CN107463024B - 显示基板及其制造方法、显示面板 - Google Patents

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Abstract

本发明提供了一种显示基板及其制造方法、显示面板，属于显示技术领域。其中，显示基板包括衬底基板，衬底基板上设置有黑矩阵BM，衬底基板具有显示区域和非显示区域，设置在非显示区域内的BM包括：第一BM部分和第二BM部分，其中，第一BM部分和第二BM部分沿远离衬底基板的中心的方向依次排布，且第一BM部分和第二BM部分存在间隙。本发明解决了在显示面板周围存在外电场时，显示面板的显示区域会受到外电场的影响，导致显示面板的显示效果较差的问题。本发明用于制造显示基板。

Description

显示基板及其制造方法、显示面板
技术领域
本发明涉及显示技术领域，特别涉及一种显示基板及其制造方法、显示面板。
背景技术
随着显示技术的发展，以及显示面板屏占比的日益提高，窄边框技术被普遍应用在显示面板的制造中。
现有技术中，在采用窄边框技术加工显示面板时，通常是首先制造一个较大的面板，然后对该较大的面板进行切割得到多个显示面板。该多个显示面板中的每个显示面板可以包括显示基板，且显示基板上形成有黑矩阵(英文：Black matrix，简称：BM)。在切割该较大的显示面板时，需要紧邻BM进行切割，以使得得到的每个显示面板中的BM位于显示基板的边沿，且BM外露在该显示面板的侧面。
由于BM为电阻率较小的导体，当显示面板周围存在外电场时，BM会在该外电场的影响下生成感应电荷，从而影响显示面板的内电场，导致显示面板出现水墨亮度不均(也称水墨mura)等不良，所以，显示面板的显示效果较差。
发明内容
本发明提供了一种显示基板及其制造方法、显示面板，可以解决现有技术中在显示面板周围存在外电场时，显示面板的显示区域会受到外电场的影响，导致显示面板的显示效果较差的问题，所述技术方案如下：
第一方面，提供了一种显示基板，所述显示基板包括：衬底基板，所述衬底基板上设置有黑矩阵BM；
所述衬底基板具有显示区域和非显示区域，设置在所述非显示区域内的BM包括：第一BM部分和第二BM部分；
其中，所述第一BM部分和所述第二BM部分沿远离所述衬底基板的中心的方向依次排布，且所述第一BM部分和所述第二BM部分存在间隙。
可选的，所述第一BM部分和所述第二BM部分均呈环形，且所述第二BM部分包围所述第一BM部分。
可选的，所述间隙内填充有目标材质，所述目标材质的电阻率大于所述BM的电阻率。
可选的，所述衬底基板上的显示区域内还设置有多个色阻块，所述间隙内的任一位置为第一位置，所述多个色阻块中的第一色阻块靠近所述第一位置设置，所述第一位置填充的所述目标材质与所述第一色阻块的材质相同。
可选的，所述目标材质为：绝缘气体或绝缘固体。
可选的，所述间隙的宽度范围为10微米至20微米。
第二方面，提供了一种显示基板的制造方法，所述方法包括：
提供一衬底基板；
在所述衬底基板上形成黑矩阵BM；
其中，所述衬底基板具有显示区域和非显示区域，设置在所述非显示区域内的BM包括：第一BM部分和第二BM部分，所述第一BM部分和所述第二BM部分沿远离所述衬底基板的中心的方向依次排布，且所述第一BM部分和所述第二BM部分存在间隙。
可选的，所述在所述衬底基板上形成黑矩阵BM，包括：
在所述衬底基板上形成BM材质层；
采用一次构图工艺对所述BM材质层进行处理得到BM图案，位于所述非显示区域的所述BM图案包括：所述第一BM部分和所述第二BM部分；
在所述第一BM部分和所述第二BM部分的间隙内填充目标材质，所述目标材质的电阻率大于所述BM的电阻率。
可选的，在所述提供一衬底基板之后，所述方法还包括：
在所述衬底基板的显示区域内形成多个色阻块，且所述第一BM部分包围所述多个色阻块；
