JP2021502244A - アンモニア酸化が低減された触媒化スートフィルター - Google Patents

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Abstract

本開示は、エンジンからの排気ガス流を処理するためのシステムであって、エンジンの下流に位置し、かつ炭化水素および一酸化炭素の酸化に適合したディーゼル酸化触媒(DOC)と、DOCの下流に位置する、排気ガス流への還元剤の添加に適合した注入器と、5注入器の下流に位置する触媒化スートフィルター(CSF)と、CSFの下流に位置する、窒素酸化物の酸化に適合した選択的接触還元成分とを含む、システムを対象とする。CSFは、炭化水素を酸化させるように適合されており、炭化水素酸化:アンモニア酸化について高い選択性比(例えば、少なくとも0.6)を有する選択的酸化触媒組成物をフィルター上に含む。【選択図】図4

Description

本発明は、概して、触媒化スートフィルターおよびそのようなフィルターを含む排気ガス処理システムの分野、ならびにエンジン排気ガスの処理におけるそのようなフィルターおよびシステムを製造および使用する方法に関する。
ディーゼルエンジンの排気は、一酸化炭素(「CO」)、未燃炭化水素(HC)および窒素酸化物(「NO」)などのガス状排出物を含むのみならず、いわゆる微粒子または微粒子状物質を構成する凝縮された相材料、すなわち液体および固体も含む不均一混合物である。ディーゼルエンジンの排出物処理システムは、世界中のさまざまな規制機関により設定された排出基準を満たすように、エンジン排気ガスのすべての成分を処理する必要がある。
これらのエンジン排気ガス成分を無害な成分に転化させるために使用される一般的な方法としては、ディーゼル酸化触媒(DOC)、選択的接触還元(SCR)触媒、および触媒化スートフィルター(CSF)の使用が挙げられる。ディーゼル酸化触媒は、ディーゼルエンジン排気ガス流内に配置され、通常、白金族金属(PGM)、卑金属、またはそれらの組み合わせを含む。これらの触媒は、COおよびHC排出物を二酸化炭素および水にする転化を促進する。選択的接触還元(SCR)触媒は、NOをNに転化させるために使用され、一般的に、アンモニア還元剤を利用する卑金属を含む。アンモニア還元剤は、一般的に、水性尿素の形態にあり、ディーゼル酸化触媒および触媒化スートフィルターの下流でエンジン排気ガス流に注入される。水の蒸発および尿素の加水分解の後に、形成されたアンモニアは、SCR触媒においてエンジン排気ガス流中のNOと反応して、Nを形成する。アンモニア還元剤は、一般的に、還元剤供給システムを介してSCR触媒に入る前に、エンジン排気ガス流に注入される。触媒化スートフィルター(CSF)は、エンジン排気ガスからすすまたは微粒子状物質を捕集する。それから、フィルターを再生させるために、蓄積した微粒子が高温で燃焼させられる。フィルターの壁に沿って堆積した触媒組成物は、蓄積した微粒子状物質の燃焼を促進することによるフィルターの能動的および受動的再生を補助する。これらの触媒組成物は、ディーゼル排気のHCおよび/またはCOなどのガス状排出物を無害な成分(例えば、CO、HO)にする許容可能な転化を確実にするために、活性触媒成分としてPGM成分をしばしば含有する。
軽負荷および重負荷の用途の一般的なディーゼルエンジン排気ガス処理システムとしては、エンジン排気ガス流内でそれぞれ互いに下流に配置され、かつ尿素注入器が、CSF触媒の下流に、ただしSCR触媒の上流に配置された、3個の個別ユニットの形態のDOC、CSF、およびSCRの使用を挙げることができる。そのようなシステムは、現在の排出規制を満たすのに効率的であるが、幾つかの乗り物の用途では、SCR触媒の前に尿素注入器を設置するのに十分なスペースがない。この場合、尿素注入器は、CSF触媒の前に配置される必要がある。従来のCSF触媒を通過する尿素(またはNH)は、NH酸化を引き起こし、下流のSCR触媒の効果を失わせる。(酸化触媒なしで)被覆されていないフィルターを配置することにより、予定よりも早いNH酸化を回避することができる。しかしながら、これは、通常CSF触媒において実施されるさらなる炭化水素酸化を処理するために、DOC触媒体積の増加を必要とするであろう。また、触媒化されていないフィルターを使用すると、フィルターの再生中に、すすと燃料の燃焼の副産物として、高水準のCOおよびHCが放出される。したがって、NH酸化を最小限に抑えながら炭化水素を酸化させることが可能なCSF触媒を開発する必要がある。そのようなCSF技術により、下流のSCR触媒の効率を維持しながら、同時にDOC体積を増加させることなく、尿素注入器をCSF触媒の前に配置することが可能になるだろう。
本発明は、ディーゼル酸化触媒(DOC)、選択的接触還元(SCR)触媒、触媒化スートフィルター(CSF)、およびCSFの上流に位置する還元剤注入器を含むエンジン排気ガス処理システムに関する。開示される排気ガス処理システムは、特に、限られたスペースしか利用できない乗り物の用途に適応するように設計されている。コンパクトではない乗り物の用途では、(下流のSCR触媒の活性に必要な、排気ガス流中に存在する還元剤であるアンモニアの酸化の回避のために)還元剤注入器が、一般的にCSFの下流に位置している一方で、開示される排気ガス処理システムにおける還元剤注入器は、CSFの上流に配置されてスペースを節約し、エンジン処理システムの全体的な設置面積を小さくする。排気ガス流中に存在するアンモニアの酸化を防ぐために、開示されるCSFは、アンモニアに対して炭化水素を選択的に酸化させるように設計された、フィルターに堆積した選択的酸化触媒組成物を含む。
本発明の一態様は、エンジンからの排気ガス流を処理するシステムであって、エンジンの下流に位置し、かつ炭化水素(HC)、一酸化炭素(CO)、および一酸化窒素(NO)の酸化に適合したディーゼル酸化触媒と、ディーゼル酸化触媒の下流に位置する、排気ガス流への還元剤の添加に適合した注入器と、注入器の下流に位置し、かつ約450℃〜約550℃の温度で少なくとも0.6のHC酸化:アンモニア酸化の選択性比によりHCを酸化させるように適合した選択的酸化触媒組成物をフィルター上に含む触媒化スートフィルター(CSF)と、CSFの下流に位置する、窒素酸化物(NO)の還元に適合した第1のSCR材料を含む選択的接触還元(SCR)構成要素とを含み、すべての構成要素が排気ガス流と流体連通している、システムに関する。いくつかの実施形態では、選択的酸化触媒組成物は、卑金属酸化物成分、希土類金属酸化物成分、白金族金属(PGM)成分、またはそれらの組み合わせを含む。
いくつかの実施形態では、選択的酸化触媒組成物は、パラジウム成分を含む。いくつかの実施形態では、選択的酸化触媒組成物は、実質的に白金を含まない。いくつかの実施形態では、選択的酸化触媒組成物がPGM成分を含み、PGM成分がフィルター上に約0.1g/ft〜約10g/ftの充填量を有する。いくつかの実施形態では、選択的酸化触媒組成物は、Cu、Fe、Ni、Zn、Al、Sn、W、Mo、Ta、Co、Bi、Ti、Zr、Sb、Mn、Be、Ge、V、Gd、Hf、In、Nb、Re、Ce、La、Pr、Nd、およびそれらの組み合わせの酸化物より選択される卑金属酸化物成分を含む。いくつかの実施形態では、卑金属酸化物成分は酸化銅を含む。いくつかの実施形態では、選択的酸化触媒組成物は、卑金属酸化物成分または希土類金属酸化物成分を含み、フィルター上の選択的酸化触媒組成物の充填量は、約0.05g/in〜約0.5g/inである。
いくつかの実施形態では、選択的酸化触媒組成物は、耐火性金属酸化物、酸素貯蔵成分、モレキュラーシーブ、およびそれらの組み合わせから成る群より選択される担体材料上に含浸またはイオン交換された卑金属酸化物成分、希土類金属酸化物成分、PGM成分、またはそれらの組み合わせを含む。いくつかの実施形態では、選択的酸化触媒組成物は、ゼオライト上に含浸またはイオン交換されたPGM成分を含む。いくつかの実施形態では、担体材料は、セリア、ジルコニア、イットリア、ランタナ、ネオジミア、プラセオジミア、またはそれらの組み合わせを含む酸素貯蔵成分である。いくつかの実施形態では、担体材料はセリア−ジルコニア複合材である。いくつかの実施形態では、セリア−ジルコニア複合材は、少なくとも10重量%のセリアを含む。
いくつかの実施形態では、担体材料は、アルミナ、シリカ、シリカ−アルミナ、チタニア、およびそれらの組み合わせより選択される耐火性金属酸化物である。いくつかの実施形態では、選択的酸化触媒成分は、セリア上に含浸させられたパラジウム成分を含む。
いくつかの実施形態では、選択的酸化触媒組成物は、セリア、ガドリニア、ランタナ、ネオジミア、プラセオジミア、サマリア、スカンジア、イッテルビア、イットリア、およびそれらの組み合わせより選択される希土類金属酸化物成分を含む。いくつかの実施形態では、希土類金属酸化物成分はセリアを含む。いくつかの実施形態では、選択的酸化触媒組成物は、複合材の少なくとも約10重量%の量のセリアを含むセリア−ジルコニア複合材を含む。いくつかの実施形態では、選択的酸化触媒組成物は酸化銅およびセリアを含む。いくつかの実施形態では、選択的酸化触媒組成物はフィルター上に約0.05g/in〜約0.5g/inの充填量を有する。
いくつかの実施形態では、CSFはフィルター上に第2のSCR材料をさらに含む。いくつかの実施形態では、選択的酸化触媒組成物および第2のSCR材料は混合される。いくつかの実施形態では、選択的酸化触媒組成物および第2のSCR材料は、軸方向に区分された構成でフィルターに配置されており、選択的酸化触媒組成物は、第2のSCR材料の上流または下流に配置されている。いくつかの実施形態では、第2のSCR材料はフィルター上に約0.1g/in〜約1g/inの充填量を有する。
いくつかの実施形態では、第1のSCR材料は、混合金属酸化物または金属促進モレキュラーシーブを含む。いくつかの実施形態では、第1および第2のSCR材料は、独立して、混合金属酸化物または金属促進モレキュラーシーブを含む。いくつかの実施形態では、金属促進モレキュラーシーブは、Cu、Co、Ni、La、Mn、Fe、V、Ag、Ce、Nd、Mo、Hf、Y、W、およびそれらの組み合わせより選択される金属で促進される。いくつかの実施形態では、金属は、金属酸化物として計算して、金属促進モレキュラーシーブの重量を基準として、約0.1重量%〜約10重量%の量で存在する。いくつかの実施形態では、金属促進モレキュラーシーブは、AEI、AFT、AFV、AFX、AVL、CHA、DDR、EAB、EEI、ERI、IFY、IRN、KFI、LEV、LTA、LTN、MER、MWF、NPT、PAU、RHO、RTE、RTH、SAS、SAT、SAV、SFW、TSCおよびUFI、ならびにそれらの組み合わせより選択される構造タイプを有するゼオライトである。いくつかの実施形態では、第2のSCR材料は、構造タイプCHAを有する銅促進モレキュラーシーブを含む。いくつかの実施形態では、混合金属酸化物は、Fe/TiO、Fe/Al、MgO/TiO、MgO/Al、MnO/TiO、CuO/TiO、CeO/ZrO、TiO/ZrO、V/TiO、V/WO/TiO、V/SiO/TiO、およびそれらの混合物より選択される。
いくつかの実施形態では、触媒化スートフィルターは注入器のすぐ下流に位置している。いくつかの実施形態では、開示されるシステムは、SCR構成要素の下流に位置する選択的接触還元触媒/アンモニア酸化触媒(SCR/AMOx)構成要素をさらに含む。いくつかの実施形態では、エンジンはディーゼルエンジンである。いくつかの実施形態では、還元剤はアンモニアまたはアンモニア前駆体を含む。いくつかの実施形態では、還元剤は尿素を含む。
本発明の別の態様は、フィルター上に選択的酸化触媒組成物を含む触媒化スートフィルター(CSF)であって、選択的酸化触媒組成物が、アンモニア酸化と比較してHC酸化に対する選択性を有し、かつ選択的酸化触媒組成物が実質的に白金を含まない触媒化スートフィルター(CSF)に関する。いくつかの実施形態では、選択性が、約450℃〜約550℃の温度で少なくとも0.6の、アンモニア酸化率に対するHC酸化率により定義される。いくつかの実施形態では、選択的酸化触媒組成物は、卑金属酸化物成分、希土類金属酸化物成分、白金族金属(PGM)成分、またはそれらの組み合わせを含む。いくつかの実施形態では、卑金属酸化物成分、希土類金属酸化物成分、PGM成分、またはそれらの組み合わせは、耐火性金属酸化物、酸素貯蔵成分、モレキュラーシーブ、およびそれらの組み合わせから成る群より選択される担体材料上に含浸またはイオン交換される。いくつかの実施形態では、選択的酸化触媒組成物は、パラジウム成分を含む。いくつかの実施形態では、パラジウム成分は、セリアまたはシリカ−アルミナ上に含浸させられる。いくつかの実施形態では、選択的酸化触媒組成物がPGM成分を含み、PGM成分がフィルター上に約0.1g/ft〜約10g/ftの充填量を有する。いくつかの実施形態では、選択的酸化触媒組成物はフィルター上に約0.05g/in〜約0.5g/inの充填量を有する。
