JP2021178843A - 除草剤及びその中間体の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】除草剤として有用なスルホン誘導体及びその中間体の工業的に好ましい製造方法を提供する。【解決手段】具体的には、例えば化合物(4−a)の製造方法であって、以下の工程を含む方法。【選択図】なし
Description
本発明は、除草剤として有用なスルホン誘導体、すなわち下記式(5)の化合物の製造方法に関するものである。
(式中、R1、R2、R3、R4及びR5は、本明細書中に記載の通りである。)
上記式(5)のスルホン誘導体は、WO2002/062770A1(特許文献1)に開示されているように、除草活性を有することが知られている。その中でも、ピロキサスルホン(Pyroxasulfone)は優れた除草剤としてよく知られている。
式(5)の化合物の製造方法としては、スルフィド誘導体、すなわち式(4)の化合物の酸化による方法が知られており、これを以下に示す。
下図に示すように、WO2004/013106A1(特許文献2)参考例3には、3−(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチル−1H−ピラゾール−4−イルメチルチオ)−5,5−ジメチル−2−イソオキサゾリン(4−a)(ISFP)を、m−クロロ過安息香酸(mCPBA)により酸化して3−(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチル−1H−ピラゾール−4−イルメタンスルホニル)−5,5−ジメチル−2−イソオキサゾリン(5−a)(Pyroxasulfone)を製造する方法が記載されている。
また、WO2004/013106A1(特許文献2)及び特表2008-544966(US2007/015805A1に相当)(特許文献9)には、式(4−a)の化合物の製造方法が記載されている。しかしながら、WO2004/013106A1(特許文献2)及び特表2008-544966(US2007/015805A1)(特許文献9)に記載の方法には、収率が悪い、出発物質の調製が効率的ではないなど、複数の課題があった。
一方で、式(4−a)の化合物の調製は、WO2005/095352A1(特許文献3)及びWO2005/105755A1(特許文献4)にも開示されており、これらを以下に示す。
WO2005/095352A1(特許文献3)とWO2005/105755A1(特許文献4)に記載の方法は、WO2004/013106A1(特許文献2)及び特表2008-544966(US2007/015805A1)(特許文献9)に記載の式(4−a)の化合物の調製における問題を解決した、優れた方法である。一方、中間体(上図中のISHP)の感作性のために特殊な製造装置(密閉系の装置)を必要とするため、この方法には未だ改善の余地がある。
さらなる問題として、式(4)の化合物から式(5)の化合物を製造する方法において、WO2004/013106A1(特許文献2)に記載のm−クロロ過安息香酸(mCPBA)は工業的な用途としては高価であり、且つ取り扱い及び廃棄物に問題を有する。従って、WO2004/013106A1(特許文献2)に記載の製造方法は工業的な規模での製造には実用的でない。
また、式(4)の化合物(スルフィド誘導体:S誘導体)から式(5)の化合物(スルホン誘導体:SO2誘導体)を製造する方法において、酸化反応の中間体であるスルホキシド誘導体(SO誘導体)、すなわち下記式(6):
(式中、R1、R2、R3、R4及びR5は、本明細書中に記載の通りである。)
の化合物で反応が停止してしまう可能性がある。従って、式(6)の化合物が副生成物として生成物中に残存することがある。除草剤などの製品中に混入した式(6)の化合物は、品質の低下及び作物に対する薬害の可能性につながる。しかし、式(6)の化合物の物理的性質及び化学的性質は、式(5)の化合物のそれらと極めて似ているから、式(6)の化合物を分離して式(5)の化合物を精製することが困難である。従って、式(4)の化合物から式(5)の化合物を製造する方法においては、酸化反応が十分に進行し、生成物中に式(6)の化合物が実質的に残存しない製造方法が求められている。
の化合物で反応が停止してしまう可能性がある。従って、式(6)の化合物が副生成物として生成物中に残存することがある。除草剤などの製品中に混入した式(6)の化合物は、品質の低下及び作物に対する薬害の可能性につながる。しかし、式(6)の化合物の物理的性質及び化学的性質は、式(5)の化合物のそれらと極めて似ているから、式(6)の化合物を分離して式(5)の化合物を精製することが困難である。従って、式(4)の化合物から式(5)の化合物を製造する方法においては、酸化反応が十分に進行し、生成物中に式(6)の化合物が実質的に残存しない製造方法が求められている。
特許文献7(特表2013−512201)(JP2013-512201A)は、特許文献10(US2012/264947A1)に対応する。
特許文献9(特表2008−544996)(JP2008-544996A)は、特許文献11(US2007/015805A1)に対応する。
本発明の目的は、式(4)の化合物の製造方法であって、安全に且つ簡便に式(4)の化合物を製造でき、収率に優れる、新規な工業的に好ましい製造方法を提供することである。
本発明のさらなる目的は、式(4)の化合物から式(5)の化合物を製造する方法であって、生成物中の式(6)の化合物の割合が十分に低く、収率に優れ、工業的な規模での製造に有利な、工業的に好ましい製造方法を提供することである。
本発明のさらなる目的は、ピロキサスルホン(式(5−a)の化合物)を含有する農薬製剤であって、改善された農薬製剤を提供することである。すなわち、本発明は、水に希釈する際に継粉を生じない、ピロキサスルホンを含有する固形製剤の提供を目的とし、また、散布液がハードケーキを形成しない、ピロキサスルホンを含有する液体製剤の提供を目的とする。
本発明者らは、鋭意研究の結果、下記工程iiに示す通り、塩基の存在下で、式(2)の化合物を式(3)の化合物と反応させることにより式(4)の化合物を効率よく製造できることを見出した。この知見に基づき、本発明者らは本発明を完成させた。
(式中、R1、R2、R3、R4、R5、X1及びX2は、本明細書中に記載の通りである。)
更に、本発明者らは、式(4)の化合物から式(5)の化合物を製造する方法において、過酸化水素−タングステン触媒の反応系において過酸化水素を過剰量用いても、意外にも、完全に酸化されていない反応中間体である式(6)の化合物が生成物中に残留することを見出した(参考例参照)。一方で、水とある種の有機溶媒の混合溶媒中で金属触媒の存在下、過酸化水素との反応を行うことにより、酸化反応を十分に進行させることができることを見出した。この知見に基づき、本発明者らは式(6)の化合物が目的物に実質的に残存しない製造方法を完成させた。
本発明の一態様はさらに、ピロキサスルホン(式(5−a)の化合物)の新規な結晶とその製造方法を提供する。当該結晶は従来とは異なる特徴を有する粉末X線回折スペクトルを示し、良好な水和性及び再分散性を有する。
従来の、ピロキサスルホンを含有する農薬製剤は、ときとして物理化学的な不具合を示すことがあった。
具体的には、例えば、水和剤などの固体製剤において、散布液を調製するため製剤を水に希釈する際に、粉体が水となじむのが遅く、継粉(lumps)が発生してしまう場合があった。均一な散布液を得ないと散布が行えないため、このようなときは継粉がほぐれるまで散布液を攪拌し続ける必要が生じ、その結果として農薬散布の作業時間が延びるため、不便である。
また、水性懸濁剤(SC)や油性懸濁剤(OD)のような液体製剤においても、これらの農薬製剤を散布するため水にといた希釈液は、調製後に攪拌を止めて固形分の堆積層が形成されると、攪拌を再開しても容易には再分散せず、均一な懸濁状態を回復できない場合があった。このような事態を防ぐためには、調製後の散布液は実際に散布を終えるまで攪拌を継続する必要があり、作業コスト的に不利である。
本発明のピロキサスルホンの結晶を用いて調製した農薬製剤は、前述の不具合が生じず、産業上有利である。
本発明は、式(4)の化合物の製造方法であって、安全に且つ簡便に式(4)の化合物を製造でき、収率に優れる、新規な製造方法を提供する。
更に、本発明は、式(4)の化合物(スルフィド誘導体:S誘導体)から式(5)の化合物(スルホン誘導体:SO2誘導体)を製造する方法であって、生成物中の式(6)の化合物(スルホキシド誘導体:SO誘導体)の割合が十分に低く、収率に優れ、工業的な規模での製造に有利な製造方法を提供する。本発明の方法で製造された式(5)の化合物は、除草剤としての品質の低下及び作物に対する薬害の原因になる可能性がある式(6)の化合物を実質的に含んでおらず、除草剤として有用である。
本発明の方法は、安価な原料を用いて大規模に実施可能であり、経済効率に優れ、工業的な規模での生産に適している。
本発明の一態様はさらに、農薬製剤の原料に適したピロキサスルホンの結晶を提供する。この結晶を用いて製剤化されたピロキサスルホンを含有する固形製剤は、水に希釈する際に継粉を生じず、実用上、便利である。また、この結晶を用いて製剤化されたピロキサスルホンを含有する液体製剤は、散布液のハードケーキ傾向が改善され、実用上、便利である。
一つの態様では、本発明は以下の通りである。
〔I−1〕 式(4)の化合物の製造方法であって、以下の工程iiを含む方法:
(工程ii) 塩基の存在下で、式(2)の化合物を式(3)の化合物と反応させて、式(4)の化合物を製造する工程;
(工程ii) 塩基の存在下で、式(2)の化合物を式(3)の化合物と反応させて、式(4)の化合物を製造する工程;
(ここで、式(2)中、
R1、R2及びR3は、それぞれ独立して、1以上の置換基により置換されていてもよい(C1−C6)アルキル;1以上の置換基により置換されていてもよい(C3−C6)シクロアルキル;1以上の置換基により置換されていてもよい(C2−C6)アルケニル;1以上の置換基により置換されていてもよい(C2−C6)アルキニル;又は1以上の置換基により置換されていてもよい(C6−C10)アリールであり、
X1は脱離基であり、
式(3)中、
R4及びR5は、それぞれ独立して、1以上の置換基により置換されていてもよい(C1−C6)アルキル;1以上の置換基により置換されていてもよい(C3−C6)シクロアルキル;1以上の置換基により置換されていてもよい(C2−C6)アルケニル;1以上の置換基により置換されていてもよい(C2−C6)アルキニル;1以上の置換基により置換されていてもよい(C1−C6)アルコキシ;又は1以上の置換基により置換されていてもよい(C6−C10)アリールであり;又は
R4及びR5は、それらが結合している炭素原子と一緒になって、4〜12員の炭素環を形成し、ここで形成された環は1以上の置換基により置換されていてもよく、
X2は酸を形成する原子又は原子団であり、
式(4)中、R1、R2、R3、R4及びR5は、上記で定義した通りである。)。
R1、R2及びR3は、それぞれ独立して、1以上の置換基により置換されていてもよい(C1−C6)アルキル;1以上の置換基により置換されていてもよい(C3−C6)シクロアルキル;1以上の置換基により置換されていてもよい(C2−C6)アルケニル;1以上の置換基により置換されていてもよい(C2−C6)アルキニル;又は1以上の置換基により置換されていてもよい(C6−C10)アリールであり、
X1は脱離基であり、
式(3)中、
R4及びR5は、それぞれ独立して、1以上の置換基により置換されていてもよい(C1−C6)アルキル;1以上の置換基により置換されていてもよい(C3−C6)シクロアルキル;1以上の置換基により置換されていてもよい(C2−C6)アルケニル;1以上の置換基により置換されていてもよい(C2−C6)アルキニル;1以上の置換基により置換されていてもよい(C1−C6)アルコキシ;又は1以上の置換基により置換されていてもよい(C6−C10)アリールであり;又は
R4及びR5は、それらが結合している炭素原子と一緒になって、4〜12員の炭素環を形成し、ここで形成された環は1以上の置換基により置換されていてもよく、
X2は酸を形成する原子又は原子団であり、
式(4)中、R1、R2、R3、R4及びR5は、上記で定義した通りである。)。
〔I−2〕 〔I−1〕に記載の方法であって、工程iiの前に以下の工程iを更に含む、方法:
(工程i) 式(1)の化合物をハロゲン化剤と反応させて、式(2)の化合物を製造する工程;
(工程i) 式(1)の化合物をハロゲン化剤と反応させて、式(2)の化合物を製造する工程;
(ここで、式(1)中、R1、R2及びR3は、〔I−1〕で定義した通りであり、
式(2)中、R1、R2及びR3は、〔I−1〕で定義した通りであり、X1はハロゲン原子である。)。
式(2)中、R1、R2及びR3は、〔I−1〕で定義した通りであり、X1はハロゲン原子である。)。
〔I−3〕 〔I−1〕に記載の方法であって、式(2)の化合物が以下の工程iを含む方法により製造される方法:
(工程i) 式(1)の化合物をハロゲン化剤と反応させて、式(2)の化合物を製造する工程;
(工程i) 式(1)の化合物をハロゲン化剤と反応させて、式(2)の化合物を製造する工程;
(ここで、式(1)中、R1、R2及びR3は、〔I−1〕で定義した通りであり、
式(2)中、R1、R2及びR3は、〔I−1〕で定義した通りであり、X1はハロゲン原子である。)。
式(2)中、R1、R2及びR3は、〔I−1〕で定義した通りであり、X1はハロゲン原子である。)。
〔I−4〕 〔I−1〕に記載の方法であって、式(2)の化合物として、以下の工程iを含む方法により製造された式(2)の化合物を用いる方法:
(工程i) 式(1)の化合物をハロゲン化剤と反応させて、式(2)の化合物を製造する工程;
(工程i) 式(1)の化合物をハロゲン化剤と反応させて、式(2)の化合物を製造する工程;
(ここで、式(1)中、R1、R2及びR3は、〔I−1〕で定義した通りであり、
式(2)中、R1、R2及びR3は、〔I−1〕で定義した通りであり、X1はハロゲン原子である。)。
式(2)中、R1、R2及びR3は、〔I−1〕で定義した通りであり、X1はハロゲン原子である。)。
〔I−5〕 〔I−1〕に記載の方法であって、工程iiの後に以下の工程iiiを更に含む、方法:
(工程iii) 金属触媒の存在下で、式(4)の化合物を過酸化水素と反応させて、式(5)の化合物を製造する工程;
(工程iii) 金属触媒の存在下で、式(4)の化合物を過酸化水素と反応させて、式(5)の化合物を製造する工程;
(ここで、式(4)及び式(5)中の、R1、R2、R3、R4及びR5は、〔I−1〕で定義した通りである。)
〔I−6〕 式(4):
(ここで、式(4)中、
R1、R2及びR3は、それぞれ独立して、1以上の置換基により置換されていてもよい(C1−C6)アルキル;1以上の置換基により置換されていてもよい(C3−C6)シクロアルキル;1以上の置換基により置換されていてもよい(C2−C6)アルケニル;1以上の置換基により置換されていてもよい(C2−C6)アルキニル;又は1以上の置換基により置換されていてもよい(C6−C10)アリールであり、
R4及びR5は、それぞれ独立して、1以上の置換基により置換されていてもよい(C1−C6)アルキル;1以上の置換基により置換されていてもよい(C3−C6)シクロアルキル;1以上の置換基により置換されていてもよい(C2−C6)アルケニル;1以上の置換基により置換されていてもよい(C2−C6)アルキニル;1以上の置換基により置換されていてもよい(C1−C6)アルコキシ;又は1以上の置換基により置換されていてもよい(C6−C10)アリールであり;又は
R4及びR5は、それらが結合している炭素原子と一緒になって、4〜12員の炭素環を形成し、ここで形成された環は1以上の置換基により置換されていてもよい。)。
の化合物の製造方法であって、以下の工程i及び工程iiを含む方法:
(工程i) 式(1)の化合物をハロゲン化剤と反応させて、式(2)の化合物を製造する工程;
R1、R2及びR3は、それぞれ独立して、1以上の置換基により置換されていてもよい(C1−C6)アルキル;1以上の置換基により置換されていてもよい(C3−C6)シクロアルキル;1以上の置換基により置換されていてもよい(C2−C6)アルケニル;1以上の置換基により置換されていてもよい(C2−C6)アルキニル;又は1以上の置換基により置換されていてもよい(C6−C10)アリールであり、
R4及びR5は、それぞれ独立して、1以上の置換基により置換されていてもよい(C1−C6)アルキル;1以上の置換基により置換されていてもよい(C3−C6)シクロアルキル;1以上の置換基により置換されていてもよい(C2−C6)アルケニル;1以上の置換基により置換されていてもよい(C2−C6)アルキニル;1以上の置換基により置換されていてもよい(C1−C6)アルコキシ;又は1以上の置換基により置換されていてもよい(C6−C10)アリールであり;又は
R4及びR5は、それらが結合している炭素原子と一緒になって、4〜12員の炭素環を形成し、ここで形成された環は1以上の置換基により置換されていてもよい。)。
の化合物の製造方法であって、以下の工程i及び工程iiを含む方法:
(工程i) 式(1)の化合物をハロゲン化剤と反応させて、式(2)の化合物を製造する工程;
(ここで、式(1)中、R1、R2及びR3は上記で定義した通りであり、
式(2)中、R1、R2及びR3は上記で定義した通りであり、X1はハロゲン原子である。)
(工程ii) 塩基の存在下で、式(2)の化合物を式(3)の化合物と反応させて、式(4)の化合物を製造する工程;
式(2)中、R1、R2及びR3は上記で定義した通りであり、X1はハロゲン原子である。)
(工程ii) 塩基の存在下で、式(2)の化合物を式(3)の化合物と反応させて、式(4)の化合物を製造する工程;
(ここで、式(2)中、R1、R2、R3及びX1は上記で定義した通りであり、
式(3)中、R4及びR5は上記で定義した通りであり、X2は酸を形成する原子又は原子団であり、
式(4)中、R1、R2、R3、R4及びR5は、上記で定義した通りである。)。
式(3)中、R4及びR5は上記で定義した通りであり、X2は酸を形成する原子又は原子団であり、
式(4)中、R1、R2、R3、R4及びR5は、上記で定義した通りである。)。
〔I−7〕 式(5):
(ここで、式(5)中、
R1、R2及びR3は、それぞれ独立して、1以上の置換基により置換されていてもよい(C1−C6)アルキル;1以上の置換基により置換されていてもよい(C3−C6)シクロアルキル;1以上の置換基により置換されていてもよい(C2−C6)アルケニル;1以上の置換基により置換されていてもよい(C2−C6)アルキニル;又は1以上の置換基により置換されていてもよい(C6−C10)アリールであり、
R4及びR5は、それぞれ独立して、1以上の置換基により置換されていてもよい(C1−C6)アルキル;1以上の置換基により置換されていてもよい(C3−C6)シクロアルキル;1以上の置換基により置換されていてもよい(C2−C6)アルケニル;1以上の置換基により置換されていてもよい(C2−C6)アルキニル;1以上の置換基により置換されていてもよい(C1−C6)アルコキシ;又は1以上の置換基により置換されていてもよい(C6−C10)アリールであり;又は
R4及びR5は、それらが結合している炭素原子と一緒になって、4〜12員の炭素環を形成し、ここで形成された環は1以上の置換基により置換されていてもよい。)。
の化合物の製造方法であって、以下の工程ii及び工程iiiを含む方法:
(工程ii) 塩基の存在下で、式(2)の化合物を式(3)の化合物と反応させて、式(4)の化合物を製造する工程;
R1、R2及びR3は、それぞれ独立して、1以上の置換基により置換されていてもよい(C1−C6)アルキル;1以上の置換基により置換されていてもよい(C3−C6)シクロアルキル;1以上の置換基により置換されていてもよい(C2−C6)アルケニル;1以上の置換基により置換されていてもよい(C2−C6)アルキニル;又は1以上の置換基により置換されていてもよい(C6−C10)アリールであり、
R4及びR5は、それぞれ独立して、1以上の置換基により置換されていてもよい(C1−C6)アルキル;1以上の置換基により置換されていてもよい(C3−C6)シクロアルキル;1以上の置換基により置換されていてもよい(C2−C6)アルケニル;1以上の置換基により置換されていてもよい(C2−C6)アルキニル;1以上の置換基により置換されていてもよい(C1−C6)アルコキシ;又は1以上の置換基により置換されていてもよい(C6−C10)アリールであり;又は
R4及びR5は、それらが結合している炭素原子と一緒になって、4〜12員の炭素環を形成し、ここで形成された環は1以上の置換基により置換されていてもよい。)。
の化合物の製造方法であって、以下の工程ii及び工程iiiを含む方法:
(工程ii) 塩基の存在下で、式(2)の化合物を式(3)の化合物と反応させて、式(4)の化合物を製造する工程;
(ここで、式(2)中、R1、R2及びR3は上記で定義した通りであり、X1は脱離基であり、
式(3)中、R4及びR5は上記で定義した通りであり、X2は酸を形成する原子又は原子団であり、
式(4)中、R1、R2、R3、R4及びR5は、上記で定義した通りである。)
(工程iii) 金属触媒の存在下で、式(4)の化合物を過酸化水素と反応させて、式(5)の化合物を製造する工程;
式(3)中、R4及びR5は上記で定義した通りであり、X2は酸を形成する原子又は原子団であり、
式(4)中、R1、R2、R3、R4及びR5は、上記で定義した通りである。)
(工程iii) 金属触媒の存在下で、式(4)の化合物を過酸化水素と反応させて、式(5)の化合物を製造する工程;
(ここで、式(4)及び式(5)中、R1、R2、R3、R4及びR5は、上記で定義した通りである。)。
〔I−8〕 式(5):
(ここで、式(5)中、
R1、R2及びR3は、それぞれ独立して、1以上の置換基により置換されていてもよい(C1−C6)アルキル;1以上の置換基により置換されていてもよい(C3−C6)シクロアルキル;1以上の置換基により置換されていてもよい(C2−C6)アルケニル;1以上の置換基により置換されていてもよい(C2−C6)アルキニル;又は1以上の置換基により置換されていてもよい(C6−C10)アリールであり、
R4及びR5は、それぞれ独立して、1以上の置換基により置換されていてもよい(C1−C6)アルキル;1以上の置換基により置換されていてもよい(C3−C6)シクロアルキル;1以上の置換基により置換されていてもよい(C2−C6)アルケニル;1以上の置換基により置換されていてもよい(C2−C6)アルキニル;1以上の置換基により置換されていてもよい(C1−C6)アルコキシ;又は1以上の置換基により置換されていてもよい(C6−C10)アリールであり;又は
R4及びR5は、それらが結合している炭素原子と一緒になって、4〜12員の炭素環を形成し、ここで形成された環は1以上の置換基により置換されていてもよい。)。
の化合物の製造方法であって、以下の工程i、工程ii、及び工程iiiを含む方法:
(工程i) 式(1)の化合物をハロゲン化剤と反応させて、式(2)の化合物を製造する工程;
R1、R2及びR3は、それぞれ独立して、1以上の置換基により置換されていてもよい(C1−C6)アルキル;1以上の置換基により置換されていてもよい(C3−C6)シクロアルキル;1以上の置換基により置換されていてもよい(C2−C6)アルケニル;1以上の置換基により置換されていてもよい(C2−C6)アルキニル;又は1以上の置換基により置換されていてもよい(C6−C10)アリールであり、
R4及びR5は、それぞれ独立して、1以上の置換基により置換されていてもよい(C1−C6)アルキル;1以上の置換基により置換されていてもよい(C3−C6)シクロアルキル;1以上の置換基により置換されていてもよい(C2−C6)アルケニル;1以上の置換基により置換されていてもよい(C2−C6)アルキニル;1以上の置換基により置換されていてもよい(C1−C6)アルコキシ;又は1以上の置換基により置換されていてもよい(C6−C10)アリールであり;又は
R4及びR5は、それらが結合している炭素原子と一緒になって、4〜12員の炭素環を形成し、ここで形成された環は1以上の置換基により置換されていてもよい。)。
の化合物の製造方法であって、以下の工程i、工程ii、及び工程iiiを含む方法:
(工程i) 式(1)の化合物をハロゲン化剤と反応させて、式(2)の化合物を製造する工程;
(ここで、式(1)中、R1、R2及びR3は上記で定義した通りであり、
式(2)中、R1、R2及びR3は上記で定義した通りであり、X1はハロゲン原子である。)
(工程ii) 塩基の存在下で、式(2)の化合物を式(3)の化合物と反応させて、式(4)の化合物を製造する工程;
式(2)中、R1、R2及びR3は上記で定義した通りであり、X1はハロゲン原子である。)
(工程ii) 塩基の存在下で、式(2)の化合物を式(3)の化合物と反応させて、式(4)の化合物を製造する工程;
(ここで、式(2)中、R1、R2及びR3は上記で定義した通りであり、X1はハロゲン原子であり、
式(3)中、R4及びR5は上記で定義した通りであり、X2は酸を形成する原子又は原子団であり、
式(4)中、R1、R2、R3、R4及びR5は、上記で定義した通りである。)
(工程iii) 金属触媒の存在下で、式(4)の化合物を過酸化水素と反応させて、式(5)の化合物を製造する工程;
式(3)中、R4及びR5は上記で定義した通りであり、X2は酸を形成する原子又は原子団であり、
式(4)中、R1、R2、R3、R4及びR5は、上記で定義した通りである。)
(工程iii) 金属触媒の存在下で、式(4)の化合物を過酸化水素と反応させて、式(5)の化合物を製造する工程;
(ここで、式(4)及び式(5)中、R1、R2、R3、R4及びR5は、上記で定義した通りである。)。
〔I−9〕 式(5)の化合物の製造方法であって、以下の工程iiiを含む方法:
(工程iii) 金属触媒の存在下で、式(4)の化合物を過酸化水素と反応させて、式(5)の化合物を製造する工程;
(工程iii) 金属触媒の存在下で、式(4)の化合物を過酸化水素と反応させて、式(5)の化合物を製造する工程;
(ここで、式(4)及び式(5)中の、R1、R2及びR3は、それぞれ独立して、1以上の置換基により置換されていてもよい(C1−C6)アルキル;1以上の置換基により置換されていてもよい(C3−C6)シクロアルキル;1以上の置換基により置換されていてもよい(C2−C6)アルケニル;1以上の置換基により置換されていてもよい(C2−C6)アルキニル;又は1以上の置換基により置換されていてもよい(C6−C10)アリールであり、
R4及びR5は、それぞれ独立して、1以上の置換基により置換されていてもよい(C1−C6)アルキル;1以上の置換基により置換されていてもよい(C3−C6)シクロアルキル;1以上の置換基により置換されていてもよい(C2−C6)アルケニル;1以上の置換基により置換されていてもよい(C2−C6)アルキニル;1以上の置換基により置換されていてもよい(C1−C6)アルコキシ;又は1以上の置換基により置換されていてもよい(C6−C10)アリールであり;又は
R4及びR5は、それらが結合している炭素原子と一緒になって、4〜12員の炭素環を形成し、ここで形成された環は1以上の置換基により置換されていてもよい。)。
R4及びR5は、それぞれ独立して、1以上の置換基により置換されていてもよい(C1−C6)アルキル;1以上の置換基により置換されていてもよい(C3−C6)シクロアルキル;1以上の置換基により置換されていてもよい(C2−C6)アルケニル;1以上の置換基により置換されていてもよい(C2−C6)アルキニル;1以上の置換基により置換されていてもよい(C1−C6)アルコキシ;又は1以上の置換基により置換されていてもよい(C6−C10)アリールであり;又は
R4及びR5は、それらが結合している炭素原子と一緒になって、4〜12員の炭素環を形成し、ここで形成された環は1以上の置換基により置換されていてもよい。)。
〔I−10〕 〔I−9〕に記載の方法であって、式(4)の化合物が以下の工程iiを含む方法により製造される方法:
(工程ii) 塩基の存在下で、式(2)の化合物を式(3)の化合物と反応させて、式(4)の化合物を製造する工程;
(工程ii) 塩基の存在下で、式(2)の化合物を式(3)の化合物と反応させて、式(4)の化合物を製造する工程;
(ここで、式(2)中、R1、R2及びR3は上記で定義した通りであり、X1は脱離基であり、
式(3)中、R4及びR5は上記で定義した通りであり、X2は酸を形成する原子又は原子団であり、
式(4)中、R1、R2、R3、R4及びR5は、上記で定義した通りである。)
式(3)中、R4及びR5は上記で定義した通りであり、X2は酸を形成する原子又は原子団であり、
式(4)中、R1、R2、R3、R4及びR5は、上記で定義した通りである。)
〔I−11〕 〔I−9〕に記載の方法であって、式(4)の化合物として、以下の工程iiを含む方法により製造された式(4)の化合物を用いる方法:
(工程ii) 塩基の存在下で、式(2)の化合物を式(3)の化合物と反応させて、式(4)の化合物を製造する工程;
(工程ii) 塩基の存在下で、式(2)の化合物を式(3)の化合物と反応させて、式(4)の化合物を製造する工程;
(ここで、式(2)中、R1、R2及びR3は上記で定義した通りであり、X1は脱離基であり、
式(3)中、R4及びR5は上記で定義した通りであり、X2は酸を形成する原子又は原子団であり、
式(4)中、R1、R2、R3、R4及びR5は、上記で定義した通りである。
式(3)中、R4及びR5は上記で定義した通りであり、X2は酸を形成する原子又は原子団であり、
式(4)中、R1、R2、R3、R4及びR5は、上記で定義した通りである。
〔I−12〕 〔I−2〕から〔I−11〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iのハロゲン化剤が塩素化剤である方法、ただし、工程iを含まない方法を除く。
〔I−13〕 〔I−2〕から〔I−11〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iのハロゲン化剤が塩素、塩化チオニル、塩化スルフリル、三塩化リン、五塩化リン、オキシ塩化リン、塩化スルホニル、ホスゲン又は塩化ベンゾイルである方法、ただし、工程iを含まない方法を除く。
〔I−14〕 〔I−2〕から〔I−11〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iのハロゲン化剤が塩素、塩化チオニル、塩化スルフリル、三塩化リン、五塩化リン又はオキシ塩化リンである方法、ただし、工程iを含まない方法を除く。
〔I−15〕 〔I−2〕から〔I−11〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iのハロゲン化剤が塩化チオニルである方法、ただし、工程iを含まない方法を除く。
〔I−16〕 〔I−2〕から〔I−15〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iのハロゲン化剤の使用量が、式(1)の化合物1モルに対して、1.0〜2.0モルである方法、ただし、工程iを含まない方法を除く。
〔I−17〕 〔I−2〕から〔I−15〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iのハロゲン化剤の使用量が、式(1)の化合物1モルに対して、1.0〜1.1モルである方法、ただし、工程iを含まない方法を除く。
〔I−18〕 〔I−2〕から〔I−17〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iの反応が、触媒の非存在下で行われる方法、ただし、工程iを含まない方法を除く。
〔I−19〕 〔I−2〕から〔I−17〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iの反応が、触媒の存在下で行われる方法、ただし、工程iを含まない方法を除く。
〔I−20〕 〔I−19〕に記載の方法であって、触媒がアミド類である方法。
〔I−21〕 〔I−19〕に記載の方法であって、触媒がN,N−ジメチルホルムアミドである方法。
〔I−22〕 〔I−19〕から〔I−21〕のいずれか1項に記載の方法であって、触媒の使用量が、式(4)の化合物1モルに対して、0〜0.1モルである方法。
〔I−23〕 〔I−19〕から〔I−21〕のいずれか1項に記載の方法であって、触媒の使用量が、式(4)の化合物1モルに対して、0.001〜0.1モルである方法。
〔I−24〕 〔I−2〕から〔I−23〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iの反応が、溶媒の非存在下で行われる方法、ただし、工程iを含まない方法を除く。
〔I−25〕 〔I−2〕から〔I−23〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iの反応が、溶媒の存在下で行われる方法、ただし、工程iを含まない方法を除く。
〔I−26〕 〔I−25〕に記載の方法であって、工程iの反応の溶媒が、
芳香族炭化水素誘導体類、ハロゲン化脂肪族炭化水素類、ニトリル類から選択される1個以上の有機溶媒である方法。
芳香族炭化水素誘導体類、ハロゲン化脂肪族炭化水素類、ニトリル類から選択される1個以上の有機溶媒である方法。
〔I−27〕 〔I−25〕に記載の方法であって、工程iの反応の溶媒が、
芳香族炭化水素誘導体類、ハロゲン化脂肪族炭化水素類、ニトリル類から選択される1又は2個の有機溶媒である方法。
芳香族炭化水素誘導体類、ハロゲン化脂肪族炭化水素類、ニトリル類から選択される1又は2個の有機溶媒である方法。
〔I−28〕 〔I−25〕に記載の方法であって、工程iの反応の溶媒が、
芳香族炭化水素誘導体類、ハロゲン化脂肪族炭化水素類、ニトリル類から選択される1個の有機溶媒である方法。
芳香族炭化水素誘導体類、ハロゲン化脂肪族炭化水素類、ニトリル類から選択される1個の有機溶媒である方法。
〔I−29〕 〔I−25〕に記載の方法であって、工程iの反応の溶媒が、
ハロゲン化芳香族炭化水素類、ハロゲン化脂肪族炭化水素類、ニトリル類から選択される1個以上の有機溶媒である方法。
ハロゲン化芳香族炭化水素類、ハロゲン化脂肪族炭化水素類、ニトリル類から選択される1個以上の有機溶媒である方法。
〔I−30〕 〔I−25〕に記載の方法であって、工程iの反応の溶媒が、
ハロゲン化芳香族炭化水素類、ハロゲン化脂肪族炭化水素類、ニトリル類から選択される1又は2個の有機溶媒である方法。
ハロゲン化芳香族炭化水素類、ハロゲン化脂肪族炭化水素類、ニトリル類から選択される1又は2個の有機溶媒である方法。
〔I−31〕 〔I−25〕に記載の方法であって、工程iの反応の溶媒が、
ハロゲン化芳香族炭化水素類、ハロゲン化脂肪族炭化水素類、ニトリル類から選択される1個の有機溶媒である方法。
ハロゲン化芳香族炭化水素類、ハロゲン化脂肪族炭化水素類、ニトリル類から選択される1個の有機溶媒である方法。
〔I−32〕 〔I−25〕に記載の方法であって、工程iの反応の溶媒が、
クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、トリクロロベンゼン、ジクロロメタン、1,2−ジクロロエタン、アセトニトリルから選択される1個以上の有機溶媒である方法。
クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、トリクロロベンゼン、ジクロロメタン、1,2−ジクロロエタン、アセトニトリルから選択される1個以上の有機溶媒である方法。
〔I−33〕 〔I−25〕に記載の方法であって、工程iの反応の溶媒が、
クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、トリクロロベンゼン、ジクロロメタン、1,2−ジクロロエタン、アセトニトリルから選択される1又は2個の有機溶媒である方法。
クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、トリクロロベンゼン、ジクロロメタン、1,2−ジクロロエタン、アセトニトリルから選択される1又は2個の有機溶媒である方法。
〔I−34〕 〔I−25〕に記載の方法であって、工程iの反応の溶媒が、
クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、トリクロロベンゼン、ジクロロメタン、1,2−ジクロロエタン、アセトニトリルから選択される1個の有機溶媒である方法。
クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、トリクロロベンゼン、ジクロロメタン、1,2−ジクロロエタン、アセトニトリルから選択される1個の有機溶媒である方法。
〔I−35〕 〔I−25〕に記載の方法であって、工程iの反応の溶媒が、
ジクロロメタン又はアセトニトリルである方法。
ジクロロメタン又はアセトニトリルである方法。
〔I−36〕 〔I−25〕に記載の方法であって、工程iの反応の溶媒が、
アセトニトリルである方法。
アセトニトリルである方法。
〔I−37〕 〔I−25〕から〔I−36〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iの反応で使用される有機溶媒の量が、式(1)の化合物1モルに対して、0〜2リットルである方法。
〔I−38〕 〔I−25〕から〔I−36〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iの反応で使用される有機溶媒の量が、式(1)の化合物1モルに対して、0〜1.5リットルである方法。
〔I−39〕 〔I−25〕から〔I−36〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iの反応で使用される有機溶媒の量が、式(1)の化合物1モルに対して、0.4〜2リットルである方法。
〔I−40〕 〔I−25〕から〔I−36〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iの反応で使用される有機溶媒の量が、式(1)の化合物1モルに対して、0.6〜1.2リットルである方法。