所述间隙内的任一位置为第一位置，所述多个色阻块中的第一色阻块靠近所述第一位置设置，所述在所述第一BM部分和所述第二BM部分的间隙内填充目标材质包括：
在所述衬底基板上形成所述第一色阻块的同时，在所述间隙内的第一位置填充所述第一色阻块的材质。
第三方面，提供了一种显示面板，所述显示面板包括：第一方面所述的显示基板。
本发明提供的技术方案带来的有益效果是：
在本发明实施例中提供的显示基板中，由于非显示区域内的BM包括第一BM部分和第二BM部分，且第一BM部分与第二BM部分之间存在间隙。当显示基板周围存在外电场时，由于第二BM可以有效的对该外电场进行屏蔽，从而可以有效防止外电场对显示面板的显示区域的影响，改善了显示基板水墨mura等不良，提高了显示基板的显示效果。
附图说明
为了更清楚地说明本公开的实施例，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本公开的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为一种传统的液晶显示面板的结构示意图；
图2为一种传统的有OLED显示面板的结构示意图；
图3是本发明实施例提供的一种显示基板的结构示意图；
图4是本发明实施例提供的另一种显示基板的结构示意图；
图5是本发明实施例提供的一种显示基板的制造方法的方法流程图；
图6是本发明实施例提供的一种显示基板的部分结构示意图；
图7是本发明实施例提供的一种形成黑矩阵BM的方法流程图；
图8是本发明实施例提供的另一种显示基板的部分结构示意图；
图9是本发明实施例提供的一种形成BM图案的方法流程图；
图10是本发明实施例提供的又一种显示基板的部分结构示意图；
图11是本发明实施例提供的再一种显示基板的部分结构示意图；
图12是本发明实施例提供的再一种显示基板的部分结构示意图；
图13为本发明实施例提供的一种液晶显示面板边缘的截面图；
图14为本发明实施例提供的一种OLED显示面板边缘的截面图。
具体实施方式
为了使本公开的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本公开作进一步地详细描述，显然，所描述的实施例仅仅是本公开一部份实施例，而不是全部的实施例。基于本公开中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本公开保护的范围。
随着显示技术的发展，显示面板的种类越来越多，例如，显示面板可以包括液晶显示面板和有机发光二极管(英文：Organic Light-Emitting Diode；简称：OLED)显示面板。示例的，图1为一种传统的液晶显示面板的结构示意图，如图1所示，该液晶显示面板可以包括：相对设置的阵列基板A1和彩膜基板A2，以及位于阵列基板A1和彩膜基板A2之间的液晶A3。示例的，阵列基板A1可以包括：第一衬底基板，以及设置在第一衬底基板上的多个薄膜晶体管，彩膜基板A2可以包括：第二衬底基板，以及设置在第二衬底基板上的彩膜和BM。
图2为一种传统的有OLED显示面板的结构示意图，如图2所示，该OLED显示面板可以包括：相对设置的OLED基板B1和盖板B2，OLED基板B1可以包括：第三衬底基板，以及设置在第三衬底基板上的多个OLED和BM。
通常BM的主要成分为炭黑粒子，且炭黑粒子表面分布有大量的羧基及羟基，此类基团的存在使炭黑粒子具有一定的极性，使得BM的电阻率无法降低，BM无法做到完全绝缘。当显示面板周围存在外电场时，BM会在该外电场的影响下生成感应电荷，从而影响显示面板的内电场，导致显示面板出现水墨mura等不良。