本発明の別の態様は、排気ガス流中に存在するHC、COおよびNOを低減させる方法であって、排気ガス流中のHC、COおよびNOを低減させるのに十分な時間および温度で排気ガス流を開示されるシステムに通して送ることを含む、方法に関する。いくつかの実施形態では、排気ガス流中に存在するHC、CO、およびNOを低減させる方法は、排気ガス流を、HC、COおよびNOの酸化に適合したディーゼル酸化触媒と接触させ、それにより、HCおよびCOの水準が低下し、かつNOの水準が上昇した第1の流出物を形成することと、還元剤を、ディーゼル酸化触媒から出る第1の流出物に注入して、第2の流出物を得ることと、第2の流出物と、約450℃〜約550℃の温度で少なくとも0.6のHC酸化:アンモニア酸化の選択性比によりHCを選択的に酸化させるように適合した選択的酸化触媒をフィルター上に含む触媒化スートフィルター(CSF)とを接触させ、HCの水準がさらに低下した第3の流出物を形成することと、第3の流出物と、NOの還元に適合したSCR構成要素とを接触させ、それにより、HC、COおよびNOの水準が低下した処理された排気ガス流を形成することとを含む。いくつかの実施形態では、処理された排気ガス流は、450℃で排気ガス流に対して少なくとも35%低減されたHC含量を有する。いくつかの実施形態では、処理された排気ガス流は、500℃で排気ガス流に対して少なくとも55%低減されたHC含量を有する。いくつかの実施形態では、処理された排気ガス流は、550℃で排気ガス流に対して少なくとも75%低減されたHC含量を有する。
本開示は、以下の実施形態を含むが、限定されることはない。
実施形態1.エンジンからの排気ガス流を処理するシステムであって、エンジンの下流に位置し、かつ炭化水素(HC)、一酸化炭素(CO)および一酸化窒素(NO)の酸化に適合したディーゼル酸化触媒と、ディーゼル酸化触媒の下流に位置する、排気ガス流への還元剤の添加に適合した注入器と、注入器の下流に位置し、かつ約450℃〜約550℃の温度で少なくとも0.6のHC酸化:アンモニア酸化の選択性比によりHCを酸化させるように適合した選択的酸化触媒組成物をフィルター上に含む触媒化スートフィルター(CSF)と、CSFの下流に位置する、窒素酸化物(NO)の還元に適合した第1のSCR材料を含む選択的接触還元(SCR)構成要素とを含み、すべての構成要素が排気ガス流と流体連通している、システム。
実施形態2.選択的酸化触媒組成物が、卑金属酸化物成分、希土類金属酸化物成分、白金族金属(PGM)成分、またはそれらの組み合わせを含む、実施形態1に記載のシステム。
実施形態3.選択的酸化触媒組成物がパラジウム成分を含む、実施形態1または2に記載のシステム。
実施形態4.選択的酸化触媒組成物が実質的に白金を含まない、実施形態1〜3のいずれか1つに記載のシステム。
実施形態5.選択的酸化触媒組成物がPGM成分を含み、PGM成分がフィルター上に約0.1g/ft〜約10g/ftの充填量を有する、実施形態1〜4のいずれか1つに記載のシステム。
実施形態6.選択的酸化触媒組成物が、Cu、Fe、Ni、Zn、Al、Sn、W、Mo、Ta、Co、Bi、Ti、Zr、Sb、Mn、Be、Ge、V、Gd、Hf、In、Nb、Re、Ce、La、Pr、Nd、およびそれらの組み合わせの酸化物より選択される卑金属酸化物成分を含む、実施形態1〜5のいずれか1つに記載のシステム。
実施形態7.卑金属酸化物成分が酸化銅を含む、実施形態1〜6のいずれか1つに記載のシステム。
実施形態8.選択的酸化触媒組成物が、卑金属酸化物成分または希土類金属酸化物成分を含み、フィルター上の選択的酸化触媒組成物の充填量が、約0.05g/in〜約0.5g/inである、実施形態1〜7のいずれか1つに記載のシステム。
実施形態9.選択的酸化触媒組成物が、耐火性金属酸化物、酸素貯蔵成分、モレキュラーシーブ、およびそれらの組み合わせから成る群より選択される担体材料上に含浸またはイオン交換された卑金属酸化物成分、希土類金属酸化物成分、PGM成分、またはそれらの組み合わせを含む、実施形態1〜8のいずれか1つに記載のシステム。
実施形態10.選択的酸化触媒組成物が、ゼオライト上に含浸またはイオン交換されたPGM成分を含む、実施形態1〜9のいずれか1つに記載のシステム。
実施形態11.担体材料が、セリア、ジルコニア、イットリア、ランタナ、ネオジミア、プラセオジミア、またはそれらの組み合わせを含む酸素貯蔵成分である、実施形態1〜10のいずれか1つに記載のシステム。
実施形態12.担体材料がセリア−ジルコニア複合材である、実施形態1〜11のいずれか1つに記載のシステム。
実施形態13.セリア−ジルコニア複合材が少なくとも10重量%のセリアを含む、実施形態1〜12のいずれか1つに記載のシステム。
実施形態14.担体材料が、アルミナ、シリカ、シリカ−アルミナ、チタニア、およびそれらの組み合わせより選択される耐火性金属酸化物である、実施形態1〜13のいずれか1つに記載のシステム。
実施形態15.選択的酸化触媒成分が、セリア上に含浸させられたパラジウム成分を含む、実施形態1〜14のいずれか1つに記載のシステム。
実施形態16.選択的酸化触媒組成物が、セリア、ガドリニア、ランタナ、ネオジミア、プラセオジミア、サマリア、スカンジア、イッテルビア、イットリア、およびそれらの組み合わせより選択される希土類金属酸化物成分を含む、実施形態1〜15のいずれか1つに記載のシステム。
実施形態17.希土類金属酸化物成分がセリアを含む、実施形態1〜16のいずれか1つに記載のシステム。
実施形態18.選択的酸化触媒組成物が、複合材の少なくとも約10重量%の量のセリアを含むセリア−ジルコニア複合材を含む、実施形態1〜17のいずれか1つに記載のシステム。
実施形態19.選択的酸化触媒組成物が酸化銅およびセリアを含む、実施形態1〜18のいずれか1つに記載のシステム。
実施形態20.選択的酸化触媒組成物がフィルター上に約0.05g/in〜約0.5g/inの充填量を有する、実施形態1〜19のいずれか1つに記載のシステム。
実施形態21.CSFがフィルター上に第2のSCR材料をさらに含む、実施形態1〜20のいずれか1つに記載のシステム。
実施形態22.選択的酸化触媒組成物および第2のSCR材料が混合される、実施形態1〜21のいずれか1つに記載のシステム。
実施形態23.選択的酸化触媒組成物および第2のSCR材料が、軸方向に区分された構成でフィルターに配置されており、選択的酸化触媒組成物が、第2のSCR材料の上流または下流に配置されている、実施形態1〜22のいずれか1つに記載のシステム。
実施形態24.第2のSCR材料がフィルター上に約0.1g/in〜約1g/inの充填量を有する、実施形態1〜23のいずれか1つに記載のシステム。
実施形態25.第1のSCR材料が混合金属酸化物または金属促進モレキュラーシーブを含む、実施形態1〜24のいずれか1つに記載のシステム。
実施形態26.第1および第2のSCR材料が、独立して、混合金属酸化物または金属促進モレキュラーシーブを含む、実施形態1〜25のいずれか1つに記載のシステム。
実施形態27.金属促進モレキュラーシーブが、Cu、Co、Ni、La、Mn、Fe、V、Ag、Ce、Nd、Mo、Hf、Y、W、およびそれらの組み合わせより選択される金属で促進される、実施形態1〜26のいずれか1つに記載のシステム。
実施形態28.金属が、金属酸化物として計算して、金属促進モレキュラーシーブの重量を基準として、約0.1重量%〜約10重量%の量で存在する、実施形態1〜27のいずれか1つに記載のシステム。
実施形態29.金属促進モレキュラーシーブが、AEI、AFT、AFV、AFX、AVL、CHA、DDR、EAB、EEI、ERI、IFY、IRN、KFI、LEV、LTA、LTN、MER、MWF、NPT、PAU、RHO、RTE、RTH、SAS、SAT、SAV、SFW、TSCおよびUFI、ならびにそれらの組み合わせより選択される構造タイプを有するゼオライトである、実施形態1〜28のいずれか1つに記載のシステム。
実施形態30.第2のSCR材料が、構造タイプCHAを有する銅促進モレキュラーシーブを含む、実施形態1〜29のいずれか1つに記載のシステム。
実施形態31.混合金属酸化物が、Fe/TiO、Fe/Al、MgO/TiO、MgO/Al、MnO/TiO、CuO/TiO、CeO/ZrO、TiO/ZrO、V/TiO、V/WO/TiO、V/SiO/TiO、およびそれらの混合物より選択される、実施形態1〜30のいずれか1つに記載のシステム。
実施形態32.触媒化スートフィルターが注入器のすぐ下流に位置している、実施形態1〜31のいずれか1つに記載のシステム。
実施形態33.SCR構成要素の下流に位置する選択的接触還元触媒/アンモニア酸化触媒(SCR/AMOx)構成要素をさらに含む、実施形態1〜32のいずれか1つに記載のシステム。
実施形態34.エンジンがディーゼルエンジンである、実施形態1〜33のいずれか1つに記載のシステム。
実施形態35.還元剤がアンモニアまたはアンモニア前駆体を含む、実施形態1〜34のいずれか1つに記載のシステム。
実施形態36.還元剤が尿素を含む、実施形態1〜35のいずれか1つに記載のシステム。
実施形態37.フィルター上に選択的酸化触媒組成物を含む触媒化スートフィルター(CSF)であって、選択的酸化触媒組成物が、アンモニア酸化と比較してHC酸化に対する選択性を有し、かつ選択的酸化触媒組成物が実質的に白金を含まない、触媒化スートフィルター(CSF)。
実施形態38.選択性が、約450℃〜約550℃の温度で少なくとも0.6の、アンモニア酸化率に対するHC酸化率により定義される、実施形態37に記載のCSF。
実施形態39.選択的酸化触媒組成物が、卑金属酸化物成分、希土類金属酸化物成分、白金族金属(PGM)成分、またはそれらの組み合わせを含む、実施形態37または38に記載のCSF。
実施形態40.卑金属酸化物成分、希土類金属酸化物成分、PGM成分、またはそれらの組み合わせが、耐火性金属酸化物、酸素貯蔵成分、モレキュラーシーブ、およびそれらの組み合わせから成る群より選択される担体材料上に含浸またはイオン交換される、実施形態37〜39のいずれか1つに記載のCSF。
実施形態41.選択的酸化触媒組成物がパラジウム成分を含む、実施形態37〜40のいずれか1つに記載のCSF。
実施形態42.パラジウム成分がセリアまたはシリカ−アルミナ上に含浸させられる、実施形態37〜41のいずれか1つに記載のCSF。
実施形態43.選択的酸化触媒組成物がPGM成分を含み、PGM成分がフィルター上に約0.1g/ft〜約10g/ftの充填量を有する、実施形態37〜42のいずれか1つに記載のCSF。
実施形態44.選択的酸化触媒組成物がフィルター上に約0.05g/in〜約0.5g/inの充填量を有する、実施形態37〜43のいずれか1つに記載のCSF。
実施形態45.排気ガス流中に存在するHC、COおよびNOを低減させる方法であって、排気ガス流中のHC、COおよびNOを低減させるのに十分な時間および温度で排気ガス流を、実施形態1〜36のいずれか1つに記載のシステムに通して送ることを含む、方法。
実施形態46.排気ガス流中に存在するHC、CO、およびNOを低減させる方法であって、排気ガス流を、HC、COおよびNOの酸化に適合したディーゼル酸化触媒と接触させ、それにより、HCおよびCOの水準が低下し、かつNOの水準が上昇した第1の流出物を形成することと、還元剤を、ディーゼル酸化触媒から出る第1の流出物に注入して、第2の流出物を得ることと、第2の流出物と、約450℃〜約550℃の温度で少なくとも0.6のHC酸化:アンモニア酸化の選択性比によりHCを選択的に酸化させるように適合した選択的酸化触媒をフィルター上に含む触媒化スートフィルター(CSF)とを接触させ、HCの水準がさらに低下した第3の流出物を形成することと、第3の流出物と、NOの還元に適合したSCR構成要素とを接触させ、それにより、HC、COおよびNOの水準が低下した処理された排気ガス流を形成することとを含む、方法。
実施形態47.処理された排気ガス流が、450℃で排気ガス流に対して少なくとも35%低減されたHC含量を有する、実施形態45または46に記載の方法。
実施形態48.処理された排気ガス流が、500℃で排気ガス流に対して少なくとも55%低減されたHC含量を有する、実施形態45〜47のいずれか1つに記載の方法。
実施形態49.処理された排気ガス流が、550℃で排気ガス流に対して少なくとも75%低減されたHC含量を有する、実施形態45〜48のいずれか1つに記載の方法。
本開示のこれらおよび他の特徴、態様、および利点は、以下に簡単に説明される添付の図面とともに以下の詳細な説明を読むことで明らかになるだろう。本発明は、上記の実施形態の2つ、3つ、4つ、またはそれより多くの任意の組み合わせ、ならびに本開示に記載の2つ、3つ、4つ、またはそれより多くの特徴または要素の組み合わせを、そのような特徴または要素が、本明細書の特定の実施形態において明示的に組み合わされているか否かに関わらず含む。本開示では、文脈が明らかに他のことを示さない限り、開示される発明の分けることが可能な特徴または要素が、そのさまざまな態様および実施形態のいずれかにおいて、組み合わせ可能であると考えられるべきであると、全体として読み取られることが意図される。本発明の他の態様および利点は、以下で明らかになるだろう。