〔I−41〕 〔I−2〕から〔I−40〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iの反応が−5℃〜80℃で行われる方法、ただし、工程iを含まない方法を除く。
〔I−42〕 〔I−2〕から〔I−40〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iの反応が0℃〜30℃で行われる方法、ただし、工程iを含まない方法を除く。
〔I−43〕 〔I−2〕から〔I−42〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iの反応が、1時間〜48時間で行われる方法、ただし、工程iを含まない方法を除く。
〔I−44〕 〔I−2〕から〔I−42〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iの反応が、1時間〜24時間で行われる方法、ただし、工程iを含まない方法を除く。
〔I−45〕 〔I−2〕から〔I−42〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iの反応が、2時間〜12時間で行われる方法、ただし、工程iを含まない方法を除く。
〔I−46〕 〔I−1〕から〔I−45〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iiの式(3)の化合物の使用量が、式(2)の化合物1モルに対して、0.8〜1.5モルである方法、ただし、工程iiを含まない方法を除く。
〔I−47〕 〔I−1〕から〔I−45〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iiの式(3)の化合物の使用量が、式(2)の化合物1モルに対して、1.0〜1.5モルである方法、ただし、工程iiを含まない方法を除く。
〔I−48〕 〔I−1〕から〔I−45〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iiの式(3)の化合物の使用量が、式(2)の化合物1モルに対して、1.0〜1.1モルである方法、ただし、工程iiを含まない方法を除く。
〔I−49〕 〔I−1〕から〔I−45〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iiの塩基が、アルカリ金属水酸化物類、アルカリ金属炭酸塩類又はそれらの混合物である方法、ただし、工程iiを含まない方法を除く。
〔I−50〕 〔I−1〕から〔I−45〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iiの塩基が、アルカリ金属水化物類である方法、ただし、工程iiを含まない方法を除く。
〔I−51〕 〔I−1〕から〔I−45〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iiの塩基が、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム又はそれらの混合物である方法、ただし、工程iiを含まない方法を除く。
〔I−52〕 〔I−1〕から〔I−45〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iiの塩基が、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム又はそれらの混合物である方法、ただし、工程iiを含まない方法を除く。
〔I−53〕 〔I−1〕から〔I−45〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iiの塩基が、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム又はそれらの混合物である方法、ただし、工程iiを含まない方法を除く。
〔I−54〕 〔I−1〕から〔I−45〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iiの塩基が、水酸化ナトリウムである方法、ただし、工程iiを含まない方法を除く。
〔I−55〕 〔I−1〕から〔I−45〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iiの塩基の使用量が、式(2)の化合物1当量に対して、1〜10当量である方法、ただし、工程iiを含まない方法を除く。
〔I−56〕 〔I−1〕から〔I−45〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iiの塩基の使用量が、式(2)の化合物1当量に対して、5〜10当量である方法、ただし、工程iiを含まない方法を除く。
〔I−57〕 〔I−1〕から〔I−45〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iiの塩基の使用量が、式(2)の化合物1当量に対して、5〜8当量である方法、ただし、工程iiを含まない方法を除く。
〔I−58〕 〔I−1〕から〔I−45〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iiの塩基の使用量が、式(2)の化合物1当量に対して、5〜6当量である方法、ただし、工程iiを含まない方法を除く。
〔I−59〕 〔I−1〕から〔I−58〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iiの反応が、有機溶媒及び水溶媒の存在下で行われる方法、ただし、工程iiを含まない方法を除く。
〔I−60〕 〔I−59〕に記載の方法であって、工程iiの反応の有機溶媒が、0〜50のアクセプター数を有する有機溶媒である方法。
〔I−61〕 〔I−59〕に記載の方法であって、工程iiの反応の有機溶媒が、3〜45のアクセプター数を有する有機溶媒である方法。
〔I−62〕 〔I−59〕に記載の方法であって、工程iiの反応の有機溶媒が、5〜45のアクセプター数を有する有機溶媒である方法。
〔I−63〕 〔I−59〕に記載の方法であって、工程iiの反応の有機溶媒が、5〜35のアクセプター数を有する有機溶媒である方法。
〔I−64〕 〔I−59〕に記載の方法であって、工程iiの反応の有機溶媒が、5〜30のアクセプター数を有する有機溶媒である方法。
〔I−65〕 〔I−59〕に記載の方法であって、工程iiの反応の有機溶媒が、5〜20のアクセプター数を有する有機溶媒である方法。
〔I−66〕 〔I−59〕に記載の方法であって、工程iiの反応の有機溶媒が、8〜20のアクセプター数を有する有機溶媒である方法。
〔I−67〕 〔I−59〕に記載の方法であって、工程iiの反応の有機溶媒が、芳香族炭化水素誘導体類、ハロゲン化脂肪族炭化水素類、アルコール類、ニトリル類、カルボン酸エステル類、エーテル類、ケトン類、アミド類、ウレア類、スルホキシド類、スルホン類から選択される方法。
〔I−68〕 〔I−59〕に記載の方法であって、工程iiの反応の有機溶媒が、芳香族炭化水素誘導体類、ハロゲン化脂肪族炭化水素類、アルコール類、ニトリル類、カルボン酸エステル類、エーテル類、ケトン類、アミド類、ウレア類、スルホキシド類、スルホン類から選択される1個以上(好ましくは1又は2個、より好ましくは1個)の有機溶媒である方法。
〔I−69〕 〔I−59〕に記載の方法であって、工程iiの反応の有機溶媒が、アルコール類、ニトリル類、カルボン酸エステル類、エーテル類、アミド類、スルホン類から選択される1個以上(好ましくは1又は2個、より好ましくは1個)の有機溶媒である方法。
〔I−70〕 〔I−59〕に記載の方法であって、工程iiの反応の有機溶媒が、アルコール類、ニトリル類、カルボン酸エステル類、エーテル類、アミド類から選択される1個以上(好ましくは1又は2個、より好ましくは1個)の有機溶媒である方法。
〔I−71〕 〔I−59〕に記載の方法であって、工程iiの反応の有機溶媒が、アルコール類、ニトリル類、カルボン酸エステル類、アミド類から選択される方法。
〔I−72〕 〔I−59〕に記載の方法であって、工程iiの反応の有機溶媒が、アルコール類、ニトリル類、カルボン酸エステル類、アミド類から選択される1個以上の有機溶媒である方法。
〔I−73〕 〔I−59〕に記載の方法であって、工程iiの反応の有機溶媒が、アルコール類、ニトリル類、カルボン酸エステル類、アミド類から選択される1又は2個の有機溶媒である方法。
〔I−74〕 〔I−59〕に記載の方法であって、工程iiの反応の有機溶媒が、アルコール類、ニトリル類、カルボン酸エステル類、アミド類から選択される1個の有機溶媒である方法。
〔I−75〕 〔I−59〕に記載の方法であって、工程iiの反応の有機溶媒が、アルコール類、ニトリル類、カルボン酸エステル類から選択される方法。
〔I−76〕 〔I−59〕に記載の方法であって、工程iiの反応の有機溶媒が、アルコール類、ニトリル類、カルボン酸エステル類から選択される1個以上の有機溶媒である方法。
〔I−77〕 〔I−59〕に記載の方法であって、工程iiの反応の有機溶媒が、アルコール類、ニトリル類、カルボン酸エステル類から選択される1又は2個の有機溶媒である方法。
〔I−78〕 〔I−59〕に記載の方法であって、工程iiの反応の有機溶媒が、アルコール類、ニトリル類、カルボン酸エステル類から選択される1個の有機溶媒である方法。
〔I−79〕 〔I−59〕に記載の方法であって、工程iiの反応の有機溶媒が、ニトリル類、カルボン酸エステル類から選択される方法。
〔I−80〕 〔I−59〕に記載の方法であって、工程iiの反応の有機溶媒が、ニトリル類、カルボン酸エステル類から選択される1個以上の有機溶媒である方法。
〔I−81〕 〔I−59〕に記載の方法であって、工程iiの反応の有機溶媒が、ニトリル類、カルボン酸エステル類から選択される1又は2個の有機溶媒である方法。
〔I−82〕 〔I−59〕に記載の方法であって、工程iiの反応の有機溶媒が、ニトリル類、カルボン酸エステル類から選択される1個の有機溶媒である方法。
〔I−83〕 〔I−59〕に記載の方法であって、工程iiの反応の有機溶媒が、ニトリル類である方法。
〔I−84〕 〔I−59〕に記載の方法であって、工程iiの反応の有機溶媒が、ニトリル類から選択される方法。
〔I−85〕 〔I−59〕に記載の方法であって、工程iiの反応の有機溶媒が、ニトリル類から選択される1個以上の有機溶媒である方法。
〔I−86〕 〔I−59〕に記載の方法であって、工程iiの反応の有機溶媒が、ニトリル類から選択される1又は2個の有機溶媒である方法。
〔I−87〕 〔I−59〕に記載の方法であって、工程iiの反応の有機溶媒が、ニトリル類から選択される1個の有機溶媒である方法。
〔I−88〕 〔I−59〕に記載の方法であって、工程iiの反応の有機溶媒が、カルボン酸エステル類である方法。
〔I−89〕 〔I−59〕に記載の方法であって、工程iiの反応の有機溶媒が、カルボン酸エステル類から選択される方法。
〔I−90〕 〔I−59〕に記載の方法であって、工程iiの反応の有機溶媒が、カルボン酸エステル類から選択される1個以上の有機溶媒である方法。
〔I−91〕 〔I−59〕に記載の方法であって、工程iiの反応の有機溶媒が、カルボン酸エステル類から選択される好ましくは1から5個の有機溶媒である方法。
〔I−92〕 〔I−59〕に記載の方法であって、工程iiの反応の有機溶媒が、カルボン酸エステル類から選択される好ましくは1又は2個の有機溶媒である方法。
〔I−93〕 〔I−59〕に記載の方法であって、工程iiの反応の有機溶媒が、カルボン酸エステル類から選択される1個の有機溶媒である方法。
〔I−94〕 〔I−59〕に記載の方法であって、工程iiの反応の有機溶媒が、(C1−C6)アルコール、(C2−C5)アルカンニトリル、(C1−C4)アルキル(C1−C4)カルボキシレート、N,N−ジ((C1−C4)アルキル)(C1−C4)アルカンアミドから選択される方法。
〔I−95〕 〔I−59〕に記載の方法であって、工程iiの反応の有機溶媒が、(C1−C6)アルコール、(C2−C5)アルカンニトリル、(C1−C4)アルキル(C1−C4)カルボキシレート、N,N−ジ((C1−C4)アルキル)(C1−C4)アルカンアミドから選択される1個以上の有機溶媒である方法。
〔I−96〕 〔I−59〕に記載の方法であって、工程iiの反応の有機溶媒が、(C1−C6)アルコール、(C2−C5)アルカンニトリル、(C1−C4)アルキル(C1−C4)カルボキシレート、N,N−ジ((C1−C4)アルキル)(C1−C4)アルカンアミドから選択される1又は2個の有機溶媒である方法。
〔I−97〕 〔I−59〕に記載の方法であって、工程iiの反応の有機溶媒が、(C1−C6)アルコール、(C2−C5)アルカンニトリル、(C1−C4)アルキル(C1−C4)カルボキシレート、N,N−ジ((C1−C4)アルキル)(C1−C4)アルカンアミドから選択される1個の有機溶媒である方法。
〔I−98〕 〔I−59〕に記載の方法であって、工程iiの反応の有機溶媒が、(C2−C6)アルコール、(C2−C5)アルカンニトリル、(C1−C4)アルキル(C1−C4)カルボキシレート、N,N−ジ((C1−C4)アルキル)(C1−C4)アルカンアミドから選択される1個以上(好ましくは1又は2個、より好ましくは1個)の有機溶媒である方法。
〔I−99〕 〔I−59〕に記載の方法であって、工程iiの反応の有機溶媒が、(C1−C4)アルコール、(C2−C5)アルカンニトリル、(C1−C4)アルキル(C1−C4)カルボキシレート、N,N−ジ((C1−C4)アルキル)(C1−C4)アルカンアミドから選択される1個以上(好ましくは1又は2個、より好ましくは1個)の有機溶媒である方法。
〔I−100〕 〔I−59〕に記載の方法であって、工程iiの反応の有機溶媒が、(C2−C4)アルコール、(C2−C5)アルカンニトリル、(C1−C4)アルキル(C1−C4)カルボキシレート、N,N−ジ((C1−C4)アルキル)(C1−C4)アルカンアミドから選択される1個以上(好ましくは1又は2個、より好ましくは1個)の有機溶媒である方法。
〔I−101〕 〔I−59〕に記載の方法であって、工程iiの反応の有機溶媒が、(C1−C6)アルコール、(C2−C5)アルカンニトリル、(C1−C4)アルキル(C1−C4)カルボキシレートから選択される方法。
〔I−102〕 〔I−59〕に記載の方法であって、工程iiの反応の有機溶媒が、(C1−C6)アルコール、(C2−C5)アルカンニトリル、(C1−C4)アルキル(C1−C4)カルボキシレートから選択される1個以上の有機溶媒である方法。
〔I−103〕 〔I−59〕に記載の方法であって、工程iiの反応の有機溶媒が、(C1−C6)アルコール、(C2−C5)アルカンニトリル、(C1−C4)アルキル(C1−C4)カルボキシレートから選択される1又は2個の有機溶媒である方法。
〔I−104〕 〔I−59〕に記載の方法であって、工程iiの反応の有機溶媒が、(C1−C6)アルコール、(C2−C5)アルカンニトリル、(C1−C4)アルキル(C1−C4)カルボキシレートから選択される1個の有機溶媒である方法。
〔I−105〕 〔I−59〕に記載の方法であって、工程iiの反応の有機溶媒が、(C2−C6)アルコール、(C2−C5)アルカンニトリル、(C1−C4)アルキル(C1−C4)カルボキシレートから選択される1個以上(好ましくは1又は2個、より好ましくは1個)の有機溶媒である方法。
〔I−106〕 〔I−59〕に記載の方法であって、工程iiの反応の有機溶媒が、(C1−C4)アルコール、(C2−C5)アルカンニトリル、(C1−C4)アルキル(C1−C4)カルボキシレートから選択される1個以上(好ましくは1又は2個、より好ましくは1個)の有機溶媒である方法。
〔I−107〕 〔I−59〕に記載の方法であって、工程iiの反応の有機溶媒が、(C2−C4)アルコール、(C2−C5)アルカンニトリル、(C1−C4)アルキル(C1−C4)カルボキシレートから選択される1個以上(好ましくは1又は2個、より好ましくは1個)の有機溶媒である方法。
〔I−108〕 〔I−59〕に記載の方法であって、工程iiの反応の有機溶媒が、(C2−C5)アルカンニトリル、(C1−C4)アルキル(C1−C4)カルボキシレートから選択される方法。
〔I−109〕 〔I−59〕に記載の方法であって、工程iiの反応の有機溶媒が、(C2−C5)アルカンニトリル、(C1−C4)アルキル(C1−C4)カルボキシレートから選択される1個以上の有機溶媒である方法。
〔I−110〕 〔I−59〕に記載の方法であって、工程iiの反応の有機溶媒が、(C2−C5)アルカンニトリル、(C1−C4)アルキル(C1−C4)カルボキシレートから選択される1又は2個の有機溶媒である方法。
〔I−111〕 〔I−59〕に記載の方法であって、工程iiの反応の有機溶媒が、(C2−C5)アルカンニトリル、(C1−C4)アルキル(C1−C4)カルボキシレートから選択される1個の有機溶媒である方法。
〔I−112〕 〔I−59〕に記載の方法であって、工程iiの反応の有機溶媒が、トルエン、キシレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、ジクロロメタン、1,2−ジクロロエタン、メタノール、エタノール、2−プロパノール、ブタノール、tert−ブタノール、アセトニトリル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル及びその異性体、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、ジ−tert−ブチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、メチル−tert−ブチルエーテル、1,2−ジメトキシエタン、ジグリム、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソプロピルケトン、メチルイソブチルケトン、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン、N,N’−ジメチルイミダゾリジノン、テトラメチル尿素、ジメチルスルホキシド、スルホランから選択される1個以上(好ましくは1又は2個、より好ましくは1個)の有機溶媒である方法。
〔I−113〕 〔I−59〕に記載の方法であって、工程iiの反応の有機溶媒が、メタノール、エタノール、2−プロパノール、ブタノール、tert−ブタノール、アセトニトリル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル及びその異性体、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、ジ−tert−ブチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、メチル−tert−ブチルエーテル、1,2−ジメトキシエタン、ジグリム、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン、スルホランから選択される1個以上(好ましくは1又は2個、より好ましくは1個)の有機溶媒である方法。
〔I−114〕 〔I−59〕に記載の方法であって、工程iiの反応の有機溶媒が、メタノール、エタノール、2−プロパノール、ブタノール、tert−ブタノール、アセトニトリル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル及びその異性体、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、ジ−tert−ブチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、メチル−tert−ブチルエーテル、1,2−ジメトキシエタン、ジグリム、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドンから選択される1個以上(好ましくは1又は2個、より好ましくは1個)の有機溶媒である方法。
〔I−115〕 〔I−59〕に記載の方法であって、工程iiの反応の有機溶媒が、メタノール、エタノール、2−プロパノール、ブタノール、tert−ブタノール、アセトニトリル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル及びその異性体、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドンから選択される1個以上(好ましくは1又は2個、より好ましくは1個)の有機溶媒である方法。
〔I−116〕 〔I−59〕に記載の方法であって、工程iiの反応の有機溶媒が、メタノール、エタノール、2−プロパノール、ブタノール、tert−ブタノール、アセトニトリル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル及びその異性体、N,N−ジメチルホルムアミドから選択される1個以上(好ましくは1又は2個、より好ましくは1個)の有機溶媒である方法。
〔I−117〕 〔I−59〕に記載の方法であって、工程iiの反応の有機溶媒が、メタノール、エタノール、2−プロパノール、ブタノール、tert−ブタノール、アセトニトリル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル及びその異性体から選択される1個以上(好ましくは1又は2個、より好ましくは1個)の有機溶媒である方法。
〔I−118〕 〔I−59〕に記載の方法であって、工程iiの反応の有機溶媒が、メタノール、エタノール、2−プロパノール、ブタノール、tert−ブタノール、アセトニトリル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル及びその異性体から選択される1個以上(好ましくは1又は2個、より好ましくは1個)の有機溶媒である方法。
〔I−119〕 〔I−59〕に記載の方法であって、工程iiの反応の有機溶媒が、ブタノール、アセトニトリル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチルから選択される1個以上(好ましくは1又は2個、より好ましくは1個)の有機溶媒である方法。
〔I−120〕 〔I−59〕に記載の方法であって、工程iiの反応の有機溶媒が、アセトニトリル、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチルから選択される1個以上(好ましくは1又は2個、より好ましくは1個)の有機溶媒である方法。
〔I−121〕 〔I−59〕に記載の方法であって、工程iiの反応の有機溶媒が、アセトニトリル、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチルから選択される1個の有機溶媒である方法。
〔I−122〕 〔I−59〕に記載の方法であって、工程iiの反応の有機溶媒が、アセトニトリル、酢酸ブチルから選択される1又は2個(好ましくは1個)の有機溶媒である方法。
〔I−123〕 〔I−59〕に記載の方法であって、工程iiの反応の有機溶媒が、アセトニトリル又は酢酸ブチルである方法。
〔I−124〕 〔I−59〕に記載の方法であって、工程iiの反応の有機溶媒が、アセトニトリルである方法。
〔I−125〕 〔I−59〕に記載の方法であって、工程iiの反応の有機溶媒が、酢酸ブチルである方法。
〔I−126〕 〔I−59〕から〔I−125〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iiの反応の溶媒の全使用量が、式(2)の化合物1モルに対して、1〜3リットルである方法。
〔I−127〕 〔I−59〕から〔I−125〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iiの反応の溶媒の全使用量が、式(2)の化合物1モルに対して、1.5〜3.0リットルである方法。
〔I−128〕 〔I−59〕から〔I−125〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iiの反応の溶媒の全使用量が、式(2)の化合物1モルに対して、1.5〜2.5リットルである方法。
〔I−129〕 〔I−59〕から〔I−125〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iiの反応の溶媒の全使用量が、式(2)の化合物1モルに対して、1.7〜2.0リットルである方法。
〔I−130〕 〔I−59〕から〔I−129〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iiの反応で使用される有機溶媒の量が、式(2)の化合物1モルに対して、0.5〜1.5リットルである方法。
〔I−131〕 〔I−59〕から〔I−129〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iiの反応で使用される有機溶媒の量が、式(2)の化合物1モルに対して、0.7〜0.9リットルである方法。
〔I−132〕 〔I−59〕から〔I−129〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iiの反応で使用される有機溶媒の量が、式(2)の化合物1モルに対して、0.3〜2.0リットルである方法。
〔I−133〕 〔I−59〕から〔I−129〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iiの反応で使用される有機溶媒の量が、式(2)の化合物1モルに対して、0.6〜0.8リットルである方法。
〔I−134〕 〔I−59〕から〔I−133〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iiの反応で使用される水溶媒の量が、式(2)の化合物1モルに対して、0.5〜2.0リットルである方法。
〔I−135〕 〔I−59〕から〔I−133〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iiの反応で使用される水溶媒の量が、式(2)の化合物1モルに対して、0.5〜1.5リットルである方法。
〔I−136〕 〔I−59〕から〔I−133〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iiの反応で使用される水溶媒の量が、式(2)の化合物1モルに対して、0.7〜1.4リットルである方法。
〔I−137〕 〔I−59〕から〔I−133〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iiの反応で使用される水溶媒の量が、式(2)の化合物1モルに対して、0.9〜1.2リットルである方法。
〔I−138〕 〔I−59〕から〔I−137〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iiの反応で使用される、有機溶媒と水溶媒の比率が、90:10〜0:100である方法。
〔I−139〕 〔I−59〕から〔I−137〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iiの反応で使用される、有機溶媒と水溶媒の比率が、70:30〜30:70である方法。
〔I−140〕 〔I−59〕から〔I−137〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iiの反応で使用される、有機溶媒と水溶媒の比率が、50:50〜35:65である方法。
〔I−141〕 〔I−59〕から〔I−137〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iiの反応で使用される、有機溶媒と水溶媒の比率が、50:50〜40:60である方法。
〔I−142〕 〔I−59〕から〔I−137〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iiの反応において、有機溶媒と水溶媒からなる全溶媒中の水溶媒の量が、全溶媒の量に対して、10vol%から100vol%である方法。
〔I−143〕 〔I−59〕から〔I−137〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iiの反応において、有機溶媒と水溶媒からなる全溶媒中の水溶媒の量が、全溶媒の量に対して、30vol%から70vol%である方法。
〔I−144〕 〔I−59〕から〔I−137〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iiの反応において、有機溶媒と水溶媒からなる全溶媒中の水溶媒の量が、全溶媒の量に対して、50vol%から65vol%である方法。
〔I−145〕 〔I−59〕から〔I−137〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iiの反応において、有機溶媒と水溶媒からなる全溶媒中の水溶媒の量が、全溶媒の量に対して、50vol%から60vol%である方法。
〔I−146〕 〔I−1〕から〔I−145〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iiの反応が−10℃〜100℃で行われる方法、ただし、工程iiを含まない方法を除く。
〔I−147〕 〔I−1〕から〔I−145〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iiの反応が−10℃〜70℃で行われる方法、ただし、工程iiを含まない方法を除く。
〔I−148〕 〔I−1〕から〔I−145〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iiの反応が−10℃〜50℃で行われる方法、ただし、工程iiを含まない方法を除く。
〔I−149〕 〔I−1〕から〔I−145〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iiの反応が0℃〜40℃で行われる方法、ただし、工程iiを含まない方法を除く。
〔I−150〕 〔I−1〕から〔I−145〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iiの反応が0℃〜30℃で行われる方法、ただし、工程iiを含まない方法を除く。
〔I−151〕 〔I−1〕から〔I−150〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iiの反応が、1時間〜48時間で行われる方法、ただし、工程iiを含まない方法を除く。
〔I−152〕 〔I−1〕から〔I−150〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iiの反応が、4時間〜24時間で行われる方法、ただし、工程iiを含まない方法を除く。
〔I−153〕 〔I−1〕から〔I−152〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iiの反応が、式(2)の化合物、式(3)の化合物及び溶媒を含む混合物に塩基を滴下する方法、ただし、工程iiを含まない方法を除く。
〔I−154〕 〔I−1〕から〔I−152〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iiの反応が、式(3)の化合物、塩基及び溶媒を含む混合物に、式(2)の化合物を滴下する方法、ただし、工程iiを含まない方法を除く。
〔I−155〕 〔I−1〕から〔I−152〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iiの反応が、塩基及び溶媒を含む混合物に、式(2)の化合物及び式(3)の化合物を順次滴下する方法、ただし、工程iiを含まない方法を除く。
〔I−156〕 〔I−1〕から〔I−152〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iiの反応が、塩基及び溶媒を含む混合物に、式(3)の化合物を滴下した後、式(2)の化合物を滴下する方法、ただし、工程iiを含まない方法を除く。
〔I−157〕 〔I−1〕から〔I−156〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iiiの過酸化水素が、10〜70wt%過酸化水素水溶液である方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
〔I−158〕 〔I−1〕から〔I−156〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iiiの過酸化水素が、25〜65wt%過酸化水素水溶液である方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
〔I−159〕 〔I−1〕から〔I−156〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iiiの過酸化水素の使用量が、式(4)の化合物1モルに対して、2〜8モルである方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
〔I−160〕 〔I−1〕から〔I−156〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iiiの過酸化水素の使用量が、式(4)の化合物1モルに対して、2〜6モルである方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
〔I−161〕 〔I−1〕から〔I−156〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iiiの過酸化水素の使用量が、式(4)の化合物1モルに対して、2〜5モルである方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
〔I−162〕 〔I−1〕から〔I−156〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iiiの過酸化水素の使用量が、式(4)の化合物1モルに対して、2〜4モルである方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
〔I−163〕 〔I−1〕から〔I−156〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iiiの過酸化水素の使用量が、式(4)の化合物1モルに対して、2〜3モルである方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
〔I−164〕 〔I−1〕から〔I−156〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iiiの金属触媒が、タングステン触媒である方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
〔I−165〕 〔I−1〕から〔I−156〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iiiの金属触媒が、タングステン酸、タングステン酸塩、金属タングステン、酸化タングステン、炭化タングステン、塩化タングステン、臭化タングステン、硫化タングステン、リンタングステン酸若しくはその塩、ケイタングステン酸若しくはその塩、又はそれらの混合物である方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
〔I−166〕 〔I−1〕から〔I−156〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iiiの金属触媒が、タングステン酸、タングステン酸ナトリウム、タングステン酸カリウム、タングステン酸カルシウム、タングステン酸アンモニウム、金属タングステン、酸化タングステン、炭化タングステン又はそれらの混合物である方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
〔I−167〕 〔I−1〕から〔I−156〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iiiの金属触媒が、タングステン酸ナトリウムである方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
〔I−168〕 〔I−1〕から〔I−156〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iiiの金属触媒が、タングステン酸ナトリウム二水和物である方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
〔I−169〕 〔I−1〕から〔I−156〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iiiの金属触媒が、タングステン触媒及びモリブデン触媒から選ばれる方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
〔I−170〕 〔I−1〕から〔I−156〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iiiの金属触媒が、タングステン触媒又はモリブデン触媒である方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
〔I−171〕 〔I−1〕から〔I−156〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iiiの金属触媒が、タングステン酸、タングステン酸塩、金属タングステン、酸化タングステン、炭化タングステン、塩化タングステン及びその塩、並びにそれらの混合物、