本发明实施例提供了一种显示基板，该显示基板避免了水墨mura等不良，该显示基板可以为图1中的彩膜基板A2或者图2中的OLED基板。实际应用中，该显示基板还可以为其他显示面板中设置有BM的基板，本发明实施例对此不做限定。该其他显示面板例如有源矩阵有机发光二极体(英文：Active-matrix organic light emitting diode；简称：AMOLED)显示面板。
图3为本发明实施例提供的一种显示基板的结构示意图，如图3所示，该显示基板可以包括：
衬底基板(图3中未示出)，衬底基板上设置有BM 102，衬底基板具有显示区域和非显示区域，设置在非显示区域内的BM 102可以包括：第一BM部分1021和第二BM部分1022。其中，第一BM部分1021和第二BM部分1022可以沿远离衬底基板的中心的方向(例如图1中的方向Z)依次排布，且第一BM部分1021和第二BM部分1022存在间隙。
综上所述，在本发明实施例中提供的显示基板中，由于非显示区域内的BM包括第一BM部分和第二BM部分，且第一BM部分与第二BM部分之间存在间隙。当显示基板周围存在外电场时，由于第二BM可以有效的对该外电场进行屏蔽，从而可以有效防止外电场对显示面板的显示区域的影响，改善了显示基板水墨mura等不良，提高了显示基板的显示效果。
如图1所示，第一BM部分1021和第二BM部分1022可以均呈环形，且第二BM部分1022包围第一BM部分1021。示例的，该环形可以为方环形或圆环形，图1中仅以第一BM部分1021和第二BM部分1022均呈方环形为例。
可选的，第一BM部分1021和第二BM部分1022的间隙的宽度K的范围可以为10微米至20微米。示例的，间隙的宽度K可以为10微米、11微米或者20微米。需要说明的是，本发明实施例中仅以该间隙的宽度K的范围为10微米至20微米为例，实际应用中，该间隙的宽度K的范围还可以为其他宽度范围，如10微米至30微米，本发明实施例对此不做限定。
第一BM部分1021和第二BM部分1022之间的间隙内可以填充有目标材质103，目标材质103的电阻率大于BM的电阻率。示例的，该目标材质可以为绝缘气体或绝缘固体，其中，绝缘气体可以为空气、氮气、二氧化碳或六氟化硫等，绝缘固体可以为尼龙、聚丙烯、亚克力或聚乙烯等，本发明实施例对此不作限定。实际应用中，该第一BM部分1021和第二BM部分1022之间的间隙内可以填充有其他电阻率大于BM的电阻率的材质，或者，该间隙内被抽真空，间隙内的环境为真空环境。
图4为本发明实施例提供的另一种显示基板的结构示意图，如图4所示，衬底基板上的显示区域内设置有多个色阻块105。例如，色阻块105的材质为彩胶。
示例的，表1为本发明实施例提供的一种不同材质的厚度与体积电阻率的对比表，其中，1.00E+11表示1.00与10的11次方的乘积，1.00E+13表示1.00与10的13次方的乘积，1.00E+06表示1.00与10的6次方的乘积，2.00E+15表示2.00与10的15次方的乘积，如表1所示，彩胶的厚度和体积电阻率大于各种类型的BM(如中阻BM、高阻BM和低阻BM)，彩胶的电阻率远大于BM的电阻率。
表1
材质 厚度(微米) 体积电阻率(欧姆·厘米)
中阻BM 1.2 1.00E+11
高阻BM 1.2 1.00E+13
低阻BM 1.4 1.00E+06
彩胶 2.2 2.00E+15
由于彩胶的电阻率远大于BM的电阻率，因此，可以将彩胶作为目标材质填充在第一BM部分1021和第二BM部分1022之间的间隙内。示例的，该间隙内的任一位置为第一位置106，多个色阻块中的第一色阻块107靠近第一位置106设置，第一位置106填充的目标材质可以与第一色阻块107的材质相同。
综上所述，在本发明实施例中提供的显示基板中，由于非显示区域内的BM包括第一BM部分和第二BM部分，且第一BM部分与第二BM部分之间存在间隙。当显示基板周围存在外电场时，由于第二BM部分可以有效的对该外电场进行屏蔽，从而可以有效防止外电场对显示面板的显示区域的影响，改善了显示基板水墨mura等不良，提高了显示基板的显示效果。