本発明の実施形態の理解をもたらすために、必ずしも縮尺通りに描かれてはいない添付図面が参照され、参照番号は本発明の例示的な実施形態の構成要素を指す。図面は、単なる例であって、本発明を限定するものとして解釈されるべきではない。
ウォールフローフィルター基材の斜視図を示す。 図1に対して拡大され、図1の基材の端面に平行な平面に沿って取られた部分の切取図であり、図1に示される複数のガス流路の拡大図を示す。 区分された触媒化スートフィルターの断面図を示す。 本明細書に開示される排気ガス処理システムの実施形態の概略図を示す。 約440℃〜560℃の温度範囲にわたる触媒サンプル物品1〜8の選択性指数を示す折れ線グラフであり、選択性指数は、アンモニア(NH)の転化率に対する炭化水素(THC)の総転化率の比として定義される。
これより、以下で本発明をより十分に説明する。しかしながら、本発明は、多くの異なる形態で具体化されてもよく、本明細書に記載の実施形態に限定されると解釈されるべきではない。むしろ、これらの実施形態は、この開示が十分かつ完全であり、本発明の範囲を当業者に十分に伝えるように提供される。本明細書および特許請求の範囲で使用されるように、単数形「1つの(a、an)」および「その(the)」は、文脈が明らかに他のことを指示しない限り、複数の指示物を含む。
本発明は、ディーゼル酸化触媒(DOC)、触媒化スートフィルター(CSF)、選択的接触還元(SCR)触媒、およびCSFの上流に位置する還元剤注入器を含む排気ガス処理システムに関する。CSFは、フィルター上に配置された選択的酸化触媒組成物を含み、選択的酸化触媒組成物は、炭化水素酸化:アンモニア酸化について高い選択性比により炭化水素を酸化させるように適合している。
一般的に、前述の触媒成分(DOC、CSF、およびSCR触媒)を含む排気ガス処理システムでは、SCR反応(NO転化)を促進するために必要な還元剤注入器をCSFの下流に配置して、還元剤、例えばアンモニアが、それがSCR触媒に到達する前にCSFにより酸化させられることを防ぐ。CSFによるアンモニアの酸化は、SCR触媒がNOを転化させるために用いるアンモニアの量を減少させ、そのため、SCR触媒の触媒活性を低下させる。あるいは、特定のシステムでは、還元剤注入器は、CSFの上流にあるが、スートフィルターは触媒化されておらず(すなわち、その上に酸化触媒組成物がコーティングされていない)、そのため、スートフィルターにおいてアンモニアの酸化は起こらない。しかしながら、そのような触媒化されていないスートフィルターの再生プロセス中に一酸化炭素と炭化水素のスリップの増加がしばしば観察される。
一般的に、触媒化スートフィルターの再生は、フィルター中の捕捉された固体粒子を酸化、燃焼および/または転化させて、無害なガス状二酸化炭素(CO)および水蒸気(HO)にし、かつ能動的および/または受動的に進行する。能動的再生は、一般的に、すすの温度を、それが排ガス流中の過剰な酸素の存在下で酸化する点まで上昇させるために、排ガスに熱を加えることを必要とする。過剰なディーゼル燃料(炭化水素源として使用)は、CSFおよびDOCの上流に位置する燃料注入器を通して排気ガス流に注入されてもよい。過剰なディーゼル燃料は、CSFの温度を上昇させる手段としてのDOCを介して酸化させることが可能であり、DOCにより酸化させられなかった残りのディーゼル燃料は、一般的にCSFにより酸化させられる。ただし、スートフィルターが触媒化されていないエンジンガス処理システムでは、DOCは、触媒化されていないスートフィルターの酸化活性の欠如を補って、(炭化水素スリップと称される)DOCから出る排気ガス流中に存在する残りのディーゼル燃料の量を最小限に抑える必要がある。受動的再生は、さらなるエネルギーを必要とせず、通常のエンジン動作中に達成される温度でのNOの存在下でのすすの酸化によるものである。
本願に開示されているように触媒化スートフィルターの上流に還元剤注入器を配置することには、いくつかの乗り物の用途の空間的制約に準拠するなどの特定の利点がある。一般的に、触媒成分および注入器口の配置の柔軟性は、特に、乗り物の設置面積が比較的小さいコンパクトなエンジン処理システム内において重要となる。開示される排気ガス処理システムは、下流のSCR触媒の効率的なNO転化を維持するのに十分なアンモニアが存在することを確実にするために、アンモニアよりも炭化水素を優先的に酸化させるように設計されたCSFを含む。この選択性は、本明細書でより十分に説明されているように、スートフィルター上に選択的酸化触媒組成物を使用することにより達成される。
本明細書で使用されているように、「触媒」または「触媒組成物」という用語は、反応を促進する物質を指す。
本明細書で使用されているように、「上流」および「下流」という用語は、エンジンからテールパイプに向かうエンジン排気ガス流の流れに応じた相対的な方向を指し、エンジンは上流位置にあり、テールパイプおよび任意の汚染物軽減物品、例えばフィルターおよび触媒は、エンジンの下流にある。
本明細書で使用されているように、「流」という用語は、広義的には、固体または液体の微粒子状物質を含み得る流動ガスの任意の組み合わせを指す。「ガス流」または「排気ガス流」という用語は、燃焼機関の排気などのガス状成分の流を意味し、これは、液滴、固体微粒子などの同伴した非ガス状成分を含んでいてもよい。燃焼機関の排気ガス流は、一般的に、燃焼生成物(COおよびHO)、不完全燃焼生成物(一酸化炭素(CO)および炭化水素(HC))、窒素酸化物(NO)、可燃性および/または炭素質微粒子状物質(すす)、ならびに未反応の酸素および窒素を含む。
本明細書で使用されているように、「基材」という用語は、触媒組成物が配置されるモノリス材料を指す。
本明細書で使用されているように、「担体」という用語は、触媒貴金属が施与される任意の高表面積材料、通常は金属酸化物材料を指す。
本明細書で使用されているように、「ウォッシュコート」という用語は、処理されるガス流の通過を可能にするのに十分に多孔性のある基材材料、例えばハニカムタイプの担体部材に塗布される触媒または他の材料の薄い接着性コーティングの技術分野におけるその通常の意味を有する。ウォッシュコートは、液体ビヒクル中に特定の固体含量(例えば30重量%〜90重量%)の粒子を含むスラリーを調製し、それから、これを基材にコーティングし、乾燥させてウォッシュコート層を提供することにより形成される。
本明細書で使用されているように、「触媒物品」という用語は、所望の反応を促進するために使用される要素を指す。例えば、触媒物品は、基材上に触媒組成物を含むウォッシュコートを含み得る。
本明細書で使用されているように、「含浸させられた」または「含浸」とは、担体材料の多孔質構造に触媒材料が浸透することを指す。
「軽減」という用語は、何らかの手段により引き起こされる量の減少を意味する。
選択的酸化触媒組成物
上記のように、開示される触媒化スートフィルターは、フィルター上に選択的酸化触媒組成物を含む。選択的酸化触媒組成物は、卑金属酸化物成分、希土類金属酸化物成分、白金族金属(PGM)成分、またはそれらの組み合わせを含む。
いくつかの実施形態では、選択的酸化触媒組成物は卑金属酸化物成分を含む。本明細書で使用されているように、「卑金属酸化物成分」とは、銅、鉄、ニッケル、亜鉛、アルミニウム、スズ、タングステン、モリブデン、タンタル、コバルト、ビスマス、チタン、ジルコニウム、アンチモン、マンガン、ベリリウム、ゲルマニウム、バナジウム、ガドリニウム、ハフニウム、インジウム、ニオブ、レニウム、セリウム、ランタン、プラセオジム、ネオジム、およびそれらの組み合わせより選択される卑金属の酸化物を指す。いくつかの実施形態では、卑金属酸化物成分は酸化銅を含む。一般的に、卑金属酸化物成分は、担体材料上に含浸またはイオン交換される。卑金属酸化物成分の量は変化してもよいが、一般的に、酸化物として計算して、これが関連する担体の総重量を基準として、約0.05重量%〜約10重量%、約2重量%〜約8重量%、または約3重量%〜約6重量%(または約10重量%未満、約9重量%未満、約8重量%未満、約7重量%未満、約6重量%未満、約5重量%未満、約4重量%未満、約3重量%未満、約2重量%未満、もしくは約1重量%未満)であろう。
いくつかの実施形態では、卑金属酸化物成分は、第VIII族、第IIIB族、希土類金属、第IVB族、第VB族、第VIB族、第IB族、第IIB族、およびそれらの組み合わせより選択される金属の酸化物と組み合わされた1種以上の卑金属酸化物を含む。いくつかの実施形態では、1種以上の卑金属酸化物は、イットリウム、ランタン、セリウム、プラセオジム、チタン、ジルコニウム、バナジウム、ニオブ、クロム、モリブデンタングステン、およびそれらの組み合わせより選択される金属酸化物と組み合わされる。例示的な卑金属酸化物成分は、例えば、Kalwei等の米国特許第9,616,384号およびDeeba等の米国特許第9,126,182号に記載されており、これらは、参照によりその全体が本明細書に組み込まれる。
いくつかの実施形態では、選択的酸化触媒組成物は白金族金属成分を含む。本明細書で使用されているように、「白金族金属成分」または「PGM成分」とは、白金(Pt)、パラジウム(Pd)、ルテニウム(Ru)、ロジウム(Rh)、オスミウム(Os)、イリジウム(Ir)、およびそれらの混合物を含む、白金族金属またはそれらの酸化物を指す。いくつかの実施形態では、PGM成分はパラジウム成分である。いくつかの実施形態では、PGM成分は、担体材料上に含浸またはイオン交換される。PGM成分(例えばPd成分)の量は変化してもよいが、一般的に、約0.1重量%〜約10重量%、約1重量%〜約8重量%、または約3重量%〜約6重量%(または約10重量%未満、約9重量%未満、約8重量%未満、約7重量%未満、約6重量%未満、約5重量%未満、約4重量%未満、約3重量%未満、約2重量%未満、もしくは約1重量%未満)であろう。
いくつかの実施形態では、選択的酸化触媒組成物は、実質的に白金を含まない。本明細書で使用されているように、「実質的に白金を含まない」とは、選択的酸化触媒組成物に意図的に添加された白金金属がないこと、および選択的酸化触媒中に存在するさらなる白金が、約0.01重量%未満であることを意味する。
いくつかの実施形態では、選択的酸化触媒組成物は希土類金属酸化物成分を含む。本明細書で使用されているように、「希土類金属酸化物成分」とは、ランタン、セリウム、ガドリニウム、サマリウム、スカンジウム、イッテルビウム、イットリウム、プラセオジムおよびネオジムを含む、元素周期表に定義されているランタン系列の1種以上の酸化物を指す。いくつかの実施形態では、希土類金属酸化物成分はセリアを含む。一般的に、希土類金属成分は、担体材料上に含浸またはイオン交換される。希土類金属酸化物成分(例えばセリア)の量は変化してもよいが、一般的に、これが関連する担体材料の重量に対して、約0.1重量%〜約10重量%、約1重量%〜約8重量%、または約3重量%〜約6重量%(または約10重量%未満、約9重量%未満、約8重量%未満、約7重量%未満、約6重量%未満、約5重量%未満、約4重量%未満、約3重量%未満、約2重量%未満、もしくは約1重量%未満)であろう。
金属成分(すなわち、卑金属酸化物成分、PGM成分、希土類金属成分、またはそれらの組み合わせ)は、一般的に、モレキュラーシーブ、耐熱金属酸化物材料、酸素貯蔵成分、またはそれらの組み合わせなどの担体材料上に担持される。いくつかの実施形態では、担体材料はモレキュラーシーブを含む。本明細書で使用されているように、「モレキュラーシーブ」という用語は、ゼオライトなどの骨格材料および他の骨格材料(例えば同形置換材料)を指す。モレキュラーシーブは、一般的に四面体型のサイトを含み、かつ実質的に均一な細孔分布を有し、平均細孔径が20Å以下の、広範な三次元網目構造の酸素イオンに基づく材料である。細孔径は環径により定義される。1つ以上の実施形態によると、モレキュラーシーブをそれらの骨格タイプにより定義することにより、あらゆるゼオライトまたは同形骨格材料、例えば、SAPO、AlPOおよびMeAPO、Geシリケート、全シリカ、および同じ骨格タイプを有する類似材料を含むことが意図されると理解される。
一般的に、モレキュラーシーブ、例えばゼオライトは、角を共有するTO四面体から成る連続的な三次元骨格構造を有するアルミノシリケートとして定義され、ここで、Tは、AlまたはSiであるか、任意でPである。アニオン性骨格の電荷のバランスをとるカチオンは、骨格酸素と緩く結合しており、残りの細孔容積は、水分子で満たされている。非骨格カチオンは一般的に交換可能であり、水分子は除去可能である。
