区的边缘以外。在此，所述遮光层的远基板中心区的边缘是指所述遮光层的非连续遮光层的最边缘。
优选地，所述框胶层的上表面上具有对应于所述第一台阶部的第二台阶部。也即，所述第二台阶部的踢面与所述第一台阶部的踢面重合。
优选情况下，该基板还包括上表面的部分区域设置有金属层的TFT玻璃层，该TFT玻璃层上设置有金属层的侧表面(即上表面)与所述框胶层的下表面结合，并且，所述框胶层的下表面和所述TFT玻璃层的上表面之间不直接接触，而是间隔有所述金属层。
本发明的所述基板的近基板中心区还可以设置扩展CF像素层，该扩展CF像素层优选设置在所述遮光层的连续遮光区与ITO层之间，从而，所述ITO层覆盖所述扩展CF像素层。
优选情况下，所述ITO层的下表面的近基板中心区部分设置有第一配向层。
优选情况下，所述TFT玻璃层的上表面的近基板中心区部分设置有第二配向层。优选地，该第二配向层的厚度与所述金属层的厚度可以相同。更优选，所述第二配向层和所述金属层之间不直接连接。
所述第一配向层和所述第二配向层的平面之间留有间隙。
优选情况下，在所述框胶层的远基板中心区的边缘部分设置有银迁移层，该银迁移层的上表面和下表面分别与ITO层的下表面和金属层的上表面直接接触。
在本发明中，所述框胶层的上下表面以及所述银迁移层的上下表面分别与ITO层的下表面和金属层的上表面直接接触，且所述框胶层和所述银迁移层的最大厚度相同，所述框胶层和所述银迁移层的厚度使得所述框胶层的近基板中心区形成一个空间为活化区，该活化区内可以填充例如液晶。
在没有特别说明的情况下，本发明对所述基板中的各个层的厚度并没有特别的限制，可以为本领域内常规设置的厚度。
在没有特别说明的情况下，本发明对所述基板中的各个层的材料没有特别的限制，本领域技术人员可以根据常规使用的材料种类进行选择。
根据一种优选的具体实施方式，本发明的所述适用于窄边框产品的框胶层曝光的基板包括：CF玻璃层、遮光层、扩展CF像素层、ITO层、第一配向层、框胶层、银迁移层、第二配向层、金属层和TFT玻璃层，
所述遮光层覆盖在所述CF玻璃层的下表面的局部，该遮光层包括连续遮光区和非连续遮光区，且所述连续遮光区设置在近基板中心区，所述非连续遮光区设置在远基板中心区；
所述扩展CF像素层设置在所述遮光层的连续遮光区的下表面，
所述ITO层连续设置在所述CF玻璃层的覆盖有所述遮光层的表面上，使得该ITO层的上表面的一部分与所述扩展CF像素层的下表面直接接触，一部分与所述遮光层的下表面直接接触，而另一部分与所述CF玻璃层中未覆盖有所述遮光层的区域直接接触；
所述第一配向层设置在所述ITO层的下表面的近基板中心区部分；
所述框胶层设置在所述ITO层的下表面的远基板中心区，且所述框胶层的至少部分在所述基板的厚度方向上与所述遮光层有重叠长度d，且该重叠长度d小于所述框胶层的宽度D，
所述银迁移层设置在所述框胶层的远基板中心区的边缘，且所述银迁移层与所述框胶层的厚度相同，
所述金属层连续设置在所述TFT玻璃层的远基板中心区的上表面，以及所述第二配向层设置在所述TFT玻璃层的近基板中心区的上表面，并且所述TFT玻璃层的上表面通过所述金属层的上表面与所述框胶层的下表面接触。
本发明的基板中还可以包括像素单元层，例如RGB像素单元。
本发明对于形成所述适用于窄边框产品的框胶层曝光的基板的方法没有特别的限制，在本发明提供了前述所述适用于窄边框产品的框胶层曝光的基板的结构的基础上，本领域技术人员能够根据本领域的常规技术手段得到本发明的所述适用于窄边框产品的框胶层曝光的基板。例如先将CF玻璃入料，然后配向膜转印，接着配向层生成；以及TFT玻璃入料，然后配向膜转印，依次进行配向层生成、框胶涂布和液晶滴定；然后将CF玻璃与TFT玻璃对组，并依次进行曝光和烘烤。
本发明除了提供窄边框产品技术外，基板中的框胶层依然能够维持完全遮挡水气，防止水气从遮光层窜入至CF玻璃层和TFT玻璃层之间的区域；本发明的适用于窄边框产品的框胶层曝光的基板在制作过程中不需要将基板翻转以进行曝光，从而缩短了生产周期。
附图说明
图1是本发明的适用于窄边框产品的框胶层曝光的基板的边缘区域的结构的截面示意图。
图2是包括图1的边缘区域的适用于窄边框产品的框胶层曝光的基板的边框结构的截面示意图。
附图标记说明
1、CF玻璃层 2、遮光层
21、连续遮光区 22、非连续遮光区
3、ITO层 4、框胶层
5、金属层 6、TFT玻璃层
7、扩展CF像素层 8、第一配向层