モリブデン酸、モリブデン酸塩、金属モリブデン、炭化モリブデン、酸化モリブデン、塩化モリブデン及びそれらの混合物から選ばれる方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
モリブデン酸、モリブデン酸塩、金属モリブデン、炭化モリブデン、酸化モリブデン、塩化モリブデン及びそれらの混合物から選ばれる方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
〔I−172〕 〔I−1〕から〔I−156〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iiiの金属触媒が、タングステン酸ナトリウム及びモリブデン酸アンモニウムから選ばれるである方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
〔I−173〕 〔I−1〕から〔I−156〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iiiの金属触媒が、タングステン酸ナトリウム二水和物及びモリブデン酸アンモニウム四水和物から選ばれる方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
〔I−174〕 〔I−1〕から〔I−156〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iiiの金属触媒が、タングステン酸ナトリウム又はモリブデン酸アンモニウムである方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
〔I−175〕 〔I−1〕から〔I−156〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iiiの金属触媒が、タングステン酸ナトリウム二水和物又はモリブデン酸アンモニウム四水和物である方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
〔I−176〕 〔I−1〕から〔I−156〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iiiの金属触媒が、タングステン触媒、モリブデン触媒及びニオブ触媒から選ばれる方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
〔I−177〕 〔I−1〕から〔I−156〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iiiの金属触媒が、タングステン酸、タングステン酸塩、金属タングステン、酸化タングステン、炭化タングステン、塩化タングステン及びその塩、並びにそれらの混合物、
モリブデン酸、モリブデン酸塩、金属モリブデン、炭化モリブデン、酸化モリブデン、塩化モリブデン及びそれらの混合物、
ニオブ酸、ニオブ酸塩、金属ニオブ、炭化ニオブ、酸化ニオブ、塩化ニオブ及びそれらの混合物から選ばれる方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
モリブデン酸、モリブデン酸塩、金属モリブデン、炭化モリブデン、酸化モリブデン、塩化モリブデン及びそれらの混合物、
ニオブ酸、ニオブ酸塩、金属ニオブ、炭化ニオブ、酸化ニオブ、塩化ニオブ及びそれらの混合物から選ばれる方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
〔I−178〕 〔I−1〕から〔I−156〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iiiの金属触媒が、タングステン酸ナトリウム、モリブデン酸アンモニウム、ニオブ酸ナトリウムから選ばれる方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
〔I−179〕 〔I−1〕から〔I−156〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iiiの金属触媒が、タングステン触媒、モリブデン触媒、ニオブ触媒、タンタル触媒、チタン触媒及びジルコニウム触媒から選ばれる方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
〔I−180〕 〔I−1〕から〔I−156〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iiiの金属触媒が、タングステン酸、タングステン酸塩、金属タングステン、酸化タングステン、炭化タングステン、塩化タングステン及びその塩、並びにそれらの混合物、
モリブデン酸、モリブデン酸塩、金属モリブデン、炭化モリブデン、酸化モリブデン、塩化モリブデン及びそれらの混合物、
ニオブ酸、ニオブ酸塩、金属ニオブ、炭化ニオブ、酸化ニオブ、塩化ニオブ及びそれらの混合物
タンタル酸、タンタル酸塩、酸化タンタル、炭化タンタル、塩化タンタル及びそれらの混合物、
チタン酸、チタン酸塩、酸化チタン、炭化チタン、塩化チタン及びそれらの混合物、
ジルコニウム酸、ジルコニウム酸塩、酸化ジルコニウム、炭化ジルコニウム、塩化ジルコニウム及びそれらの混合物から選ばれる方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
モリブデン酸、モリブデン酸塩、金属モリブデン、炭化モリブデン、酸化モリブデン、塩化モリブデン及びそれらの混合物、
ニオブ酸、ニオブ酸塩、金属ニオブ、炭化ニオブ、酸化ニオブ、塩化ニオブ及びそれらの混合物
タンタル酸、タンタル酸塩、酸化タンタル、炭化タンタル、塩化タンタル及びそれらの混合物、
チタン酸、チタン酸塩、酸化チタン、炭化チタン、塩化チタン及びそれらの混合物、
ジルコニウム酸、ジルコニウム酸塩、酸化ジルコニウム、炭化ジルコニウム、塩化ジルコニウム及びそれらの混合物から選ばれる方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
〔I−181〕 〔I−1〕から〔I−156〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iiiの金属触媒が、タングステン酸、タングステン酸ナトリウム、タングステン酸カリウム、タングステン酸カルシウム、タングステン酸アンモニウム、金属タングステン、酸化タングステン(VI)、炭化タングステン、及びそれらの混合物
モリブデン酸、モリブデン酸ナトリウム、モリブデン酸カリウム、モリブデン酸アンモニウム、酸化モリブデン(VI)、炭化モリブデン、塩化モリブデン(V)、硫化モリブデン(IV)、リンモリブデン酸、リンモリブデン酸ナトリウム、リンモリブデン酸アンモニウム、ケイモリブデン酸、ケイモリブデン酸ナトリウム、及びそれらの混合物、
ニオブ酸ナトリウム、ニオブ酸カリウム、炭化ニオブ、塩化ニオブ(V)、ニオブ(V)ペンタエトキシド及びそれらの混合物
タンタル酸リチウム、タンタル酸カリウム、五酸化タンタル、炭化タンタル、塩化タンタル(V)、タンタル(V)ペンタエトキシド及びそれらの混合物、
チタンアセチルアセトネート、四塩化チタン、三塩化チタン、チタン(IV)テトライソプロポキシド及びそれらの混合物、
二酸化ジルコニウム、塩化ジルコニウム(I)、塩化ジルコニウム(IV)、塩化酸化ジルコニウムから選ばれる方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
モリブデン酸、モリブデン酸ナトリウム、モリブデン酸カリウム、モリブデン酸アンモニウム、酸化モリブデン(VI)、炭化モリブデン、塩化モリブデン(V)、硫化モリブデン(IV)、リンモリブデン酸、リンモリブデン酸ナトリウム、リンモリブデン酸アンモニウム、ケイモリブデン酸、ケイモリブデン酸ナトリウム、及びそれらの混合物、
ニオブ酸ナトリウム、ニオブ酸カリウム、炭化ニオブ、塩化ニオブ(V)、ニオブ(V)ペンタエトキシド及びそれらの混合物
タンタル酸リチウム、タンタル酸カリウム、五酸化タンタル、炭化タンタル、塩化タンタル(V)、タンタル(V)ペンタエトキシド及びそれらの混合物、
チタンアセチルアセトネート、四塩化チタン、三塩化チタン、チタン(IV)テトライソプロポキシド及びそれらの混合物、
二酸化ジルコニウム、塩化ジルコニウム(I)、塩化ジルコニウム(IV)、塩化酸化ジルコニウムから選ばれる方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
〔I−182〕 〔I−1〕から〔I−156〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iiiの金属触媒が、タングステン酸、タングステン酸ナトリウム、タングステン酸カリウム、タングステン酸カルシウム、タングステン酸アンモニウム、金属タングステン、酸化タングステン、炭化タングステン
モリブデン酸ナトリウム、モリブデン酸カリウム、モリブデン酸アンモニウム、
ニオブ酸ナトリウム、ニオブ酸カリウム
タンタル酸リチウム、タンタル酸カリウムから選ばれる方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
モリブデン酸ナトリウム、モリブデン酸カリウム、モリブデン酸アンモニウム、
ニオブ酸ナトリウム、ニオブ酸カリウム
タンタル酸リチウム、タンタル酸カリウムから選ばれる方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
〔I−183〕 〔I−1〕から〔I−156〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iiiの金属触媒が、タングステン酸、タングステン酸ナトリウム、タングステン酸カリウム、タングステン酸カルシウム、タングステン酸アンモニウム、金属タングステン、酸化タングステン、炭化タングステン
モリブデン酸ナトリウム、モリブデン酸カリウム、モリブデン酸アンモニウム、
ニオブ酸ナトリウム、ニオブ酸カリウムから選ばれる方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
モリブデン酸ナトリウム、モリブデン酸カリウム、モリブデン酸アンモニウム、
ニオブ酸ナトリウム、ニオブ酸カリウムから選ばれる方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
〔I−184〕 〔I−1〕から〔I−156〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iiiの金属触媒が、タングステン酸、タングステン酸ナトリウム、タングステン酸カリウム、タングステン酸カルシウム、タングステン酸アンモニウム、金属タングステン、酸化タングステン、炭化タングステン
モリブデン酸ナトリウム、モリブデン酸カリウム、モリブデン酸アンモニウムから選ばれる方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
モリブデン酸ナトリウム、モリブデン酸カリウム、モリブデン酸アンモニウムから選ばれる方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
〔I−185〕 〔I−1〕から〔I−156〕のいずれか1項に記載の方法であって、金属触媒の使用量が、式(4)の化合物1モルに対して、0.001〜0.1モルである方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
〔I−186〕 〔I−1〕から〔I−156〕のいずれか1項に記載の方法であって、金属触媒使用量が、式(4)の化合物1モルに対して、0.01〜0.1モルである方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
〔I−187〕 〔I−1〕から〔I−156〕のいずれか1項に記載の方法であって、金属触媒の使用量が、式(4)の化合物1モルに対して、0.03〜0.05モルである方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
〔I−188〕 〔I−1〕から〔I−156〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iiiの反応が、酸触媒の非存在下で行われる方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
〔I−189〕 〔I−1〕から〔I−156〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iiiの反応が、酸触媒の存在下又は非存在下で行われる方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
〔I−190〕 〔I−1〕から〔I−156〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iiiの反応が、酸触媒の存在下で行われる方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
〔I−191〕 〔I−189〕又は〔I−190〕に記載の方法であって、酸触媒が塩酸、硫酸、リン酸、リン酸メチル、リン酸エチル又はリン酸フェニル、である方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
〔I−192〕 〔I−189〕又は〔I−190〕に記載の方法であって、酸触媒が塩酸、硫酸、リン酸又はリン酸フェニルである方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
〔I−193〕 〔I−189〕又は〔I−190〕に記載の方法であって、酸触媒が硫酸又はリン酸フェニルである方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
〔I−194〕 〔I−189〕又は〔I−190〕に記載の方法であって、酸触媒がリン酸フェニルである方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
〔I−195〕 〔I−189〕又は〔I−190〕に記載の方法であって、酸触媒が硫酸である方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
〔I−196〕 〔I−188〕から〔I−190〕のいずれか1項に記載の方法であって、酸触媒の使用量が、式(4)の化合物1モルに対して、0(ゼロ)〜0.2モルである方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
〔I−197〕 〔I−188〕から〔I−190〕のいずれか1項に記載の方法であって、酸触媒の使用量が、式(4)の化合物1モルに対して、0(ゼロ)〜0.1モルである方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
〔I−198〕 〔I−189〕又は〔I−190〕に記載の方法であって、酸触媒の使用量が、式(4)の化合物1モルに対して、0.001〜0.1モルである方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
〔I−199〕 〔I−189〕又は〔I−190〕に記載の方法であって、酸触媒の使用量が、式(4)の化合物1モルに対して、0.005〜0.05モルである方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
〔I−200〕 〔I−1〕から〔I−199〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iiiの反応が、相間移動触媒の非存在下で行われる方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
〔I−201〕 〔I−1〕から〔I−199〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iiiの反応が、相間移動触媒の存在下又は非存在下で行われる方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
〔I−202〕 〔I−1〕から〔I−199〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iiiの反応が、相間移動触媒の存在下で行われる方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
〔I−203〕 〔I−202〕に記載の方法であって、相間移動触媒が、テトラブチルアンモニウムクロリド、テトラブチルアンモニウムブロミド又は硫酸水素テトラブチルアンモニウムである方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
〔I−204〕 〔I−202〕に記載の方法であって、相間移動触媒が、硫酸水素テトラブチルアンモニウムである方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
〔I−205〕 〔I−200〕から〔I−204〕のいずれか1項に記載の方法であって、相間移動触媒の使用量が、式(4)の化合物1モルに対して、0(ゼロ)〜0.1モルである方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
〔I−206〕 〔I−201〕から〔I−204〕のいずれか1項に記載の方法であって、相間移動触媒の使用量が、式(4)の化合物1モルに対して、0.001〜0.1モルである方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
〔I−207〕 〔I−201〕から〔I−204〕のいずれか1項に記載の方法であって、相間移動触媒の使用量が、式(4)の化合物1モルに対して、0.005〜0.05モルである方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
〔I−208〕 〔I−1〕から〔I−207〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iiiの反応が、有機溶媒及び水溶媒の存在下で行われる方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
〔I−209〕 〔I−208〕に記載の方法であって、工程iiiの反応の有機溶媒が、0〜50のアクセプター数を有する有機溶媒である方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
〔I−210〕 〔I−208〕に記載の方法であって、工程iiiの反応の有機溶媒が、3〜45のアクセプター数を有する有機溶媒である方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
〔I−211〕 〔I−208〕に記載の方法であって、工程iiiの反応の有機溶媒が、5〜45のアクセプター数を有する有機溶媒である方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
〔I−212〕 〔I−208〕に記載の方法であって、工程iiiの反応の有機溶媒が、5〜35のアクセプター数を有する有機溶媒である方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
〔I−213〕 〔I−208〕に記載の方法であって、工程iiiの反応の有機溶媒が、5〜30のアクセプター数を有する有機溶媒である方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
〔I−214〕 〔I−208〕に記載の方法であって、工程iiiの反応の有機溶媒が、5〜20のアクセプター数を有する有機溶媒である方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
〔I−215〕 〔I−208〕に記載の方法であって、工程iiiの反応の有機溶媒が、8〜20のアクセプター数を有する有機溶媒である方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
〔I−216〕 〔I−208〕に記載の方法であって、工程iiiの反応の有機溶媒が、芳香族炭化水素誘導体類、ハロゲン化脂肪族炭化水素類、アルコール類、ニトリル類、カルボン酸エステル類、エーテル類、ケトン類、アミド類、ウレア類、スルホキシド類、スルホン類から選択される方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
〔I−217〕 〔I−208〕に記載の方法であって、工程iiiの反応の有機溶媒が、芳香族炭化水素誘導体類、ハロゲン化脂肪族炭化水素類、アルコール類、ニトリル類、カルボン酸エステル類、エーテル類、ケトン類、アミド類、ウレア類、スルホキシド類、スルホン類から選択される1個以上(好ましくは1又は2個、より好ましくは1個)の有機溶媒である方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
〔I−218〕 〔I−208〕に記載の方法であって、工程iiiの反応の有機溶媒が、アルコール類、ニトリル類、カルボン酸エステル類、エーテル類、アミド類、スルホン類から選択される1個以上(好ましくは1又は2個、より好ましくは1個)の有機溶媒である方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
〔I−219〕 〔I−208〕に記載の方法であって、工程iiiの反応の有機溶媒が、アルコール類、ニトリル類、カルボン酸エステル類、エーテル類、アミド類から選択される1個以上(好ましくは1又は2個、より好ましくは1個)の有機溶媒である方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
〔I−220〕 〔I−208〕に記載の方法であって、工程iiiの反応の有機溶媒が、アルコール類、ニトリル類、カルボン酸エステル類、アミド類から選択される方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
〔I−221〕 〔I−208〕に記載の方法であって、工程iiiの反応の有機溶媒が、アルコール類、ニトリル類、カルボン酸エステル類、アミド類から選択される1個以上の有機溶媒である方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
〔I−222〕 〔I−208〕に記載の方法であって、工程iiiの反応の有機溶媒が、アルコール類、ニトリル類、カルボン酸エステル類から選択される方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
〔I−223〕 〔I−208〕に記載の方法であって、工程iiiの反応の有機溶媒が、アルコール類、ニトリル類、カルボン酸エステル類から選択される1個以上(好ましくは1又は2個、より好ましくは1個)の有機溶媒である方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
〔I−224〕 〔I−208〕に記載の方法であって、工程iiiの反応の有機溶媒が、アルコール類、ニトリル類、カルボン酸エステル類から選択される1又は2個の有機溶媒である方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
〔I−225〕 〔I−208〕に記載の方法であって、工程iiiの反応の有機溶媒が、アルコール類、ニトリル類、カルボン酸エステル類から選択される1個の有機溶媒である方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
〔I−226〕 〔I−208〕に記載の方法であって、工程iiiの反応の有機溶媒が、ニトリル類、カルボン酸エステル類から選択される方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
〔I−227〕 〔I−208〕に記載の方法であって、工程iiiの反応の有機溶媒が、ニトリル類、カルボン酸エステル類から選択される1個以上の有機溶媒である方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
〔I−228〕 〔I−208〕に記載の方法であって、工程iiiの反応の有機溶媒が、ニトリル類、カルボン酸エステル類から選択される1又は2個の有機溶媒である方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
〔I−229〕 〔I−208〕に記載の方法であって、工程iiiの反応の有機溶媒が、ニトリル類、カルボン酸エステル類から選択される1個の有機溶媒である方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
〔I−230〕 〔I−208〕に記載の方法であって、工程iiiの反応の有機溶媒が、ニトリル類である方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
〔I−231〕 〔I−208〕に記載の方法であって、工程iiiの反応の有機溶媒が、ニトリル類から選択される方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
〔I−232〕 〔I−208〕に記載の方法であって、工程iiiの反応の有機溶媒が、ニトリル類から選択される1個以上の有機溶媒である方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
〔I−233〕 〔I−208〕に記載の方法であって、工程iiiの反応の有機溶媒が、ニトリル類から選択される1又は2個の有機溶媒である方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
〔I−234〕 〔I−208〕に記載の方法であって、工程iiiの反応の有機溶媒が、ニトリル類から選択される1個の有機溶媒である方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
〔I−235〕 〔I−208〕に記載の方法であって、工程iiiの反応の有機溶媒が、カルボン酸エステル類である方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
〔I−236〕 〔I−208〕に記載の方法であって、工程iiiの反応の有機溶媒が、カルボン酸エステル類から選択される方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
〔I−237〕 〔I−208〕に記載の方法であって、工程iiiの反応の有機溶媒が、カルボン酸エステル類から選択される1個以上の有機溶媒である方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
〔I−238〕 〔I−208〕に記載の方法であって、工程iiiの反応の有機溶媒が、カルボン酸エステル類から選択される好ましくは1から5個の有機溶媒である方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
〔I−239〕 〔I−208〕に記載の方法であって、工程iiiの反応の有機溶媒が、カルボン酸エステル類から選択される好ましくは1又は2個の有機溶媒である方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
〔I−240〕 〔I−208〕に記載の方法であって、工程iiiの反応の有機溶媒が、カルボン酸エステル類から選択される1個の有機溶媒である方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
〔I−241〕 〔I−208〕に記載の方法であって、工程iiiの反応の有機溶媒が、(C1−C6)アルコール、(C2−C5)アルカンニトリル、(C1−C4)アルキル(C1−C4)カルボキシレート、N,N−ジ((C1−C4)アルキル)(C1−C4)アルカンアミドから選択される方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
〔I−242〕 〔I−208〕に記載の方法であって、工程iiiの反応の有機溶媒が、(C1−C6)アルコール、(C2−C5)アルカンニトリル、(C1−C4)アルキル(C1−C4)カルボキシレート、N,N−ジ((C1−C4)アルキル)(C1−C4)アルカンアミドから選択される1個以上の有機溶媒である方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
〔I−243〕 〔I−208〕に記載の方法であって、工程iiiの反応の有機溶媒が、(C1−C6)アルコール、(C2−C5)アルカンニトリル、(C1−C4)アルキル(C1−C4)カルボキシレート、N,N−ジ((C1−C4)アルキル)(C1−C4)アルカンアミドから選択される1又は2個の有機溶媒である方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
〔I−244〕 〔I−208〕に記載の方法であって、工程iiiの反応の有機溶媒が、(C1−C6)アルコール、(C2−C5)アルカンニトリル、(C1−C4)アルキル(C1−C4)カルボキシレート、N,N−ジ((C1−C4)アルキル)(C1−C4)アルカンアミドから選択される1個の有機溶媒である方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
〔I−245〕 〔I−208〕に記載の方法であって、工程iiiの反応の有機溶媒が、(C2−C6)アルコール、(C2−C5)アルカンニトリル、(C1−C4)アルキル(C1−C4)カルボキシレート、N,N−ジ((C1−C4)アルキル)(C1−C4)アルカンアミドから選択される1個以上(好ましくは1又は2個、より好ましくは1個)の有機溶媒である方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
〔I−246〕 〔I−208〕に記載の方法であって、工程iiiの反応の有機溶媒が、(C1−C4)アルコール、(C2−C5)アルカンニトリル、(C1−C4)アルキル(C1−C4)カルボキシレート、N,N−ジ((C1−C4)アルキル)(C1−C4)アルカンアミドから選択される1個以上(好ましくは1又は2個、より好ましくは1個)の有機溶媒である方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
〔I−247〕 〔I−208〕に記載の方法であって、工程iiiの反応の有機溶媒が、(C2−C4)アルコール、(C2−C5)アルカンニトリル、(C1−C4)アルキル(C1−C4)カルボキシレート、N,N−ジ((C1−C4)アルキル)(C1−C4)アルカンアミドから選択される1個以上(好ましくは1又は2個、より好ましくは1個)の有機溶媒である方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
〔I−248〕 〔I−208〕に記載の方法であって、工程iiiの反応の有機溶媒が、(C1−C6)アルコール、(C2−C5)アルカンニトリル、(C1−C4)アルキル(C1−C4)カルボキシレートから選択される方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
〔I−249〕 〔I−208〕に記載の方法であって、工程iiiの反応の有機溶媒が、(C1−C6)アルコール、(C2−C5)アルカンニトリル、(C1−C4)アルキル(C1−C4)カルボキシレートから選択される1個以上の有機溶媒である方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
〔I−250〕 〔I−208〕に記載の方法であって、工程iiiの反応の有機溶媒が、(C1−C6)アルコール、(C2−C5)アルカンニトリル、(C1−C4)アルキル(C1−C4)カルボキシレートから選択される1又は2個の有機溶媒である方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
〔I−251〕 〔I−208〕に記載の方法であって、工程iiiの反応の有機溶媒が、(C1−C6)アルコール、(C2−C5)アルカンニトリル、(C1−C4)アルキル(C1−C4)カルボキシレートから選択される1個の有機溶媒である方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
〔I−252〕 〔I−208〕に記載の方法であって、工程iiiの反応の有機溶媒が、(C2−C6)アルコール、(C2−C5)アルカンニトリル、(C1−C4)アルキル(C1−C4)カルボキシレートから選択される1個以上(好ましくは1又は2個、より好ましくは1個)の有機溶媒である方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
〔I−253〕 〔I−208〕に記載の方法であって、工程iiiの反応の有機溶媒が、(C1−C4)アルコール、(C2−C5)アルカンニトリル、(C1−C4)アルキル(C1−C4)カルボキシレートから選択される1個以上(好ましくは1又は2個、より好ましくは1個)の有機溶媒である方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
〔I−254〕 〔I−208〕に記載の方法であって、工程iiiの反応の有機溶媒が、(C2−C4)アルコール、(C2−C5)アルカンニトリル、(C1−C4)アルキル(C1−C4)カルボキシレートから選択される1個以上(好ましくは1又は2個、より好ましくは1個)の有機溶媒である方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
〔I−255〕 〔I−208〕に記載の方法であって、工程iiiの反応の有機溶媒が、(C2−C5)アルカンニトリル、(C1−C4)アルキル(C1−C4)カルボキシレートから選択される方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
〔I−256〕 〔I−208〕に記載の方法であって、工程iiiの反応の有機溶媒が、(C2−C5)アルカンニトリル、(C1−C4)アルキル(C1−C4)カルボキシレートから選択される1個以上の有機溶媒である方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
〔I−257〕 〔I−208〕に記載の方法であって、工程iiiの反応の有機溶媒が、(C2−C5)アルカンニトリル、(C1−C4)アルキル(C1−C4)カルボキシレートから選択される1又は2個の有機溶媒である方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
〔I−258〕 〔I−208〕に記載の方法であって、工程iiiの反応の有機溶媒が、(C2−C5)アルカンニトリル、(C1−C4)アルキル(C1−C4)カルボキシレートから選択される1個の有機溶媒である方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
〔I−259〕 〔I−208〕に記載の方法であって、工程iiiの反応の有機溶媒が、トルエン、キシレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、ジクロロメタン、1,2−ジクロロエタン、メタノール、エタノール、2−プロパノール、ブタノール、tert−ブタノール、アセトニトリル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル及びその異性体、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、ジ−tert−ブチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、メチル−tert−ブチルエーテル、1,2−ジメトキシエタン、ジグリム、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソプロピルケトン、メチルイソブチルケトン、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン、N,N’−ジメチルイミダゾリジノン、テトラメチル尿素、ジメチルスルホキシド、スルホランから選択される1個以上(好ましくは1又は2個、より好ましくは1個)の有機溶媒である方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
〔I−259〕 〔I−208〕に記載の方法であって、工程iiiの反応の有機溶媒が、メタノール、エタノール、2−プロパノール、ブタノール、tert−ブタノール、アセトニトリル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル及びその異性体、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、ジ−tert−ブチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、メチル−tert−ブチルエーテル、1,2−ジメトキシエタン、ジグリム、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン、スルホランから選択される1個以上(好ましくは1又は2個、より好ましくは1個)の有機溶媒である方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