本明細書で使用されているように、「ゼオライト」という用語は、ケイ素およびアルミニウム原子を含むモレキュラーシーブの特定の例を指す。ゼオライトは、ゼオライトのタイプと、ゼオライト格子に含まれるカチオンのタイプおよび量とに応じて、直径が約3〜10オングストロームの範囲にある、かなり均一な細孔径を有する結晶性材料である。ゼオライト、ならびに他のモレキュラーシーブのアルミナに対するシリカのモル比(SAR)は、広範囲にわたり変化してもよいが、通常は2以上である。1つ以上の実施形態では、モレキュラーシーブは、約5〜約250、約5〜約200、約5〜約100、および約5〜約50を含む約2〜約300の範囲のSARモル比を有する。1つ以上の特定の実施形態では、モレキュラーシーブは、約10〜約200、約10〜約100、約10〜約75、約10〜約60、および約10〜約50、約15〜約100、約15〜約75、約15〜約60、および約15〜約50、約20〜約100、約20〜約75、約20〜約60、および約20〜約50の範囲のSARモル比を有する。
より具体的な実施形態では、アルミノシリケートゼオライト骨格タイプに言及することで、材料が、骨格内へと置換されたリンまたは他の金属を含まないモレキュラーシーブに限定される。しかしながら、明確にするために、本明細書で使用されているように、「アルミノシリケートゼオライト」は、SAPO、AlPOおよびMeAPO材料などのアルミノホスフェート材料を除外し、より広義の用語である「ゼオライト」は、アルミノシリケートおよびアルミノホスフェートを含むことが意図される。「アルミノホスフェート」という用語は、アルミニウムおよびリン酸原子を含む、モレキュラーシーブの別の特定の例を指す。アルミノホスフェートは、かなり均一な細孔径を有する結晶性材料である。
1つ以上の実施形態では、モレキュラーシーブは、共通の酸素原子により結合されて三次元網目構造を形成するSiO/AlO四面体を含む。他の実施形態では、モレキュラーシーブは、SiO/AlO/PO四面体を含む。1つ以上の実施形態のモレキュラーシーブは、主に、SiO/AlO、またはSiO/AlO/POの四面体の硬い網目構造により形成される気孔の形状に応じて区別することができる。気孔への入口は、入口開口部を形成する原子について、6個、8個、10個、または12個の環原子から形成される。1つ以上の実施形態では、モレキュラーシーブは、6個、8個、10個および12個を含む、12個以下の環径を含む。
1つ以上の実施形態では、モレキュラーシーブは、八環小細孔アルミノシリケートゼオライトを含む。本明細書で使用されているように、「小細孔」という用語は、約5オングストロームよりも小さい細孔開口部、例えば約3.8オングストロームオーダーの細孔開口部を指す。「八環」ゼオライトという語句は、八環細孔開口部および二重六環二次構造単位を有し、かつ4個の環による二重六環構造単位の接続から生じるケージ型構造を有するゼオライトを指す。1つ以上の実施形態では、モレキュラーシーブは、8個の四面体原子の最大環径を有する小細孔モレキュラーシーブである。
上記のように、1つ以上の実施形態では、モレキュラーシーブとしては、アルミノシリケート、ボロシリケート、ガロシリケート、MeAPSOおよびMeAPOの組成物すべてを挙げることができる。これらとしては、SSZ−13、SSZ−62、天然チャバザイト、ゼオライトK−G、リンデD、リンデR、LZ−218、LZ−235、LZ−236、ZK−14、SAPO−34、SAPO−44、SAPO−47、ZYT−6、CuSAPO−34、CuSAPO−44、Ti−SAPO−34、およびCuSAPO−47が挙げられるが、これらに限定されてはいない。
1つ以上の実施形態によると、モレキュラーシーブは、構造を識別する骨格トポロジーに基づいていてもよい。一般的に、ゼオライトの任意の骨格タイプ、例えば、ABW、ACO、AEI、AEL、AEN、AET、AFG、AFI、AFN、AFO、AFR、AFS、AFT、AFX、AFY、AHT、ANA、APC、APD、AST、ASV、ATN、ATO、ATS、ATT、ATV、AVL、AWO、AWW、BCT、BEA、BEC、BIK、BOG、BPH、BRE、CAN、CAS、SCO、CFI、SGF、CGS、CHA、CHI、CLO、CON、CZP、DAC、DDR、DFO、DFT、DOH、DON、EAB、EDI、EEI、EMT、EON、EPI、ERI、ESV、ETR、EUO、FAU、FER、FRA、GIS、GIU、GME、GON、GOO、HEU、IFR、IFY、IHW、IRN、ISV、ITE、ITH、ITW、IWR、IWW、JBW、KFI、LAU、LEV、LIO、LIT、LOS、LOV、LTA、LTL、LTN、MAR、MAZ、MEI、MEL、MEP、MER、MFI、MFS、MON、MOR、MOZ、MSO、MTF、MTN、MTT、MTW、MWF、MWW、NAB、NAT、NES、NON、NPO、NPT、NSI、OBW、OFF、OSI、OSO、OWE、PAR、PAU、PHI、PON、RHO、RON、RRO、RSN、RTE、RTH、RUT、RWR、RWY、SAO、SAS、SAT、SAV、SBE、SBS、SBT、SFE、SFF、SFG、SFH、SFN、SFO、SFW、SGT、SOD、SOS、SSY、STF、STI、STT、TER、THO、TON、TSC、UEI、UFI、UOZ、USI、UTL、VET、VFI、VNI、VSV、WIE、WEN、YUG、ZON、またはそれらの組み合わせの骨格タイプが使用されてもよい。いくつかの実施形態では、モレキュラーシーブは、AEI、AFT、AFV、AFX、AVL、CHA、DDR、EAB、EEI、ERI、IFY、IRN、KFI、LEV、LTA、LTN、MER、MWF、NPT、PAU、RHO、RTE、RTH、SAS、SAT、SAV、SFW、TSC、およびUFIより選択される骨格構造を含む。いくつかの実施形態では、ゼオライトは、フォージャサイト、チャバザイト、クノプチロライト、モルデナイト、シリカライト、ゼオライトX、ゼオライトY、超安定ゼオライトY、ZSM−5、ZSM−12、SSZ−3、SAPO5、オフレタイト、またはベータゼオライトなどの天然または合成ゼオライトであってもよい。
ゼオライトは、二次構造単位(SBU)および複合構造単位(CBU)から成り、さまざまな骨格構造で生じる。二次構造単位は、16個までの四面体原子を含み、キラルではない。複合構造単位は、アキラルである必要はなく、骨格全体の構築に必ずしも使用可能であるわけではない。例えば、ゼオライトの群は、それらの骨格構造内に一重四環(s4r)複合構造単位を有する。四環において、「四」は、四面体のケイ素およびアルミニウム原子の位置を示し、酸素原子は、四面体原子の間に位置している。他の複合構造単位は、例えば、一重六環(s6r)単位、二重四環(d4r)単位、および二重六環(d6r)単位を含む。d4r単位は、2個のs4r単位を結合することにより生成される。d6r単位は、2個のs6r単位を結合することにより生成される。d6r単位には、12個の四面体原子がある。d6r二次構造単位を有するゼオライト構造タイプは、AEI、AFT、AFX、CHA、EAB、EMT、ERI、FAU、GME、JSR、KFI、LEV、LTL、LTN、MOZ、MSO、MWW、OFF、SAS、SAT、SAV、SBS、SBT、SFW、SSF、SZR、TSC、およびWENを含む。いくつかの実施形態では、ゼオライト担体材料はd6r単位を含む。いくつかの実施形態では、ゼオライト担体材料は、AEI、AFT、AFX、CHA、EAB、EMT、ERI、FAU、GME、JSR、KFI、LEV、LTL、LTN、MOZ、MSO、MWW、OFF、SAS、SAT、SAV、SBS、SBT、SFW、SSF、SZR、TSC、WEN、およびそれらの組み合わせより選択される構造タイプを有する。いくつかの実施形態では、ゼオライト担体材料は、CHA、AEI、AFX、ERI、KFI、LEV、およびそれらの組み合わせから成る群より選択される構造タイプを有する。特定の実施形態では、ゼオライト担体材料は、CHA、AEI、およびAFXより選択される構造タイプを有する。特定の実施形態では、ゼオライト担体材料はCHA構造タイプを有する。
いくつかの実施形態では、担体材料は耐熱金属酸化物材料を含む。本明細書で使用されているように、「耐熱金属酸化物材料」とは、高温で、例えばディーゼルエンジンの排気に関連する温度で、化学的および物理的安定性を示す多孔質金属含有酸化物材料を指す。例示的な耐火性金属酸化物としては、原子ドープされた組み合わせを含み、かつ高表面積のまたは活性化された化合物、例えばアルミナを含む、アルミナ、シリカ、ジルコニア、チタニア、セリア、およびそれらの物理的混合物または化学的組み合わせが挙げられる。いくつかの実施形態では、耐火性金属酸化物材料は、シリカ、例えばシリカ−アルミナを含む。いくつかの実施形態では、耐火性金属酸化物材料は、アルカリ、半金属、および/または遷移金属、例えば、La、Mg、Ba、Sr、Zr、Ti、Si、Ce、Mn、Nd、Pr、Sm、Nb、W、Y、Nd、Mo、Fe、またはそれらの組み合わせの金属酸化物(複数可)で変性される。いくつかの実施形態では、耐火性金属酸化物材料を変性するために使用されるアルカリ、半金属、および/または遷移金属の金属酸化物(複数可)の量は、耐火性金属酸化物材料の量を基準として、約0.5重量%〜約50重量%の範囲にあり得る。耐火性金属酸化物材料の例示的な組み合わせとしては、アルミナ−ジルコニア、セリア−ジルコニア、アルミナ−セリア−ジルコニア、ランタナ−アルミナ、ランタナ−ジルコニア、ランタナ−ジルコニア−アルミナ、バリア−アルミナ、バリア−ランタナ−アルミナ、バリア−ランタナ−ネオジムアルミナ、およびアルミナ−セリアが挙げられる。
いくつかの実施形態では、高表面積の耐火性金属酸化物材料、例えば、「ガンマアルミナ」または「活性化アルミナ」とも称されるアルミナ担体材料が使用され、これは、一般的に60m/gを超える、たいてい約200m/g以上までのBET表面積を示す。「BET表面積」は、N吸着により表面積を求めるBrunauer、Emmett、Tellerの方法に関連するその通常の意味を有する。1つ以上の実施形態では、BET表面積は、約100〜約150m/gの範囲にある。有用な市販のアルミナとしては、高いかさ密度のガンマアルミナなどの高表面積アルミナ、および低いまたは中程度のかさ密度の大細孔ガンマアルミナが挙げられる。
いくつかの実施形態では、担体材料は、酸素貯蔵成分(OSC)を含む。本明細書で使用されているように、「OSC」は、酸素貯蔵成分であって、酸素貯蔵能力を示し、また多くの場合、多価酸化状態を有し、かつ酸素(O)もしくは一酸化窒素(NO)などの酸化剤と酸化条件下で活発に反応可能または一酸化炭素(CO)、炭化水素(HC)もしくは水素(H)などの還元剤と還元条件下で活発に反応可能な実体である、酸素貯蔵成分を指す。特定の例示的なOSCは、元素周期表に定義されているスカンジウム、イットリウム、および/またはランタン系列の酸化物である希土類金属酸化物を含む。いくつかの実施形態では、OSCとして、酸化ジルコニウム(ZrO)、セリア(CeO)、チタニア(TiO)、プラセオジミア(Pr11)、イットリア(Y)、ネオジミア(Nd)、ランタナ(La)、酸化ガドリニウム(Gd)、および前述のもののうちの少なくとも2種を含む混合物が挙げられる。いくつかの実施形態では、OSCはセリアまたはジルコニアを含む。いくつかの実施形態では、OSCは、例えば、ジルコニウム(Zr)、チタン(Ta)、ランタン(La)、プラセオジム(Pr)、ネオジム(Nd)、ニオブ(Nb)、イットリウム(Y)、ニッケル(Ni)、マンガン(Mn)、鉄(Fe)銅(Cu)、銀(Ag)、金(Au)、サマリウム(Sm)、ガドリニウム(Gd)、および前述の金属のうちの少なくとも2種を含む組み合わせを含む1種以上の他の材料と組み合わされたセリアを含む。そのような組み合わせは、混合酸化物複合材料と称されることもある。例えば、「セリア−ジルコニア複合材料」とは、いずれの成分の量も指定しない、セリアおよびジルコニアを含む複合材料を意味する。適切なセリア−ジルコニア複合材としては、セリア−ジルコニア複合材の総重量を基準として、約5重量%〜約95重量%、好ましくは約5重量%〜約75重量%、より好ましくは約10重量%〜約70重量%の範囲のセリア含量(例えば、少なくとも約5重量%、少なくとも約10重量%、少なくとも約20重量%、少なくとも30重量%、少なくとも40重量%、少なくとも50重量%、少なくとも60重量%、少なくとも70重量%、少なくとも80重量%、少なくとも90重量%、または少なくとも約95重量%のセリア)を有する複合材が挙げられるが、これらに限定されることはない。
特定の一実施形態では、選択的酸化触媒組成物は、チャバザイトなどのゼオライト(CHA構造タイプ)上に担持された酸化銅を含む。別の特定の実施形態では、選択的酸化触媒組成物は、OSC、例えばセリアに担持された酸化銅を含む。さらなる実施形態では、選択的酸化触媒組成物は、耐火性金属酸化物成分、例えばシリカ−アルミナに含浸またはイオン交換されたパラジウム成分を含む。別の実施形態では、選択的酸化触媒組成物は、OSC成分、例えばセリア内に含浸またはイオン交換されたパラジウム成分を含む。さらなる別の特定の実施形態では、選択的酸化触媒組成物は、OSC、例えばジルコニアまたはセリア上に担持されたセリアを含む。