9、第二配向层 10、银迁移层
11、活化区
具体实施方式
在本文中所披露的范围的端点和任何值都不限于该精确的范围或值，这些范围或值应当理解为包含接近这些范围或值的值。对于数值范围来说，各个范围的端点值之间、各个范围的端点值和单独的点值之间，以及单独的点值之间可以彼此组合而得到一个或多个新的数值范围，这些数值范围应被视为在本文中具体公开。
以下结合图1说明本发明的适用于窄边框产品的框胶层曝光的基板从上至下依次包括：
CF玻璃层1、遮光层2和ITO层3，其中，所述遮光层2为非连续的，且包括连续遮光区21和非连续遮光区22。
优选情况下，所述非连续遮光区22中含有至少两个遮光部分，相邻两个遮光部分之间具有间隙。
优选地，相邻两个遮光部分之间的间隙的宽度为S，且各个所述S独立地为大于25微米。
优选地，所述连续遮光区21和所述非连续遮光区22之间具有宽度为S的间隙，所述S为大于25微米。
优选地，各个所述遮光部分的宽度L相同或不同，各个所述L独立地为大于50微米且大于等于S。
优选地，所述连续遮光区21设置在近基板中心区，以及所述非连续遮光区22设置在远基板中心区。
优选地，所述ITO层3的上表面的一部分与所述遮光层2直接接触而另一部分与所述CF玻璃层1中未覆盖有所述遮光层2的区域直接接触。
优选地，所述ITO层3的材料的成分主要为铟锡氧化物。
优选地，该基板还包括框胶层4，该框胶层4设置在所述ITO层3的下表面的远基板中心区，且所述框胶层4的至少部分在所述基板的厚度方向上与所述遮光层2有重叠长度d，且该重叠长度d小于所述框胶层4的宽度D。
优选情况下，形成所述框胶层4的材料包括丙烯酸、环氧树脂和光引发剂。
优选地，所述d大于等于1/2D且小于D。更优选地，所述D为500～1500微米。
优选地，所述ITO层3的下表面上具有第一台阶部，且该第一台阶部的踢面设置在所述遮光层2的远基板中心区的边缘以外。
优选情况下，所述框胶层4的上表面上具有对应于所述第一台阶部的第二台阶部。
优选情况下，该基板还包括上表面的部分区域设置有金属层5的TFT玻璃层6，该TFT玻璃层6上设置有金属层5的侧表面(即上表面)与所述框胶层4的下表面结合，并且，所述框胶层4的下表面和所述TFT玻璃层6的上表面之间不直接接触，而是间隔有所述金属层5。
本发明的所述基板的近基板中心区还可以设置扩展CF像素层7，该扩展CF像素层7优选设置在所述遮光层2的连续遮光区21与ITO层3之间，从而，所述ITO层3覆盖所述扩展CF像素层7。
优选情况下，所述ITO层3的下表面的近基板中心区部分设置有第一配向层8。
优选情况下，所述TFT玻璃层6的上表面的近基板中心区部分设置有第二配向层9。优选地，该第二配向层9的厚度与所述金属层5的厚度相同。更优选，所述第二配向层9和所述金属层5之间不直接连接。
所述第一配向层8和所述第二配向层9的平面之间留有间隙。
优选情况下，在所述框胶层4的远基板中心区的边缘部分设置有银迁移层10，该银迁移层10的上表面和下表面分别与ITO层3的下表面和金属层5的上表面直接接触。
在本发明中，所述框胶层4的上下表面以及所述银迁移层10的上下表面分别与ITO层3的下表面和金属层5的上表面直接接触，且所述框胶层4和所述银迁移层10的最大厚度相同，所述框胶层4和所述银迁移层10的厚度使得所述框胶层4的近基板中心区形成一个空间为活化区11，该活化区11内可以填充例如液晶。
根据一种优选的具体实施方式，为了更加清楚地说明本发明的所述适用于窄边框产品的框胶层曝光的基板的结构，以下结合图2进行详细描述，本发明的所述适用于窄边框产品的框胶层曝光的基板包括：CF玻璃层1、遮光层2、扩展CF像素层7、ITO层3、第一配向层8、框胶层4、银迁移层10、第二配向层9、金属层5和TFT玻璃层6，
所述遮光层2覆盖在所述CF玻璃层1的下表面的局部，该遮光层2包括连续遮光区21和非连续遮光区22，且所述连续遮光区21设置在近基板中心区，所述非连续遮光区22设置在远基板中心区；
所述扩展CF像素层7设置在所述遮光层2的连续遮光区21的下表面，
所述ITO层3连续设置在所述CF玻璃层1的覆盖有所述遮光层2的表面上，使得该ITO层3的上表面的一部分与所述扩展CF像素层7的下表面直接接触，一部分与所述遮光层2的下表面直接接触，而另一部分与所述CF玻璃层1中未覆盖有所述遮光层2的区域直接接触；
所述第一配向层8设置在所述ITO层3的下表面的近基板中心区部分；