〔I−260〕 〔I−208〕に記載の方法であって、工程iiiの反応の有機溶媒が、メタノール、エタノール、2−プロパノール、ブタノール、tert−ブタノール、アセトニトリル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル及びその異性体、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、ジ−tert−ブチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、メチル−tert−ブチルエーテル、1,2−ジメトキシエタン、ジグリム、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドンから選択される1個以上(好ましくは1又は2個、より好ましくは1個)の有機溶媒である方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
〔I−261〕 〔I−208〕に記載の方法であって、工程iiiの反応の有機溶媒が、メタノール、エタノール、2−プロパノール、ブタノール、tert−ブタノール、アセトニトリル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル及びその異性体、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドンから選択される1個以上(好ましくは1又は2個、より好ましくは1個)の有機溶媒である方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
〔I−262〕 〔I−208〕に記載の方法であって、工程iiiの反応の有機溶媒が、メタノール、エタノール、2−プロパノール、ブタノール、tert−ブタノール、アセトニトリル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル及びその異性体、N,N−ジメチルホルムアミドから選択される1個以上(好ましくは1又は2個、より好ましくは1個)の有機溶媒である方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
〔I−263〕 〔I−208〕に記載の方法であって、工程iiiの反応の有機溶媒が、メタノール、エタノール、2−プロパノール、ブタノール、tert−ブタノール、アセトニトリル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル及びその異性体から選択される1個以上(好ましくは1又は2個、より好ましくは1個)の有機溶媒である方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
〔I−264〕 〔I−208〕に記載の方法であって、工程iiiの反応の有機溶媒が、メタノール、エタノール、2−プロパノール、ブタノール、tert−ブタノール、アセトニトリル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチルから選択される1個以上(好ましくは1又は2個、より好ましくは1個)の有機溶媒である方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
〔I−265〕 〔I−208〕に記載の方法であって、工程iiiの反応の有機溶媒が、エタノール、2−プロパノール、ブタノール、tert−ブタノール、アセトニトリル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル及びその異性体から選択される1個以上(好ましくは1又は2個、より好ましくは1個)の有機溶媒(好ましくは、エタノール、2−プロパノール、ブタノール、tert−ブタノール、アセトニトリルから選択される1個以上(好ましくは1又は2個、より好ましくは1個)の有機溶媒)である方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
〔I−266〕 〔I−208〕に記載の方法であって、工程iiiの反応の有機溶媒が、ブタノール、アセトニトリル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチルから選択される1個以上(好ましくは1又は2個、より好ましくは1個)の有機溶媒である方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
〔I−267〕 〔I−208〕に記載の方法であって、工程iiiの反応の有機溶媒が、アセトニトリル、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチルから選択される1個以上(好ましくは1又は2個、より好ましくは1個)の有機溶媒である方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
〔I−268〕 〔I−208〕に記載の方法であって、工程iiiの反応の有機溶媒が、アセトニトリル、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチルから選択される1個の有機溶媒である方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
〔I−269〕 〔I−208〕に記載の方法であって、工程iiiの反応の有機溶媒が、アセトニトリル、酢酸ブチルから選択される1又は2個(好ましくは1個)の有機溶媒である方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
〔I−270〕 〔I−208〕に記載の方法であって、工程iiiの反応の有機溶媒が、アセトニトリル又は酢酸ブチルである方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
〔I−271〕 〔I−208〕に記載の方法であって、工程iiiの反応の有機溶媒が、アセトニトリルである方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
〔I−272〕 〔I−208〕に記載の方法であって、工程iiiの反応の有機溶媒が、酢酸ブチルである方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
〔I−273〕 〔I−208〕から〔I−272〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iiiの反応の溶媒の全使用量が、式(4)の化合物1モルに対して、0.3〜3リットルである方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
〔I−274〕 〔I−208〕から〔I−272〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iiiの反応の溶媒の全使用量が、式(4)の化合物1モルに対して、0.5〜3リットルである方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
〔I−275〕 〔I−208〕から〔I−272〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iiiの反応の溶媒の全使用量が、式(4)の化合物1モルに対して、0.5〜2リットルである方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
〔I−276〕 〔I−208〕から〔I−272〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iiiの反応の溶媒の全使用量が、式(4)の化合物1モルに対して、0.7〜1.8リットルである方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
〔I−277〕 〔I−208〕から〔I−276〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iiiの反応で使用される有機溶媒の量が、式(4)の化合物1モルに対して、0.3〜2リットルである方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
〔I−279〕 〔I−208〕から〔I−276〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iiiの反応で使用される有機溶媒の量が、式(4)の化合物1モルに対して、0.4〜1.5リットルである方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
〔I−280〕 〔I−208〕から〔I−276〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iiiの反応で使用される有機溶媒の量が、式(4)の化合物1モルに対して、0.4〜1.3リットルである方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
〔I−281〕 〔I−208〕から〔I−276〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iiiの反応で使用される有機溶媒の量が、式(4)の化合物1モルに対して、0.5〜1.3リットルである方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
〔I−282〕 〔I−208〕から〔I−281〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iiiの反応で使用される水溶媒の量が、式(4)の化合物1モルに対して、0.05〜1リットルである方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
〔I−283〕 〔I−208〕から〔I−281〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iiiの反応で使用される水溶媒の量が、式(4)の化合物1モルに対して、0.1〜1リットルである方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
〔I−284〕 〔I−208〕から〔I−281〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iiiの反応で使用される水溶媒の量が、式(4)の化合物1モルに対して、0.1〜0.8リットルである方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
〔I−285〕 〔I−208〕から〔I−281〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iiiの反応で使用される水溶媒の量が、式(4)の化合物1モルに対して、0.2〜0.5リットルである方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
〔I−286〕 〔I−208〕から〔I−281〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iiiの反応で使用される水溶媒の量が、式(4)の化合物1モルに対して、0.1〜0.3リットルである方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
〔I−287〕 〔I−208〕から〔I−286〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iiiの反応で使用される、有機溶媒と水溶媒の比率が、体積比で90:10〜50:50である方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
〔I−288〕 〔I−208〕から〔I−286〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iiiの反応で使用される、有機溶媒と水溶媒の比率が、体積比で85:15〜55:45である方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
〔I−289〕 〔I−208〕から〔I−286〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iiiの反応で使用される、有機溶媒と水溶媒の比率が、体積比で80:20〜60:40である方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
〔I−290〕 〔I−208〕から〔I−286〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iiiの反応で使用される、有機溶媒と水溶媒の比率が、体積比で75:25〜60:40である方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
〔I−291〕 〔I−208〕から〔I−286〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iiiの反応において、有機溶媒と水溶媒からなる全溶媒中の水溶媒の量が、全溶媒の量に対して、10vol%から50vol%である方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
〔I−292〕 〔I−208〕から〔I−286〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iiiの反応において、有機溶媒と水溶媒からなる全溶媒中の水溶媒の量が、全溶媒の量に対して、15vol%から45vol%である方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
〔I−293〕 〔I−208〕から〔I−286〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iiiの反応において、有機溶媒と水溶媒からなる全溶媒中の水溶媒の量が、全溶媒の量に対して、20vol%から40vol%である方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
〔I−294〕 〔I−208〕から〔I−286〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iiiの反応において、有機溶媒と水溶媒からなる全溶媒中の水溶媒の量が、全溶媒の量に対して、25vol%から40vol%である方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
〔I−295〕 〔I−1〕から〔I−294〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iiiが以下の工程を含む方法:
(工程iii-1) 式(4)の化合物、有機溶媒、水溶媒及び金属触媒を仕込む;
(工程iii-2) そこに過酸化水素を加えることにより、式(4)の化合物を過酸化水素と反応させる、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
(工程iii-1) 式(4)の化合物、有機溶媒、水溶媒及び金属触媒を仕込む;
(工程iii-2) そこに過酸化水素を加えることにより、式(4)の化合物を過酸化水素と反応させる、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
〔I−296〕 〔I−1〕から〔I−294〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iiiが以下の工程を含む方法:
(工程iii-1) 式(4)の化合物、有機溶媒、水溶媒及びタングステン触媒を仕込む;(工程iii-2) そこに過酸化水素を加えることにより、式(4)の化合物を過酸化水素と反応させる、ただし、工程iiiを含まない方法を除き、タングステン触媒を含まない方法を除く。
(工程iii-1) 式(4)の化合物、有機溶媒、水溶媒及びタングステン触媒を仕込む;(工程iii-2) そこに過酸化水素を加えることにより、式(4)の化合物を過酸化水素と反応させる、ただし、工程iiiを含まない方法を除き、タングステン触媒を含まない方法を除く。
〔I−297〕 〔I−1〕から〔I−294〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iiiが以下の工程を含む方法:
(工程iii-1) 式(4)の化合物、有機溶媒、水溶媒及びモリブデン触媒を仕込む;
(工程iii-2) そこに過酸化水素を加えることにより、式(4)の化合物を過酸化水素と反応させる、ただし、工程iiiを含まない方法を除き、モリブデン触媒を含まない方法を除く。
(工程iii-1) 式(4)の化合物、有機溶媒、水溶媒及びモリブデン触媒を仕込む;
(工程iii-2) そこに過酸化水素を加えることにより、式(4)の化合物を過酸化水素と反応させる、ただし、工程iiiを含まない方法を除き、モリブデン触媒を含まない方法を除く。
〔I−298〕 〔I−295〕から〔I−297〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iii-1で仕込む水溶媒の量が、式(4)の化合物1モルに対して、0〜0.5リットルである方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
〔I−299〕 〔I−295〕から〔I−297〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iii-1で仕込む水溶媒の量が、式(4)の化合物1モルに対して、0.05〜0.5リットルである方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
〔I−300〕 〔I−295〕から〔I−297〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iii-1で仕込む水溶媒の量が、式(4)の化合物1モルに対して、0.05〜0.4リットルである方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
〔I−301〕 〔I−295〕から〔I−297〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iii-1で仕込む水溶媒の量が、式(4)の化合物1モルに対して、0.08〜0.2リットルである方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
〔I−302〕 〔I−295〕から〔I−297〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iii-1で仕込む水溶媒の量が、式(4)の化合物1モルに対して、0.1〜0.3リットルである方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
〔I−303〕 〔I−1〕から〔I−302〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iiiの反応が50℃〜150℃で行われる方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
〔I−304〕 〔I−1〕から〔I−302〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iiiの反応が50℃〜90℃で行われる方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
〔I−305〕 〔I−1〕から〔I−302〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iiiの反応が60℃〜120℃で行われる方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
〔I−306〕 〔I−1〕から〔I−302〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iiiの反応が60℃〜100℃で行われる方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
〔I−307〕 〔I−1〕から〔I−302〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iiiの反応が60℃〜90℃で行われる方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
〔I−308〕 〔I−1〕から〔I−302〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iiiの反応が70℃〜90℃で行われる方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
〔I−309〕 〔I−1〕から〔I−302〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iiiの反応が75℃〜90℃で行われる方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
〔I−310〕 〔I−1〕から〔I−302〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iiiの反応が75℃〜80℃で行われる方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
〔I−311〕 〔I−1〕から〔I−310〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iiiの反応が、3時間〜48時間で行われる方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
〔I−312〕 〔I−1〕から〔I−310〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iiiの反応が、4時間〜24時間で行われる方法、ただし、工程iiiを含まない方法を除く。
〔I−313〕 〔I−1〕から〔I−312〕のいずれか1項に記載の方法であって、
R1が(C1−C4)アルキルであり、
R2が(C1−C4)パーフルオロアルキルであり、及び
R3が1〜9個のフッ素原子により置換されていてもよい(C1−C4)アルキルである方法。
R1が(C1−C4)アルキルであり、
R2が(C1−C4)パーフルオロアルキルであり、及び
R3が1〜9個のフッ素原子により置換されていてもよい(C1−C4)アルキルである方法。
〔I−314〕 〔I−1〕から〔I−312〕のいずれか1項に記載の方法であって、
R1がメチルであり、
R2がトリフルオロメチルであり、及び
R3がジフルオロメチルである方法。
R1がメチルであり、
R2がトリフルオロメチルであり、及び
R3がジフルオロメチルである方法。
〔I−315〕 〔I−1〕から〔I−312〕のいずれか1項に記載の方法であって、
R4及びR5が、それぞれ独立して、(C1−C4)アルキルである方法。
R4及びR5が、それぞれ独立して、(C1−C4)アルキルである方法。
〔I−316〕 〔I−1〕から〔I−312〕のいずれか1項に記載の方法であって、
R4及びR5がメチルである方法。
R4及びR5がメチルである方法。
〔I−317〕 〔I−1〕から〔I−312〕のいずれか1項に記載の方法であって、X1が塩素原子又は臭素原子である方法。
〔I−318〕 〔I−1〕から〔I−312〕のいずれか1項に記載の方法であって、
X1が塩素原子である方法。
X1が塩素原子である方法。
〔I−319〕 〔I−1〕から〔I−312〕のいずれか1項に記載の方法であって、
X2が塩素原子、臭素原子、硫酸基、硫酸水素基、リン酸基、リン酸一水素基、メタンスルホニルオキシ、p−トルエンスルホニルオキシ又はそれらの2個以上(好ましくは2個又は3個、より好ましくは2個)の混合物である方法。
X2が塩素原子、臭素原子、硫酸基、硫酸水素基、リン酸基、リン酸一水素基、メタンスルホニルオキシ、p−トルエンスルホニルオキシ又はそれらの2個以上(好ましくは2個又は3個、より好ましくは2個)の混合物である方法。
〔I−320〕 〔I−1〕から〔I−312〕のいずれか1項に記載の方法であって、
X2がハロゲン原子である方法。
X2がハロゲン原子である方法。
〔I−321〕 〔I−1〕から〔I−312〕のいずれか1項に記載の方法であって、
X2が塩素原子、臭素原子又はそれらの混合物である方法。
X2が塩素原子、臭素原子又はそれらの混合物である方法。
〔I−322〕 〔I−1〕から〔I−312〕のいずれか1項に記載の方法であって、
X2が塩素原子である方法。
X2が塩素原子である方法。
〔I−323〕 〔I−1〕から〔I−312〕のいずれか1項に記載の方法であって、
X2が臭素原子である方法。
X2が臭素原子である方法。
〔I−324〕 〔I−1〕から〔I−312〕のいずれか1項に記載の方法により製造される、式(5)の化合物の農薬としての使用。
別の態様では、本発明は以下の通りである。
〔II−1〕 式(4)の化合物の製造方法であって、以下の工程iiを含む方法:
(工程ii) 塩基の存在下で、式(2)の化合物を式(3)の化合物と反応させて、式(4)の化合物を製造する工程;
(工程ii) 塩基の存在下で、式(2)の化合物を式(3)の化合物と反応させて、式(4)の化合物を製造する工程;
(ここで、式(2)中、
R1、R2及びR3は、それぞれ独立して、1以上の置換基により置換されていてもよい(C1−C6)アルキル;1以上の置換基により置換されていてもよい(C3−C6)シクロアルキル;1以上の置換基により置換されていてもよい(C2−C6)アルケニル;1以上の置換基により置換されていてもよい(C2−C6)アルキニル;又は1以上の置換基により置換されていてもよい(C6−C10)アリールであり、
X1は脱離基であり、
式(3)中、
R4及びR5は、それぞれ独立して、1以上の置換基により置換されていてもよい(C1−C6)アルキル;1以上の置換基により置換されていてもよい(C3−C6)シクロアルキル;1以上の置換基により置換されていてもよい(C2−C6)アルケニル;1以上の置換基により置換されていてもよい(C2−C6)アルキニル;1以上の置換基により置換されていてもよい(C1−C6)アルコキシ;又は1以上の置換基により置換されていてもよい(C6−C10)アリールであり;又は
R4及びR5は、それらが結合している炭素原子と一緒になって、4〜12員の炭素環を形成し、ここで形成された環は1以上の置換基により置換されていてもよく、
X2は酸を形成する原子又は原子団であり、
式(4)中、R1、R2、R3、R4及びR5は、上記で定義した通りである。)。
R1、R2及びR3は、それぞれ独立して、1以上の置換基により置換されていてもよい(C1−C6)アルキル;1以上の置換基により置換されていてもよい(C3−C6)シクロアルキル;1以上の置換基により置換されていてもよい(C2−C6)アルケニル;1以上の置換基により置換されていてもよい(C2−C6)アルキニル;又は1以上の置換基により置換されていてもよい(C6−C10)アリールであり、
X1は脱離基であり、
式(3)中、
R4及びR5は、それぞれ独立して、1以上の置換基により置換されていてもよい(C1−C6)アルキル;1以上の置換基により置換されていてもよい(C3−C6)シクロアルキル;1以上の置換基により置換されていてもよい(C2−C6)アルケニル;1以上の置換基により置換されていてもよい(C2−C6)アルキニル;1以上の置換基により置換されていてもよい(C1−C6)アルコキシ;又は1以上の置換基により置換されていてもよい(C6−C10)アリールであり;又は
R4及びR5は、それらが結合している炭素原子と一緒になって、4〜12員の炭素環を形成し、ここで形成された環は1以上の置換基により置換されていてもよく、
X2は酸を形成する原子又は原子団であり、
式(4)中、R1、R2、R3、R4及びR5は、上記で定義した通りである。)。
〔II−2〕 〔II−1〕に記載の方法であって、工程iiの塩基が、アルカリ金属水酸化物類である方法。
〔II−3〕 〔II−1〕に記載の方法であって、工程iiの塩基が、水酸化ナトリウムである方法。
〔II−4〕 〔II−1〕から〔II−3〕のいずれか1項に記載の方法であって、式(2)中、
R1が(C1−C4)アルキルであり、
R2が(C1−C4)パーフルオロアルキルであり、
R3が1〜9個のフッ素原子により置換されていてもよい(C1−C4)アルキルであり、
X1が塩素原子又は臭素原子であり、
式(3)中、
R4及びR5が、それぞれ独立して、(C1−C4)アルキルであり、
X2が塩素原子、臭素原子、硫酸基、硫酸水素基、リン酸基、リン酸一水素基、メタンスルホニルオキシ、p−トルエンスルホニルオキシ又はそれらの2個以上の混合物であり、式(4)中、R1、R2、R3、R4及びR5は、上記で定義した通りである方法。
R1が(C1−C4)アルキルであり、
R2が(C1−C4)パーフルオロアルキルであり、
R3が1〜9個のフッ素原子により置換されていてもよい(C1−C4)アルキルであり、
X1が塩素原子又は臭素原子であり、
式(3)中、
R4及びR5が、それぞれ独立して、(C1−C4)アルキルであり、
X2が塩素原子、臭素原子、硫酸基、硫酸水素基、リン酸基、リン酸一水素基、メタンスルホニルオキシ、p−トルエンスルホニルオキシ又はそれらの2個以上の混合物であり、式(4)中、R1、R2、R3、R4及びR5は、上記で定義した通りである方法。
〔II−5〕 〔II−1〕から〔II−3〕のいずれか1項に記載の方法であって、式(2)中、
R1がメチルであり、
R2がトリフルオロメチルであり、
R3がジフルオロメチルであり、
X1が塩素原子であり、
式(3)中、
R4及びR5がメチルであり、
X2が塩素原子、臭素原子又はそれらの混合物であり、
式(4)中、R1、R2、R3、R4及びR5は、上記で定義した通りである方法。
R1がメチルであり、
R2がトリフルオロメチルであり、
R3がジフルオロメチルであり、
X1が塩素原子であり、
式(3)中、
R4及びR5がメチルであり、
X2が塩素原子、臭素原子又はそれらの混合物であり、
式(4)中、R1、R2、R3、R4及びR5は、上記で定義した通りである方法。
〔II−6〕 〔II−1〕から〔II−5〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iiの前に以下の工程iを更に含む、方法:
(工程i) 式(1)の化合物をハロゲン化剤と反応させて、式(2)の化合物を製造する工程;
(工程i) 式(1)の化合物をハロゲン化剤と反応させて、式(2)の化合物を製造する工程;
(ここで、式(1)中、R1、R2及びR3は、〔II−1〕で定義した通りであり、
式(2)中、R1、R2及びR3は、〔II−1〕で定義した通りであり、X1はハロゲン原子である。)。
式(2)中、R1、R2及びR3は、〔II−1〕で定義した通りであり、X1はハロゲン原子である。)。
〔II−7〕 〔II−6〕に記載の方法であって、工程iのハロゲン化剤が塩素化剤である方法。
〔II−8〕 〔II−6〕に記載の方法であって、工程iのハロゲン化剤が塩化チオニルである方法。
〔II−9〕 〔II−7〕又は〔II−8〕に記載の方法であって、
式(1)中、
R1が(C1−C4)アルキルであり、
R2が(C1−C4)パーフルオロアルキルであり、
R3が1〜9個のフッ素原子により置換されていてもよい(C1−C4)アルキルであり、
式(2)中、
R1、R2及びR3は、上記で定義した通りであり、
X1が塩素原子である、方法。
式(1)中、
R1が(C1−C4)アルキルであり、
R2が(C1−C4)パーフルオロアルキルであり、
R3が1〜9個のフッ素原子により置換されていてもよい(C1−C4)アルキルであり、
式(2)中、
R1、R2及びR3は、上記で定義した通りであり、
X1が塩素原子である、方法。
〔II−10〕 〔II−7〕又は〔II−8〕に記載の方法であって、
式(1)中、
R1がメチルであり、
R2がトリフルオロメチルであり、
R3がジフルオロメチルであり、
式(2)中、
R1、R2及びR3は、上記で定義した通りであり、
X1が塩素原子である、方法。
式(1)中、
R1がメチルであり、
R2がトリフルオロメチルであり、
R3がジフルオロメチルであり、
式(2)中、
R1、R2及びR3は、上記で定義した通りであり、
X1が塩素原子である、方法。
〔II−11〕 〔II−1〕から〔II−10〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iiの後に以下の工程iiiを更に含む、方法:
(工程iii) 金属触媒の存在下で、式(4)の化合物を過酸化水素と反応させて、式(5)の化合物を製造する工程;
(工程iii) 金属触媒の存在下で、式(4)の化合物を過酸化水素と反応させて、式(5)の化合物を製造する工程;
(ここで、式(4)及び式(5)中の、R1、R2、R3、R4及びR5は、〔II−1〕で定義した通りである。)
〔II−12〕 式(5):
の化合物の製造方法であって、以下の工程を含む製造方法;
(工程ii) 〔II−1〕から〔II−10〕のいずれか1項に記載の方法により式(4)の化合物を製造する:
〔II−12〕 式(5):
(工程ii) 〔II−1〕から〔II−10〕のいずれか1項に記載の方法により式(4)の化合物を製造する:
式(4)の化合物を〔II−1〕から〔II−10〕のいずれか1項に記載の方法により製造することを特徴とする、製造方法。
(ここで、式(4)及び式(5)中の、R1、R2、R3、R4及びR5は、〔II−1〕で定義した通りである。)
式(4)の化合物として、〔II−1〕から〔II−10〕のいずれか1項に記載の方法により製造された式(4)の化合物を用いることを特徴とする、製造方法。
(ここで、式(4)及び式(5)中の、R1、R2、R3、R4及びR5は、〔II−1〕で定義した通りである。)
〔II−15〕 〔II−11〕又は〔II−12〕に記載の方法であって、工程iiiの過酸化水素が、10〜70wt%過酸化水素水溶液である方法。
〔II−16〕 〔II−11〕、〔II−12〕又は〔II−15〕に記載の方法であって、工程iiiの金属触媒が、タングステン触媒、モリブデン触媒、ニオブ触媒、タンタル触媒、チタン触媒又はジルコニウム触媒である方法。
〔II−17〕 〔II−11〕、〔II−12〕又は〔II−15〕に記載の方法であって、工程iiiの金属触媒が、タングステン触媒、モリブデン触媒又はニオブ触媒である方法。
〔II−18〕 〔II−11〕、〔II−12〕又は〔II−15〕に記載の方法であって、工程iiiの金属触媒が、タングステン触媒である方法。
〔II−19〕 〔II−11〕、〔II−12〕又は〔II−15〕に記載の方法であって、工程iiiの金属触媒が、タングステン酸、タングステン酸塩、金属タングステン、酸化タングステン、炭化タングステン、塩化タングステン、臭化タングステン、硫化タングステン、リンタングステン酸若しくはその塩、ケイタングステン酸若しくはその塩、又はそれらの混合物である方法。
〔II−20〕 〔II−11〕、〔II−12〕又は〔II−15〕に記載の方法であって、工程iiiの金属触媒が、タングステン酸ナトリウム二水和物、モリブデン酸アンモニウム四水和物、ニオブ酸ナトリウム、タンタル酸リチウム、チタンアセチルアセトネート、塩化酸化ジルコニウムである方法。
〔II−21〕 〔II−11〕、〔II−12〕又は〔II−15〕に記載の方法であって、工程iiiの金属触媒が、タングステン酸ナトリウム二水和物、モリブデン酸アンモニウム四水和物又はニオブ酸ナトリウムである方法。
〔II−22〕 〔II−11〕、〔II−12〕又は〔II−15〕に記載の方法であって、工程iiiの金属触媒が、タングステン酸ナトリウム二水和物又はモリブデン酸アンモニウム四水和物である方法。
〔II−23〕 〔II−11〕、〔II−12〕、〔II−15〕から〔II−22〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iiiの反応が、有機溶媒及び水溶媒の存在下で行われる方法。
〔II−24〕 〔II−23〕に記載の方法であって、工程iiiの反応の有機溶媒が、アルコール類、ニトリル類、カルボン酸エステル類、エーテル類、アミド類から選択される1個以上の有機溶媒である方法。
〔II−25〕 〔II−23〕に記載の方法であって、工程iiiの反応の有機溶媒が、アルコール類、ニトリル類、カルボン酸エステル類、アミド類から選択される1個以上の有機溶媒である方法。
〔II−26〕 〔II−23〕に記載の方法であって、工程iiiの反応の有機溶媒が、アルコール類、ニトリル類、カルボン酸エステル類から選択される1個以上の有機溶媒である方法。
〔II−27〕 〔II−23〕に記載の方法であって、工程iiiの反応の有機溶媒が、ブタノール、アセトニトリル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチルから選択される1個以上の有機溶媒である方法。
〔II−28〕 〔II−23〕に記載の方法であって、工程iiiの反応の有機溶媒が、アセトニトリル又は酢酸ブチルである方法。
〔II−29〕 〔II−11〕から〔II−26〕のいずれか1項に記載の方法であって、
式(4)中、
R1が(C1−C4)アルキルであり、
R2が(C1−C4)パーフルオロアルキルであり、
R3が1〜9個のフッ素原子により置換されていてもよい(C1−C4)アルキルであり、
R4及びR5が、それぞれ独立して、(C1−C4)アルキルであり、
式(5)中、R1、R2、R3、R4及びR5は、上記で定義した通りである方法。
式(4)中、
R1が(C1−C4)アルキルであり、
R2が(C1−C4)パーフルオロアルキルであり、
R3が1〜9個のフッ素原子により置換されていてもよい(C1−C4)アルキルであり、
R4及びR5が、それぞれ独立して、(C1−C4)アルキルであり、
式(5)中、R1、R2、R3、R4及びR5は、上記で定義した通りである方法。