選択的酸化触媒組成物中に存在する金属成分(すなわち、卑金属酸化物成分、PGM成分、希土類金属酸化物成分)の量は変化してもよいが、一般的に、酸化物として計算して、揮発性物質不含ベースで報告して、選択的酸化触媒組成物の総重量を基準として、約0.1重量%〜約10重量%、約1重量%〜約8重量%、または約3重量%〜約6重量%(または約10重量%未満、約9重量%未満、約8重量%未満、約7重量%未満、約6重量%未満、約5重量%未満、約4重量%未満、約3重量%未満、約2重量%未満、もしくは約1重量%未満)である。
いくつかの実施形態では、選択的酸化触媒組成物は、約0.5〜約2.0(または少なくとも約0.5、約0.6、約0.7、約0.8、約0.9、約1.0、約1.1、約1.2、約1.3、約1.4、約1.5、約1.6、約1.7、約1.8、約1.9、もしくは約2.0)の範囲のHC酸化:アンモニア酸化の選択性比によりHCを選択的に酸化させる。いくつかの実施形態では、本明細書に示される記載の選択性比は、例えば、約400℃〜約600℃、または約450℃〜約550℃(または約600℃未満、または約550℃未満、または約540℃未満、または約530℃未満、または約520℃未満、または約510℃未満、または約500℃未満、または約490℃未満、または約480℃未満、または約470℃未満、または約460℃未満、または約450℃未満、下限は約400℃)でのものである。
SCR材料
上記のように、本明細書に開示される開示された排気ガス処理システムは、SCR材料(本明細書では「第1のSCR材料」と称する)を含有するSCR触媒と、SCR材料(本明細書では「第2のSCR材料」と称される)も任意で含み得る選択的酸化触媒で触媒化されたスートフィルターとを含む。第1および(任意の)第2のSCR材料は、独立して、NOを低減させることが可能な任意の材料を含んでいてもよい。第1のSCR材料および第2のSCR材料は、存在する場合、同じであっても、または異なっていてもよい。いくつかの実施形態では、第1および/または第2のSCR材料は、混合金属酸化物成分または金属促進モレキュラーシーブを含む。「混合金属酸化物成分」という用語は、1種より多くの化学元素のカチオン、またはいくつかの酸化状態の単一元素のカチオンを含む酸化物を指す。1つ以上の実施形態では、混合金属酸化物は、Fe/TiO、Fe/Al、MgO/TiO、MgO/Al、MnO/Al、MnO/TiO、CuO/TiO、CeO/ZrO、TiO/ZrO、V/TiO、V/TiO/SiO、およびそれらの混合物より選択される。混合酸化物は、単相の化学化合物であっても、または多相の物理的もしくは化学的混合物であってもよい。いくつかの実施形態では、単相化合物は、非化学量論的であってもよく、混合金属酸化物の原子組成は、ばらばらの値を含む式(例えば、CeZr、x、yおよびzは整数)で表される。
いくつかの実施形態では、混合金属酸化物成分はバナジア/チタニアを含む。いくつかの実施形態では、混合金属酸化物成分中に存在するバナジアの量は、混合金属酸化物成分の総重量を基準として、約1重量%〜約10重量%の範囲にある(混合金属酸化物成分の総重量を基準として、約10重量%以下、約9重量%以下、8重量%以下、約7重量%以下、約6重量%以下、約5重量%以下、約4重量%以下、約3重量%以下、約2重量%以下、または約1重量%以下であり、下限は0重量%である)。いくつかの実施形態では、混合金属酸化物成分は、活性化または安定化させられていてもよい。例えば、いくつかの実施形態では、バナジア/チタニア酸化物がタングステン(例えばWO)で活性化または安定化させられて、V/TiO/WOがもたらされ得る。いくつかの実施形態では、混合金属酸化物成分(例えばV/TiO/WO)中に存在するタングステンの量は、混合金属酸化物成分の総重量を基準として、約0.5重量%〜約10重量%の範囲にある(混合金属酸化物成分の総重量を基準として、約10重量%以下、約9重量%以下、約8重量%以下、約7重量%以下、約6重量%以下、約5重量%以下、約4重量%以下、約3重量%以下、約2重量%以下、または約1重量%以下であり、下限は0重量%である)。いくつかの実施形態では、バナジアは、タングステン(例えばWO)で活性化または安定化させられている。タングステンは、バナジアの総重量を基準として、約0.5重量%〜約10重量%の範囲(バナジアの総重量を基準として、約10重量%以下、約9重量%以下、約8重量%以下、約7重量%以下、約6重量%以下、約5重量%以下、約4重量%以下、約3重量%以下、約2重量%以下、または約1重量%以下であり、下限は0重量%である)の濃度で分散可能である。SCR材料としての混合金属酸化物の例については、Schafer−Sindelindger等の米国特許出願公開第2001/0049339号、およびBrennan等の米国特許第4,518,710号、Hegedus等の米国特許第5,137,855号、Kapteijn等の米国特許第5,476,828号、Hong等の米国特許第8,685,882号、Jurng等の米国特許第9,101,908号が参照され、これらはすべて、参照によりその全体が本明細書に組み込まれる。
金属促進モレキュラーシーブを含むSCR材料の場合、「促進」という用語は、一般的に、モレキュラーシーブに内在し得る不純物を含むものに対して、意図的に添加された1種以上の成分を含む上記のモレキュラーシーブを指す。したがって、促進剤とは、意図的に添加される促進剤を有しない触媒に比べて触媒の活性を高めるために意図的に添加される成分である。窒素酸化物のSCRを促進するために、本開示による1つ以上の実施形態では、適切な金属がモレキュラーシーブ内に交換される。銅は窒素酸化物の転化に関与するため、交換に特に有用な金属であり得る。したがって、特定の実施形態では、銅促進モレキュラーシーブ、例えばCu−CHAを含む触媒組成物が用意される。しかしながら、本発明はそれらに限定されることを意図してはおらず、他の金属促進モレキュラーシーブを含む触媒組成物もこれに包含される。
促進剤金属は、一般的に、アルカリ金属、アルカリ土類金属、第IIIB族、第IVB族、第VB族、第VIB族、第VIIB族、第VIIIB族、第IB族、第IIB族の遷移金属、第IIIA族の元素、第IVA族の元素、ランタニド、アクチニド、およびそれらの組み合わせから成る群より選択することが可能である。さまざまな実施形態では、金属促進モレキュラーシーブを製造するために使用することが可能なさらなる促進剤金属としては、銅(Cu)、コバルト(Co)、ニッケル(Ni)、ランタン(La)、マンガン(Mn)、鉄(Fe)、バナジウム(V)、銀(Ag)、セリウム(Ce)、ネオジム(Nd)、プラセオジム(Pr)、チタン(Ti)、クロム(Cr)、亜鉛(Zn)、スズ(Sn)、ニオブ(Nb)、モリブデン(Mo)、ハフニウム(Hf)、イットリウム(Y)、タングステン(W)、およびそれらの組み合わせが挙げられるが、これらに限定されることはない。そのような金属の組み合わせ、例えば銅および鉄を使用して、混合されたCu−Fe促進モレキュラーシーブ、例えばCu−Fe−CHAを得ることができる。
1つ以上の実施形態では、金属促進モレキュラーシーブの促進剤金属含量は、酸化物として計算して、揮発性物質不含ベースで報告して、(促進剤を含む)焼成したモレキュラーシーブの総重量を基準として、約0.1重量%〜約10重量%、約0.1重量%〜約5重量%、約0.5重量%〜約4重量%、約2重量%〜約5重量%、または約1重量%〜約3重量%の範囲にある。いくつかの実施形態では、モレキュラーシーブの促進剤金属は、Cu、Fe、またはそれらの組み合わせを含む。
金属促進モレキュラーシーブを含むSCR材料の例については、Rivas−Cardona等の米国特許第9,480,976号、Stiebels等の米国特許第9,352,307号、Wan等の米国特許第9,321,009号、Andersen等の米国特許第9,199,195号、Bull等の米国特許第9,138,732号、Mohanan等の米国特許第9,011,807号、Turkhan等の米国特許第8,715,618号、Boorse等の米国特許第8,293,182号、Boorse等の米国特許第8,119,088号、Fedeyko等の米国特許第8,101,146号、Marshall等の米国特許第7,220,692号が参照され、これらはすべて、参照によりその全体が本明細書に組み込まれる。
触媒物品
本明細書に開示される触媒物品の基材は、自動車用触媒を製造するために一般的に使用される任意の材料から構築されていてもよく、一般的に、金属またはセラミックモノリスハニカム構造体、例えばウォールフロー基材を含む。本明細書に開示される選択的酸化触媒の基材はウォールフローフィルターであり、これは一般的に、本明細書に記載の触媒組成物を含むウォッシュコートが塗布および接着される複数の壁面を形成し、それにより触媒組成物用の担体として機能する。
例示的なウォールフローフィルター金属基材は、チタンおよびステンレス鋼などの耐熱性金属および金属合金、ならびに鉄が実質的または主要な成分である他の合金を含む。そのような合金は、ニッケル、クロム、および/またはアルミニウムのうちの1種以上を含んでいてもよく、これらの金属の総量は、有利には、少なくとも15重量%の合金、例えば10〜25重量%のクロム、3〜8重量%のアルミニウム、および20重量%までのニッケルを含んでいてもよい。合金はまた、少量または痕跡量の1種以上の他の金属、例えば、マンガン、銅、バナジウム、チタンなどを含んでいてもよい。ウォールフロー金属基材の表面を、高温、例えば1000℃以上で酸化させて基材の表面に酸化物層を形成し、合金の耐食性を改善し、金属表面へのウォッシュコート層の接着を容易にすることができる。
ウォールフロー基材を構築するために使用されるセラミック材料としては、任意の適切な耐火性材料、例えば、コーディエライト、ムライト、コーディエライト−αアルミナ、炭化ケイ素、窒化ケイ素、ジルコンムライト、スポジュメン、アルミナ−シリカマグネシア、ジルコンシリケート、シリマナイト、ケイ酸マグネシウム、ジルコン、ペタライト、αアルミナ、アルミノシリケートなどを挙げることができる。
使用されるウォールフロー基材は、基材の長手方向軸に沿って延伸する複数個の微細で平行なガス流路を有していてもよい。ウォールフローフィルター基材の各通路は、一般的に、非多孔質の栓で基材本体の一方の端部が塞がれており、反対側の端面で通路が交互に塞がれている。これにより、出口に到達するために、ガスは、ウォールフローフィルター基材の多孔質壁を通って流れる必要がある。そのようなモノリス基材は、約700のcpsiまでまたはそれ以上、例えば約100〜400のcpsi、より一般的には約200〜約300のcpsiを含んでいてもよい。細孔の断面形状は、上記のように変化してもよい。ウォールフローフィルター基材は、一般的に0.002〜0.1インチの壁厚を有する。代表的な市販のウォールフロー基材は、多孔質コーディエライトから構築されており、その例は、cpsiが200であり、壁厚が10milであるか、またはcpsiが300であり、壁厚が8milであり、かつ壁の細孔率が45〜65%である。チタン酸アルミニウム、炭化ケイ素、および窒化ケイ素などの他のセラミック材料も、ウォールフローフィルター基材として使用される。しかしながら、本発明は、特定の基材の種類、材料、または形状に限定されることはないと理解される。ウォールフロー基材では、触媒組成物は、ウォールフロー基材の壁の表面に配置されることに加えて、多孔質壁の細孔構造に浸透する(すなわち、細孔開口部を部分的または完全に塞ぐ)ことが可能であることに言及したい。
図1および2は、複数個のガス流路52を備えた円筒形状を有するウォールフローフィルター基材の形態の例示的な基材30を図示する。通路は、フィルター基材の内壁53により管状に囲まれている。基材は、入口端部54および出口端部56を有する。通路は、入口端部で入口栓58により、出口端部で出口栓60により交互に塞がれて、入口54および出口56で逆となる市松模様を形成する。ガス流62は、閉栓されていないチャネル入口64を通って入り、出口栓60により止められ、(多孔質の)チャネル壁53を通って出口側66に拡散する。ガスは、入口栓58を理由に、壁の入口側に戻ることができない。本発明で使用される多孔質ウォールフローフィルターは、前述の要素の壁が、その上またはその中に、1種以上の触媒材料を有するという点で触媒化されている。触媒材料(例えば、選択的酸化触媒組成物および任意のSCR材料)が、要素の壁の入口側にのみ、出口側にのみ、入口側と出口側の両方に存在していても、または壁自体が、触媒材料のすべてまたは一部を構成していてもよい。本発明は、要素の入口壁および/または出口壁における1個以上の触媒材料層の使用を含む。1種の触媒材料が配置されたウォールフローフィルターの例としては、本発明の触媒化スートフィルターをもたらすために1個以上の層を使用する、本発明の選択的酸化触媒組成物が配置されたウォールフローフィルターが挙げられるが、これらに限定されることはない。いくつかの実施形態では、フィルターにおける唯一の触媒材料は、選択的酸化触媒組成物のみである。