图5为本发明实施例提供的一种显示基板的制造方法的方法流程图，该显示基板的制造方法可以用于制造如图3或图4所示的显示基板，如图5所示，该背板的制造方法可以包括：
步骤201、提供一衬底基板。
如图6所示，提供一衬底基板101。示例的，该衬底基板可以为玻璃基板，或者其他材质的基板。该衬底基板的形状可以为矩形、圆形、椭圆或者其他形状。本发明实施例中以该衬底基板的形状为矩形为例。
步骤202、在衬底基板上形成BM。
如图7所示，步骤202可以包括：
步骤2021、在衬底基板上形成BM材质层。
如图8所示，在步骤2021中可以在图6所示的衬底基板101上形成BM材质层301。
步骤2022、采用一次构图工艺对BM材质层进行处理得到BM图案，位于非显示区域的BM图案包括：第一BM部分和第二BM部分。
如图9所示，步骤2022可以包括：
步骤20221、在BM材质层上形成光刻胶层。
如图10所示，在步骤20221中可以采用涂覆、磁控溅射、热蒸发或者等离子体增强化学气相沉积法(英文：Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition；简称：PECVD)等方法在图8中BM材质层301上形成光刻胶层401。
步骤20222、对光刻胶层进行曝光和显影，得到光刻胶图案。
示例的，可以采用掩膜版对图10中的光刻胶层401进行曝光，使光刻胶层形成完全曝光区和非曝光区，之后采用显影工艺进行处理，使完全曝光区的光刻胶被去除，非曝光区的光刻胶保留，得到如图11所示的光刻胶图案501。
需要说明的是，衬底基板可以具有显示区域(如图11中多个黑色方块所在的区域)，以及位于显示区域周边的非显示区域，该显示区域上的光刻胶图案501可以包括：光刻胶网格5011，该非显示区域上的光刻胶图案501可以包括两个环形图案5012和5013。该两个环形图案5012和5013之间存在间隙。
步骤20223、通过光刻胶图案对BM材质层进行刻蚀，并剥离光刻胶图案，得到第一BM部分和第二BM部分。
由于步骤20222中形成的光刻胶图案覆盖了BM材质层的部分区域，因此，在步骤20223中，可以在光刻胶图案的覆盖作用下，对BM材质层中未覆盖有光刻胶图案的区域进行刻蚀，并剥离光刻胶图案，从而得到如图12所示的第一BM部分1021和第二BM部分1022。第一BM部分1021和第二BM部分1022可以沿远离衬底基板的中心的方向依次排布，且第一BM部分1021和第二BM部分1022存在间隙。
步骤2023、在衬底基板的显示区域内形成多个色阻块，以及在第一BM部分和第二BM部分之间的间隙内填充目标材质，目标材质的电阻率大于BM的电阻率。
需要说明的是，色阻块和间隙内填充的目标材质可以同步形成，也可以分步形成。当色阻块和间隙内填充的目标材质分步形成时，可以首先形成色阻块，之后再填充间隙内的目标材质；也可以首先填充间隙内的目标材质，再形成色阻块，本发明实施例对此不做限定。
当色阻块和间隙内填充的目标材质同步形成时，可以在形成色阻块的同时在间隙内填充目标材质。示例的，请参考图4，显示区域内的多个色阻块105通常包括：红色色阻块1051、绿色色阻块1052和蓝色色阻块1053。且在制造该多个色阻块时，可以分步形成红色色阻块1051、绿色色阻块1052和蓝色色阻块1053。在形成每种色阻块时，通常是在衬底基板上形成一层色阻材质层，然后在该色阻材质层上形成光刻胶层，并采用掩膜板对该光刻胶进行光刻，就可以得到覆盖有光刻胶的该种色阻块。在得到这三种色阻块后，可以将三种色阻块上覆盖的光刻胶剥离。需要说明的是，光刻包括：曝光、显影和刻蚀三个步骤。