〔II−30〕 〔II−11〕から〔II−26〕のいずれか1項に記載の方法であって、
式(4)中、
R1がメチルであり、
R2がトリフルオロメチルであり、
R3がジフルオロメチルであり、
R4及びR5がメチルであり、
式(5)中、R1、R2、R3、R4及びR5は、上記で定義した通りである方法。
式(4)中、
R1がメチルであり、
R2がトリフルオロメチルであり、
R3がジフルオロメチルであり、
R4及びR5がメチルであり、
式(5)中、R1、R2、R3、R4及びR5は、上記で定義した通りである方法。
〔II−31〕 式(5)の化合物の製造方法であって、以下の工程iiiを含む方法であり、工程iiiの反応が0〜50のアクセプター数を有する有機溶媒及び水溶媒の存在下で行われる方法:
(工程iii) 金属触媒の存在下で、式(4)の化合物を過酸化水素と反応させて、式(5)の化合物を製造する工程;
(工程iii) 金属触媒の存在下で、式(4)の化合物を過酸化水素と反応させて、式(5)の化合物を製造する工程;
(ここで、式(4)及び式(5)中、
R1、R2及びR3は、それぞれ独立して、1以上の置換基により置換されていてもよい(C1−C6)アルキル;1以上の置換基により置換されていてもよい(C3−C6)シクロアルキル;1以上の置換基により置換されていてもよい(C2−C6)アルケニル;1以上の置換基により置換されていてもよい(C2−C6)アルキニル;又は1以上の置換基により置換されていてもよい(C6−C10)アリールであり、
R4及びR5は、それぞれ独立して、1以上の置換基により置換されていてもよい(C1−C6)アルキル;1以上の置換基により置換されていてもよい(C3−C6)シクロアルキル;1以上の置換基により置換されていてもよい(C2−C6)アルケニル;1以上の置換基により置換されていてもよい(C2−C6)アルキニル;1以上の置換基により置換されていてもよい(C1−C6)アルコキシ;又は1以上の置換基により置換されていてもよい(C6−C10)アリールであり;又は
R4及びR5は、それらが結合している炭素原子と一緒になって、4〜12員の炭素環を形成し、ここで形成された環は1以上の置換基により置換されていてもよい。)。
R1、R2及びR3は、それぞれ独立して、1以上の置換基により置換されていてもよい(C1−C6)アルキル;1以上の置換基により置換されていてもよい(C3−C6)シクロアルキル;1以上の置換基により置換されていてもよい(C2−C6)アルケニル;1以上の置換基により置換されていてもよい(C2−C6)アルキニル;又は1以上の置換基により置換されていてもよい(C6−C10)アリールであり、
R4及びR5は、それぞれ独立して、1以上の置換基により置換されていてもよい(C1−C6)アルキル;1以上の置換基により置換されていてもよい(C3−C6)シクロアルキル;1以上の置換基により置換されていてもよい(C2−C6)アルケニル;1以上の置換基により置換されていてもよい(C2−C6)アルキニル;1以上の置換基により置換されていてもよい(C1−C6)アルコキシ;又は1以上の置換基により置換されていてもよい(C6−C10)アリールであり;又は
R4及びR5は、それらが結合している炭素原子と一緒になって、4〜12員の炭素環を形成し、ここで形成された環は1以上の置換基により置換されていてもよい。)。
〔II−32〕 〔II−31〕に記載の方法であって、工程iiiの過酸化水素が、10〜70wt%過酸化水素水溶液である方法。
〔II−33〕 〔II−31〕又は〔II−32〕に記載の方法であって、工程iiiの金属触媒が、タングステン触媒、モリブデン触媒又はニオブ触媒、タンタル触媒、チタン触媒、ジルコニウム触媒である方法。
〔II−34〕 〔II−31〕又は〔II−32〕に記載の方法であって、工程iiiの金属触媒が、タングステン触媒、モリブデン触媒又はニオブ触媒である方法。
〔II−35〕 〔II−31〕又は〔II−32〕に記載の方法であって、工程iiiの金属触媒が、タングステン触媒である方法。
〔II−36〕 〔II−31〕又は〔II−32〕に記載の方法であって、工程iiiの金属触媒が、タングステン酸、タングステン酸塩、金属タングステン、酸化タングステン、炭化タングステン、塩化タングステン、臭化タングステン、硫化タングステン、リンタングステン酸若しくはその塩、ケイタングステン酸若しくはその塩、又はそれらの混合物である方法。
〔II−37〕 〔II−31〕又は〔II−32〕に記載の方法であって、工程iiiの金属触媒が、タングステン酸ナトリウム二水和物、モリブデン酸アンモニウム四水和物、ニオブ酸ナトリウム、タンタル酸リチウム、チタンアセチルアセトネート又は塩化酸化ジルコニウムである方法。
〔II−38〕 〔II−31〕又は〔II−32〕に記載の方法であって、工程iiiの金属触媒が、タングステン酸ナトリウム二水和物、モリブデン酸アンモニウム四水和物又はニオブ酸ナトリウムである方法。
〔II−39〕 〔II−31〕又は〔II−32〕に記載の方法であって、工程iiiの金属触媒が、タングステン酸ナトリウム二水和物又はモリブデン酸アンモニウム四水和物である方法。
〔II−40〕 〔II−31〕又は〔II−32〕に記載の方法であって、工程iiiの金属触媒が、タングステン酸ナトリウム二水和物である方法。
〔II−41〕 〔II−31〕から〔II−40〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iiiの反応の有機溶媒が、アルコール類、ニトリル類、カルボン酸エステル類、エーテル類、アミド類から選択される1個以上の有機溶媒である方法。
〔II−42〕 〔II−31〕から〔II−40〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iiiの反応の有機溶媒が、アルコール類、ニトリル類、カルボン酸エステル類、アミド類から選択される1個以上の有機溶媒である方法。
〔II−43〕 〔II−31〕から〔II−40〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iiiの反応の有機溶媒が、アルコール類、ニトリル類、カルボン酸エステル類から選択される1個以上の有機溶媒である方法。
〔II−44〕 〔II−31〕から〔II−40〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iiiの反応の有機溶媒が、ブタノール、アセトニトリル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチルから選択される1個以上の有機溶媒である方法。
〔II−45〕 〔II−31〕から〔II−40〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iiiの反応の有機溶媒が、アセトニトリル又は酢酸ブチルである方法。
〔II−46〕 〔II−31〕から〔II−45〕のいずれか1項に記載の方法であって、
式(4)中、
R1が(C1−C4)アルキルであり、
R2が(C1−C4)パーフルオロアルキルであり、
R3が1〜9個のフッ素原子により置換されていてもよい(C1−C4)アルキルであり、
R4及びR5が、それぞれ独立して、(C1−C4)アルキルであり、
式(5)中、R1、R2、R3、R4及びR5は、上記で定義した通りである方法。
式(4)中、
R1が(C1−C4)アルキルであり、
R2が(C1−C4)パーフルオロアルキルであり、
R3が1〜9個のフッ素原子により置換されていてもよい(C1−C4)アルキルであり、
R4及びR5が、それぞれ独立して、(C1−C4)アルキルであり、
式(5)中、R1、R2、R3、R4及びR5は、上記で定義した通りである方法。
〔II−47〕 〔II−31〕から〔II−45〕のいずれか1項に記載の方法であって、
式(4)中、
R1がメチルであり、
R2がトリフルオロメチルであり、
R3がジフルオロメチルであり、
R4及びR5がメチルであり、
式(5)中、R1、R2、R3、R4及びR5は、上記で定義した通りである方法。
式(4)中、
R1がメチルであり、
R2がトリフルオロメチルであり、
R3がジフルオロメチルであり、
R4及びR5がメチルであり、
式(5)中、R1、R2、R3、R4及びR5は、上記で定義した通りである方法。
〔II−48〕 〔II−23〕から〔II−30〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iiiの反応の溶媒の全使用量が、式(4)の化合物1モルに対して、0.3〜3リットルである方法。
〔II−49〕 〔II−23〕から〔II−30〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iiiの反応の溶媒の全使用量が、式(4)の化合物1モルに対して、0.5〜2リットルである方法。
〔II−50〕 〔II−23〕から〔II−30〕、〔II−48〕、〔II−49〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iiiの反応で使用される有機溶媒の量が、式(4)の化合物1モルに対して、0.3〜2リットルである方法。
〔II−51〕 〔II−23〕から〔II−30〕、〔II−48〕、〔II−49〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iiiの反応で使用される有機溶媒の量が、式(4)の化合物1モルに対して、0.4〜1.5リットルである方法。
〔II−52〕 〔II−23〕から〔II−30〕、〔II−48〕から〔II−51〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iiiの反応で使用される水溶媒の量が、式(4)の化合物1モルに対して、0.1〜1リットルである方法。
〔II−53〕 〔II−23〕から〔II−30〕、〔II−48〕から〔II−51〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iiiの反応で使用される水溶媒の量が、式(4)の化合物1モルに対して、0.1〜0.3リットルである方法。
〔II−54〕 〔II−23〕から〔II−30〕、〔II−48〕から〔II−53〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iiiの反応で使用される、有機溶媒と水溶媒の比率が、体積比で90:10〜50:50である方法。
〔II−55〕 〔II−23〕から〔II−30〕、〔II−48〕から〔II−53〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iiiの反応で使用される、有機溶媒と水溶媒の比率が、体積比で80:20〜60:40である方法。
〔II−56〕 〔II−23〕から〔II−30〕、〔II−48〕から〔II−55〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iiiが以下の工程を含む方法:
(工程iii-1) 式(4)の化合物、有機溶媒、水溶媒及びタングステン触媒を仕込む;(工程iii-2) そこに過酸化水素を加えることにより、式(4)の化合物を過酸化水素と反応させる。
(工程iii-1) 式(4)の化合物、有機溶媒、水溶媒及びタングステン触媒を仕込む;(工程iii-2) そこに過酸化水素を加えることにより、式(4)の化合物を過酸化水素と反応させる。
〔II−57〕 〔II−56〕に記載の方法であって、工程iii-1で仕込む水溶媒の量が、式(4)の化合物1モルに対して、0.05〜0.4リットルである方法。
〔II−58〕 〔II−56〕に記載の方法であって、工程iii-1で仕込む水溶媒の量が、式(4)の化合物1モルに対して、0.08〜0.2リットルである方法。
〔II−59〕 〔II−31〕から〔II−47〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iiiの反応の溶媒の全使用量が、式(4)の化合物1モルに対して、0.3〜3リットルである方法。
〔II−60〕 〔II−31〕から〔II−47〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iiiの反応の溶媒の全使用量が、式(4)の化合物1モルに対して、0.5〜2リットルである方法。
〔II−61〕 〔II−31〕から〔II−47〕、〔II−59〕、〔II−60〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iiiの反応で使用される有機溶媒の量が、式(4)の化合物1モルに対して、0.3〜2リットルである方法。
〔II−62〕 〔II−31〕から〔II−47〕、〔II−59〕、〔II−60〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iiiの反応で使用される有機溶媒の量が、式(4)の化合物1モルに対して、0.4〜1.5リットルである方法。
〔II−63〕 〔II−31〕から〔II−47〕、〔II−59〕から〔II−62〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iiiの反応で使用される水溶媒の量が、式(4)の化合物1モルに対して、0.1〜1リットルである方法。
〔II−64〕 〔II−31〕から〔II−47〕、〔II−59〕から〔II−62〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iiiの反応で使用される水溶媒の量が、式(4)の化合物1モルに対して、0.1〜0.3リットルである方法。
〔II−65〕 〔II−31〕から〔II−47〕、〔II−59〕から〔II−64〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iiiの反応で使用される、有機溶媒と水溶媒の比率が、体積比で90:10〜50:50である方法。
〔II−66〕 〔II−31〕から〔II−47〕、〔II−59〕から〔II−64〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iiiの反応で使用される、有機溶媒と水溶媒の比率が、体積比で80:20〜60:40である方法。
〔II−67〕 〔II−31〕から〔II−47〕、〔II−59〕から〔II−66〕のいずれか1項に記載の方法であって、工程iiiが以下の工程を含む方法:
(工程iii-1) 式(4)の化合物、有機溶媒、水溶媒及びタングステン触媒を仕込む;(工程iii-2) そこに過酸化水素を加えることにより、式(4)の化合物を過酸化水素と反応させる。
(工程iii-1) 式(4)の化合物、有機溶媒、水溶媒及びタングステン触媒を仕込む;(工程iii-2) そこに過酸化水素を加えることにより、式(4)の化合物を過酸化水素と反応させる。
〔II−68〕 〔II−67〕に記載の方法であって、工程iii-1で仕込む水溶媒の量が、式(4)の化合物1モルに対して、0.05〜0.4リットルである方法。
〔II−69〕 〔II−67〕に記載の方法であって、工程iii-1で仕込む水溶媒の量が、式(4)の化合物1モルに対して、0.08〜0.2リットルである方法。
別の態様では、本発明は以下の通りである。
〔III−1〕ピロキサスルホンの結晶であって、Cu−Kα線を用いた透過法による粉末X線回折測定において、少なくとも17.7−17.8°、18.0−18.1°および19.9−20.0°の範囲の回折角2θにピークを有するスペクトルを示し、前記3つのピークのうち、19.9−20.0°のピーク高さが最大であることを特徴とする、結晶。
〔III−2〕前記粉末X線回折測定において、更に9.9−10.0°、20.6−20.7°および30.1−30.3°の回折角2θにもピークを有するスペクトルを示す、〔III−1〕に記載の結晶。
〔III−3〕前記粉末X線回折測定において、更に4.9−5.0°の回折角2θにもピークを有するスペクトルを示す、〔III−1〕または〔III−2〕に記載の結晶。
〔III−4〕前記粉末X線回折測定において、更に20.3−20.4°の回折角2θにもピークを有するスペクトルを示す、〔III−1〕から〔III−3〕のいずれか一項に記載の結晶。
〔III−4〕前記粉末X線回折測定において、更に20.3−20.4°の回折角2θにもピークを有するスペクトルを示す、〔III−1〕から〔III−3〕のいずれか一項に記載の結晶。
〔III−5〕前記粉末X線回折測定において、更に21.8−21.9°の回折角2θにもピークを有するスペクトルを示す、〔III−1〕から〔III−4〕のいずれか一項に記載の結晶。
〔III−6〕前記粉末X線回折測定において、更に22.3−22.4°の回折角2θにもピークを有するスペクトルを示す、〔III−1〕から〔III−5〕のいずれか一項に記載の結晶。
〔III−7〕前記粉末X線回折測定において、更に25.4−25.5°の回折角2θにもピークを有するスペクトルを示す、〔III−1〕から〔III−6〕のいずれか一項に記載の結晶。
〔III−8〕前記粉末X線回折測定において、更に26.6−26.7°の回折角2θにもピークを有するスペクトルを示す、〔III−1〕から〔III−7〕のいずれか一項に記載の結晶。
〔III−9〕前記粉末X線回折測定において、更に26.9−27.0°の回折角2θにもピークを有するスペクトルを示す、〔III−1〕から〔III−8〕のいずれか一項に記載の結晶。
〔III−10〕前記粉末X線回折測定において、更に27.1−27.2°の回折角2θにもピークを有するスペクトルを示す、〔III−1〕から〔III−9〕のいずれか一項に記載の結晶。
〔III−11〕前記粉末X線回折測定において、更に35.5−35.6°の回折角2θにもピークを有するスペクトルを示す、〔III−1〕から〔III−10〕のいずれか一項に記載の結晶。
〔III−12〕前記粉末X線回折測定において、更に14.3−14.4°、20.8−20.9°、26.2−26.3°、28.3−28.4°、32.4−32.5°、35.3−35.4°、36.1−36.2°、38.0−38.1°および38.6−38.7°の回折角2θにもピークを有するスペクトルを示す、〔III−1〕から〔III−11〕のいずれか一項に記載の結晶。
〔III−13〕前記粉末X線回折測定において、19.9−20.0°のピーク高さと17.7−17.8°のピーク高さの比率が1:0.02−0.95である、〔III−1〕から〔III−12〕のいずれか一項に記載の結晶。
〔III−14〕前記粉末X線回折測定において、19.9−20.0°のピーク高さと17.7−17.8°のピーク高さの比率が1:0.1−0.85である、〔III−13〕に記載の結晶。
〔III−15〕前記粉末X線回折測定において、19.9−20.0°のピーク高さと17.7−17.8°のピーク高さの比率が1:0.3−0.75である、〔III−14〕に記載の結晶。
〔III−16〕前記粉末X線回折測定において、19.9−20.0°のピーク高さと18.0−18.1°のピーク高さの比率が1:0.02−0.95である、〔III−13〕から〔III−15〕のいずれか一項に記載の結晶。
〔III−17〕前記粉末X線回折測定において、19.9−20.0°のピーク高さと18.0−18.1°のピーク高さの比率が1:0.04−0.8である、〔III−16〕に記載の結晶。
〔III−18〕前記粉末X線回折測定において、19.9−20.0°のピーク高さと18.0−18.1°のピーク高さの比率が1:0.07−0.6である、〔III−17〕に記載の結晶。
〔III−19〕ニトリル類、カルボン酸類、カルボン酸エステル類、ケトン類、アミド類、ジハロゲン化脂肪族炭化水素類の群から選ばれる1種の有機溶剤を主成分として含む液体を溶媒とするピロキサスルホンの溶液から、前記有機溶剤を留去し、ピロキサスルホンを析出させることにより得たものである、〔III−1〕から〔III−18〕のいずれか一項に記載の結晶。
〔III−20〕前記有機溶剤がC2−C5アルカンニトリル、C1−C4カルボン酸、C1−C4アルキルC1−C4カルボキシレート、C1−C4アルキルC1−C4アルキルケトン、N,N−ジ(C1−C4アルキル)C1−C4アルカンアミドおよびC1−C4ジハロアルカンの群から選ばれる1種である、〔III−19〕に記載の結晶。
〔III−21〕前記有機溶剤がアセトニトリル、酢酸、酢酸エチル、メチルイソブチルケトン、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミドおよびジクロロメタンの群から選ばれる1種である、〔III−20〕に記載の結晶。
〔III−22〕前記溶媒がC2−C5アルカンニトリル/C1−C4アルコール混合溶媒、含水C2−C5アルカンニトリル、C1−C4カルボン酸、C1−C4アルキルC1−C4カルボキシレート、C1−C4アルキルC1−C4アルキルケトン、N,N−ジ(C1−C4アルキル)C1−C4アルカンアミドおよびC1−C4ジハロアルカン/C1−C4アルコール混合溶媒の群から選ばれる1種である、〔III−19〕に記載の結晶。
〔III−23〕前記溶媒がアセトニトリル/メタノール混合溶媒、含水アセトニトリル、酢酸、酢酸エチル、メチルイソブチルケトン、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミドおよびジクロロメタン/エタノール混合溶媒の群から選ばれる1種である、〔III−22〕に記載の結晶。
〔III−24〕ニトリル類、ケトン類およびカルボン酸エステル類の群から選ばれる1種の有機溶剤を主成分として含む液体を溶媒とするピロキサスルホンの溶液に、エーテル類、カルボン酸エステル類、ケトン類、芳香族炭化水素誘導体類、脂肪族炭化水素類、アルコール類および水の群から選ばれるピロキサスルホンの貧溶媒を添加して、ピロキサスルホンを析出させることにより得たものである、〔III−1〕から〔III−18〕のいずれか一項に記載の結晶。
〔III−25〕前記有機溶剤がC2−C5アルカンニトリル、C1−C4アルキルC1−C4アルキルケトンおよびC1−C4アルキルC1−C4カルボキシレートの群から選ばれる1種である、〔III−24〕に記載の結晶。
〔III−26〕前記有機溶剤がアセトニトリル、アセトンおよび酢酸エチルの群から選ばれる1種である、〔III−25〕に記載の結晶。
〔III−27〕前記ピロキサスルホンの貧溶媒がC1−C4アルコールである、〔III−24〕から〔III−26〕のいずれか一項に記載の結晶。
〔III−28〕前記ピロキサスルホンの貧溶媒がエタノールおよびイソプロパノールの群から選ばれる1種である、〔III−27〕に記載の結晶。
〔III−29〕前記ピロキサスルホンの溶液が前記有機溶剤を主成分として含む液体中、金属触媒の存在下で3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルチオ]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾールを過酸化水素と反応させることによりピロキサスルホンを生成させた反応溶液である、〔III−19〕から〔III−28〕のいずれか一項に記載の結晶。
〔III−30〕外観が短柱状または柱状である、〔III−1〕から〔III−29〕のいずれか一項に記載の結晶。
〔III−31〕〔III−1〕から〔III−30〕のいずれか一項に記載のピロキサスルホンの結晶と、界面活性剤を含む、農薬組成物。
〔III−32〕更に水または油性分散媒を含み、剤型が水性懸濁剤または油性懸濁剤である、〔III−31〕に記載の農薬組成物。
〔III−33〕更に固体担体を含み、剤型が水和剤または顆粒水和剤である、〔III−31〕に記載の農薬組成物。
〔III−34〕〔III−1〕から〔III−30〕のいずれか一項に記載のピロキサスルホンの結晶を用いて製造された、ピロキサスルホンの結晶と界面活性剤を含む、農薬組成物。
〔III−35〕更に水または油性分散媒を含み、剤型が水性懸濁剤または油性懸濁剤である、〔III−34〕に記載の農薬組成物。
〔III−36〕更に固体担体を含み、剤型が水和剤または顆粒水和剤である、〔III−34〕に記載の農薬組成物。
〔III−37〕ニトリル類、カルボン酸類、カルボン酸エステル類、ケトン類、アミド類、ジハロゲン化脂肪族炭化水素類の群から選ばれる1種の有機溶剤を主成分として含む液体を溶媒とするピロキサスルホンの溶液から、前記有機溶剤を留去し、ピロキサスルホンを析出させる、ピロキサスルホンの結晶の製造方法。
〔III−38〕前記有機溶剤がC2−C5アルカンニトリル、C1−C4カルボン酸、C1−C4アルキルC1−C4カルボキシレート、C1−C4アルキルC1−C4アルキルケトン、N,N−ジ(C1−C4アルキル)C1−C4アルカンアミドおよびC1−C4ジハロアルカンの群から選ばれる1種である、〔III−37〕に記載の製造方法。
〔III−39〕前記有機溶剤がアセトニトリル、酢酸、酢酸エチル、メチルイソブチルケトン、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミドおよびジクロロメタンの群から選ばれる1種である、〔III−38〕に記載の製造方法。
〔III−40〕前記溶媒がC2−C5アルカンニトリル/C1−C4アルコール混合溶媒、含水C2−C5アルカンニトリル、C1−C4カルボン酸、C1−C4アルキルC1−C4カルボキシレート、C1−C4アルキルC1−C4アルキルケトン、N,N−ジ(C1−C4アルキル)C1−C4アルカンアミドおよびC1−C4ジハロアルカン/C1−C4アルコール混合溶媒の群から選ばれる1種である、〔III−37〕に記載の製造方法。
〔III−41〕前記溶媒がアセトニトリル/メタノール混合溶媒、含水アセトニトリル、酢酸、酢酸エチル、メチルイソブチルケトン、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミドおよびジクロロメタン/エタノール混合溶媒の群から選ばれる1種である、〔III−40〕に記載の製造方法。
〔III−42〕ニトリル類、ケトン類およびカルボン酸エステル類の群から選ばれる1種の有機溶剤を主成分として含む液体を溶媒とするピロキサスルホンの溶液に、エーテル類、カルボン酸エステル類、ケトン類、芳香族炭化水素誘導体類、脂肪族炭化水素類、アルコール類および水の群から選ばれるピロキサスルホンの貧溶媒を添加して、ピロキサスルホンを析出させる、ピロキサスルホンの結晶の製造方法。
〔III−43〕前記有機溶剤がC2−C5アルカンニトリル、C1−C4アルキルC1−C4アルキルケトンおよびC1−C4アルキルC1−C4カルボキシレートの群から選ばれる1種である、〔III−42〕に記載の製造方法。
〔III−44〕前記有機溶剤がアセトニトリル、アセトンおよび酢酸エチルの群から選ばれる1種である、〔III−43〕に記載の製造方法。
〔III−45〕前記ピロキサスルホンの貧溶媒がC1−C4アルコールである、〔III−42〕から〔III−44〕のいずれか一項に記載の製造方法。
〔III−46〕前記ピロキサスルホンの貧溶媒がエタノールおよびイソプロパノールの群から選ばれる1種である、〔III−45〕に記載の製造方法。
〔III−47〕ニトリル類、カルボン酸類、カルボン酸エステル類、ケトン類、アミド類、ジハロゲン化脂肪族炭化水素類の群から選ばれる1種の有機溶剤を主成分として含む液体中で、金属触媒の存在下、3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルチオ]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾールを過酸化水素と反応させることによりピロキサスルホンを生成させ、得られたピロキサスルホンの反応溶液から、前記有機溶剤を留去し、ピロキサスルホンを析出させる、ピロキサスルホンの結晶の製造方法。
〔III−48〕〔I−1〕に記載の工程(iii)によりピロキサスルホンを製造する工程をさらに含む、〔III−47〕に記載の製造方法。
〔III−49〕前記有機溶剤がC2−C5アルカンニトリル、C1−C4カルボン酸、C1−C4アルキルC1−C4カルボキシレート、C1−C4アルキルC1−C4アルキルケトン、N,N−ジ(C1−C4アルキル)C1−C4アルカンアミドおよびC1−C4ジハロアルカンの群から選ばれる1種である、〔III−47〕または〔III−48〕に記載の製造方法。
〔III−50〕前記有機溶剤がアセトニトリル、酢酸、酢酸エチル、メチルイソブチルケトン、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミドおよびジクロロメタンの群から選ばれる1種である、〔III−49〕に記載の製造方法。
〔III−51〕前記有機溶剤がC2−C5アルカンニトリル、C1−C4アルキルC1−C4カルボキシレートおよびN,N−ジ(C1−C4アルキル)C1−C4アルカンアミドの群から選ばれる1種である、〔III−47〕または〔III−48〕に記載の製造方法。
〔III−52〕前記有機溶剤がアセトニトリル、酢酸エチルおよびN,N−ジメチルホルムアミドの群から選ばれる1種である、〔III−51〕に記載の製造方法。
〔III−53〕前記液体がC2−C5アルカンニトリル/C1−C4アルコール混合溶媒、含水C2−C5アルカンニトリル、C1−C4カルボン酸、C1−C4アルキルC1−C4カルボキシレート、C1−C4アルキルC1−C4アルキルケトン、N,N−ジ(C1−C4アルキル)C1−C4アルカンアミドおよびC1−C4ジハロアルカン/C1−C4アルコール混合溶媒の群から選ばれる1種である、〔III−47〕または〔III−48〕に記載の製造方法。
〔III−54〕前記液体がアセトニトリル/メタノール混合溶媒、含水アセトニトリル、酢酸、酢酸エチル、メチルイソブチルケトン、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミドおよびジクロロメタン/エタノール混合溶媒の群から選ばれる1種である、〔III−53〕に記載の製造方法。
〔III−55〕前記液体がC2−C5アルカンニトリル/C1−C4アルコール混合溶媒、含水C2−C5アルカンニトリル、C1−C4アルキルC1−C4カルボキシレートおよびN,N−ジ(C1−C4アルキル)C1−C4アルカンアミドの群から選ばれる1種である、〔III−47〕または〔III−48〕に記載の製造方法。
〔III−56〕前記液体がアセトニトリル/メタノール混合溶媒、含水アセトニトリル、酢酸エチルおよびN,N−ジメチルホルムアミドの群から選ばれる1種である、〔III−55〕に記載の製造方法。
〔III−57〕ニトリル類、ケトン類およびカルボン酸エステル類の群から選ばれる1種の有機溶剤を主成分として含む液体中で、金属触媒の存在下、3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルチオ]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾールを過酸化水素と反応させることによりピロキサスルホンを生成させ、得られたピロキサスルホンの溶液にエーテル類、カルボン酸エステル類、ケトン類、芳香族炭化水素誘導体類、脂肪族炭化水素類、アルコール類および水の群から選ばれるピロキサスルホンの貧溶媒を添加して、ピロキサスルホンを析出させる、ピロキサスルホンの結晶の製造方法。
〔III−58〕〔I−1〕に記載の工程(iii)によりピロキサスルホンを製造する工程をさらに含む、〔III−57〕に記載の製造方法。
〔III−59〕前記有機溶剤がC2−C5アルカンニトリル、C1−C4アルキルC1−C4アルキルケトンおよびC1−C4アルキルC1−C4カルボキシレートの群から選ばれる1種である、〔III−57〕または〔III−58〕に記載の製造方法。
〔III−60〕前記有機溶剤がアセトニトリル、アセトンおよび酢酸エチルの群から選ばれる1種である、〔III−59〕に記載の製造方法。
〔III−61〕前記有機溶剤がC2−C5アルカンニトリルおよびC1−C4アルキルC1−C4カルボキシレートの群から選ばれる1種である、〔III−57〕または〔III−58〕に記載の製造方法。
〔III−62〕前記有機溶剤がアセトニトリルおよび酢酸エチルの群から選ばれる1種である、〔III−61〕に記載の製造方法。
〔III−63〕前記ピロキサスルホンの貧溶媒がC1−C4アルコールである、〔III−57〕から〔III−62〕のいずれか一項に記載の製造方法。
〔III−64〕前記ピロキサスルホンの貧溶媒がエタノールおよびイソプロパノールの群から選ばれる1種である、〔III−63〕に記載の製造方法。
〔III−65〕〔III−1〕から〔III−30〕のいずれか一項に記載のピロキサスルホンの結晶を含む粉体を微粉砕する工程と、前記微粉砕したピロキサスルホンの結晶と界面活性剤と固体担体を含む原料全体を混合して均一化する工程を含む、剤型が水和剤である農薬組成物の製造方法。
〔III−66〕〔III−1〕から〔III−30〕のいずれか一項に記載のピロキサスルホンの結晶を含む粉体またはスラリーを微粉砕する工程と、前記微粉砕したピロキサスルホンの結晶と界面活性剤と固体担体を含む原料全体を均一化しつつ更に若干量の水を添加して練る混錬工程と、前記工程で得た混錬物を造粒する工程と、前記工程で得た造粒物を乾燥する工程を含む、剤型が顆粒水和剤である農薬組成物の製造方法。
〔III−67〕〔III−1〕から〔III−30〕のいずれか一項に記載のピロキサスルホンの結晶を含む粉体またはスラリーを微粉砕する工程と、前記微粉砕したピロキサスルホンの結晶と界面活性剤と水を含む原料全体を混合して均一化する工程を含む、剤型が水性懸濁剤である農薬組成物の製造方法。
〔III−68〕〔III−1〕から〔III−30〕のいずれか一項に記載のピロキサスルホンの結晶を含む粉体またはスラリーを微粉砕する工程と、前記微粉砕したピロキサスルホンの結晶と界面活性剤と油性分散媒を含む原料全体を混合して均一化する工程を含む、剤型が油性懸濁剤である農薬組成物の製造方法。
〔III−69〕〔III−37〕から〔III−64〕のいずれか一項に記載の製造方法により得たピロキサスルホンの結晶を含む粉体を微粉砕する工程と、前記微粉砕したピロキサスルホンの結晶と界面活性剤と固体担体を含む原料全体を混合して均一化する工程を含む、剤型が水和剤である農薬組成物の製造方法。
〔III−70〕〔III−37〕から〔III−64〕のいずれか一項に記載の製造方法により得たピロキサスルホンの結晶を含む粉体またはスラリーを微粉砕する工程と、前記微粉砕したピロキサスルホンの結晶と界面活性剤と固体担体を含む原料全体を均一化しつつ更に若干量の水を添加して練る混錬工程と、前記工程で得た混錬物を造粒する工程と、前記工程で得た造粒物を乾燥する工程を含む、剤型が顆粒水和剤である農薬組成物の製造方法。
〔III−71〕〔III−37〕から〔III−64〕のいずれか一項に記載の製造方法により得たピロキサスルホンの結晶を含む粉体またはスラリーを微粉砕する工程と、前記微粉砕したピロキサスルホンの結晶と界面活性剤と水を含む原料全体を混合して均一化する工程を含む、剤型が水性懸濁剤である農薬組成物の製造方法。
〔III−72〕〔III−37〕から〔III−64〕のいずれか一項に記載の製造方法により得たピロキサスルホンの結晶を含む粉体またはスラリーを微粉砕する工程と、前記微粉砕したピロキサスルホンの結晶と界面活性剤と油性分散媒を含む原料全体を混合して均一化する工程を含む、剤型が油性懸濁剤である農薬組成物の製造方法。
本明細書に記載された記号及び用語について説明する。
本明細書中、以下の略語及び接頭語が使用されることがあり、それらの意味は以下の通りである。
Me:メチル
Et:エチル
Pr、n−Pr及びPr−n:プロピル(すなわち、ノルマルプロピル)
i−Pr及びPr−i:イソプロピル
Bu、n−Bu及びBu−n:ブチル(すなわち、ノルマルブチル)
s−Bu及びBu−s:sec−ブチル(すなわち、セカンダリーブチル)
i−Bu及びBu−i:イソブチル
t−Bu及びBu−t:tert−ブチル(すなわち、ターシャリーブチル)
Ph:フェニル
n−:ノルマル
s−及びsec−:セカンダリー
i−及びiso−:イソ
t−及びtert−:ターシャリー
c−及びcyc−:シクロ
o−:オルソ
m−:メタ
p−:パラ
Me:メチル
Et:エチル
Pr、n−Pr及びPr−n:プロピル(すなわち、ノルマルプロピル)
i−Pr及びPr−i:イソプロピル
Bu、n−Bu及びBu−n:ブチル(すなわち、ノルマルブチル)
s−Bu及びBu−s:sec−ブチル(すなわち、セカンダリーブチル)
i−Bu及びBu−i:イソブチル
t−Bu及びBu−t:tert−ブチル(すなわち、ターシャリーブチル)
Ph:フェニル
n−:ノルマル
s−及びsec−:セカンダリー
i−及びiso−:イソ
t−及びtert−:ターシャリー
c−及びcyc−:シクロ
o−:オルソ
m−:メタ
p−:パラ
用語「ニトロ」は置換基「−NO2」を意味する。
用語「シアノ」または「ニトリル」は置換基「−CN」を意味する。
用語「ヒドロキシ」は置換基「−OH」を意味する。
用語「アミノ」は置換基「−NH2」を意味する。
用語「シアノ」または「ニトリル」は置換基「−CN」を意味する。
用語「ヒドロキシ」は置換基「−OH」を意味する。
用語「アミノ」は置換基「−NH2」を意味する。
(Ca−Cb)は、炭素原子数がa〜b個であることを意味する。例えば、「(C1−C4)アルキル」の「(C1−C4)」は、アルキルの炭素原子数が1〜4であることを意味し、「(C2−C5)」は、アルキルの炭素原子数が2〜5であることを意味する。炭素原子数を意味する「(Ca−Cb)」は括弧なしで「Ca−Cb」と表記する場合がある。従って、例えば、「C1−C4アルキル」の「C1−C4」は、アルキルの炭素原子数が1〜4であることを意味する。
本明細書中、「アルキル」のような一般的用語は、ブチル及びtert−ブチルのような直鎖及び分岐鎖の両方を含むと解釈する。一方で、例えば、具体的用語「ブチル」は、直鎖の「ノルマルブチル」を意味し、分岐鎖の「tert−ブチル」を意味しない。そして「tert−ブチル」のような分岐鎖異性体は、意図した場合に具体的に言及される。
ハロゲン原子の例は、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子を含む。