いくつかの実施形態では、本明細書に開示されるCSFのフィルターにおける触媒材料は、触媒組成が異なる2種以上の触媒組成物(例えば、選択的酸化触媒組成物およびSCR材料)を含む。そのような触媒組成物は、例えば軸方向に区分された構成でウォールフローフィルターをコーティングする際に、別々のウォッシュコートスラリーに含有されており、ウォールフローフィルターは、ある触媒組成物のウォッシュコートスラリーと、別の触媒組成物のウォッシュコートスラリーとでコーティングされる。これは、第1のウォッシュコート域24および第2のウォッシュコート域26が、上流端部25および下流端部27を有する基材28の長さに沿って並んで位置している区分されコーティングされたウォールフローフィルター20の実施形態を示す図3を参照することで、より容易に理解することができる。この区分された構成では、第1のウォッシュコート域24が、第2のウォッシュコート域26の上流に位置する(または第2のウォッシュコート域26が、第1のウォッシュコート域24の下流に位置する)。
例えば、いくつかの実施形態では、触媒化スートフィルターの触媒材料は、軸方向に区分された構成で基材に配置された選択的酸化触媒組成物および第2のSCR材料を含む。いくつかの実施形態では、ウォッシュコート域24は、本明細書に開示される選択的酸化触媒組成物を表し、第2のウォッシュコート域26は、触媒化スートフィルターをもたらすために本明細書に開示される第2のSCR材料を表し、第2のSCR材料は、選択的酸化触媒組成物の下流に配置されている。別の実施形態では、第1のウォッシュコート域24は、本明細書に開示される第2のSCR材料を表し、第2のウォッシュコート域26は、触媒化スートフィルターを形成する本明細書に開示される選択的酸化触媒組成物を表し、選択的酸化触媒組成物は、第2のSCR材料の下流に配置されている。
別の例では、触媒化スートフィルターの触媒材料は、同じウォッシュコート内に混合され、かつ層状の構成で基材に配置された選択的酸化触媒組成物および第2のSCR材料を含む。
この組成物のウォッシュコートまたは触媒金属成分または他の成分の量を説明する際に、触媒基材の単位体積あたりの成分重量の単位を使用することが好都合である。したがって、単位、立方インチあたりのグラム(「g/in」)、および立方フィートあたりのグラム(「g/ft」)は、本明細書において、基材の空隙の体積を含む基材の体積あたりの成分重量を意味すべく使用される。体積あたりの重量の他の単位、例えばg/Lも使用されることがある。触媒物品への担持活性金属の充填量は、一般的に約0.1〜約6g/in、より一般的には約0.1〜約5g/in、0.1〜約1g/in、または約0.1〜約0.5g/inである。現在開示されている物品では、これらの値は、活性金属の重量および担体の重量を考慮して、個別の活性金属(例えば、PGM成分、卑金属酸化物成分、および/または希土類金属酸化物成分)の充填量を反映する。触媒物品における担体材料なしの活性金属の総充填量は、各層について、一般的に、約0.1〜約200g/ft、約0.1〜約100g/ft、約0.1〜約10g/ft、約0.1〜約5g/ft、または約0.1〜約0.5g/ftの範囲にある。そのような値は、本開示の文脈において、金属の重量は考慮するが、担体の重量は考慮せずに、例えば、開示される選択的酸化触媒組成物およびSCR材料中のPGM成分(複数可)、卑金属酸化物成分(複数可)、希土類金属酸化物成分(複数可)を含むと理解される。単位体積あたりのこれらの重量は、一般的に、相応する触媒ウォッシュコート組成物での処理の前後に触媒基材を計量することにより計算され、処理プロセスは、高温での触媒基材の乾燥および焼成を含むため、これらの重量は、ウォッシュコートスラリーの実質的にすべての水が除去されていることから、実質的に溶媒不含の触媒コーティングを表すことに言及したい。
触媒組成物を製造する方法
卑金属酸化物成分含浸担体材料、PGM成分含浸担体材料、または希土類金属酸化物成分含浸担体材料の製造は、一般的に、微粒子の形態の担体材料に活性金属前駆体溶液(例えば、それぞれ銅含有前駆体、パラジウム成分前駆体、またはセリウム含有前駆体)を含浸させることを含む。活性金属前駆体は、一般的に活性金属の塩であり、一般的に溶媒に溶解して活性金属前駆体溶液を形成する。
例示的な卑金属酸化物成分前駆体としては、硝酸銅、塩化銅、過塩素酸銅、臭化銅、硫酸銅、およびそれらの組み合わせより選択される銅前駆体が挙げられるが、これらに限定されることはない。例示的なPGM成分前駆体としては、硝酸パラジウム、パラジウムテトラアミン、酢酸パラジウム、およびそれらの組み合わせより選択されるパラジウム成分前駆体が挙げられるが、これらに限定されることはない。例示的な卑金属酸化物成分前駆体としては、硝酸銅、塩化銅、過塩素酸銅、臭化銅、硫酸銅、またはそれらの組み合わせが挙げられるが、これらに限定されることはない。例示的な希土類金属酸化物成分前駆体としては、硝酸セリウム、塩化セリウム、臭化セリウム、硫酸セリウム、またはそれらの組み合わせより選択されるセリウム成分前駆体が挙げられるが、これらに限定されることはない。金属酸化物成分含浸担体材料の製造は、例えば、以下により詳細に記載されるようなインシピエントウェットネス技術を使用して行うことが可能である。
毛細管含浸または乾式含浸とも称されるインシピエントウェットネス含浸技術は、一般的に、不均一系の材料、すなわち触媒の合成に使用される。一般的に、金属前駆体は、水溶液または有機溶液に溶解され、その後、金属含有溶液は、添加された溶液の体積と同じ細孔体積を含む触媒担体に添加される。毛細管現象により、溶液が担体の細孔に引き込まれる。担体の細孔容積を超えて添加された溶液により、溶液輸送が、毛細管現象プロセスから、はるかに遅い拡散プロセスに変わる。その後、触媒を乾燥および焼成して、溶液内の揮発性成分を除去し、触媒担体の表面に金属を堆積させることができる。含浸させられた材料の濃度プロファイルは、含浸および乾燥の間の細孔内の物質移動条件に依存する。
担体材料は、一般的に、実質的にすべての溶液を吸収して湿潤した固体を形成するほどに十分乾燥している。硝酸パラジウム、硝酸セリウム、または硝酸銅などの活性金属の水溶性化合物または錯体の水溶液を用いることができる。
担体材料を活性金属前駆体溶液で処理した後に、粒子を、高温(例えば100〜150℃)で一定期間(例えば1〜3時間)にわたり熱処理するなどによって乾燥させ、続いて、焼成して活性金属をより触媒活性な形態に転化させる。例示的な焼成プロセスは、約400〜550℃の温度で10分間〜3時間にわたり空気中で熱処理することを含む。上記のプロセスは、所望の水準の活性金属含浸に到達するために必要に応じて繰り返されてもよい。例えば、いくつかの実施形態では、PGM成分前駆体として硝酸パラジウムを使用して、パラジウム成分が耐火性金属酸化物担体材料(例えばアルミナ−シリカ)上に含浸させられる。別の例では、PGM成分前駆体として硝酸パラジウムを使用して、パラジウム成分が酸素貯蔵成分(例えばセリア)上に含浸させられる。いくつかの実施形態では、卑金属酸化物成分前駆体として硝酸銅を使用して、銅が酸素貯蔵成分(例えばセリア)上に含浸させられる。さらなる実施形態では、希土類金属酸化物成分前駆体として硝酸セリウムを使用して、セリウムが酸素貯蔵成分(例えばセリア)上に含浸させられる。選択的酸化触媒組成物の製造のさらなる例については、Punke等の米国特許第8,858,904号、Grubert等の米国特許第8,802,016号、Grubert等の米国特許第8,524,182号、Li等の米国特許第8,038,954号が参照され、これらはすべて、参照によりその全体が本明細書に組み込まれる。
本明細書に開示されるさまざまな実施形態に含まれるSCR材料のための金属促進モレキュラーシーブの製造は、一般的に、1種以上の金属(例えば銅)をモレキュラーシーブ内にイオン交換することを含む。イオン交換プロセスは、一般的に、微粒子の形態のモレキュラーシーブを金属前駆体溶液と接触させることを含む。例えば、銅を供給するために銅塩を使用してもよい。一般的に、アルカリ金属モレキュラーシーブまたはNHモレキュラーシーブが、1種以上の金属をイオン交換するために使用される。2種以上の金属を含む金属促進モレキュラーシーブの場合、モレキュラーシーブへの金属のイオン交換は、同時に実施されても、または別々に実施されてもよい。例えば、1種以上の他の金属前駆体と組み合わせた銅前駆体が用いられてもよい。特定の実施形態では、この方法は、第2の金属を、第1の金属でまず促進されたモレキュラーシーブ内に交換すること(例えば、第2の金属を銅促進モレキュラーシーブ材料内に交換すること)を含む。金属促進モレキュラーシーブを含むSCR材料の製造の例については、Rivas−Cardona等の米国特許第9,480,976号、Stiebels等の米国特許第9,352,307号、Wan等の米国特許第9,321,009号、Andersen等の米国特許第9,199,195号、Bull等の米国特許第9,138,732号、Mohanan等の米国特許第9,011,807号、Turkhan等の米国特許第8,715,618号、Boorse等の米国特許第8,293,182号、Boorse等の米国特許第8,119,088号、Fedeyko等の米国特許第8,101,146号、Marshall等の米国特許第7,220,692号が参照され、これらはすべて、参照によりその全体が本明細書に組み込まれる。特に、銅および/または鉄促進チャバザイトゼオライトを含むSCR材料の製造の例については、Stiebels等の米国特許第9,352,307号、Bull等の米国特許第9,162,218号、Seyler等の米国特許第8,821,820号、Bull等の米国特許第8,404,203号、Beutel等の米国特許第8,293,199号、Bull等の米国特許第7,601,662号、Montreuil等の米国特許出願公開第2015/0231620号、Beutel等の米国特許出願公開第2011/0165051号、Li等の米国特許出願公開第2010/0092362号、およびBull等の国際特許出願第2010/054034号、およびTurkhan等の国際特許出願第2009/141324号が参照され、これらはすべて、参照によりその全体が本明細書に組み込まれる。混合金属酸化物を含むSCR材料の製造については、例えば、Brennan等の米国特許第4,518,710号、Hegedus等の米国特許第5,137,855号、Kapteijn等の米国特許第5,476,828号、Hong等の米国特許第8,685,882号、Jurng等の米国特許第9,101,908号が参照され、これらはすべて、参照によりその全体が本明細書に組み込まれる。
基材のコーティングプロセス
開示される触媒組成物は、一般的に、上記のように触媒粒子の形態で製造される。これらの触媒粒子を水と混合して、ハニカム型基材などの触媒基材をコーティングする目的でスラリーを形成することができる。いくつかの実施形態では、1種以上の触媒組成物が、同じスラリー中に存在していてもよい。例えば、いくつかの実施形態では、スラリーは、選択的酸化触媒組成物およびSCR材料を含む。
スラリーは、触媒粒子に加えて、アルミナ、シリカ、酢酸ジルコニウム、コロイド状ジルコニア、または水酸化ジルコニウム、会合性増粘剤、および/または界面活性剤(アニオン性、カチオン性、非イオン性または両性の界面活性剤を含む)の形態のバインダーを任意で含んでいてもよい。他の例示的な結合剤としては、ボヘマイト、ガンマアルミナ、またはデルタ/シータアルミナ、ならびにシリカゾルが挙げられる。バインダーは、存在する場合、一般的に、約1〜5重量%の量のウォッシュコート総充填量で使用される。
酸性または塩基性の種をスラリーに添加して、それによりpHを調整してもよい。例えば、いくつかの実施形態では、スラリーのpHは、水酸化アンモニウムまたは硝酸水溶液の添加により調整される。スラリーの一般的なpH範囲は約3〜6である。
スラリーを粉砕して、粒径を低減させ、粒子の混合を促進してもよい。粉砕は、ボールミル、連続式ミル、または他の類似した装置内で達成することが可能であり、スラリーの固形分は、例えば、約1〜60重量%、約5〜40重量%、またはより詳細には5〜25重量%であってもよい。一実施形態では、粉砕後のスラリーは、D90粒径が、約1〜約40ミクロン、好ましくは1〜約30ミクロン、より好ましくは約1〜約15ミクロン、または約1〜約5ミクロン(または約40ミクロン未満、約30ミクロン未満、20ミクロン未満、10ミクロン未満、もしくは約5ミクロン未満)であることを特徴とする。D90は、専用の粒径分析装置を使用して求められる。この装置は、2010年にSympatecにより製造され、レーザー回折を使用して少量のスラリーにおける粒径を測定する。一般的にミクロン単位のD90は、粒子の数の90%が、引用値よりも小さな直径を有することを意味する。