所述框胶层4设置在所述ITO层3的下表面的远基板中心区，且所述框胶层4的至少部分在所述基板的厚度方向上与所述遮光层2有重叠长度d，且该重叠长度d小于所述框胶层4的宽度D，
所述银迁移层10设置在所述框胶层4的远基板中心区的边缘，并且所述银迁移层10的最大厚度与所述框胶层4的最大厚度相同，
所述金属层5连续设置在所述TFT玻璃层6的远基板中心区的上表面，以及所述第二配向层9设置在所述TFT玻璃层6的近基板中心区的上表面，并且所述TFT玻璃层6的上表面通过所述金属层5的上表面与所述框胶层4和所述银迁移层10的下表面接触。
以下将通过实施例对本发明进行详细描述。
实施例1
采用前述优选的具体实施方式所述的方法制备窄边框产品的框胶层曝光的基板。
并且，在本实施例中：
d为500微米，D为800微米，S为40微米，L为65微米。
得到具有如图2所示结构的窄边框产品的框胶层曝光的基板。
本实施例的框胶层的曝光可以通过使得UV光照从CF玻璃层那侧射入即可，不必将面板进行翻转以进行曝光，缩短了生产周期。
采用本实施例的方法和条件批量生产300片大板之后，使用大灯箱检查基板,发现95％以上的基板均没有液晶穿刺框胶层而导致的液晶外漏现象，并且本实施例批量生产的基板的框胶层的接著强度优异。
实施例2
采用前述优选的具体实施方式所述的方法制备窄边框产品的框胶层曝光的基板。
并且，在本实施例中：
d为700微米，D为1200微米，S为60微米，L为60微米。
得到具有如图2所示结构的窄边框产品的框胶层曝光的基板。
本实施例的框胶层的曝光可以通过使得UV光照从CF玻璃层那侧射入即可，不必将面板进行翻转以进行曝光，缩短了生产周期。
采用本实施例的方法和条件批量生产300片大板之后，使用大灯箱检查基板,发现96％以上的基板均没有液晶穿刺框胶层而导致的液晶外漏现象，并且本实施例批量生产的基板的框胶层的接著强度优异。
由上述结果可以看出，本发明除了提供窄边框产品技术外，基板中的框胶层依然能够维持完全遮挡水气，防止水气从遮光层窜入至CF玻璃层和TFT玻璃层之间的区域；本发明的适用于窄边框产品的框胶层曝光的基板在制作过程中不需要将基板翻转以进行曝光，从而缩短了生产周期。
以上详细描述了本发明的优选实施方式，但是，本发明并不限于此。在本发明的技术构思范围内，可以对本发明的技术方案进行多种简单变型，包括各个技术特征以任何其它的合适方式进行组合，这些简单变型和组合同样应当视为本发明所公开的内容，均属于本发明的保护范围。
Claims (10)
1.一种适用于窄边框产品的框胶层曝光的基板，其特征在于，该基板从上至下依次包括：CF玻璃层(1)、遮光层(2)和ITO层(3)，其中，所述遮光层(2)为非连续的，且包括连续遮光区(21)和非连续遮光区(22)。
2.根据权利要求1所述的基板，其特征在于，所述非连续遮光区(22)中含有至少两个遮光部分，相邻两个遮光部分之间具有间隙。
3.根据权利要求2所述的基板，其特征在于，相邻两个遮光部分之间的间隙的宽度为S，且各个所述S独立地为大于25微米。
4.根据权利要求1-3中任意一项所述的基板，其特征在于，所述连续遮光区(21)和所述非连续遮光区(22)之间具有宽度为S的间隙，所述S为大于25微米。
5.根据权利要求4所述的基板，其特征在于，所述连续遮光区(21)设置在近基板中心区，以及所述非连续遮光区(22)设置在远基板中心区。
6.根据权利要求4所述的基板，其特征在于，所述ITO层(3)的上表面的一部分与所述遮光层(2)直接接触而另一部分与所述CF玻璃层(1)中未覆盖有所述遮光层(2)的区域直接接触。
7.根据权利要求6所述的基板，其特征在于，该基板还包括框胶层(4)，该框胶层(4)设置在所述ITO层(3)的下表面的远基板中心区，且所述框胶层(4)的至少部分在所述基板的厚度方向上与所述遮光层(2)有重叠长度d，且该重叠长度d小于所述框胶层(4)的宽度D。
8.根据权利要求6所述的基板，其特征在于，所述d大于等于1/2D且小于D。
9.根据权利要求7或8所述的基板，其特征在于，所述ITO层(3)的下表面上具有第一台阶部，且该第一台阶部的踢面设置在所述遮光层(2)的远基板中心区的边缘以外。
10.根据权利要求9所述的基板，其特征在于，所述框胶层(4)的上表面上具有对应于所述第一台阶部的第二台阶部。
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