在形成显示面板中每种色阻块的过程中，本发明实施例在形成色阻材质层时，还可以将该色阻材质层覆盖第一BM部分和第二BM部分之间的间隙。在色阻材质层上形成的光刻胶可以覆盖该间隙上的色阻材质层。在刻蚀该色阻材质层时，可以将间隙内该种色阻块相邻的每个第一位置106的色阻材质层保留，并将间隙内与该种色阻块不相邻位置的色阻材质层刻蚀掉，从而形成了该种色阻块，以及在该种色阻块相邻的每个第一位置106填充了目标材质，该目标材质可以与该种色阻块的材质相同。
其中，如图4所示，该种色阻块可以包括多个第一色阻块107，在第一BM部分和第二BM部分之间的间隙内，与每个第一色阻块107相邻的第一位置106填充的材质可以与该第一色阻块107的材质相同。该第一色阻块107可以为红色色阻块1051、绿色色阻块1052或蓝色色阻块1053。
在形成衬底基板上的所有色阻块后，该间隙内会填充有与各种色阻块的材质相同的目标材质，且通常情况下色阻块的材质为彩胶(如红色色阻块的材质为红色彩胶、绿色色阻块的材质为绿色彩胶和蓝色色阻块的材质为蓝色彩胶)，彩胶的电阻率远远大于BM的电阻率，因此，此时间隙内会填充有电阻率大于BM的电阻率的目标材质，这样可以进一步的防止外电场对显示基板的影响。
综上所述，在本发明实施例提供的显示基板的制造方法所制造的显示基板中，由于非显示区域内的BM包括第一BM部分和第二BM部分，且第一BM部分与第二BM部分之间存在间隙。当显示基板周围存在外电场时，由于第二BM部分可以有效的对该外电场进行屏蔽，从而可以有效防止外电场对显示面板的显示区域的影响，改善了显示基板水墨mura等不良，提高了显示基板的显示效果。
本发明实施例提供了一种显示面板，该显示面板可以包括：图3或图4所述的显示基板。该显示面板可以与图1所示的液晶显示面板的结构相似(如将图1中的彩膜基板替换为图3或图4所示的显示基板)，或者与图2所示的OLED显示面板的结构相似(如将图2中的OLED基板替换为图3或图4所示的显示基板)。
示例的，图13为本发明实施例提供的一种液晶显示面板边缘的截面图，如图13所示，该液晶显示面板的边缘可以包括衬底基板101、阵列基板1101、色阻块107、第一BM部分1021、第二BM部分1022、封框胶1102以及填充在间隙K内的目标材质103，该第二BM部分1022和目标材质103可以有效防止外电场对液晶显示面板的影响。
图14为本发明实施例提供的一种OLED显示面板边缘的截面图，如图14所示，该OLED显示显示面板至少包括衬底基板101、盖板1103、第一BM部分1021、第二BM部分1022、封框胶1102以及填充在间隙K内的目标材质103，该目标材质103可以有效防止外电场对液晶显示面板的影响。
实际应用中，若封框胶渗入到第一BM部分和第二BM部分之间的间隙内，则封框胶与显示面板内器件的接触面积较大，从而使得封框胶的粘连效果较好，提升了显示面板的封框效果。
综上所述，在本发明实施例提供的显示面板中的显示基板中，由于非显示区域内的BM包括第一BM部分和第二BM部分，且第一BM部分与第二BM部分之间存在间隙。当显示基板周围存在外电场时，由于第二BM部分可以有效的对该外电场进行屏蔽，从而可以有效防止外电场对显示面板的显示区域的影响，改善了显示基板水墨mura等不良，提高了显示基板的显示效果。
本发明实施例还提供了一种显示装置，其包括上述任意一种显示基板。该显示装置可以为：液晶显示装置、电子纸、OLED显示装置、手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框、导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。
需要说明的是，本发明实施例提供的显示基板实施例、显示基板的制造方法实施例以及显示面板实施例均可以互相参考，本发明实施例对此不做限定。
本领域技术人员在考虑说明书及实践这里公开的发明后，将容易想到本公开的其它实施方案。本申请旨在涵盖本公开的任何变型、用途或者适应性变化，这些变型、用途或者适应性变化遵循本公开的一般性原理并包括本公开未公开的本技术领域中的公知常识或惯用技术手段。说明书和实施例仅被视为示例性的，本公开的真正范围和精神由权利要求指出。