スラリーは、当技術分野で公知の任意のウォッシュコート技術を使用して基材にコーティングされる。一実施形態では、基材は、スラリーに1回以上浸漬されるか、そうでなければスラリーでコーティングされる。その後、コーティングされた基材は、高温(例えば100〜150℃)で一定期間(例えば10分〜約3時間)にわたり乾燥させられ、それから、例えば400〜600℃で一般的に約10分〜約3時間にわたり加熱することにより焼成される。乾燥および焼成の後に、最終的なウォッシュコートコーティング層は、実質的に溶媒不含であると考えることが可能である。
焼成の後に、上記のウォッシュコート技術により得られる触媒充填量は、基材のコーティングされた重量とコーティングされていない重量の差を計算することにより求めることが可能である。当業者に明らかであるように、触媒充填量は、スラリーのレオロジーを変えることにより修正することが可能である。さらに、ウォッシュコートを生成するためのコーティング/乾燥/焼成プロセスを必要に応じて繰り返して、コーティングを所望の充填水準または厚さに構築すること、すなわち1個より多くのウォッシュコートを塗布することが可能である。
排出物処理システム
本発明はまた、本明細書に記載の触媒物品(複数可)を組み込む排出物処理システムも提供する。一般的に、統合型の排出物処理システムは、排気ガス排出物、例えばディーゼルエンジンからの排気ガス排出物を処理するための1個以上の触媒物品/構成要素を含む。例えば、排出物処理システムは、(フィルター上に選択的酸化触媒を含む)本明細書に記載のCSFに加えて、ディーゼル酸化(DOC)触媒および選択的接触還元(SCR)触媒、および/または任意で選択的接触還元/アンモニア酸化(SCR/AMOx)触媒を含み得る。CSFは、一般的にDOCの下流に位置するが、排出物処理システムのさまざまな構成要素の相対的な配置は、変化してもよい。排出物処理システムは、アンモニア前駆体用の還元剤注入器、ディーゼル燃料用の炭化水素注入器、さらなる微粒子濾過構成要素、ならびに/またはNO貯蔵および/もしくは捕捉構成要素などの構成要素をさらに含んでいてもよい。前述の構成要素の一覧は単なる例であり、本発明の範囲を限定するものとして解釈されるべきではない。
1つの例示的な排出物処理システムが、排出物処理システム40の概略図である図4に図示されている。示されるように、ガス状汚染物質および微粒子状物質を含む排気ガス流は、本明細書に開示されているように、排気管42を介して、エンジン41から、ディーゼル酸化触媒(DOC)43、CSF46、選択的接触還元(SCR)触媒48、それから任意で選択的接触還元/アンモニア酸化(SCR/AMOx)触媒50に運ばれる。
DOC43では、未燃焼のガス状および不揮発性の炭化水素および一酸化炭素の大部分が燃焼して、二酸化炭素および水を形成する。さらに、NO成分のNOの一部は、DOCにおいて酸化してNOになり得る。
次に、排気ガス流は、排気管45を介して、フィルター上に選択的酸化触媒を含む触媒化スートフィルターである本明細書に開示されているCSF46に運ばれる。CSF46は、排気ガス流がさらに下流に位置するSCR触媒48に到達する前に、排気ガス流中に存在するあらゆる粒子状物質を捕捉する。窒素含有還元剤を排気流に導入するための注入器44は、有利には、CSF46の上流に位置している。還元剤は、ガスがCSF46を通過してCSF46およびSCR触媒48内の任意のSCR材料に曝される際に、NOをNおよび水にする還元を促進する。一般的に、窒素含有還元剤は、排気ガス中のNOの還元を促進するあらゆる化合物を広くカバーする。そのような還元剤の例としては、アンモニア、ヒドラジン、または尿素((NHCO)、炭酸アンモニウム、カルバミン酸アンモニウム、炭酸水素アンモニウムもしくはギ酸アンモニウムなどの任意の適切なアンモニア前駆体が挙げられる。CSF46を介して微粒子状物質を除去した後、排気ガス流は、NOのさらなる処理および/または転化のために、排気管47を介して下流のSCR触媒48に運ばれる。その後、SCR触媒48から出る排気ガス流は、最終的にエンジン排気ガス処理システム40を出る前に、任意で、排気管49を介して選択的接触還元/アンモニア酸化(SCR/AMOx)触媒50に運ばれてもよい。本明細書で述べたように、CSF46は、任意で第2のSCR材料を含んでいてもよく、そのような場合、いくつかのSCRを、(排気ガス流がSCR触媒48に到達する前に)フィルター上で達成することができる。
排気ガス処理システムにおいてCSF46の上流に注入器44を備えることにより、よりコンパクトなエンジン処理システムが提供される。この上流位置(CSFの上流)における還元剤の存在は、還元剤、例えばアンモニアとは対照的にHCを優先的に酸化させるように適合した選択的酸化触媒組成物をCSF46のフィルター上で使用することにより可能になる。したがって、有利には、CSFを通過する排気ガス流中のアンモニア濃度に著しい減少はなく、下流のSCR触媒48によるNOx転化にとって適切な量の還元剤が排気ガス流中に保持される。これらのシステムは、CSFから独立したSCR構成要素を含むものとしてここに記載されているが、特定の実施形態では、SCR構成要素およびCSFは、単一の物品として組み合わせることが可能である。したがって、CSF46は、例えば選択的酸化触媒組成物および第1のSCR材料に関する上記のような区分された構成で、選択的酸化触媒成分および第1のSCR材料の両方を含んでいてもよい。そのようなシステムの実施形態では、別個のSCR触媒48は存在しない。
本開示はまた、排気ガス流中のHC、COおよびNOを少なくとも部分的に低減させる方法であって、排気ガス流中のHC、COおよびNOを低減させるのに十分な時間および温度でガス流を本明細書に記載のシステムに通して送ることを含む方法を提供する。例えば、いくつかの実施形態では、この方法は、排気ガス流を、HCおよびCOの酸化に適合したディーゼル酸化触媒と接触させ、それにより、HCおよびCOの水準が低下した第1の流出物を形成することと、還元剤を第1の流出物に注入して、第2の流出物を得ることと、第2の流出物と、本明細書に開示されている触媒化スートフィルター(CSF)とを接触させ、HCの水準がさらに低下した第3の流出物を形成することと、第3の流出物と、NOの還元に適合したSCR材料とを接触させ、それにより、HC、COおよびNOの水準が低下した処理された排気ガス流を形成することとを含む。いくつかの実施形態では、処理された排気ガス流は、約400〜約600℃の範囲の温度(または約450℃、約500℃、もしくは約550℃)で、排気ガス流に対して少なくとも約25%、約35%、約45%、約55%、約65%、約75%、約85%、または少なくとも約95%低減されたHC含量を有する。例えば、いくつかの実施形態では、処理された排気ガス流は、450℃で、システムに入る排気ガス流に対して少なくとも35%低減されたHC含量を有する。別の実施形態では、処理された排気ガス流は、500℃で、処理前の排気ガス流に対して少なくとも55%低減されたHC含量を有する。別の実施形態では、処理された排気ガス流は、550℃で、処理前の排気ガス流に対して少なくとも75%低減されたHC含量を有する。いくつかの実施形態では、処理された排気流は、約400〜約600℃の範囲の温度(または約450℃、約500℃、もしくは約550℃)で、排気ガス流に対して少なくとも約25%、約35%、約45%、約55%、約65%、約75%、約85%、または少なくとも約95%低減されたCO含量を有する。いくつかの実施形態では、処理された排気流は、約400〜約600℃の範囲の温度(または約450℃、約500℃、もしくは約550℃)で、排気ガス流に対して少なくとも約25%、約35%、約45%、約55%、約65%、約75%、約85%、または少なくとも約95%低減されたNO含量を有する。
実験
本発明の態様は、以下の実施例によりさらに十分に説明され、これらは、本発明の特定の態様を説明するために示されるのであって、本発明を限定するものとして解釈されるべきではない。
例1
触媒サンプル物品1〜8を製造する一般的手順
触媒サンプル物品1〜8は、触媒がコーティングされたフィルターサンプルである。フィルター基材は、細孔率58%、平均細孔径13μm、セル密度300/in、および壁厚0.3mmのコーディエライトウォールフローフィルターである。1インチ(直径)×3インチ(長さ)の丸型のサンプルコアを実験に使用した。脱イオン水中に分散したさまざまな触媒活性成分から成る触媒スラリーを使用した。各スラリーを、粒子の90%が5μm未満のサイズを有する(D90<5μm)ように粉砕し、コーティング前に適切な固体含量に調整した。基材の入口端部を下にして、出口端部をスラリーレベルのすぐ上(約1/4インチ)にして基材をスラリーに浸漬することにより、スラリーをフィルター基材にウォッシュコートした。基材をスラリーから引き出し、ウォッシュコートスラリーが入口側から出なくなるまで、空気流をチャネルの出口側から吹き付けた。その後、コーティングされたサンプルを110℃で2時間にわたり乾燥させ、空気中にて450℃で1時間にわたり焼成した。このようにして得られたサンプルの具体的な組成を以下に詳述する。
触媒サンプル物品1の製造
触媒サンプル物品1を上記の一般的手順により製造し、スラリーは、Cu−チャバザイト(当技術分野で公知の手順により製造。例えば米国特許第7,601,662号が参照され、これは、参照によりその全体が本明細書に組み込まれる)を含んでおり、スラリー固体含量は23%であった。Cu−チャバザイトのウォッシュコート充填量は、0.6g/inであった。
触媒サンプル物品2の製造
触媒サンプルの物品2は、0.1g/inのウォッシュコート充填量を有するPd/SiO−Alと、0.1g/inのウォッシュコート充填量を有するCu−チャバザイトとの混合物を含有する。Pd/SiO−Alを、インシピエントウェットネス技術を使用して硝酸PdをSiO−Al担体(5%SiO)上に含浸させることにより作製した。含浸させた粉末を、110℃で2時間にわたり乾燥し、その後、500℃で2時間にわたり焼成した。Pd粉末をD90<5μmに粉砕し、それからCu−チャバザイトを含有するスラリーと混合して、17%の固体含量を得た。上記の一般的手順により、調製されたPd/SiO−Al/Cu−チャバザイトスラリーを用いて、触媒サンプル物品2を製造し、1g/ftのパラジウム充填量を有する触媒サンプル物品2を得た。
触媒サンプル物品3の製造
0.6g/inのウォッシュコート充填量を有するPd/Cu−チャバザイトを含む触媒サンプル物品3を、上記の一般的手順により製造した。Cu−チャバザイトのスラリーに硝酸Pdを直接添加して、23%の固体含量を有するPd/Cu−チャバザイトスラリーを得ることにより、スラリーを調製した。
触媒サンプル物品4の製造
触媒サンプル物品4は、0.8g/inのウォッシュコート充填量を有するPd/SiO−Alを含有する。Pd堆積の前に、SiO−Al担体材料を乾燥粉末としてジェット粉砕してD90<5μmにした。粉砕された担体を、脱イオン水中で30〜40%の固形分で分散させた。このスラリーに、硝酸Pdをゆっくりと添加した。スラリーをさらに希釈して、23%の最終固体含量を得た。上記の一般的手順により、調製されたPd/SiO−Alスラリーを用いて、触媒サンプル物品4を製造し、3g/ftのパラジウム充填量を有する触媒サンプル物品4を得た。
触媒サンプル物品5の製造
CeO/ZrO(30%のZrO含量)を含有するスラリーを7%の固体含量で調製した。上記の一般手順により、調製されたCeO/ZrO(30%のZrO含量)スラリーを用いて、触媒サンプル物品5を製造し、0.25g/inのウォッシュコート充填量を有する触媒サンプル物品5を得た。
触媒サンプル物品6の製造
7%の固体含量を有するCeO含有スラリーを調製した。上記の一般的手順により、調製されたCeOスラリーを用いて、触媒サンプル物品6を製造し、0.25g/inのウォッシュコート充填量を有する触媒サンプル物品6を得た。
触媒サンプル物品7の製造
触媒サンプル7は、0.25g/inのウォッシュコート充填量を有する10%CuO−5%CeO/CeOを含有する。10%CuO−5%CeO/CeOを、CeO担体上に硝酸Cuおよび硝酸Ceを共含浸させることにより調製した。含浸させた粉末を、110℃で2時間にわたり乾燥させ、その後、450℃で1時間にわたり焼成した。スラリーを5%のスラリー固体含量で調製した。上記の一般的手順により、調製された10%CuO−5%CeO/CeOスラリーを用いて、触媒サンプル物品7を製造し、触媒サンプル物品7を得た。
触媒サンプル物品8の製造
触媒サンプル物品8は、0.25g/inのウォッシュコート充填量を有するPd/CeOを含有する。Pd/CeOを、インシピエントウェットネス技術を使用してセリア担体上に硝酸Pdを含浸させることにより作製し、7%の固体含量を有するスラリーを調製するために使用した。上記の一般的手順により、調製されたPd/CeOスラリーを用いて、触媒サンプル物品8を製造し、1g/ftのパラジウム充填量を有する触媒サンプル物品8を得た。
触媒サンプル物品1〜8の評価