(C1−C6)アルキルは、1〜6個の炭素原子を有する直鎖又は分岐鎖のアルキルを意味する。(C1−C6)アルキルの例は、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、sec−ブチル、イソブチル、tert−ブチル、ペンチル、ヘキシル等を含むが、これらに限定されない。
(C1−C4)アルキルは、1〜4個の炭素原子を有する直鎖又は分岐鎖のアルキルを意味する。(C1−C4)アルキルの例は、上記の(C1−C6)アルキルの例のうちの適切な例を含む。
(C3−C6)シクロアルキルは、3〜6個の炭素原子を有するシクロアルキルを意味する。(C3−C6)シクロアルキルの例は、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシルである。
(C2−C6)アルケニルは、2〜6個の炭素原子を有する直鎖又は分岐鎖のアルケニルを意味する。(C2−C6)アルケニルの例は、ビニル、1−プロペニル、イソプロペニル、2−プロペニル、1−ブテニル、1−メチル−1−プロペニル、2−メチル−1−プロペニル、2−ブテニル、3−ブテニル、1,3−ブタジエニル、1−ペンテニル、1−ヘキセニル等を含むが、これらに限定されない。
(C2−C6)アルキニルは、2〜6個の炭素原子を有する直鎖又は分岐鎖のアルキニルを意味する。(C2−C6)アルキニルの例は、エチニル、1−プロピニル、2−プロピニル、1−ブチニル、1−メチル−2−プロピニル、2−ブチニル、3−ブチニル、1−ペンチニル、1−ヘキシニル等を含むが、これらに限定されない。
(C6−C10)アリールの例は、フェニル、1−ナフチル、及び2−ナフチルである。
(C1−C6)ハロアルキルは、同一又は異なる1〜13個のハロゲン原子により置換されている、炭素原子数が1〜6の直鎖又は分岐鎖のアルキルを意味する(ここで、ハロゲン原子は上記の定義と同じ意味を有する。)。(C1−C6)ハロアルキルの例は、フルオロメチル、クロロメチル、ブロモメチル、ジフルオロメチル、ジクロロメチル、トリフルオロメチル、トリクロロメチル、クロロジフルオロメチル、ブロモジフルオロメチル、2−フルオロエチル、1−クロロエチル、2−クロロエチル、2,2,2−トリフルオロエチル、ペンタフルオロエチル、3−フルオロプロピル、3−クロロプロピル、2−クロロ−1−メチルエチル、2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピル、2,2,2−トリフルオロ−1−トリフルオロメチルエチル、ヘプタフルオロプロピル、1,2,2,2−テトラフルオロ−1−トリフルオロメチルエチル、4−フルオロブチル、4−クロロブチル、2,2,3,3,4,4,4−へプタフルオロブチル、ノナフルオロブチル、1,1,2,3,3,3−ヘキサフルオロ−2−トリフルオロメチルプロピル、2,2,2−トリフルオロ−1,1−ジ(トリフルオロメチル)エチル、ウンデカフルオロペンチル、トリデカフルオロヘキシル等を含むが、これらに限定されるものではない。
(C1−C4)パーフルオロアルキルは、全ての水素原子がフッ素原子により置換されている、1〜4個の炭素原子を有する直鎖又は分岐鎖のアルキルを意味する。 (C1−C4)パーフルオロアルキルの例は、トリフルオロメチル(すなわち、−CF3)、ペンタフルオロエチル(すなわち、−CF2CF3)、ヘプタフルオロプロピル(すなわち、−CF2CF2CF3)、1,2,2,2−テトラフルオロ−1−トリフルオロメチルエチル(すなわち、−CF(CF3)2)、ノナフルオロブチル、(すなわち、−CF2CF2CF2CF3)、1,2,2,3,3,3−ヘキサフルオロ−1−トリフルオロメチルプロピル(すなわち、−CF(CF3)CF2CF3)、1,1,2,3,3,3−ヘキサフルオロ−2−トリフルオロメチルプロピル(すなわち、−CF2CF(CF3)2)及び2,2,2−トリフルオロ−1,1−ジ(トリフルオロメチル)エチル(すなわち、−C(CF3)3)である。
(C1−C6)アルコキシは、(C1−C6)アルキル−O−を意味する(ここで、(C1−C6)アルキル部分は上記の定義と同じ意味を有する。)。(C1−C6)アルコキシの例は、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、sec−ブトキシ、イソブトキシ、tert−ブトキシ、ペンチルオキシ、イソペンチルオキシ、ネオペンチルオキシ、ヘキシルオキシ等を含むが、これらに限定されない。
(C1−C6)アルコールは、(C1−C6)アルキル−OHを意味する(ここで、(C1−C6)アルキル部分は上記の定義と同じ意味を有する。)。(C1−C6)アルコールの例は、メタノール、エタノール、プロパノール(すなわち、1−プロパノール)、2−プロパノール、ブタノール(すなわち、1−ブタノール)、sec−ブタノール、イソブタノール、tert−ブタノール、ペンタノール(すなわち、1−ペンタノール)、sec−アミルアルコール、3−ペンタノール、2−メチル−1−ブタノール、イソアミルアルコール、tert−アミルアルコール、ヘキサノール(すなわち、1−ヘキサノール)、シクロヘキサノール等を含むが、これらに限定されない。エチレングリコール、プロピレングリコール、グリセロール等の1〜6個の炭素原子を有するポリオール類(例えば、ジオール類、トリオール類)は、(C1−C6)アルコールの等価体である。
(C1−C4)アルコールは、(C1−C4)アルキル−OHを意味する(ここで、(C1−C4)アルキル部分は上記の定義と同じ意味を有する。)。(C1−C4)アルコールの例は、メタノール、エタノール、プロパノール(すなわち、1−プロパノール)、2−プロパノール、ブタノール、sec−ブタノール、イソブタノール、tert−ブタノール等を含むが、これらに限定されない。エチレングリコール、プロピレングリコール、グリセロール等の1〜4個の炭素原子を有するポリオール類(例えば、ジオール類、トリオール類)は、(C1−C4)アルコールの等価体である。
(C2−C5)アルカンニトリルは、(C1−C4)アルキル−CNを意味する(ここで、(C1−C4)アルキル部分は1〜4個の炭素原子を有する直鎖又は分岐鎖のアルキルを意味する。(C1−C4)アルキルの例は、上記の(C1−C6)アルキルの例のうちの適切な例を含む。)。(C2−C5)アルカンニトリルの例は、アセトニトリル、プロピオニトリル等を含むが、これらに限定されない。本明細書中、(C2−C5)アルカンニトリルは、C2−C5アルカンニトリルとも表記する。C2アルカンニトリルはアセトニトリルである。言い換えれば、アセトニトリルはIUPAC命名法に基づきエタンニトリルであり、2個の炭素原子を有するC2アルカンニトリルである。同様に、プロピオニトリルはC3アルカンニトリルである。
(C1−C4)アルキル(C1−C4)カルボキシレートの例は、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル及びその異性体、プロピオン酸エチル、プロピオン酸プロピル、プロピオン酸イソプロピル、プロピオン酸ブチル及びその異性体等、好ましくは酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル及びその異性体等を含むが、これらに限定されない。本明細書中、(C1−C4)アルキル(C1−C4)カルボキシレートは、C1−C4アルキルC1−C4カルボキシレートとも表記する。
N,N−ジ((C1−C4)アルキル)(C1−C4)アルカンアミドの例は、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジエチルホルムアミド、N,N−ジエチルアセトアミド等、好ましくはN,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミドを含むが、これらに限定されない。本明細書中、N,N−ジ((C1−C4)アルキル)(C1−C4)アルカンアミドは、N,N−ジ(C1−C4アルキル)C1−C4アルカンアミドとも表記する。N,N−ジ(C1アルキル)C1アルカンアミドはN,N−ジメチルホルムアミドである。N,N−ジ(C1アルキル)C2アルカンアミドはN,N−ジメチルアセトアミドである。
(C1−C4)カルボン酸は、(C0−C3)アルキル−COOH、すなわち、(C0−C3)アルキル−C(=O)−OHを意味する(ここで、(C1−C4)アルキル部分は上記の定義と同じ意味を有する。)。(C1−C4)カルボン酸の例は、酢酸、プロピオン酸等、好ましくは酢酸を含むが、これらに限定されない。本明細書中、(C1−C4)カルボン酸は、C1−C4カルボン酸とも表記する。
(C1−C4)アルキル(C1−C4)アルキルケトンの例は、アセトン、メチルエチルケトン(MEK)、メチルイソプロピルケトン(MIPK)、メチルイソブチルケトン(MIBK)等を含むが、これらに限定されない。本明細書中、(C1−C4)アルキル(C1−C4)アルキルケトンは、C1−C4アルキルC1−C4アルキルケトンとも表記する。
(C1−C4)ジハロアルカンの例は、ジクロロメタン、1,2−ジクロロエタン等を含むが、これらに限定されない。本明細書中、(C1−C4)ジハロアルカンは、C1−C4ジハロアルカンとも表記する。
環式の炭化水素基は、環を構成する原子が全て炭素原子である、単環式又は多環式の環式基を意味する。一つの態様では、環式の炭化水素基の例は、芳香族又は非芳香族の、単環式、二環式又は三環式の3〜14員(好ましくは5〜14員、より好ましくは5〜10員)の環式の炭化水素基を含むが、これらに限定されない。別の態様では、環式の炭化水素基の例は、芳香族又は非芳香族の、単環式又は二環式(好ましくは単環式)の4〜8員(好ましくは5〜6員)の環式の炭化水素基を含むが、これらに限定されない。環式の炭化水素基の例は、シクロアルキル、アリール等を含むが、これらに限定されない。シクロアルキルの例は、上記の(C3−C6)シクロアルキルの例を含む。アリールは、上記で定義した通りの環式の炭化水素基のうち、芳香族の環式基である。アリールの例は、上記の(C6−C10)アリールの例を含む。上記で定義又は例示した通りの環式の炭化水素基は、可能であれば、非縮合環式(例えば、単環式又はスピロ環式)及び縮合環式の環式基を包含してもよい。上記で定義又は例示した通りの環式の炭化水素基は、可能であれば、不飽和、部分飽和又は飽和のいずれでもよい。上記で定義又は例示した通りの環式の炭化水素基は炭素環基とも言う。炭素環は、上記で定義又は例示した通りの環式の炭化水素基に相当する環である。炭素環の例は、シクロプロパン、シクロブタン、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロペンテン、シクロヘキセン等を含むが、これらに限定されない。
本明細書中、用語「1以上の置換基により置換されていてもよい」における「置換基」については、それらが化学的に許容され、本発明の効果を示す限りは、特に制限はない。
本明細書中、「1以上の置換基により置換されていてもよい」との用語における「1以上の置換基」の例は、置換基群(a)から独立して選択される1以上の置換基(好ましくは1〜3個の置換基)を含むが、これらに限定されない。
置換基群(a)は、ハロゲン原子、ニトロ、シアノ、ヒドロキシ、アミノ、(C1−C6)アルキル、(C1−C6)ハロアルキル、(C3−C6)シクロアルキル、(C2−C6)アルケニル、(C2−C6)アルキニル、(C1−C6)アルコキシ、フェニル及びフェノキシからなる群である。
加えて、置換基群(a)から独立して選択される1以上の置換基(好ましくは1〜3個の置換基)は、それぞれ独立して、置換基群(b)から独立して選択される1以上の置換基(好ましくは1〜3個の置換基)により置換されていてもよい。ここで、置換基群(b)は置換基群(a)と同じである。
「1以上の置換基により置換されていてもよい(C1−C6)アルキル」の例は、(C1−C6)ハロアルキル、(C1−C4)パーフルオロアルキル、1〜9個のフッ素原子により置換されていてもよい(C1−C4)アルキルを含むが、これらに限定されない。
1〜9個のフッ素原子により置換されていてもよい(C1−C4)アルキルの例は、フルオロメチル(すなわち、−CH2F)、ジフルオロメチル(すなわち、−CHF2)、トリフルオロメチル(すなわち、−CF3)、2−フルオロエチル、2,2,2−トリフルオロエチル、ペンタフルオロエチル、3−フルオロプロピル、2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピル、2,2,2−トリフルオロ−1−トリフルオロメチルエチル、ヘプタフルオロプロピル、1,2,2,2−テトラフルオロ−1−トリフルオロメチルエチル、4−フルオロブチル、2,2,3,3,4,4,4−へプタフルオロブチル、ノナフルオロブチル、1,1,2,3,3,3−ヘキサフルオロ−2−トリフルオロメチルプロピル、2,2,2−トリフルオロ−1,1−ジ(トリフルオロメチル)エチルを含むが、これらに限定されない。
本明細書中、置換基(例えば、R1、R2、R3、R4、R5、X1及びX2等)に言及するときの用語「本明細書中に記載の通り」及び類似の用語は、本明細書中の置換基の全ての定義並びにもしあれば全ての例、好ましい例、より好ましい例、更に好ましい例及び特に好ましい例等を参照することにより取り込む。
(アクセプター数)
本明細書中、アクセプター数(acceptor number)に関しては、例えば、以下の文献を参照することができる。
Christian Reichardt, "Solvents and Solvent Effects in Organic Chemistry", 3rd, updated and enlarged edition, WILEY-VCH, 2003, p. 25-26
本明細書中、アクセプター数(acceptor number)に関しては、例えば、以下の文献を参照することができる。
Christian Reichardt, "Solvents and Solvent Effects in Organic Chemistry", 3rd, updated and enlarged edition, WILEY-VCH, 2003, p. 25-26
31P−NMR化学シフト値を利用したアクセプター数の定義は、上記文献に記載されており、これは参照により本発明に組み込まれる。
指定されたアクセプター数を有する溶媒の例は、上記文献に記載されており、これらは参照により本発明に組み込まれるが、これらに限定されるものではない。代表的な溶媒のアクセプター数は以下の通りである:
ヘキサン:0.0、酢酸エチル:9.3、アセトニトリル:18.9、ブタノール:32.2、エタノール:37.1、酢酸:52.9、水:54.8。
ヘキサン:0.0、酢酸エチル:9.3、アセトニトリル:18.9、ブタノール:32.2、エタノール:37.1、酢酸:52.9、水:54.8。
本明細書中、非限定的な用語「含む(comprise(s)/comprising)」は、限定的な語句「からなる(consist(s) of/consisting of)」にそれぞれ任意に置き換えることができる。
そうでないと明示しない限り、本明細書において用いられる全ての技術的および科学的用語は、本開示が属する当業者に通常理解されるものと同じ意味を有する。
別段に示されない限り、本明細書で使用される量、大きさ、濃度、反応条件などの特徴を表す数字は、用語「約」によって修飾されると理解される。いくつかの態様では、開示された数値は、報告された有効数字の桁数と、通常の丸め手法を適用して解釈される。いくつかの態様では、開示された数値は、それぞれの試験測定方法に見られる標準偏差から必然的に生じる誤差を含むと解釈される。
(工程i)
工程(i)について説明する。
工程(i)について説明する。
工程iは、式(2)中のX1がハロゲン原子の場合の式(2)の化合物の製造方法の一つである。
工程iは、式(1)の化合物をハロゲン化剤と反応させて、式(2)の化合物を製造する工程である、ただし、式(2)中のX1はハロゲン原子である;
工程iの反応はヒドロキシ基のハロゲン化反応である。
(工程iの原料:式(1)の化合物)
工程iの原料として、式(1)の化合物を用いる。
式(1)の化合物は公知の化合物であるか、又は公知の化合物から公知の方法に準じて製造することができる。例えば、式(1)の化合物の調製は、下記に示すように、WO2007/094225A1(特許文献5)、実施例1に記載されているか、又は類似の方法で行うことができる。
工程iの原料として、式(1)の化合物を用いる。
式(1)の化合物は公知の化合物であるか、又は公知の化合物から公知の方法に準じて製造することができる。例えば、式(1)の化合物の調製は、下記に示すように、WO2007/094225A1(特許文献5)、実施例1に記載されているか、又は類似の方法で行うことができる。
WO2007/094225A1(特許文献5)を下記に要約する。例えば、WO2007/094225A1(特許文献5)は、下図のように式(1−a)の化合物がアセト酢酸エステル誘導体から製造されたことを開示する。
式(1)中、R1、R2及びR3は、それぞれ独立して、1以上の置換基により置換されていてもよい(C1−C6)アルキル、1以上の置換基により置換されていてもよい(C3−C6)シクロアルキル、1以上の置換基により置換されていてもよい(C2−C6)アルケニル、1以上の置換基により置換されていてもよい(C2−C6)アルキニル又は1以上の置換基により置換されていてもよい(C6−C10)アリールである。
収率、入手性、価格、生成物の有用性等の観点から、式(1)中のR1の好ましい例は、1以上の置換基により置換されていてもよい(C1−C6)アルキル、より好ましくは(C1−C6)アルキル、更に好ましくは(C1−C4)アルキル、特に好ましくはメチルを含む。
上記と同様の観点から、式(1)中のR2の好ましい例は、1以上の置換基により置換されていてもよい(C1−C6)アルキル、より好ましくは(C1−C6)ハロアルキル、更に好ましくは(C1−C4)パーフルオロアルキル、特に好ましくはトリフルオロメチルを含む。
上記と同様の観点から、式(1)中のR3の好ましい例は、1以上の置換基により置換されていてもよい(C1−C6)アルキル、より好ましくは(C1−C6)ハロアルキル、更に好ましくは1〜9個のフッ素原子により置換されていてもよい(C1−C4)アルキル、特に好ましくはジフルオロメチルを含む。
式(1)の化合物の特に好ましい具体的な例は下記の通りである:
(工程iの生成物:式(2)の化合物)
工程iの生成物は、原料として用いた式(1)の化合物に対応する式(2)の化合物である。
式(2)中、R1、R2及びR3は、式(1)で定義した通りである。式(2)中、R1、R2及びR3の例、好ましい例、より好ましい例及び特に好ましい例は、それぞれ上記した式(1)中のそれらと同じである。
工程iにおいては、式(2)中、X1はハロゲン原子である。収率、入手性、価格等の観点から、式(2)中のX1の更に好ましい例は、塩素原子及び臭素原子、特に好ましくは塩素原子を含む。
式(2)の化合物の具体的な例は、以下を含むが、これらに限定されない;
式(2)の化合物の特に好ましい具体的な例は下記の通りである:
(工程iのハロゲン化剤)
反応が進行する限りは、ハロゲン化剤はいずれのハロゲン化剤でもよい。ハロゲン化剤の例は、塩素化剤及び臭素化剤等、好ましくは塩素化剤を含むが、これらに限定されない。
反応が進行する限りは、ハロゲン化剤はいずれのハロゲン化剤でもよい。ハロゲン化剤の例は、塩素化剤及び臭素化剤等、好ましくは塩素化剤を含むが、これらに限定されない。
ハロゲン化剤の具体的な例は、以下を含むが、これらに限定されない:塩素(Cl2)、塩化水素(例えば、塩化水素ガス、30%〜35%塩酸)、塩化チオニル、塩化スルフリル、三塩化リン、五塩化リン、オキシ塩化リン、塩化オキサリル、臭素(Br2)、臭化水素(例えば、48%臭化水素酸)、臭化チオニル、三臭化リン、オキシ臭化リン等、ホスゲン、塩化ベンゾイル等。収率、副生成物抑制、経済効率等の観点から、ハロゲン化剤の好ましい具体的な例は、塩素、塩化水素、塩化チオニル、塩化スルフリル、三塩化リン、五塩化リン、オキシ塩化リン、臭素、臭化水素、三臭化リン、更に好ましくは塩素、塩化チオニル、塩化スルフリル、三塩化リン、五塩化リン、オキシ塩化リン、更により好ましくは塩化チオニル、塩化スルフリル、更に好ましくは塩化チオニルを含む。
工程iのハロゲン化剤は、単独で又は任意の割合の2種以上の組み合わせで使用してもよい。工程iのハロゲン化剤の形態は、反応が進行する限りは、いずれの形態でもよい。
工程iのハロゲン化剤の形態は、当業者が適切に選択することができる。工程iのハロゲン化剤の使用量は、反応が進行する限りは、いずれの量でもよい。工程iのハロゲン化剤の使用量は、当業者が適宜調整することができる。しかしながら、収率、副生成物抑制、経済効率等の観点から、工程iのハロゲン化剤の使用量は、例えば、式(1)の化合物(原料)1モルに対して、1.0〜3.0モル、好ましくは1.0〜2.0モル、より好ましくは1.0〜1.5モル、更に好ましくは1.0〜1.1モルである。
工程iのハロゲン化剤の形態は、当業者が適切に選択することができる。工程iのハロゲン化剤の使用量は、反応が進行する限りは、いずれの量でもよい。工程iのハロゲン化剤の使用量は、当業者が適宜調整することができる。しかしながら、収率、副生成物抑制、経済効率等の観点から、工程iのハロゲン化剤の使用量は、例えば、式(1)の化合物(原料)1モルに対して、1.0〜3.0モル、好ましくは1.0〜2.0モル、より好ましくは1.0〜1.5モル、更に好ましくは1.0〜1.1モルである。
(工程iの触媒:アミド類等)
工程iの反応は、触媒の存在下または非存在下で行うことができる。工程iの反応において触媒を用いるか否かは、当業者が適切に決定することができる。しかしながら、触媒の非存在下で反応が十分に進行することは、本明細書中の実施例から明らかである。工程iで触媒を用いるときは、反応が進行する限りは、いずれの触媒を用いてもよい。工程iの触媒の例は、以下を含むが、これらに限定されない:アミド類(例えば、N,N−ジメチルホルムアミド(DMF)、N,N−ジメチルアセトアミド(DMAC)、N−メチルピロリドン(NMP)等)、ウレア類(例えば、N,N’−ジメチルイミダゾリジノン(DMI)、テトラメチル尿素等)等。収率、副生成物抑制、経済効率等の観点から、工程iの触媒の好ましい例は、N,N−ジメチルホルムアミド(DMF)、N−メチルピロリドン(NMP)、より好ましくはN,N−ジメチルホルムアミド(DMF)を含む。
工程iの反応は、触媒の存在下または非存在下で行うことができる。工程iの反応において触媒を用いるか否かは、当業者が適切に決定することができる。しかしながら、触媒の非存在下で反応が十分に進行することは、本明細書中の実施例から明らかである。工程iで触媒を用いるときは、反応が進行する限りは、いずれの触媒を用いてもよい。工程iの触媒の例は、以下を含むが、これらに限定されない:アミド類(例えば、N,N−ジメチルホルムアミド(DMF)、N,N−ジメチルアセトアミド(DMAC)、N−メチルピロリドン(NMP)等)、ウレア類(例えば、N,N’−ジメチルイミダゾリジノン(DMI)、テトラメチル尿素等)等。収率、副生成物抑制、経済効率等の観点から、工程iの触媒の好ましい例は、N,N−ジメチルホルムアミド(DMF)、N−メチルピロリドン(NMP)、より好ましくはN,N−ジメチルホルムアミド(DMF)を含む。
工程iの触媒は、単独で又は任意の割合の2種以上の組み合わせで使用してもよい。工程iの触媒の形態は、反応が進行する限りは、いずれの形態でもよい。工程iの触媒の形態は、当業者が適切に選択することができる。工程iの触媒の使用量は、反応が進行する限りは、いずれの量でもよい。工程iでは触媒を用いなくてもよい。工程iで触媒を用いるときは、工程iの触媒の使用量は、当業者が適宜調整することができる。しかしながら、収率、副生成物抑制、経済効率等の観点から、一つの態様では、工程iの触媒の使用量は、例えば、式(1)の化合物(原料)1モルに対して、0(ゼロ)〜0.1モル、好ましくは0(ゼロ)〜0.05モルである。別の態様では、工程iの触媒の使用量は、例えば、式(1)の化合物(原料)1モルに対して、0.001〜0.1モル、好ましくは0.01〜0.05モルある。
(工程iの反応溶媒)
工程iの反応は、溶媒の非存在下又は存在下で行うことができる。工程iの反応で溶媒を用いるか否かは、当業者が適切に決定することができる。工程iの反応で溶媒を使用する場合は、反応が進行する限りは、溶媒はいずれの溶媒でもよい。工程iの反応の溶媒は当業者が適切に選択することができる。工程iの反応の溶媒の例は、以下を含むが、これらに限定されない:芳香族炭化水素誘導体類(例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、トリクロロベンゼン、ニトロベンゼン等)、ハロゲン化脂肪族炭化水素類(例えば、ジクロロメタン、1,2−ジクロロエタン(EDC)等)、脂肪族炭化水素類(例えば、ヘキサン、シクロヘキサン、エチルシクロヘキサン等)、ニトリル類(例えば、アセトニトリル、プロピオニトリル等)、エーテル類(例えば、テトラヒドロフラン(THF)、1,4−ジオキサン、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、ジ−tert−ブチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル(CPME)、メチル−tert−ブチルエーテル、1,2−ジメトキシエタン(DME)、ジグリム(diglyme)等)、及び任意の割合のそれらの任意の組み合わせ。芳香族炭化水素誘導体類の中では、ハロゲン化芳香族炭化水素類(例えば、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、トリクロロベンゼン等)が好ましい。
工程iの反応は、溶媒の非存在下又は存在下で行うことができる。工程iの反応で溶媒を用いるか否かは、当業者が適切に決定することができる。工程iの反応で溶媒を使用する場合は、反応が進行する限りは、溶媒はいずれの溶媒でもよい。工程iの反応の溶媒は当業者が適切に選択することができる。工程iの反応の溶媒の例は、以下を含むが、これらに限定されない:芳香族炭化水素誘導体類(例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、トリクロロベンゼン、ニトロベンゼン等)、ハロゲン化脂肪族炭化水素類(例えば、ジクロロメタン、1,2−ジクロロエタン(EDC)等)、脂肪族炭化水素類(例えば、ヘキサン、シクロヘキサン、エチルシクロヘキサン等)、ニトリル類(例えば、アセトニトリル、プロピオニトリル等)、エーテル類(例えば、テトラヒドロフラン(THF)、1,4−ジオキサン、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、ジ−tert−ブチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル(CPME)、メチル−tert−ブチルエーテル、1,2−ジメトキシエタン(DME)、ジグリム(diglyme)等)、及び任意の割合のそれらの任意の組み合わせ。芳香族炭化水素誘導体類の中では、ハロゲン化芳香族炭化水素類(例えば、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、トリクロロベンゼン等)が好ましい。
収率、副生成物抑制、経済効率等の観点から、好ましくは、工程iの反応は、溶媒の非存在下又は以下から選択される溶媒の存在下で行われる:芳香族炭化水素誘導体類、ハロゲン化脂肪族炭化水素類、ニトリル類及び任意の割合のそれらの任意の組み合わせ。より好ましくは、工程iの反応は、溶媒の非存在下又は以下から選択される溶媒の存在下で行われる:クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、トリクロロベンゼン、ジクロロメタン、1,2−ジクロロエタン、アセトニトリル及び任意の割合のそれらの任意の組み合わせ。更に好ましくは、工程iの反応は、溶媒の非存在下又は以下から選択される溶媒の存在下で行われる:ジクロロメタン及びアセトニトリル。更に好ましくは、工程iの反応は、溶媒の非存在下又は溶媒としてのアセトニトリルの存在下で行われる。特に好ましくは、工程iの反応は、溶媒としてのアセトニトリルの存在下で行われる。
工程iの反応の溶媒の使用量は、反応系の撹拌が十分にできる限りは、特に制限されない。しかしながら、収率、副生成物抑制、経済効率等の観点から、一つの態様では、工程iの反応の溶媒の使用量は、例えば、式(1)の化合物(原料)1モルに対して、0(ゼロ)〜3L(リットル)、好ましくは0(ゼロ)〜2L、より好ましくは0(ゼロ)〜1.5L、更に好ましくは0(ゼロ)〜1L、更に好ましくは0(ゼロ)〜0.8Lである。更に別の態様では、反応の溶媒の使用量は、例えば、式(1)の化合物(原料)1モルに対して、0.3〜3L(リットル)、好ましくは0.4〜2L、より好ましくは0.5〜1.5L、更に好ましくは0.6〜1.2Lである。2種以上の溶媒の組み合わせを用いるときは、2種以上の溶媒の割合は、反応が進行する限りは、いずれの割合でもよい。
(工程iの反応温度)
工程iの反応温度は、特に制限されない。しかしながら、収率、副生成物抑制、経済効率等の観点から、工程iの反応温度は、例えば、−10℃(マイナス10℃)〜100℃、好ましくは−5℃(マイナス5℃)〜80℃、より好ましくは0℃(ゼロ℃)〜50℃、更に好ましくは0℃(ゼロ℃)〜40℃、更に好ましくは0℃(ゼロ℃)〜30℃である。
工程iの反応温度は、特に制限されない。しかしながら、収率、副生成物抑制、経済効率等の観点から、工程iの反応温度は、例えば、−10℃(マイナス10℃)〜100℃、好ましくは−5℃(マイナス5℃)〜80℃、より好ましくは0℃(ゼロ℃)〜50℃、更に好ましくは0℃(ゼロ℃)〜40℃、更に好ましくは0℃(ゼロ℃)〜30℃である。
(工程iの反応時間)
工程iの反応時間は、特に制限されない。しかしながら、収率、副生成物抑制、経済効率等の観点から、工程iの反応時間は、例えば、0.5時間〜48時間、好ましくは1時間〜24時間、より好ましくは1時間〜12時間、更に好ましくは2時間〜12時間である。しかしながら、反応時間は、当業者が適切に調整することができる。
工程iの反応時間は、特に制限されない。しかしながら、収率、副生成物抑制、経済効率等の観点から、工程iの反応時間は、例えば、0.5時間〜48時間、好ましくは1時間〜24時間、より好ましくは1時間〜12時間、更に好ましくは2時間〜12時間である。しかしながら、反応時間は、当業者が適切に調整することができる。
(工程iの後処理;単離及び/又は精製)
工程iの生成物である式(2)の化合物、とりわけ化合物(2−a)は、工程iiの原料として使用することができる。工程iで得られる一般式(2)の化合物は、単離及び/又は精製して次工程に用いてもよく、または単離することなく次工程に用いてもよい。後処理(単離及び/又は精製)を行うか否かは、目的と状況に応じて、当業者が適切に決定できる。
工程iの生成物である式(2)の化合物、とりわけ化合物(2−a)は、工程iiの原料として使用することができる。工程iで得られる一般式(2)の化合物は、単離及び/又は精製して次工程に用いてもよく、または単離することなく次工程に用いてもよい。後処理(単離及び/又は精製)を行うか否かは、目的と状況に応じて、当業者が適切に決定できる。
工程iにおいては、反応終了後、不活性ガス(例えば、窒素)によるパージ、バブリング及び/又は減圧により、ガス、揮発性成分、低沸点成分を除去してもよい。例えば、酸性成分を除去してもよい。
工程iの目的物である式(2)の化合物、とりわけ化合物(2−a)は、可能であれば、当業者に知られた方法(例えば、可能であれば、蒸留、抽出、洗浄、再結晶を含む結晶化、結晶洗浄及び/又はその他の操作)及びそれらの改良された方法、及びそれらの任意の組み合わせにより、反応混合物から単離し精製することができる。
可能であれば、有機溶媒に溶解又は懸濁させた生成物を水、温水、アルカリ性水溶液(例えば、5%〜飽和炭酸水素ナトリウム水溶液)又は酸性水溶液(例えば、5〜35%塩酸又は5〜35%硫酸)により洗浄してもよい。これらの洗浄操作は組み合わせてもよい。
再結晶を含む生成物の結晶化及び結晶の洗浄を行うときは、後述の工程iiiにおける説明を参照することができる。
上記のいずれの操作においても、目的と状況に応じて、温度は当業者が適切に調整することができる。
後処理のいずれの操作及び次工程に生成物を使用する操作において、溶媒の量は、それらの添加及び除去により、当業者が適切に調整することができる。更には、場合により、溶媒の回収とリサイクルを行ってもよい。例えば、反応に用いた溶媒の回収とリサイクルを行ってもよく、後処理(単離及び/又は精製)において使用した溶媒の回収とリサイクルを行ってもよい。
上記の操作の全て又は一部を適切に組み合わせることにより、後処理(単離及び/又は精製)を行うことができる。場合により、目的に合わせて、上記の操作を繰り返してもよい。加えて、上記のいずれの操作の組み合わせ及びそれらの順番を当業者が適切に選択することができる。
(工程ii)
工程iiについて説明する。
工程iiについて説明する。
工程iiは、塩基の存在下で、式(2)の化合物を式(3)の化合物と反応させて、式(4)の化合物を製造する工程である;
(ここで、R1、R2、R3、R4、R5、X1及びX2は、本明細書中に記載の通りである。)
工程iiの反応は縮合反応である。
(工程iiの原料:式(2)の化合物)
工程iiの原料として、式(2)の化合物を用いる。式(2)の化合物は公知の化合物であるか、又は公知の化合物から公知の方法に準じて製造することができる。例えば、式(2)の化合物の調製は、WO2004/013106A1(特許文献2)、実施例13及び14に記載されており、これらを以下に示す。
工程iiの原料として、式(2)の化合物を用いる。式(2)の化合物は公知の化合物であるか、又は公知の化合物から公知の方法に準じて製造することができる。例えば、式(2)の化合物の調製は、WO2004/013106A1(特許文献2)、実施例13及び14に記載されており、これらを以下に示す。
しかしながら、式(2)の化合物が本発明の方法より製造されることが好ましい。すなわち、式(2)中のX1がハロゲン原子のとき、式(2)の化合物は、好ましくは本明細書に記載の工程iを含む方法により製造される。
式(2)中、R1、R2及びR3は、上記で定義した通りである。式(2)中、R1、R2及びR3の例、好ましい例、より好ましい例及び特に好ましい例は上記の通りである。
式(2)中のX1は脱離基である。式(2)におけるX1は、工程iiの反応において脱離基として機能する限りは、いずれの原子または原子団でもよい。
収率、入手性、価格等の観点から、式(2)中のX1の好ましい例は、ハロゲン原子、(C1−C4)アルキルスルホニルオキシ、(C1−C4)ハロアルキルスルホニルオキシ、(C1−C4)アルキル又はハロゲン原子を有していてもよいベンゼンスルホニルオキシ、より好ましくは塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、メタンスルホニルオキシ、エタンスルホニルオキシ、トリフルオロメタンスルホニルオキシ、ベンゼンスルホニルオキシ、p−トルエンスルホニルオキシ、p−クロロベンゼンスルホニルオキシ、更に好ましくは塩素原子及び臭素原子、特に好ましくは塩素原子を含む。
式(2)の化合物の具体的な例、及び特に好ましい具体的な例は、上記の通りである。
(工程iiの原料:式(3)の化合物)
工程iiの原料として、式(3)の化合物を用いる。
工程iiの原料として、式(3)の化合物を用いる。
式(3)の化合物は公知の化合物であるか、又は公知の化合物から公知の方法に準じて製造することができる。例えば、式(3)の化合物の調製は、WO2006/068092A1(特許文献6)、特表2013-512201(JP2013-512201A)(特許文献7)及びWO2019/131715A1(特許文献8)に記載されているか、又は類似の方法で行うことができる。特表2013-512201(JP2013-512201A)、段落0004(US2012/264947A1、段落0007)(特許文献7)は、特開2008-001597(JP2008-001597A)及びWO2006/038657A1を引用して、WO2006/068092A1(特許文献6)に記載の方法で使用される原料の製造方法を開示する。これらを下図に要約して示す。
式(3)中、R4及びR5は、それぞれ独立して、1以上の置換基により置換されていてもよい(C1−C6)アルキル;1以上の置換基により置換されていてもよい(C3−C6)シクロアルキル;1以上の置換基により置換されていてもよい(C2−C6)アルケニル;1以上の置換基により置換されていてもよい(C2−C6)アルキニル;1以上の置換基により置換されていてもよい(C1−C6)アルコキシ;又は1以上の置換基により置換されていてもよい(C6−C10)アリールであり;又はR4及びR5は、それらが結合している炭素原子と一緒になって、4〜12員の炭素環を形成し、ここで形成された環は1以上の置換基により置換されていてもよい。
収率、入手性、価格、生成物の有用性等の観点から、式(3)中のR4及びR5の好ましい例は、それぞれ独立して、1以上の置換基により置換されていてもよい(C1−C6)アルキル、より好ましくは(C1−C6)アルキル、更に好ましくは(C1−C4)アルキル、特に好ましくはメチルを含む。
式(3)中のX2は酸を形成する原子又は原子団である。従って、HX2は酸である。
収率、入手性、価格、生成物の有用性等の観点から、式(2)中のX1の好ましい例は、
ハロゲン原子、硫酸基、硫酸水素基、リン酸基、リン酸一水素基、リン酸二水素基、(C1−C4)アルキルスルホニルオキシ、(C1−C4)ハロアルキルスルホニルオキシ、(C1−C4)アルキル又はハロゲン原子を有していてもよいベンゼンスルホニルオキシ及びそれらの2個以上(好ましくは2個又は3個、より好ましくは2個)の混合物、より好ましくは塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、硫酸基、硫酸水素基、リン酸基、リン酸一水素基、リン酸二水素基、メタンスルホニルオキシ、エタンスルホニルオキシ、トリフルオロメタンスルホニルオキシ、ベンゼンスルホニルオキシ、p−トルエンスルホニルオキシ、p−クロロベンゼンスルホニルオキシ及びそれらの2個以上(好ましくは2個又は3個、より好ましくは2個)の混合物、更に好ましくは塩素原子、臭素原子、硫酸基、硫酸水素基、リン酸基、リン酸一水素基、メタンスルホニルオキシ、p−トルエンスルホニルオキシ及びそれらの2個以上(好ましくは2個又は3個、より好ましくは2個)の混合物、特に好ましくは塩素原子、臭素原子及びそれらの混合物を含む。