应当理解的是，本公开并不局限于上面已经描述并在附图中示出的精确结构，并且可以在不脱离其范围进行各种修改和改变。本公开的范围仅由所附的权利要求来限制。

Claims (8)

1.一种显示基板，其特征在于，所述显示基板包括：衬底基板，所述衬底基板上设置有黑矩阵BM；
所述衬底基板具有显示区域和非显示区域，设置在所述非显示区域内的BM包括：第一BM部分和第二BM部分；
所述第一BM部分和所述第二BM部分沿远离所述衬底基板的中心的方向依次排布，且所述第一BM部分和所述第二BM部分存在间隙；
所述间隙内的环境为真空环境，或者，所述间隙内填充有目标材质，且所述目标材质的电阻率大于所述BM的电阻率；
其中，所述衬底基板上的显示区域内还设置有多个色阻块，所述间隙内的任一位置为第一位置，所述多个色阻块中的第一色阻块靠近所述第一位置设置，所述第一位置填充的所述目标材质与所述第一色阻块的材质相同，所述第一色阻块的材质为彩胶，且所述第一色阻块靠近所述目标材质的部分，在所述衬底基板上的正投影与所述第一BM部分所述衬底基板上的正投影重叠；或，所述目标材质为绝缘气体，所述绝缘气体包括：空气、氮气、二氧化碳或六氟化硫；
所述显示基板还包括：封框胶，所述封框胶在所述衬底基板上的正投影与所述第二BM部分在所述衬底基板上的正投影重叠，且所述封框胶远离所述第二BM部分的一侧与所述目标材质远离所述衬底基板的一侧平齐。
2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，
所述第一BM部分和所述第二BM部分均呈环形，且所述第二BM部分包围所述第一BM部分。
3.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，
所述间隙的宽度范围为10微米至20微米。
4.根据权利要求1至3任一所述的显示基板，其特征在于，
所述显示基板包括：彩膜基板、OLED基板或AMOLED基板。
5.一种显示基板的制造方法，其特征在于，用于制造如权利要求1至4任一所述的显示基板，所述方法包括：
提供一衬底基板；
在所述衬底基板上形成黑矩阵BM；
其中，所述衬底基板具有显示区域和非显示区域，设置在所述非显示区域内的BM包括：第一BM部分和第二BM部分，所述第一BM部分和所述第二BM部分沿远离所述衬底基板的中心的方向依次排布，且所述第一BM部分和所述第二BM部分存在间隙。
6.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，所述在所述衬底基板上形成黑矩阵BM，包括：
在所述衬底基板上形成BM材质层；
采用一次构图工艺对所述BM材质层进行处理得到BM图案，位于所述非显示区域的所述BM图案包括：所述第一BM部分和所述第二BM部分；
在所述第一BM部分和所述第二BM部分的间隙内填充目标材质，所述目标材质的电阻率大于所述BM的电阻率。
7.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，
在所述提供一衬底基板之后，所述方法还包括：
在所述衬底基板的显示区域内形成多个色阻块，且所述第一BM部分包围所述多个色阻块；
所述间隙内的任一位置为第一位置，所述多个色阻块中的第一色阻块靠近所述第一位置设置，所述在所述第一BM部分和所述第二BM部分的间隙内填充目标材质包括：
在所述衬底基板上形成所述第一色阻块的同时，在所述间隙内的第一位置填充所述第一色阻块的材质。
8.一种显示面板，其特征在于，所述显示面板包括：权利要求1至4任一所述的显示基板。
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