触媒サンプル1〜8を、空気中10%の蒸気を用いて、650℃で25時間にわたり水熱エージングに曝し、その後、以下の手順により、THC転化率およびアンモニア転化率に対するそれらの触媒活性を測定した。
活性試験を、1000ppmのNH、1000ppmのデカン(Cベース)、1000ppmのNO、5%のHO、5%のCO、10%のOおよび残分Nを含有する供給物を用いて、実験室用反応器内で実施した。供給ガスのガス毎時空間速度は、50,000h−1であった。触媒サンプル物品1〜8を、THCおよびアンモニアのそれらの転化率について、定常状態条件のもと550℃、500℃、450℃で評価し、ガス状成分の濃度を、流内FTIR装置を使用して求めた(表1〜3参照)。
Figure 2021502244
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表1〜3は、それぞれ550℃、500℃、および450℃でのTHC、NHおよびNOの転化率をまとめたものである。図5は、サンプル1〜8の選択性指数を反応温度の関数として示す。選択性指数は、NH転化率に対するTHC転化率の比として定義される。触媒においてこの選択性指数が高いほど、THC酸化に対する選択性が高くなる。図5に示される選択性指数は、以下の順序に従う:サンプル8>>サンプル6〜サンプル4〜サンプル7>サンプル5>サンプル2>サンプル3>サンプル1。
Ptは、PdよりもNH酸化に対してはるかにより活性であると知られている。例えば、Y.LiおよびJ.N.Armor,Appl.Catal.B:Environmental,13(1997)131−139が参照され、これは、参照によりその全体が本明細書に組み込まれ、Pt/Al触媒において、反応温度が200℃を上回るとNH転化率が90%超になることを示し、酸化生成物としては主にNOが生成される。本発明におけるサンプル8は、CeO担体上に少量のPdを含む(粉末ベースで0.2重量%に相当)。理論に縛られることを意図してはいないが、低水準のPdおよび活性酸素含有担体の組み合わせにより、NH酸化を最小限に抑えつつ、THCを酸化させる触媒が可能になると考えられる。

Claims (49)

  1. エンジンからの排気ガス流を処理するためのシステムであって、
    前記エンジンの下流に位置し、かつ炭化水素(HC)、一酸化炭素(CO)、および一酸化窒素(NO)の酸化に適合したディーゼル酸化触媒と、
    前記ディーゼル酸化触媒の下流に位置する、前記排気ガス流への還元剤の添加に適合した注入器と、
    前記注入器の下流に位置し、かつ約450℃〜約550℃の温度で少なくとも0.6のHC酸化:アンモニア酸化の選択性比によりHCを酸化させるように適合した選択的酸化触媒組成物をフィルター上に含む触媒化スートフィルター(CSF)と、
    前記CSFの下流に位置する、窒素酸化物(NO)の還元に適合した第1のSCR材料を含む選択的接触還元(SCR)構成要素と、を含み、
    すべての構成要素が前記排気ガス流と流体連通している、システム。
  2. 前記選択的酸化触媒組成物が、
    卑金属酸化物成分、
    希土類金属酸化物成分、
    白金族金属(PGM)成分、
    またはそれらの組み合わせを含む、請求項1に記載のシステム。
  3. 前記選択的酸化触媒組成物がパラジウム成分を含む、請求項2に記載のシステム。
  4. 前記選択的酸化触媒組成物が実質的に白金を含まない、請求項1〜3のいずれか1項に記載のシステム。
  5. 前記選択的酸化触媒組成物がPGM成分を含み、前記PGM成分が前記フィルター上に約0.1g/ft〜約10g/ftの充填量を有する、請求項1〜4のいずれか1項に記載のシステム。
  6. 前記選択的酸化触媒組成物が、Cu、Fe、Ni、Zn、Al、Sn、W、Mo、Ta、Co、Bi、Ti、Zr、Sb、Mn、Be、Ge、V、Gd、Hf、In、Nb、Re、Ce、La、Pr、Nd、およびそれらの組み合わせの酸化物より選択される卑金属酸化物成分を含む、請求項1〜5のいずれか1項に記載のシステム。
  7. 前記卑金属酸化物成分が酸化銅を含む、請求項6に記載のシステム。
  8. 前記選択的酸化触媒組成物が、卑金属酸化物成分または希土類金属酸化物成分を含み、前記フィルター上の前記選択的酸化触媒組成物の充填量が、約0.05g/in〜約0.5g/inである、請求項1〜7のいずれか1項に記載のシステム。
  9. 前記選択的酸化触媒組成物が、耐火性金属酸化物、酸素貯蔵成分、モレキュラーシーブ、およびそれらの組み合わせから成る群より選択される担体材料上に含浸またはイオン交換された卑金属酸化物成分、希土類金属酸化物成分、PGM成分、またはそれらの組み合わせを含む、請求項1〜8のいずれか1項に記載のシステム。
  10. 前記選択的酸化触媒組成物が、ゼオライト上に含浸またはイオン交換されたPGM成分を含む、請求項9に記載のシステム。
  11. 前記担体材料が、セリア、ジルコニア、イットリア、ランタナ、ネオジミア、プラセオジミア、またはそれらの組み合わせを含む酸素貯蔵成分である、請求項9に記載のシステム。
  12. 前記担体材料がセリア−ジルコニア複合材である、請求項9に記載のシステム。
  13. 前記セリア−ジルコニア複合材が少なくとも10重量%のセリアを含む、請求項12に記載のシステム。
  14. 前記担体材料が、アルミナ、シリカ、シリカ−アルミナ、チタニア、およびそれらの組み合わせより選択される耐火性金属酸化物である、請求項9に記載のシステム。
  15. 前記選択的酸化触媒成分が、セリア上に含浸させられたパラジウム成分を含む、請求項1〜14のいずれか1項に記載のシステム。
  16. 前記選択的酸化触媒組成物が、セリア、ガドリニア、ランタナ、ネオジミア、プラセオジミア、サマリア、スカンジア、イッテルビア、イットリア、およびそれらの組み合わせより選択される希土類金属酸化物成分を含む、請求項1〜15のいずれか1項に記載のシステム。
  17. 前記希土類金属酸化物成分がセリアを含む、請求項16に記載のシステム。
  18. 前記選択的酸化触媒組成物が、前記複合材の少なくとも約10重量%の量のセリアを含むセリア−ジルコニア複合材を含む、請求項1〜17のいずれか1項に記載のシステム。
  19. 前記選択的酸化触媒組成物が酸化銅およびセリアを含む、請求項1〜18のいずれか1項に記載のシステム。
  20. 前記選択的酸化触媒組成物が前記フィルター上に約0.05g/in〜約0.5g/inの充填量を有する、請求項1〜19のいずれか1項に記載のシステム。
  21. 前記CSFが前記フィルター上に第2のSCR材料をさらに含む、請求項1〜20のいずれか1項に記載のシステム。
  22. 前記選択的酸化触媒組成物および前記第2のSCR材料が混合される、請求項21に記載のシステム。
  23. 前記選択的酸化触媒組成物および前記第2のSCR材料が、軸方向に区分された構成で前記フィルターに配置されており、前記選択的酸化触媒組成物が、前記第2のSCR材料の上流または下流に配置されている、請求項21に記載のシステム。
  24. 前記第2のSCR材料が前記フィルター上に約0.1g/in〜約1g/inの充填量を有する、請求項21に記載のシステム。
  25. 前記第1のSCR材料が混合金属酸化物または金属促進モレキュラーシーブを含む、請求項1〜24のいずれか1項に記載のシステム。
  26. 前記第1および第2のSCR材料が、独立して、混合金属酸化物または金属促進モレキュラーシーブを含む、請求項21に記載のシステム。
  27. 前記金属促進モレキュラーシーブが、Cu、Co、Ni、La、Mn、Fe、V、Ag、Ce、Nd、Mo、Hf、Y、W、およびそれらの組み合わせより選択される金属で促進される、請求項25または26に記載のシステム。
  28. 前記金属が、金属酸化物として計算して、前記金属促進モレキュラーシーブの重量を基準として、約0.1重量%〜約10重量%の量で存在する、請求項27に記載のシステム。
  29. 前記金属促進モレキュラーシーブが、AEI、AFT、AFV、AFX、AVL、CHA、DDR、EAB、EEI、ERI、IFY、IRN、KFI、LEV、LTA、LTN、MER、MWF、NPT、PAU、RHO、RTE、RTH、SAS、SAT、SAV、SFW、TSCおよびUFI、ならびにそれらの組み合わせより選択される構造タイプを有するゼオライトである、請求項25〜28のいずれか1項に記載のシステム。
  30. 前記第2のSCR材料が、構造タイプCHAを有する銅促進モレキュラーシーブを含む、請求項25〜28のいずれか1項に記載のシステム。
  31. 前記混合金属酸化物が、Fe/TiO、Fe/Al、MgO/TiO、MgO/Al、MnO/TiO、CuO/TiO、CeO/ZrO、TiO/ZrO、V/TiO、V/WO/TiO、V/SiO/TiO、およびそれらの混合物より選択される、請求項25または26に記載のシステム。
  32. 前記触媒化スートフィルターが前記注入器のすぐ下流に位置している、請求項1〜31のいずれか1項に記載のシステム。
  33. 前記SCR構成要素の下流に位置する選択的接触還元触媒/アンモニア酸化触媒(SCR/AMOx)構成要素をさらに含む、請求項1〜32のいずれか1項に記載のシステム。
  34. 前記エンジンがディーゼルエンジンである、請求項1〜33のいずれか1項に記載のシステム。
  35. 前記還元剤がアンモニアまたはアンモニア前駆体を含む、請求項1〜34のいずれか1項に記載のシステム。
  36. 前記還元剤が尿素を含む、請求項35に記載のシステム。
  37. フィルター上に選択的酸化触媒組成物を含む触媒化スートフィルター(CSF)であって、前記選択的酸化触媒組成物が、アンモニア酸化と比較してHC酸化に対する選択性を有し、かつ前記選択的酸化触媒組成物が実質的に白金を含まない、触媒化スートフィルター(CSF)。
  38. 前記選択性が、約450℃〜約550℃の温度で少なくとも0.6の、アンモニア酸化率に対するHC酸化率により定義される、請求項37に記載のCSF。
  39. 前記選択的酸化触媒組成物が、
    卑金属酸化物成分、
    希土類金属酸化物成分、
    白金族金属(PGM)成分、
    またはそれらの組み合わせを含む、請求項37または38に記載のCSF。
  40. 前記卑金属酸化物成分、希土類金属酸化物成分、PGM成分、またはそれらの組み合わせが、耐火性金属酸化物、酸素貯蔵成分、モレキュラーシーブ、およびそれらの組み合わせから成る群より選択される担体材料上に含浸またはイオン交換される、請求項39記載のCSF。
  41. 前記選択的酸化触媒組成物がパラジウム成分を含む、請求項37〜40のいずれか1項に記載のCSF。
  42. 前記パラジウム成分がセリアまたはシリカ−アルミナ上に含浸させられる、請求項41に記載のCSF。
  43. 前記選択的酸化触媒組成物がPGM成分を含み、前記PGM成分が前記フィルター上に約0.1g/ft〜約10g/ftの充填量を有する、請求項37〜42のいずれか1項に記載のCSF。
  44. 前記選択的酸化触媒組成物が前記フィルター上に約0.05g/in〜約0.5g/inの充填量を有する、請求項37〜43のいずれか1項に記載のCSF。
  45. 排気ガス流中に存在するHC、COおよびNOを低減させる方法であって、前記排気ガス流中のHC、COおよびNOを低減させるのに十分な時間および温度で前記排気ガス流を、請求項1〜36のいずれか1項に記載のシステムに通して送ることを含む、方法。
  46. 排気ガス流中に存在するHC、CO、およびNOを低減させる方法であって、
    前記排気ガス流を、HC、COおよびNOの酸化に適合したディーゼル酸化触媒と接触させ、それにより、HCおよびCOの水準が低下し、かつNOの水準が上昇した第1の流出物を形成することと、
    還元剤を、前記ディーゼル酸化触媒から出る前記第1の流出物に注入して、第2の流出物を得ることと、
    前記第2の流出物と、約450℃〜約550℃の温度で少なくとも0.6のHC酸化:アンモニア酸化の選択性比によりHCを選択的に酸化させるように適合した選択的酸化触媒をフィルター上に含む触媒化スートフィルター(CSF)とを接触させ、HCの水準がさらに低下した第3の流出物を形成することと、
    前記第3の流出物と、NOの還元に適合したSCR構成要素とを接触させ、それにより、HC、COおよびNOの水準が低下した処理された排気ガス流を形成することと、を含む、方法。
  47. 前記処理された排気ガス流が、450℃で、前記排気ガス流に対して少なくとも35%低減されたHC含量を有する、請求項45または46に記載の方法。
  48. 前記処理された排気ガス流が、500℃で、前記排気ガス流に対して少なくとも55%低減されたHC含量を有する、請求項45または46に記載の方法。
  49. 前記処理された排気ガス流が、550℃で、前記排気ガス流に対して少なくとも75%低減されたHC含量を有する、請求項45または46に記載の方法。
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