ハロゲン原子、硫酸基、硫酸水素基、リン酸基、リン酸一水素基、リン酸二水素基、(C1−C4)アルキルスルホニルオキシ、(C1−C4)ハロアルキルスルホニルオキシ、(C1−C4)アルキル又はハロゲン原子を有していてもよいベンゼンスルホニルオキシ及びそれらの2個以上(好ましくは2個又は3個、より好ましくは2個)の混合物、より好ましくは塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、硫酸基、硫酸水素基、リン酸基、リン酸一水素基、リン酸二水素基、メタンスルホニルオキシ、エタンスルホニルオキシ、トリフルオロメタンスルホニルオキシ、ベンゼンスルホニルオキシ、p−トルエンスルホニルオキシ、p−クロロベンゼンスルホニルオキシ及びそれらの2個以上(好ましくは2個又は3個、より好ましくは2個)の混合物、更に好ましくは塩素原子、臭素原子、硫酸基、硫酸水素基、リン酸基、リン酸一水素基、メタンスルホニルオキシ、p−トルエンスルホニルオキシ及びそれらの2個以上(好ましくは2個又は3個、より好ましくは2個)の混合物、特に好ましくは塩素原子、臭素原子及びそれらの混合物を含む。
式(3)の化合物の特に好ましい具体的な例は、下記の化合物及びそれらの混合物である。
加えて、「X 2 H」が硫酸又はリン酸のような多価の酸である場合は、「酸部分のX 2 」と「下記式(3−1)の(4,5−ジヒドロイソオキサゾロ−3−イル)チオカルボキサミジン部分」の比率は、多価の酸の可能な全ての価数に相当する比率になり得ることが本発明の範囲内である。
言い換えれば、例えば、下記式(3−c)の化合物は式(3)の化合物の均等物である。
工程iiの反応において、式(3)の化合物中のイソチオウロニウム基は、対応するチオール基及び/又はその塩(例えば、一般的に、−S−Na+又は−S−K+)、及び/又はその類縁体を生成していると推定された。式(3)の化合物に対応する、チオール基及び/又はその塩、及び/又はその類縁体を有する化合物は、式(3)の化合物の均等物であり、それら均等物を用いる方法は、添付の特許請求の範囲により定義される本発明の範囲内に入る。
(工程iiの原料:式(3)の化合物の使用量)
工程iiの式(3)の化合物の使用量は、反応が進行する限りは、いずれの量でもよい。
工程iiの式(3)の化合物の使用量は、当業者が適宜調整することができる。しかしながら、収率、副生成物抑制、経済効率等の観点から、工程iiの式(3)の化合物の使用量は、例えば、式(2)の化合物(原料)1モルに対して、0.5〜2.0モル以上、好ましくは0.8〜1.5モル、より好ましくは1.0〜1.5モル、更に好ましくは1.0〜1.1モルである。
工程iiの式(3)の化合物の使用量は、反応が進行する限りは、いずれの量でもよい。
工程iiの式(3)の化合物の使用量は、当業者が適宜調整することができる。しかしながら、収率、副生成物抑制、経済効率等の観点から、工程iiの式(3)の化合物の使用量は、例えば、式(2)の化合物(原料)1モルに対して、0.5〜2.0モル以上、好ましくは0.8〜1.5モル、より好ましくは1.0〜1.5モル、更に好ましくは1.0〜1.1モルである。
(工程iiの生成物:式(4)の化合物)
工程iiの生成物は、原料として用いた式(2)の化合物及び式(3)の化合物に対応する式(4)の化合物である。
式(4)中、R1、R2及びR3は、式(1)で定義した通りである。式(4)中、R4及びR5は、式(3)で定義した通りである。式(4)中、R1、R2、R3、R4及びR5の例、好ましい例、より好ましい例及び特に好ましい例は、それぞれ上記した式(1)及び式(3)中のそれらと同じである。
式(4)の化合物の特に好ましい具体的な例は下記の通りである:
(工程iiの塩基)
工程iiの反応は、塩基の存在下で行われる。反応が進行する限りは、塩基はいずれの塩基でもよい。工程iiの塩基の例は、以下を含むが、これらに限定されない:
アルカリ金属水酸化物(例えば、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等)、アルカリ土類金属水酸化物(例えば、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム、水酸化バリウム等)、アルカリ金属炭酸塩(例えば、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム等)、アルカリ土類金属炭酸塩(例えば、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム等)、アルカリ金属炭酸水素塩(例えば、炭酸水素リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等)、アルカリ土類金属炭酸水素塩(例えば、炭酸水素カルシウム等)、
リン酸塩(例えば、リン酸ナトリウム、リン酸カリウム、リン酸カルシウム等)、
リン酸水素塩(例えば、リン酸水素ナトリウム、リン酸水素カリウム、リン酸水素カルシウム等)等、アミン類(例えば、トリエチルアミン、トリブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデカ−7−エン(DBU)、1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン(DABCO)、ピリジン、4−(ジメチルアミノ)−ピリジン(DMAP)等)、アンモニア等及びそれらの混合物。
工程iiの反応は、塩基の存在下で行われる。反応が進行する限りは、塩基はいずれの塩基でもよい。工程iiの塩基の例は、以下を含むが、これらに限定されない:
アルカリ金属水酸化物(例えば、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等)、アルカリ土類金属水酸化物(例えば、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム、水酸化バリウム等)、アルカリ金属炭酸塩(例えば、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム等)、アルカリ土類金属炭酸塩(例えば、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム等)、アルカリ金属炭酸水素塩(例えば、炭酸水素リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等)、アルカリ土類金属炭酸水素塩(例えば、炭酸水素カルシウム等)、
リン酸塩(例えば、リン酸ナトリウム、リン酸カリウム、リン酸カルシウム等)、
リン酸水素塩(例えば、リン酸水素ナトリウム、リン酸水素カリウム、リン酸水素カルシウム等)等、アミン類(例えば、トリエチルアミン、トリブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデカ−7−エン(DBU)、1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン(DABCO)、ピリジン、4−(ジメチルアミノ)−ピリジン(DMAP)等)、アンモニア等及びそれらの混合物。
収率、副生成物抑制、経済効率等の観点から、工程iiの塩基の好ましい例は、アルカリ金属水酸化物、アルカリ金属炭酸塩、アルカリ金属炭酸水素塩及びそれらの混合物、より好ましくは、アルカリ金属水酸化物、アルカリ金属炭酸塩及びそれらの混合物、更に好ましくは、アルカリ金属水酸化物を含む。
上記と同様の観点から、工程iiの塩基の好ましい具体的な例は、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム及びそれらの混合物、より好ましくは、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム及びそれらの混合物、更に好ましくは、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム及びそれらの混合物、更に好ましくは、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム及びそれらの混合物、特に好ましくは水酸化ナトリウムを含む。
工程iiの塩基は、単独で又は任意の割合の2種以上の組み合わせで使用してもよい。工程iiの塩基の形態は、反応が進行する限りは、いずれの形態でもよい。工程iiの塩基の形態の例は、塩基のみの固体及び任意の濃度の水溶液等を含む。塩基の形態の具体的な例は、フレーク、ペレット、ビーズ、パウダー及び10〜50%水溶液、好ましくは20〜50%水溶液(例えば、25%水酸化ナトリウム水溶液及び48%水酸化ナトリウム水溶液、好ましくは48%水酸化ナトリウム水溶液)等を含むが、これらに限定されない。工程iiの塩基の形態は、当業者が適切に選択することができる。
工程iiの塩基の使用量は、反応が進行する限りは、いずれの量でもよい。工程iiの塩基の使用量は、当業者が適宜調整することができる。しかしながら、収率、副生成物抑制、経済効率等の観点から、工程iiの塩基の使用量は、一つの態様では、例えば、式(2)の化合物(原料)1当量に対して、5〜10当量、好ましくは5〜8当量、より好ましくは5〜7当量、更に好ましくは5〜6当量である。別の態様では、例えば、式(2)の化合物(原料)1当量に対して、1〜15当量、好ましくは1〜10当量、より好ましくは2〜9当量、更に好ましくは4〜8当量、更に好ましくは5〜6当量である。
(工程iiの反応溶媒)
反応の円滑な進行等の観点から、工程iiの反応は溶媒の存在下で行うことが好ましい。
工程iiの反応の溶媒は、反応が進行する限りは、いずれの溶媒でもよい。
反応の円滑な進行等の観点から、工程iiの反応は溶媒の存在下で行うことが好ましい。
工程iiの反応の溶媒は、反応が進行する限りは、いずれの溶媒でもよい。
一つの態様では、工程iiの反応の溶媒の例は、以下を含むが、これらに限定されない:0(ゼロ)〜50(好ましくは3〜45、より好ましくは5〜45、更に好ましくは5〜35、更に好ましくは5〜30、更に好ましくは5〜20、更に好ましくは8〜20)のアクセプター数を有する有機溶媒、水、及び任意の割合のそれらの任意の組み合わせ。
別の態様では、工程iiの反応の溶媒の例は、以下を含むが、これらに限定されない:
芳香族炭化水素誘導体類(例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、トリクロロベンゼン、ニトロベンゼン等)、ハロゲン化脂肪族炭化水素類(例えば、ジクロロメタン、1,2−ジクロロエタン(EDC)等)、アルコール類(例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、2−プロパノール、ブタノール、sec−ブタノール、イソブタノール、tert−ブタノール(tert−ブタノールはtert−ブチルアルコールとも言う)、ペンタノール、sec−アミルアルコール、3−ペンタノール、2−メチル−1−ブタノール、イソアミルアルコール、tert−アミルアルコール、ヘキサノール、シクロヘキサノール等)、ニトリル類(例えば、アセトニトリル、プロピオニトリル等)、カルボン酸エステル類(例えば、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル及びその異性体、酢酸ペンチル及びその異性体等)、エーテル類(例えば、テトラヒドロフラン(THF)、1,4−ジオキサン、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、ジ−tert−ブチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル(CPME)、メチル−tert−ブチルエーテル、1,2−ジメトキシエタン(DME)、ジグリム(diglyme)等)、ケトン類(例えば、アセトン、メチルエチルケトン(MEK)、メチルイソプロピルケトン(MIPK)、メチルイソブチルケトン(MIBK)等)、アミド類(例えば、N,N−ジメチルホルムアミド(DMF)、N,N−ジメチルアセトアミド(DMAC)、N−メチルピロリドン(NMP)等)、ウレア類(例えば、N,N’−ジメチルイミダゾリジノン(DMI)、テトラメチル尿素等)、スルホキシド類(例えば、ジメチルスルホキシド(DMSO)等)、スルホン類(例えば、スルホラン等)、水、及び任意の割合のそれらの任意の組み合わせ。「2−プロパノール」は「イソプロピルアルコール」又は「イソプロパノール」とも言う。
芳香族炭化水素誘導体類(例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、トリクロロベンゼン、ニトロベンゼン等)、ハロゲン化脂肪族炭化水素類(例えば、ジクロロメタン、1,2−ジクロロエタン(EDC)等)、アルコール類(例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、2−プロパノール、ブタノール、sec−ブタノール、イソブタノール、tert−ブタノール(tert−ブタノールはtert−ブチルアルコールとも言う)、ペンタノール、sec−アミルアルコール、3−ペンタノール、2−メチル−1−ブタノール、イソアミルアルコール、tert−アミルアルコール、ヘキサノール、シクロヘキサノール等)、ニトリル類(例えば、アセトニトリル、プロピオニトリル等)、カルボン酸エステル類(例えば、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル及びその異性体、酢酸ペンチル及びその異性体等)、エーテル類(例えば、テトラヒドロフラン(THF)、1,4−ジオキサン、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、ジ−tert−ブチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル(CPME)、メチル−tert−ブチルエーテル、1,2−ジメトキシエタン(DME)、ジグリム(diglyme)等)、ケトン類(例えば、アセトン、メチルエチルケトン(MEK)、メチルイソプロピルケトン(MIPK)、メチルイソブチルケトン(MIBK)等)、アミド類(例えば、N,N−ジメチルホルムアミド(DMF)、N,N−ジメチルアセトアミド(DMAC)、N−メチルピロリドン(NMP)等)、ウレア類(例えば、N,N’−ジメチルイミダゾリジノン(DMI)、テトラメチル尿素等)、スルホキシド類(例えば、ジメチルスルホキシド(DMSO)等)、スルホン類(例えば、スルホラン等)、水、及び任意の割合のそれらの任意の組み合わせ。「2−プロパノール」は「イソプロピルアルコール」又は「イソプロパノール」とも言う。
しかしながら、収率、副生成物抑制、経済効率等の観点から、工程iiの反応の溶媒の好ましい例は、以下を含む:芳香族炭化水素誘導体類、ハロゲン化脂肪族炭化水素類、アルコール類、ニトリル類、カルボン酸エステル類、エーテル類、ケトン類、アミド類、ウレア類、スルホキシド類、スルホン類から選択される1個以上(好ましくは1又は2個、より好ましくは1個)の有機溶媒及び水溶媒の任意の割合の組み合わせを含む。
工程iiの反応の溶媒のより好ましい例は、アルコール類、ニトリル類、カルボン酸エステル類、エーテル類、アミド類、スルホン類から選択される1個以上(好ましくは1又は2個、より好ましくは1個)の有機溶媒及び水溶媒の任意の割合の組み合わせ含む。
工程iiの反応の溶媒のより好ましい例は、アルコール類、ニトリル類、カルボン酸エステル類、エーテル類、アミド類から選択される1個以上(好ましくは1又は2個、より好ましくは1個)の有機溶媒及び水溶媒の任意の割合の組み合わせ含む。
工程iiの反応の溶媒のより好ましい例は、アルコール類、ニトリル類、カルボン酸エステル類、アミド類から選択される1個以上(好ましくは1又は2個、より好ましくは1個)の有機溶媒及び水溶媒の任意の割合の組み合わせ含む。
工程iiの反応の溶媒のより好ましい例は、アルコール類、ニトリル類、カルボン酸エステル類から選択される1個以上(好ましくは1又は2個、より好ましくは1個)の有機溶媒及び水溶媒の任意の割合の組み合わせ含む。
工程iiの反応の溶媒の更に好ましい例は、ニトリル類、カルボン酸エステル類から選択される1個以上(好ましくは1又は2個、より好ましくは1個)の有機溶媒及び水溶媒の任意の割合の組み合わせ含む。
一つの態様では、工程iiの反応の溶媒の特に好ましい例は、ニトリル類及び水溶媒の任意の割合の組み合わせ含む。
別の態様では、工程iiの反応の溶媒の特に好ましい例は、カルボン酸エステル類及び水溶媒の任意の割合の組み合わせ含む。
上記と同様の観点から、工程iiの反応の溶媒の好ましい具体的な例は、トルエン、キシレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、ジクロロメタン、1,2−ジクロロエタン、メタノール、エタノール、プロパノール、2−プロパノール、ブタノール、sec−ブタノール、イソブタノール、tert−ブタノール、ペンタノール、sec−アミルアルコール、3−ペンタノール、2−メチル−1−ブタノール、イソアミルアルコール、tert−アミルアルコール、アセトニトリル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル及びその異性体(本発明において「酢酸ブチルの異性体」は「酢酸ブチル」の等価体である。)、テトラヒドロフラン(THF)、1,4−ジオキサン、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、ジ−tert−ブチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル(CPME)、メチル−tert−ブチルエーテル、1,2−ジメトキシエタン(DME)、ジグリム(diglyme)、アセトン、メチルエチルケトン(MEK)、メチルイソプロピルケトン(MIPK)、メチルイソブチルケトン(MIBK)、N,N−ジメチルホルムアミド(DMF)、N,N−ジメチルアセトアミド(DMAC)、N−メチルピロリドン(NMP)、N,N’−ジメチルイミダゾリジノン(DMI)、テトラメチル尿素、ジメチルスルホキシド(DMSO)、スルホランから選択される1個以上(好ましくは1又は2個、より好ましくは1個)の有機溶媒及び水溶媒の任意の割合の組み合わせを含む。
上記と同様の観点から、工程iiの反応の溶媒のより好ましい具体的な例は、トルエン、キシレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、ジクロロメタン、1,2−ジクロロエタン、メタノール、エタノール、プロパノール、2−プロパノール、ブタノール、sec−ブタノール、イソブタノール、tert−ブタノール、アセトニトリル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル及びその異性体(本発明において「酢酸ブチルの異性体」は「酢酸ブチル」の等価体である。)、テトラヒドロフラン(THF)、1,4−ジオキサン、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、ジ−tert−ブチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル(CPME)、メチル−tert−ブチルエーテル、1,2−ジメトキシエタン(DME)、ジグリム(diglyme)、アセトン、メチルエチルケトン(MEK)、メチルイソプロピルケトン(MIPK)、メチルイソブチルケトン(MIBK)、N,N−ジメチルホルムアミド(DMF)、N,N−ジメチルアセトアミド(DMAC)、N−メチルピロリドン(NMP)、N,N’−ジメチルイミダゾリジノン(DMI)、テトラメチル尿素、ジメチルスルホキシド(DMSO)、スルホランから選択される1個以上(好ましくは1又は2個、より好ましくは1個)の有機溶媒及び水溶媒の任意の割合の組み合わせを含む。
上記と同様の観点から、工程iiの反応の溶媒のより好ましい具体的な例は、トルエン、キシレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、ジクロロメタン、1,2−ジクロロエタン、メタノール、エタノール、2−プロパノール、ブタノール、tert−ブタノール、アセトニトリル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル及びその異性体(本発明において「酢酸ブチルの異性体」は「酢酸ブチル」の等価体である。)、テトラヒドロフラン(THF)、1,4−ジオキサン、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、ジ−tert−ブチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル(CPME)、メチル−tert−ブチルエーテル、1,2−ジメトキシエタン(DME)、ジグリム(diglyme)、アセトン、メチルエチルケトン(MEK)、メチルイソプロピルケトン(MIPK)、メチルイソブチルケトン(MIBK)、N,N−ジメチルホルムアミド(DMF)、N,N−ジメチルアセトアミド(DMAC)、N−メチルピロリドン(NMP)、N,N’−ジメチルイミダゾリジノン(DMI)、テトラメチル尿素、ジメチルスルホキシド(DMSO)、スルホランから選択される1個以上(好ましくは1又は2個、より好ましくは1個)の有機溶媒及び水溶媒の任意の割合の組み合わせを含む。
工程iiの反応の溶媒のより好ましい具体的な例は、メタノール、エタノール、2−プロパノール、ブタノール、tert−ブタノール、アセトニトリル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル及びその異性体から選択される1個以上(好ましくは1又は2個、より好ましくは1個)の有機溶媒及び水溶媒の任意の割合の組み合わせを含む。
工程iiの反応の溶媒の更に好ましい具体的な例は、ブタノール、アセトニトリル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチルから選択される1個以上(好ましくは1又は2個、より好ましくは1個)の有機溶媒及び水溶媒の任意の割合の組み合わせを含む。
工程iiの反応の溶媒の更に好ましい具体的な例は、アセトニトリル、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチルから選択される1個以上(好ましくは1又は2個、より好ましくは1個)の有機溶媒及び水溶媒の任意の割合の組み合わせを含む。
工程iiの反応の溶媒の更に好ましい具体的な例は、アセトニトリル、酢酸ブチルから選択される1又は2個(好ましくは1個)の有機溶媒及び水溶媒の任意の割合の組み合わせを含む。
一つの態様では、工程iiの反応の溶媒の特に好ましい具体的な例は、アセトニトリル溶媒及び水溶媒の任意の割合の組み合わせを含む。
別の態様では、工程iiの反応の溶媒の特に好ましい具体的な例は、酢酸ブチル溶媒及び水溶媒の任意の割合の組み合わせを含む。
いずれの場合も、反応が進行する限りは、溶媒は単層でもよく、2層に分離してもよい。
工程iiの反応の溶媒の使用量について説明する。「反応の溶媒の全使用量」は、反応に使用した全ての有機溶媒の量と水溶媒の量の合計である。反応後の後処理(例えば、単離、精製等)に使用した有機溶媒及び水溶媒は含まない。反応に使用した「有機溶媒」は、原料溶液中及び反応剤溶液中の有機溶媒を含む。反応に使用した「水溶媒」は、原料溶液中及び反応剤溶液中の水(例えば、48%水酸化ナトリウム水溶液中の水)を含む。
工程iiの反応の溶媒の全使用量は、反応系の撹拌が十分にできる限りは、特に制限されない。しかしながら、収率、副生成物抑制、経済効率等の観点から、一つの態様では、工程iiの反応の溶媒の全使用量は、例えば、式(2)の化合物(原料)1モルに対して、0.1〜10L(リットル)、好ましくは、0.5〜5L、より好ましくは1〜5L、更に好ましくは1〜3L、更に好ましくは1〜2Lである。別の態様では、工程iiの反応の溶媒の全使用量は、例えば、式(2)の化合物(原料)1モルに対して、1.5〜3.0L(リットル)、好ましくは、1.5〜2.5L、より好ましくは1.5〜2.0Lである。更に別の態様では、工程iiの反応の溶媒の全使用量は、例えば、式(2)の化合物(原料)1モルに対して、1.7〜3.0L(リットル)、好ましくは、1.7〜2.5L、より好ましくは1.7〜2.0Lである。
上記と同様の観点から、一つの態様では、工程iiの反応の有機溶媒の使用量は、例えば、式(2)の化合物(原料)1モルに対して、0(ゼロ)〜5L(リットル)、好ましくは0.4〜2.0L、より好ましくは0.5〜1.5L、更に好ましくは0.6〜1.0L、更に好ましくは0.7〜0.9Lである。別の態様では、工程iiの反応の有機溶媒の使用量は、例えば、式(2)の化合物(原料)1モルに対して、0.1〜5L(リットル)、好ましくは、0.3〜2.0L、より好ましくは0.4〜1.5L、更に好ましくは0.5〜1.0L、更に好ましくは0.6〜0.8Lである。
上記と同様の観点から、工程iiの反応の水溶媒の使用量は、例えば、式(2)の化合物(原料)1モルに対して、0.1〜5L(リットル)、好ましくは0.5〜2.0L、より好ましくは0.5〜1.5L、更に好ましくは0.7〜1.4L、更に好ましくは0.9〜1.2Lである。
2種以上の有機溶媒の組み合わせを用いるときは、2種以上の有機溶媒の割合は、反応が進行する限りは、いずれの割合でもよい。
有機溶媒と水溶媒の組み合わせを用いるときは、有機溶媒と水溶媒の割合は、反応が進行する限りは、いずれの割合でもよい。しかしながら、収率、副生成物抑制、経済効率等の観点から、有機溶媒と水溶媒の比率は、例えば、体積比で90:10〜0:100、好ましくは体積比で90:10〜10:90、より好ましくは体積比で70:30〜30:70、更に好ましくは体積比で50:50〜35:65、更に好ましくは体積比で50:50〜40:60である。
言い換えれば、有機溶媒と水溶媒からなる全溶媒中の水溶媒の量は、例えば、全溶媒の量(100vol%)に対して、10vol%から100vol%、好ましくは10vol%から90vol%、より好ましくは30vol%から70vol%、更に好ましくは50vol%から65vol%、更に好ましくは50vol%から60vol%である。
(工程iiの反応温度)
工程iiの反応温度は、特に制限されない。しかしながら、収率、副生成物抑制、経済効率等の観点から、工程iiの反応温度は、例えば、−10(マイナス10)℃〜100℃、好ましくは−10℃〜70℃、より好ましくは−10℃〜50℃、更に好ましくは0(ゼロ)℃〜40℃、更に好ましくは0℃〜30℃、更に好ましくは0℃〜25℃である。
工程iiの反応温度は、特に制限されない。しかしながら、収率、副生成物抑制、経済効率等の観点から、工程iiの反応温度は、例えば、−10(マイナス10)℃〜100℃、好ましくは−10℃〜70℃、より好ましくは−10℃〜50℃、更に好ましくは0(ゼロ)℃〜40℃、更に好ましくは0℃〜30℃、更に好ましくは0℃〜25℃である。
(工程iiの反応時間)
工程iiの反応時間は、特に制限されない。しかしながら、収率、副生成物抑制、経済効率等の観点から、一つの態様では、工程iiの反応時間は、例えば4時間〜48時間、好ましくは4時間〜24時間、より好ましくは4時間〜18時間、更に好ましくは4時間〜12時間である。別の態様では、工程iiの反応時間は、例えば、1時間〜48時間、好ましくは1時間〜24時間、より好ましくは3時間〜18時間、更に好ましくは3時間〜12時間、である。しかしながら、反応時間は、当業者が適切に調整することができる。
工程iiの反応時間は、特に制限されない。しかしながら、収率、副生成物抑制、経済効率等の観点から、一つの態様では、工程iiの反応時間は、例えば4時間〜48時間、好ましくは4時間〜24時間、より好ましくは4時間〜18時間、更に好ましくは4時間〜12時間である。別の態様では、工程iiの反応時間は、例えば、1時間〜48時間、好ましくは1時間〜24時間、より好ましくは3時間〜18時間、更に好ましくは3時間〜12時間、である。しかしながら、反応時間は、当業者が適切に調整することができる。
(工程iiの仕込み方法)
式(2)の化合物、式(3)の化合物、塩基、溶媒等を仕込む順番は、特に制限されない。反応が進行する限りは、それらの添加順序は、いずれの順序でもよい。例えば、反応容器に、式(2)の化合物、式(3)の化合物及び溶媒を含む混合物に塩基を滴下してもよい。他の例としては、反応容器に、式(3)の化合物、塩基及び溶媒を加えた後に、式(2)の化合物を滴下してもよい。更に他の例としては、反応容器に、塩基及び溶媒を加えた後に、式(2)の化合物及び式(3)の化合物を順次滴下してもよい。
式(2)の化合物、式(3)の化合物、塩基、溶媒等を仕込む順番は、特に制限されない。反応が進行する限りは、それらの添加順序は、いずれの順序でもよい。例えば、反応容器に、式(2)の化合物、式(3)の化合物及び溶媒を含む混合物に塩基を滴下してもよい。他の例としては、反応容器に、式(3)の化合物、塩基及び溶媒を加えた後に、式(2)の化合物を滴下してもよい。更に他の例としては、反応容器に、塩基及び溶媒を加えた後に、式(2)の化合物及び式(3)の化合物を順次滴下してもよい。
(工程iiの後処理;単離及び/又は精製)
工程iiの生成物である式(4)の化合物、とりわけ化合物(4−a)は、工程iiiの原料として使用することができる。工程iiで得られる一般式(4)の化合物は、単離及び/又は精製して次工程に用いてもよく、または単離することなく次工程に用いてもよい。後処理(単離及び/又は精製)を行うか否かは、目的と状況に応じて、当業者が適切に決定できる。
工程iiの生成物である式(4)の化合物、とりわけ化合物(4−a)は、工程iiiの原料として使用することができる。工程iiで得られる一般式(4)の化合物は、単離及び/又は精製して次工程に用いてもよく、または単離することなく次工程に用いてもよい。後処理(単離及び/又は精製)を行うか否かは、目的と状況に応じて、当業者が適切に決定できる。
工程iiの目的物である式(4)の化合物、とりわけ化合物(4−a)は、当業者に知られた方法(例えば、抽出、洗浄、再結晶を含む結晶化、結晶洗浄及び/又はその他の操作)及びそれらの改良された方法、及びそれらの任意の組み合わせにより、反応混合物から単離し精製することができる。
後処理工程(単離及び/又は精製)では、以下の操作が行われてもよいが、これらに限定されない:後処理では、有機層と水層の分離を含む、抽出操作と洗浄操作が行われてもよい。混合物を有機層と水層に分離する場合、混合物が熱いまま、分離してもよい。例えば、有機層と水層を分離するとき、熱い混合物を用いてもよく、混合物を加熱してもよい。熱濾過を含む濾過操作により、不純物を除去してもよい。
洗浄操作においては、可能であれば、有機溶媒に溶解又は懸濁させた生成物を水、温水、アルカリ性水溶液(例えば、5%〜飽和炭酸水素ナトリウム水溶液又は1〜10%水酸化ナトリウム水溶液)又は酸性水溶液(例えば、5〜35%塩酸又は5〜35%硫酸)により洗浄してもよい。これらの洗浄操作は組み合わせてもよい。
再結晶を含む生成物の結晶化及び結晶の洗浄を行うときは、後述の工程iiiにおける説明を参照することができる。
上記のいずれの操作においても、目的と状況に応じて、温度は当業者が適切に調整することができる。
後処理のいずれの操作及び次工程に生成物を使用する操作において、溶媒の量は、それらの添加及び除去により、当業者が適切に調整することができる。更には、場合により、溶媒の回収とリサイクルを行ってもよい。例えば、反応に用いた溶媒の回収とリサイクルを行ってもよく、後処理(単離及び/又は精製)において使用した溶媒の回収とリサイクルを行ってもよい。
上記の操作の全て又は一部を適切に組み合わせることにより、後処理(単離及び/又は精製)を行うことができる。場合により、目的に合わせて、上記の操作を繰り返してもよい。加えて、上記のいずれの操作の組み合わせ及びそれらの順番を当業者が適切に選択することができる。
(工程iii)
工程iiiについて説明する。
工程iiiについて説明する。
工程iiiの反応は金属触媒の存在化で、酸化反応により、式(4)の化合物から式(5)の化合物を製造する工程である。
工程iiiの酸化反応の例としては、過酸化水素、次亜塩素酸塩、過酸化物、過マンガン酸塩、二酸化マンガン、クロム酸等の酸化剤を用いる方法や、ジョーンズ酸化、オゾン酸化、スワン酸化等のジメチルスルホキシド酸化、オキソン酸化等が挙げられる。過酸化水素の代わりに、次亜塩素酸ナトリウム、次亜塩素酸カリウム等の次亜塩素酸塩、ペルオキソ二硫酸ナトリウム、ペルオキシ一硫酸カリウム(オキソン(登録商標))等を用いて工程iiiの反応を実施することは、本発明の均等物であり、本発明の範囲内である。
工程iiiは、好ましくは、金属触媒の存在下で、式(4)の化合物を過酸化水素と反応させて、式(5)の化合物を製造する工程である;
(ここで、R1、R2、R3、R4及びR5は、本明細書中に記載の通りである。)
(工程iiiの原料:式(4)の化合物)
工程iiiの原料として、式(4)の化合物を用いる。式(4)の化合物は公知の化合物であるか、又は公知の化合物から公知の方法に準じて製造することができる。前述の通り、例えば、式(4)の化合物の調製は、WO2004/013106A1(特許文献2)、参考例1−1、1−2及び1−3、並びにWO2005/105755A1(特許文献3)、実施例3〜5及びWO2005/095352A1(特許文献4)、実施例1〜5に記載されている。加えて、式(4)の化合物の調製は、類似の方法で行うことができる。しかしながら、式(4)の化合物が本発明の方法より製造されることが好ましい。すなわち、式(4)の化合物は、好ましくは本明細書に記載の工程iiを含む方法により製造される。
工程iiiの原料として、式(4)の化合物を用いる。式(4)の化合物は公知の化合物であるか、又は公知の化合物から公知の方法に準じて製造することができる。前述の通り、例えば、式(4)の化合物の調製は、WO2004/013106A1(特許文献2)、参考例1−1、1−2及び1−3、並びにWO2005/105755A1(特許文献3)、実施例3〜5及びWO2005/095352A1(特許文献4)、実施例1〜5に記載されている。加えて、式(4)の化合物の調製は、類似の方法で行うことができる。しかしながら、式(4)の化合物が本発明の方法より製造されることが好ましい。すなわち、式(4)の化合物は、好ましくは本明細書に記載の工程iiを含む方法により製造される。
式(4)中、R1、R2及びR3は、式(1)で定義した通りである。式(4)中、R4及びR5は、式(3)で定義した通りである。式(4)中、R1、R2、R3、R4及びR5の例、好ましい例、より好ましい例及び特に好ましい例は、それぞれ上記した式(1)及び式(3)中のそれらと同じである。 式(4)の化合物の特に好ましい具体的な例は上記の通りである。
(工程iiiの生成物:式(5)の化合物)
工程iiiの生成物は、原料として用いた式(4)の化合物に対応する式(5)の化合物である。
式(5)中、R1、R2及びR3は、式(1)で定義した通りである。式(5)中、R4及びR5は、式(3)で定義した通りである。式(5)中、R1、R2、R3、R4及びR5の例、好ましい例、より好ましい例及び特に好ましい例は、それぞれ上記した式(1)及び式(3)中のそれらと同じである。
式(5)の化合物の特に好ましい具体的な例は下記の通りである:
先述のように、式(4)の化合物(S誘導体)から式(5)の化合物(SO2誘導体)を製造する方法においては、酸化反応が十分に進行し、生成物中の式(6)の化合物(SO誘導体)の割合が十分に低いことが望まれる。例えば、工程iiiの反応後の反応混合物中、式(6)の化合物(SO誘導体)の比率が、10%以下であることが好ましく、5%以下がより好ましく、3%以下がより好ましく、2%以下がより好ましく、1%以下が更に好ましい。
(工程iiiの酸化剤:過酸化水素)
工程iiiの反応では、酸化剤として前記した次亜塩素酸塩、過酸化物、過マンガン酸塩、二酸化マンガン、クロム酸等を用いることができる。好ましくは、過酸化水素を用いる。
工程iiiの反応では、酸化剤として前記した次亜塩素酸塩、過酸化物、過マンガン酸塩、二酸化マンガン、クロム酸等を用いることができる。好ましくは、過酸化水素を用いる。
工程iiiの過酸化水素の形態は、反応が進行する限りは、いずれの形態でもよい。工程iiiの過酸化水素の形態は、当業者が適切に選択することができる。しかしながら、安全性、危険性、経済効率等を考慮して、過酸化水素の形態の好ましい例は、10〜70wt%過酸化水素水溶液、より好ましくは25〜65wt%過酸化水素水溶液、更に好ましくは30〜65wt%過酸化水素水溶液、特に好ましくは30〜60wt%過酸化水素水溶液を含む。過酸化水素の形態の具体的な例は、30wt%過酸化水素水溶液、35wt%過酸化水素水溶液、50wt%過酸化水素水溶液、60wt%過酸化水素水溶液等を含むが、これらに限定されない。
工程iiiの過酸化水素の使用量は、反応が進行する限りは、いずれの量でもよい。工程iiiの過酸化水素の使用量は、当業者が適宜調整することができる。しかしながら、収率、副生成物抑制、経済効率、安全性、危険性等の観点から、工程iiiの過酸化水素の使用量は、例えば、式(4)の化合物(原料)1モルに対して、2モル以上、好ましくは2〜8モル、より好ましくは2〜6モル、更に好ましくは2〜5モル、更に好ましくは2〜4モル、更に好ましくは2〜3モル、更に好ましくは2.3〜3モルである。
(工程iiiの触媒:金属触媒)
工程iiiの反応は、金属触媒の存在下で行われる。反応が進行する限りは、金属触媒はいずれの金属触媒でもよい。工程iiiの金属触媒の例は、以下を含むが、これらに限定されない:
タングステン触媒(例えば、タングステン酸、タングステン酸塩(例えば、タングステン酸ナトリウム(タングステン酸ナトリウム二水和物及びタングステン酸ナトリウム十水和物を含む)、タングステン酸カリウム、タングステン酸カルシウム、タングステン酸アンモニウム)、金属タングステン、酸化タングステン(例えば、酸化タングステン(VI)、酸化タングステン(VI)は三酸化タングステンとも言う)、炭化タングステン、塩化タングステン(例えば、塩化タングステン(VI)、塩化タングステン(VI)は六塩化タングステンとも言う)、臭化タングステン(例えば、臭化タングステン(V))、硫化タングステン(例えば、硫化タングステン(IV)、硫化タングステン(IV)は二硫化タングステンとも言う)、リンタングステン酸及びその塩(例えば、リンタングステン酸、リンタングステン酸ナトリウム、リンタングステン酸アンモニウム等)、ケイタングステン酸及びその塩(例えば、ケイタングステン酸、ケイタングステン酸ナトリウム等)等、及びそれらの混合物)、
モリブデン触媒(例えば、モリブデン酸、モリブデン酸塩、(例えば、モリブデン酸ナトリウム(モリブデン酸ナトリウム二水和物を含む)、モリブデン酸カリウム、モリブデン酸アンモニウム(モリブデン酸アンモニウム四水和物を含む))、金属モリブデン、酸化モリブデン(例えば、酸化モリブデン(VI)、酸化モリブデン(VI)は三酸化モリブデンとも言う)、塩化モリブデン(塩化モリブデン(V)、塩化モリブデン(V)は五塩化モリブデンとも言う)、硫化モリブデン(例えば、硫化モリブデン(IV)、硫化モリブデン(IV)は二硫化モリブデンとも言う)、リンモリブデン酸及びその塩(例えば、リンモリブデン酸、リンモリブデン酸ナトリウム、リンモリブデン酸アンモニウム等)、ケイモリブデン酸及びその塩(例えば、ケイモリブデン酸、ケイモリブデン酸ナトリウム等)、ビス(2,4−ペンタンジオナト)モリブデン(VI)ジオキシド等、及びそれらの混合物)、
鉄触媒(例えば、鉄(I)アセチルアセトネート、塩化鉄(I)、硝酸鉄(I)等、及びそれらの混合物)、
マンガン触媒(例えば、過マンガン酸カリウム、酸化マンガン(II)、塩化マンガン(II)等、及びそれらの混合物)、
バナジウム触媒(例えば、バナジルアセチルアセトナート、酸化バナジウム(V)、オキシ三塩化バナジウム(V)、バナジウム(V)オキシトリエトキシド、バナジウム(V)オキシトリイソプロポキシド等、及びそれらの混合物)、
ニオブ触媒(例えば、炭化ニオブ、塩化ニオブ(V)、ニオブ(V)ペンタエトキシド等、及びそれらの混合物)、
タンタル触媒(例えば、炭化タンタル(TaC)、塩化タンタル(V)(TaCl5)、タンタル(V)ペンタエトキシド(Ta(OEt)5)等、及びそれらの混合物)、
チタン触媒(例えば、四塩化チタン、三塩化チタン、チタン(IV)テトライソプロポキシド等、及びそれらの混合物)、
ジルコニウム触媒(例えば、二酸化ジルコニウム、塩化ジルコニウム(I)、塩化ジルコニウム(IV)、塩化酸化ジルコニウム等、及びそれらの混合物)、
銅触媒(例えば、酢酸銅(I)、酢酸銅(II)、臭化銅(I)、ヨウ化銅(I)等、及びそれらの混合物)、
タリウム触媒(例えば、硝酸タリウム(I)、酢酸タリウム(I)、トリフルオロ酢酸タリウム(I)等、及びそれらの混合物)。
工程iiiの反応は、金属触媒の存在下で行われる。反応が進行する限りは、金属触媒はいずれの金属触媒でもよい。工程iiiの金属触媒の例は、以下を含むが、これらに限定されない:
タングステン触媒(例えば、タングステン酸、タングステン酸塩(例えば、タングステン酸ナトリウム(タングステン酸ナトリウム二水和物及びタングステン酸ナトリウム十水和物を含む)、タングステン酸カリウム、タングステン酸カルシウム、タングステン酸アンモニウム)、金属タングステン、酸化タングステン(例えば、酸化タングステン(VI)、酸化タングステン(VI)は三酸化タングステンとも言う)、炭化タングステン、塩化タングステン(例えば、塩化タングステン(VI)、塩化タングステン(VI)は六塩化タングステンとも言う)、臭化タングステン(例えば、臭化タングステン(V))、硫化タングステン(例えば、硫化タングステン(IV)、硫化タングステン(IV)は二硫化タングステンとも言う)、リンタングステン酸及びその塩(例えば、リンタングステン酸、リンタングステン酸ナトリウム、リンタングステン酸アンモニウム等)、ケイタングステン酸及びその塩(例えば、ケイタングステン酸、ケイタングステン酸ナトリウム等)等、及びそれらの混合物)、
モリブデン触媒(例えば、モリブデン酸、モリブデン酸塩、(例えば、モリブデン酸ナトリウム(モリブデン酸ナトリウム二水和物を含む)、モリブデン酸カリウム、モリブデン酸アンモニウム(モリブデン酸アンモニウム四水和物を含む))、金属モリブデン、酸化モリブデン(例えば、酸化モリブデン(VI)、酸化モリブデン(VI)は三酸化モリブデンとも言う)、塩化モリブデン(塩化モリブデン(V)、塩化モリブデン(V)は五塩化モリブデンとも言う)、硫化モリブデン(例えば、硫化モリブデン(IV)、硫化モリブデン(IV)は二硫化モリブデンとも言う)、リンモリブデン酸及びその塩(例えば、リンモリブデン酸、リンモリブデン酸ナトリウム、リンモリブデン酸アンモニウム等)、ケイモリブデン酸及びその塩(例えば、ケイモリブデン酸、ケイモリブデン酸ナトリウム等)、ビス(2,4−ペンタンジオナト)モリブデン(VI)ジオキシド等、及びそれらの混合物)、
鉄触媒(例えば、鉄(I)アセチルアセトネート、塩化鉄(I)、硝酸鉄(I)等、及びそれらの混合物)、
マンガン触媒(例えば、過マンガン酸カリウム、酸化マンガン(II)、塩化マンガン(II)等、及びそれらの混合物)、
バナジウム触媒(例えば、バナジルアセチルアセトナート、酸化バナジウム(V)、オキシ三塩化バナジウム(V)、バナジウム(V)オキシトリエトキシド、バナジウム(V)オキシトリイソプロポキシド等、及びそれらの混合物)、
ニオブ触媒(例えば、炭化ニオブ、塩化ニオブ(V)、ニオブ(V)ペンタエトキシド等、及びそれらの混合物)、
タンタル触媒(例えば、炭化タンタル(TaC)、塩化タンタル(V)(TaCl5)、タンタル(V)ペンタエトキシド(Ta(OEt)5)等、及びそれらの混合物)、
チタン触媒(例えば、四塩化チタン、三塩化チタン、チタン(IV)テトライソプロポキシド等、及びそれらの混合物)、
ジルコニウム触媒(例えば、二酸化ジルコニウム、塩化ジルコニウム(I)、塩化ジルコニウム(IV)、塩化酸化ジルコニウム等、及びそれらの混合物)、
銅触媒(例えば、酢酸銅(I)、酢酸銅(II)、臭化銅(I)、ヨウ化銅(I)等、及びそれらの混合物)、
タリウム触媒(例えば、硝酸タリウム(I)、酢酸タリウム(I)、トリフルオロ酢酸タリウム(I)等、及びそれらの混合物)。
本明細書中、水和物の形態になり得る酸とその塩は、その水和物の形態であってもよく、いずれの形態も本発明の範囲内である。
従って、例えば、「タングステン酸ナトリウム」は「タングステン酸ナトリウム二水和物」及び「タングステン酸ナトリウム十水和物」を包含する。
本明細書中、ポリ酸の形態になり得る酸とその塩(例えば、タングステン酸及びその塩等)は、ポリ酸の形態であってもよく、いずれの形態も本発明の範囲内である。
「ビス(2,4−ペンタンジオナト)モリブデン(VI)ジオキシド」は、「MoO2(acac)2」、「モリブデン(VI)ジオキシアセチルアセトナート」又は「ビス(アセチルアセトナト)酸化モリブデン(VI)」とも言う。
「鉄(I)アセチルアセトネート」は、「Fe(acac)3」又は「トリス(2,4−ペンタンジオナト)鉄(I)」とも言う。
「バナジルアセチルアセトネート」は、「VO(acac)2」、「ビス(2,4−ペンタンジオナト)バナジウム(IV)オキシド」、「バナジウム(IV)オキシアセチルアセトネート」又は「バナジウム(IV)ビス(アセチルアセトナト)オキシド」とも言う。
「オキシ三塩化バナジウム(V)」は「VOCl3」、「三塩化酸化バナジウム(V)」又は「三塩化バナジル」とも言う。
「バナジウム(V)オキシトリエトキシド」は「VO(OEt)3」、「バナジウム(V)トリエトキシドオキシド」又は「トリエトキシバナジウム(V)オキシド」とも言う。
「バナジウム(V)オキシトリイソプロポキシド」は「VO(OPr−i)3」、「バナジウム(V)トリイソプロポキシドオキシド」又は「トリイソプロポキシバナジウム(V)オキシド」
とも言う。
チタン(IV)テトライソプロポキシドは、チタン(IV)イソプロポキシド又はテトライソプロポキシチタン(IV))とも言う。
従って、例えば、「タングステン酸ナトリウム」は「タングステン酸ナトリウム二水和物」及び「タングステン酸ナトリウム十水和物」を包含する。
本明細書中、ポリ酸の形態になり得る酸とその塩(例えば、タングステン酸及びその塩等)は、ポリ酸の形態であってもよく、いずれの形態も本発明の範囲内である。
「ビス(2,4−ペンタンジオナト)モリブデン(VI)ジオキシド」は、「MoO2(acac)2」、「モリブデン(VI)ジオキシアセチルアセトナート」又は「ビス(アセチルアセトナト)酸化モリブデン(VI)」とも言う。
「鉄(I)アセチルアセトネート」は、「Fe(acac)3」又は「トリス(2,4−ペンタンジオナト)鉄(I)」とも言う。
「バナジルアセチルアセトネート」は、「VO(acac)2」、「ビス(2,4−ペンタンジオナト)バナジウム(IV)オキシド」、「バナジウム(IV)オキシアセチルアセトネート」又は「バナジウム(IV)ビス(アセチルアセトナト)オキシド」とも言う。
「オキシ三塩化バナジウム(V)」は「VOCl3」、「三塩化酸化バナジウム(V)」又は「三塩化バナジル」とも言う。
「バナジウム(V)オキシトリエトキシド」は「VO(OEt)3」、「バナジウム(V)トリエトキシドオキシド」又は「トリエトキシバナジウム(V)オキシド」とも言う。
「バナジウム(V)オキシトリイソプロポキシド」は「VO(OPr−i)3」、「バナジウム(V)トリイソプロポキシドオキシド」又は「トリイソプロポキシバナジウム(V)オキシド」
とも言う。
チタン(IV)テトライソプロポキシドは、チタン(IV)イソプロポキシド又はテトライソプロポキシチタン(IV))とも言う。
工程iiiの金属触媒の金属は好ましくは遷移金属である。具体的には、3族元素(Sc、Yなど)、4族元素(Ti、Zr、Hf)、5族元素(V、Nb、Ta)、6族元素(Cr、Mo、W)、7族元素(Mn、Tc、Re)、8族元素(Fe、Ru、Os)、9族元素(Co、Rh、Ir)、10族元素(Ni、Pd、Pt)、11族元素(Cu、Ag、Au)が挙げられる。
工程iiiの金属触媒の遷移金属は、好ましくは周期表4族、5族及び6族の金属である。
工程iiiの金属触媒の遷移金属は、好ましくは5族及び6族である。
工程iiiの金属触媒の遷移金属は、7族、8族及び9族より5族及び6族が好ましい。
工程iiiの金属触媒の好ましい例は、タングステン触媒、モリブデン触媒、ニオブ触媒、タンタル触媒、チタン触媒及びジルコニウム触媒である。
工程iiiの金属触媒の好ましい例は、タングステン触媒、モリブデン触媒、ニオブ触媒及びタンタル触媒である。
工程iiiの金属触媒の好ましい例は、タングステン触媒、モリブデン触媒及びニオブ触媒である。
工程iiiの金属触媒の好ましい例は、タングステン触媒及びモリブデン触媒である。
工程iiiの金属触媒の好ましい例は、タングステン触媒である。
工程iiiの金属触媒の好ましい例は、モリブデン触媒である。
収率、副生成物抑制、経済効率等の観点から、工程iiiのタングステン触媒の好ましい例は、タングステン酸、タングステン酸塩、金属タングステン、酸化タングステン、炭化タングステン、塩化タングステン、硫化タングステン、リンタングステン酸、ケイタングステン酸及びその塩、並びにそれらの混合物、
より好ましくはタングステン酸、タングステン酸塩、金属タングステン、酸化タングステン、炭化タングステン、塩化タングステン及びその塩、並びにそれらの混合物、
更に好ましくはタングステン酸、タングステン酸塩、金属タングステン、酸化タングステン、炭化タングステン、及びそれらの混合物、
更に好ましくはタングステン酸、タングステン酸ナトリウム、タングステン酸カリウム、タングステン酸カルシウム、タングステン酸アンモニウム、金属タングステン、酸化タングステン(VI)、炭化タングステン、及びそれらの混合物
更に好ましくはタングステン酸、タングステン酸ナトリウム、金属タングステン、炭化タングステン、及びそれらの混合物
更に好ましくはタングステン酸及びタングステン酸ナトリウム、特に好ましくはタングステン酸ナトリウムを含む。
より好ましくはタングステン酸、タングステン酸塩、金属タングステン、酸化タングステン、炭化タングステン、塩化タングステン及びその塩、並びにそれらの混合物、
更に好ましくはタングステン酸、タングステン酸塩、金属タングステン、酸化タングステン、炭化タングステン、及びそれらの混合物、
更に好ましくはタングステン酸、タングステン酸ナトリウム、タングステン酸カリウム、タングステン酸カルシウム、タングステン酸アンモニウム、金属タングステン、酸化タングステン(VI)、炭化タングステン、及びそれらの混合物
更に好ましくはタングステン酸、タングステン酸ナトリウム、金属タングステン、炭化タングステン、及びそれらの混合物
更に好ましくはタングステン酸及びタングステン酸ナトリウム、特に好ましくはタングステン酸ナトリウムを含む。
工程iiiの金属触媒(とりわけ、タングステン触媒)は、単独で又は任意の割合の2種以上の組み合わせで使用してもよい。工程iiiの金属触媒(とりわけ、タングステン触媒)の形態は、反応が進行する限りは、いずれの形態でもよい。その形態は、当業者が適切に選択することができる。金属触媒(とりわけ、タングステン触媒)の使用量は、反応が進行する限りは、いずれの量でもよい。その使用量は、当業者が適宜調整することができる。しかしながら、収率、副生成物抑制、経済効率等の観点から、その使用量は、例えば、式(4)の化合物(原料)1モルに対して、0.001〜0.1モル、好ましくは0.01〜0.1モル、より好ましくは0.01〜0.05モル、更に好ましくは0.03〜0.05モルである。
収率、副生成物抑制、経済効率等の観点から、工程iiiのモリブデン触媒の好ましい例は、モリブデン酸、モリブデン酸塩、金属モリブデン、酸化モリブデン、炭化モリブデン、塩化モリブデン、硫化モリブデン、臭化モリブデン、リンモリブデン酸、ケイモリブデン酸及びその塩、並びにそれらの混合物、
より好ましくは、モリブデン酸、モリブデン酸塩、金属モリブデン、炭化モリブデン、酸化モリブデン、塩化モリブデン及びそれらの混合物、
更に好ましくは、モリブデン酸、モリブデン酸ナトリウム、モリブデン酸カリウム、モリブデン酸アンモニウム、酸化モリブデン(VI)、炭化モリブデン、塩化モリブデン(V)、硫化モリブデン(IV)、リンモリブデン酸、リンモリブデン酸ナトリウム、リンモリブデン酸アンモニウム、ケイモリブデン酸、ケイモリブデン酸ナトリウム、及びそれらの混合物、
更に好ましくはモリブデン酸、モリブデン酸ナトリウム、モリブデン酸カリウム、モリブデン酸アンモニウム、酸化モリブデン(VI)、塩化モリブデン(V)、及びそれらの混合物
更に好ましくは、モリブデン酸ナトリウム、モリブデン酸カリウム、モリブデン酸アンモニウム、
特に好ましくは、モリブデン酸アンモニウムを含む。
より好ましくは、モリブデン酸、モリブデン酸塩、金属モリブデン、炭化モリブデン、酸化モリブデン、塩化モリブデン及びそれらの混合物、
更に好ましくは、モリブデン酸、モリブデン酸ナトリウム、モリブデン酸カリウム、モリブデン酸アンモニウム、酸化モリブデン(VI)、炭化モリブデン、塩化モリブデン(V)、硫化モリブデン(IV)、リンモリブデン酸、リンモリブデン酸ナトリウム、リンモリブデン酸アンモニウム、ケイモリブデン酸、ケイモリブデン酸ナトリウム、及びそれらの混合物、
更に好ましくはモリブデン酸、モリブデン酸ナトリウム、モリブデン酸カリウム、モリブデン酸アンモニウム、酸化モリブデン(VI)、塩化モリブデン(V)、及びそれらの混合物
更に好ましくは、モリブデン酸ナトリウム、モリブデン酸カリウム、モリブデン酸アンモニウム、
特に好ましくは、モリブデン酸アンモニウムを含む。
収率、副生成物抑制、経済効率等の観点から、工程iiiのニオブ触媒の好ましい例は、ニオブ酸、ニオブ酸塩、金属ニオブ、炭化ニオブ、酸化ニオブ、塩化ニオブ、窒化ニオブ、ケイ化ニオブ、ホウ化ニオブ、並びにそれらの混合物、
より好ましくは、ニオブ酸、ニオブ酸塩、金属ニオブ、炭化ニオブ、酸化ニオブ、塩化ニオブ等、及びそれらの混合物
更に好ましくは、ニオブ酸ナトリウム、ニオブ酸カリウム、炭化ニオブ、塩化ニオブ(V)、ニオブ(V)ペンタエトキシド等、及びそれらの混合物
更に好ましくは、ニオブ酸ナトリウム及びニオブ酸カリウム、特に好ましくはニオブ酸ナトリウムである。
より好ましくは、ニオブ酸、ニオブ酸塩、金属ニオブ、炭化ニオブ、酸化ニオブ、塩化ニオブ等、及びそれらの混合物
更に好ましくは、ニオブ酸ナトリウム、ニオブ酸カリウム、炭化ニオブ、塩化ニオブ(V)、ニオブ(V)ペンタエトキシド等、及びそれらの混合物
更に好ましくは、ニオブ酸ナトリウム及びニオブ酸カリウム、特に好ましくはニオブ酸ナトリウムである。
収率、副生成物抑制、経済効率等の観点から、工程iiiのタンタル触媒の好ましい例は、タンタル酸、タンタル酸塩、酸化タンタル、炭化タンタル、塩化タンタル、窒化タンタル、ケイ化タンタル、ホウ化タンタル、並びにそれらの混合物、
より好ましくは、タンタル酸、タンタル酸塩、酸化タンタル、炭化タンタル、塩化タンタル及びそれらの混合物、
更に好ましくは、タンタル酸リチウム、タンタル酸カリウム、五酸化タンタル、炭化タンタル、塩化タンタル(V)、タンタル(V)ペンタエトキシド等、及びそれらの混合物、更に好ましくは、タンタル酸リチウム及びタンタル酸カリウム、特に好ましくは、タンタル酸リチウムである。
より好ましくは、タンタル酸、タンタル酸塩、酸化タンタル、炭化タンタル、塩化タンタル及びそれらの混合物、
更に好ましくは、タンタル酸リチウム、タンタル酸カリウム、五酸化タンタル、炭化タンタル、塩化タンタル(V)、タンタル(V)ペンタエトキシド等、及びそれらの混合物、更に好ましくは、タンタル酸リチウム及びタンタル酸カリウム、特に好ましくは、タンタル酸リチウムである。
収率、副生成物抑制、経済効率等の観点から、工程iiiのチタン触媒の好ましい例は、チタン酸、チタン酸塩、酸化チタン、炭化チタン、塩化チタン、窒化チタン、並びにそれらの混合物、
より好ましくは、チタン酸、チタン酸塩、酸化チタン、炭化チタン、塩化チタン及びそれらの混合物、
更に好ましくは、チタンアセチルアセトネート、四塩化チタン、三塩化チタン、チタン(IV)テトライソプロポキシド等、及びそれらの混合物、特に好ましくは、チタンアセチルアセトネートである。
より好ましくは、チタン酸、チタン酸塩、酸化チタン、炭化チタン、塩化チタン及びそれらの混合物、
更に好ましくは、チタンアセチルアセトネート、四塩化チタン、三塩化チタン、チタン(IV)テトライソプロポキシド等、及びそれらの混合物、特に好ましくは、チタンアセチルアセトネートである。
収率、副生成物抑制、経済効率等の観点から、工程iiiのジルコニウム触媒のより好ましくは、ジルコニウム酸、ジルコニウム酸塩、酸化ジルコニウム、炭化ジルコニウム、塩化ジルコニウム、並びにそれらの混合物、
更に好ましくは、二酸化ジルコニウム、塩化ジルコニウム(I)、塩化ジルコニウム(IV)、塩化酸化ジルコニウム等、及びそれらの混合物、特に好ましくは、塩化酸化ジルコニウムである。
更に好ましくは、二酸化ジルコニウム、塩化ジルコニウム(I)、塩化ジルコニウム(IV)、塩化酸化ジルコニウム等、及びそれらの混合物、特に好ましくは、塩化酸化ジルコニウムである。
収率、副生成物抑制、経済効率等の観点から、工程iiiの金属触媒のより好ましくは、タングステン酸、タングステン酸塩、金属タングステン、酸化タングステン、炭化タングステン、塩化タングステン及びその塩、並びにそれらの混合物、
モリブデン酸、モリブデン酸塩、金属モリブデン、炭化モリブデン、酸化モリブデン、塩化モリブデン及びそれらの混合物、
ニオブ酸、ニオブ酸塩、金属ニオブ、炭化ニオブ、酸化ニオブ、塩化ニオブ等、及びそれらの混合物
タンタル酸、タンタル酸塩、酸化タンタル、炭化タンタル、塩化タンタル及びそれらの混合物、
チタン酸、チタン酸塩、酸化チタン、炭化チタン、塩化チタン及びそれらの混合物、
ジルコニウム酸、ジルコニウム酸塩、酸化ジルコニウム、炭化ジルコニウム、塩化ジルコニウム、並びにそれらの混合物である。
モリブデン酸、モリブデン酸塩、金属モリブデン、炭化モリブデン、酸化モリブデン、塩化モリブデン及びそれらの混合物、
ニオブ酸、ニオブ酸塩、金属ニオブ、炭化ニオブ、酸化ニオブ、塩化ニオブ等、及びそれらの混合物
タンタル酸、タンタル酸塩、酸化タンタル、炭化タンタル、塩化タンタル及びそれらの混合物、
チタン酸、チタン酸塩、酸化チタン、炭化チタン、塩化チタン及びそれらの混合物、
ジルコニウム酸、ジルコニウム酸塩、酸化ジルコニウム、炭化ジルコニウム、塩化ジルコニウム、並びにそれらの混合物である。
収率、副生成物抑制、経済効率等の観点から、工程iiiの金属触媒のより好ましくは、タングステン酸、タングステン酸塩、金属タングステン、酸化タングステン、炭化タングステン、塩化タングステン及びその塩、並びにそれらの混合物、
モリブデン酸、モリブデン酸塩、金属モリブデン、炭化モリブデン、酸化モリブデン、塩化モリブデン及びそれらの混合物、
ニオブ酸、ニオブ酸塩、金属ニオブ、炭化ニオブ、酸化ニオブ、塩化ニオブ等、及びそれらの混合物
タンタル酸、タンタル酸塩、酸化タンタル、炭化タンタル、塩化タンタル及びそれらの混合物である。
モリブデン酸、モリブデン酸塩、金属モリブデン、炭化モリブデン、酸化モリブデン、塩化モリブデン及びそれらの混合物、
ニオブ酸、ニオブ酸塩、金属ニオブ、炭化ニオブ、酸化ニオブ、塩化ニオブ等、及びそれらの混合物
タンタル酸、タンタル酸塩、酸化タンタル、炭化タンタル、塩化タンタル及びそれらの混合物である。
収率、副生成物抑制、経済効率等の観点から、工程iiiの金属触媒のより好ましくは、タングステン酸、タングステン酸塩、金属タングステン、酸化タングステン、炭化タングステン、塩化タングステン及びその塩、並びにそれらの混合物、
モリブデン酸、モリブデン酸塩、金属モリブデン、炭化モリブデン、酸化モリブデン、塩化モリブデン及びそれらの混合物、
ニオブ酸、ニオブ酸塩、金属ニオブ、炭化ニオブ、酸化ニオブ、塩化ニオブ等、及びそれらの混合物である。
モリブデン酸、モリブデン酸塩、金属モリブデン、炭化モリブデン、酸化モリブデン、塩化モリブデン及びそれらの混合物、
ニオブ酸、ニオブ酸塩、金属ニオブ、炭化ニオブ、酸化ニオブ、塩化ニオブ等、及びそれらの混合物である。
収率、副生成物抑制、経済効率等の観点から、工程iiiの金属触媒のより好ましくは、タングステン酸、タングステン酸塩、金属タングステン、酸化タングステン、炭化タングステン、塩化タングステン及びその塩、並びにそれらの混合物、
モリブデン酸、モリブデン酸塩、金属モリブデン、炭化モリブデン、酸化モリブデン、塩化モリブデン及びそれらの混合物である。
モリブデン酸、モリブデン酸塩、金属モリブデン、炭化モリブデン、酸化モリブデン、塩化モリブデン及びそれらの混合物である。
収率、副生成物抑制、経済効率等の観点から、工程iiiの金属触媒の更に好ましくは、タングステン酸、タングステン酸ナトリウム、タングステン酸カリウム、タングステン酸カルシウム、タングステン酸アンモニウム、金属タングステン、酸化タングステン(VI)、炭化タングステン、及びそれらの混合物
モリブデン酸、モリブデン酸ナトリウム、モリブデン酸カリウム、モリブデン酸アンモニウム、酸化モリブデン(VI)、炭化モリブデン、塩化モリブデン(V)、硫化モリブデン(IV)、リンモリブデン酸、リンモリブデン酸ナトリウム、リンモリブデン酸アンモニウム、ケイモリブデン酸、ケイモリブデン酸ナトリウム、及びそれらの混合物、
ニオブ酸ナトリウム、ニオブ酸カリウム、炭化ニオブ、塩化ニオブ(V)、ニオブ(V)ペンタエトキシド等、及びそれらの混合物
タンタル酸リチウム、タンタル酸カリウム、五酸化タンタル、炭化タンタル、塩化タンタル(V)、タンタル(V)ペンタエトキシド等、及びそれらの混合物、
チタンアセチルアセトネート、四塩化チタン、三塩化チタン、チタン(IV)テトライソプロポキシド等、及びそれらの混合物、
二酸化ジルコニウム、塩化ジルコニウム(I)、塩化ジルコニウム(IV)、塩化酸化ジルコニウム等、及びそれらの混合物である。
モリブデン酸、モリブデン酸ナトリウム、モリブデン酸カリウム、モリブデン酸アンモニウム、酸化モリブデン(VI)、炭化モリブデン、塩化モリブデン(V)、硫化モリブデン(IV)、リンモリブデン酸、リンモリブデン酸ナトリウム、リンモリブデン酸アンモニウム、ケイモリブデン酸、ケイモリブデン酸ナトリウム、及びそれらの混合物、
ニオブ酸ナトリウム、ニオブ酸カリウム、炭化ニオブ、塩化ニオブ(V)、ニオブ(V)ペンタエトキシド等、及びそれらの混合物
タンタル酸リチウム、タンタル酸カリウム、五酸化タンタル、炭化タンタル、塩化タンタル(V)、タンタル(V)ペンタエトキシド等、及びそれらの混合物、
チタンアセチルアセトネート、四塩化チタン、三塩化チタン、チタン(IV)テトライソプロポキシド等、及びそれらの混合物、
二酸化ジルコニウム、塩化ジルコニウム(I)、塩化ジルコニウム(IV)、塩化酸化ジルコニウム等、及びそれらの混合物である。
収率、副生成物抑制、経済効率等の観点から、工程iiiの金属触媒の更に好ましくは、タングステン酸、タングステン酸ナトリウム、タングステン酸カリウム、タングステン酸カルシウム、タングステン酸アンモニウム、金属タングステン、酸化タングステン(VI)、炭化タングステン、及びそれらの混合物
モリブデン酸、モリブデン酸ナトリウム、モリブデン酸カリウム、モリブデン酸アンモニウム、酸化モリブデン(VI)、炭化モリブデン、塩化モリブデン(V)、硫化モリブデン(IV)、リンモリブデン酸、リンモリブデン酸ナトリウム、リンモリブデン酸アンモニウム、ケイモリブデン酸、ケイモリブデン酸ナトリウム、及びそれらの混合物、
ニオブ酸ナトリウム、ニオブ酸カリウム、炭化ニオブ、塩化ニオブ(V)、ニオブ(V)ペンタエトキシド等、及びそれらの混合物
タンタル酸リチウム、タンタル酸カリウム、五酸化タンタル、炭化タンタル、塩化タンタル(V)、タンタル(V)ペンタエトキシド等、及びそれらの混合物である。
モリブデン酸、モリブデン酸ナトリウム、モリブデン酸カリウム、モリブデン酸アンモニウム、酸化モリブデン(VI)、炭化モリブデン、塩化モリブデン(V)、硫化モリブデン(IV)、リンモリブデン酸、リンモリブデン酸ナトリウム、リンモリブデン酸アンモニウム、ケイモリブデン酸、ケイモリブデン酸ナトリウム、及びそれらの混合物、
ニオブ酸ナトリウム、ニオブ酸カリウム、炭化ニオブ、塩化ニオブ(V)、ニオブ(V)ペンタエトキシド等、及びそれらの混合物
タンタル酸リチウム、タンタル酸カリウム、五酸化タンタル、炭化タンタル、塩化タンタル(V)、タンタル(V)ペンタエトキシド等、及びそれらの混合物である。
収率、副生成物抑制、経済効率等の観点から、工程iiiの金属触媒の更に好ましくは、タングステン酸、タングステン酸ナトリウム、タングステン酸カリウム、タングステン酸カルシウム、タングステン酸アンモニウム、金属タングステン、酸化タングステン(VI)、炭化タングステン、及びそれらの混合物
モリブデン酸、モリブデン酸ナトリウム、モリブデン酸カリウム、モリブデン酸アンモニウム、酸化モリブデン(VI)、炭化モリブデン、塩化モリブデン(V)、硫化モリブデン(IV)、リンモリブデン酸、リンモリブデン酸ナトリウム、リンモリブデン酸アンモニウム、ケイモリブデン酸、ケイモリブデン酸ナトリウム、及びそれらの混合物、
ニオブ酸ナトリウム、ニオブ酸カリウム、炭化ニオブ、塩化ニオブ(V)、ニオブ(V)ペンタエトキシド等、及びそれらの混合物である。
モリブデン酸、モリブデン酸ナトリウム、モリブデン酸カリウム、モリブデン酸アンモニウム、酸化モリブデン(VI)、炭化モリブデン、塩化モリブデン(V)、硫化モリブデン(IV)、リンモリブデン酸、リンモリブデン酸ナトリウム、リンモリブデン酸アンモニウム、ケイモリブデン酸、ケイモリブデン酸ナトリウム、及びそれらの混合物、
ニオブ酸ナトリウム、ニオブ酸カリウム、炭化ニオブ、塩化ニオブ(V)、ニオブ(V)ペンタエトキシド等、及びそれらの混合物である。
収率、副生成物抑制、経済効率等の観点から、工程iiiの金属触媒の更に好ましくは、タングステン酸、タングステン酸ナトリウム、タングステン酸カリウム、タングステン酸カルシウム、タングステン酸アンモニウム、金属タングステン、酸化タングステン(VI)、炭化タングステン、及びそれらの混合物
モリブデン酸、モリブデン酸ナトリウム、モリブデン酸カリウム、モリブデン酸アンモニウム、酸化モリブデン(VI)、炭化モリブデン、塩化モリブデン(V)、硫化モリブデン(IV)、リンモリブデン酸、リンモリブデン酸ナトリウム、リンモリブデン酸アンモニウム、ケイモリブデン酸、ケイモリブデン酸ナトリウム、及びそれらの混合物である。
モリブデン酸、モリブデン酸ナトリウム、モリブデン酸カリウム、モリブデン酸アンモニウム、酸化モリブデン(VI)、炭化モリブデン、塩化モリブデン(V)、硫化モリブデン(IV)、リンモリブデン酸、リンモリブデン酸ナトリウム、リンモリブデン酸アンモニウム、ケイモリブデン酸、ケイモリブデン酸ナトリウム、及びそれらの混合物である。
収率、副生成物抑制、経済効率等の観点から、工程iiiの金属触媒の更に好ましくは、タングステン酸、タングステン酸ナトリウム、タングステン酸カリウム、タングステン酸カルシウム、タングステン酸アンモニウム、金属タングステン、酸化タングステン、炭化タングステン
モリブデン酸ナトリウム、モリブデン酸カリウム、モリブデン酸アンモニウム、
ニオブ酸ナトリウム、ニオブ酸カリウム
タンタル酸リチウム、タンタル酸カリウムである。
モリブデン酸ナトリウム、モリブデン酸カリウム、モリブデン酸アンモニウム、
ニオブ酸ナトリウム、ニオブ酸カリウム
タンタル酸リチウム、タンタル酸カリウムである。
収率、副生成物抑制、経済効率等の観点から、工程iiiの金属触媒の更に好ましくは、タングステン酸、タングステン酸ナトリウム、タングステン酸カリウム、タングステン酸カルシウム、タングステン酸アンモニウム、金属タングステン、酸化タングステン、炭化タングステン
モリブデン酸ナトリウム、モリブデン酸カリウム、モリブデン酸アンモニウム、
ニオブ酸ナトリウム、ニオブ酸カリウムである。
モリブデン酸ナトリウム、モリブデン酸カリウム、モリブデン酸アンモニウム、
ニオブ酸ナトリウム、ニオブ酸カリウムである。
収率、副生成物抑制、経済効率等の観点から、工程iiiの金属触媒の更に好ましくは、タングステン酸、タングステン酸ナトリウム、タングステン酸カリウム、タングステン酸カルシウム、タングステン酸アンモニウム、金属タングステン、酸化タングステン、炭化タングステン
モリブデン酸ナトリウム、モリブデン酸カリウム、モリブデン酸アンモニウムである。
モリブデン酸ナトリウム、モリブデン酸カリウム、モリブデン酸アンモニウムである。
収率、副生成物抑制、経済効率等の観点から、工程iiiの金属触媒の更に好ましくは、タングステン酸、タングステン酸ナトリウム、
モリブデン酸ナトリウム、モリブデン酸カリウム、モリブデン酸アンモニウム、
ニオブ酸ナトリウム、ニオブ酸カリウム
タンタル酸リチウム、タンタル酸カリウムである。
モリブデン酸ナトリウム、モリブデン酸カリウム、モリブデン酸アンモニウム、
ニオブ酸ナトリウム、ニオブ酸カリウム
タンタル酸リチウム、タンタル酸カリウムである。
収率、副生成物抑制、経済効率等の観点から、工程iiiの金属触媒の更に好ましくは、タングステン酸、タングステン酸ナトリウム、
モリブデン酸ナトリウム、モリブデン酸カリウム、モリブデン酸アンモニウム、
ニオブ酸ナトリウム、ニオブ酸カリウムである。
モリブデン酸ナトリウム、モリブデン酸カリウム、モリブデン酸アンモニウム、
ニオブ酸ナトリウム、ニオブ酸カリウムである。
収率、副生成物抑制、経済効率等の観点から、工程iiiの金属触媒の更に好ましくは、タングステン酸、タングステン酸ナトリウム、
モリブデン酸ナトリウム、モリブデン酸カリウム、モリブデン酸アンモニウムである。
モリブデン酸ナトリウム、モリブデン酸カリウム、モリブデン酸アンモニウムである。
収率、副生成物抑制、経済効率等の観点から、工程iiiの金属触媒の特に好ましくは、タングステン酸ナトリウム、モリブデン酸アンモニウム、ニオブ酸ナトリウムである。
収率、副生成物抑制、経済効率等の観点から、工程iiiの金属触媒の特に好ましくは、タングステン酸ナトリウム及びモリブデン酸アンモニウムである。
(工程iiiの酸触媒)
工程iiiの反応は、酸触媒の存在下で行ってもよい。酸触媒は用いなくてもよい。酸触媒を用いるか否かは、当業者が適切に決定することができる。工程iiiの酸触媒の例は、以下を含むが、これらに限定されない:塩酸、硫酸、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸、リン酸、リン酸メチル、リン酸エチル又はリン酸フェニル、好ましくは硫酸、リン酸又はリン酸フェニル、より好ましくは硫酸又はリン酸フェニル、更に好ましくはリン酸フェニル。
工程iiiの酸触媒は、単独で又は任意の割合の2種以上の組み合わせで使用してもよい。工程iiiの酸触媒の形態は、反応が進行する限りは、いずれの形態でもよい。酸触媒の形態は、当業者が適切に選択することができる。工程iiiの酸触媒の使用量は、反応が進行する限りは、いずれの量でもよい。酸触媒の使用量は、当業者が適宜調整することができる。しかしながら、収率、副生成物抑制、経済効率等の観点から、一つの態様では、酸触媒の使用量は、例えば、式(4)の化合物(原料)1モルに対して、0(ゼロ)〜0.1モル、好ましくは0(ゼロ)〜0.05モルである。別の態様では、酸触媒の使用量は、例えば、式(4)の化合物(原料)1モルに対して、0.001〜0.1モル、好ましくは0.005〜0.1モル、より好ましくは0.005〜0.05モル、更に好ましくは0.01〜0.05モルである。
(工程iiiの相間移動触媒)
工程iiiの反応は、相間移動触媒の存在下で行ってもよい。相間移動触媒は用いなくてもよい。相間移動触媒を用いるか否かは、当業者が適切に決定することができる。工程iiiの相間移動触媒の例は、以下を含むが、これらに限定されない:四級アンモニウム塩(例えば、テトラブチルアンモニウムクロリド、テトラブチルアンモニウムブロミド、テトラブチルアンモニウムヨージド、硫酸水素テトラブチルアンモニウム、ベンジルトリメチルアンモニウムクロリド、ベンジルトリメチルアンモニウムブロミド、オクチルトリメチルアンモニウムクロリド、オクチルトリメチルアンモニウムブロミド、トリオクチルメチルアンモニウムクロリド、トリオクチルメチルアンモニウムブロミド、ベンジルラウリルジメチルアンモニウムクロリド(ベンジルドデシルジメチルアンモニウムクロリド)、ベンジルラウリルジメチルアンモニウムブロミド(ベンジルドデシルジメチルアンモニウムブロミド)、ミリスチルトリメチルアンモニウムクロリド(テトラデシルトリメチルアンモニウムクロリド)、ミリスチルトリメチルアンモニウムブロミド(テトラデシルトリメチルアンモニウムブロミド)、ベンジルジメチルステアリルアンモニウムクロリド(ベンジルオクタデシルジメチルアンモニウムクロリド)、ベンジルジメチルステアリルアンモニウムブロミド(ベンジルオクタデシルジメチルアンモニウムブロミド)等)、四級ホスホニウム塩(テトラブチルホスホニウムブロミド、テトラオクチルホスホニウムブロミド、テトラフェニルホスホニウムブロミド等)、クラウンエーテル(例えば、12−クラウン−4、15−クラウン−5、18−クラウン−6等)等。収率、副生成物抑制、経済効率等の観点から、工程iiiの相間移動触媒の好ましい例は、テトラブチルアンモニウムクロリド、テトラブチルアンモニウムブロミド及び硫酸水素テトラブチルアンモニウム、より好ましくは硫酸水素テトラブチルアンモニウムを含む。硫酸水素テトラブチルアンモニウムはTBAHSと略記してもよい。
工程iiiの相間移動触媒は、単独で又は任意の割合の2種以上の組み合わせで使用してもよい。工程iiiの相間移動触媒の形態は、反応が進行する限りは、いずれの形態でもよい。相間移動触媒の形態は、当業者が適切に選択することができる。工程iiiの相間移動触媒の使用量は、反応が進行する限りは、いずれの量でもよい。相間移動触媒の使用量は、当業者が適宜調整することができる。しかしながら、収率、副生成物抑制、経済効率等の観点から、一つの態様では、相間移動触媒の使用量は、例えば、式(4)の化合物(原料)1モルに対して、0(ゼロ)〜0.1モル、好ましくは0(ゼロ)〜0.05モルである。別の態様では、相間移動触媒の使用量は、例えば、式(4)の化合物(原料)1モルに対して、0.001〜0.1モル、好ましくは0.005〜0.05モル、より好ましくは0.01〜0.05モルである。
例えば、工程iiiの溶媒として水とブタノール等のアルコール系溶媒を用いるときは、反応を酸触媒と相間移動触媒の存在下で行うことが好ましい。しかしながら、水とある種の有機溶媒の混合溶媒中では、酸触媒と相間移動触媒の非存在下で反応が十分に進行する。
(工程iiiの反応溶媒)
反応の円滑な進行等の観点から、工程iiiの反応は溶媒の存在下で行うことが好ましい。工程iiiの反応の溶媒は、反応が進行する限りは、いずれの溶媒でもよい。
反応の円滑な進行等の観点から、工程iiiの反応は溶媒の存在下で行うことが好ましい。工程iiiの反応の溶媒は、反応が進行する限りは、いずれの溶媒でもよい。
一つの態様では、工程iiiの反応の溶媒の例は、以下を含むが、これらに限定されない:0(ゼロ)〜50(好ましくは3〜45、より好ましくは5〜45、更に好ましくは5〜35、更に好ましくは5〜30、更に好ましくは5〜20、更に好ましくは8〜20)のアクセプター数を有する有機溶媒、水、及び任意の割合のそれらの任意の組み合わせ。
別の態様では、工程iiiの反応の溶媒の例は、以下を含むが、これらに限定されない:芳香族炭化水素誘導体類(例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、トリクロロベンゼン、ニトロベンゼン等)、ハロゲン化脂肪族炭化水素類(例えば、ジクロロメタン、1,2−ジクロロエタン(EDC)等)、アルコール類(例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、2−プロパノール、ブタノール、sec−ブタノール、イソブタノール、tert−ブタノール(tert−ブタノールはtert−ブチルアルコールとも言う)、ペンタノール、sec−アミルアルコール、3−ペンタノール、2−メチル−1−ブタノール、イソアミルアルコール、tert−アミルアルコール、ヘキサノール、シクロヘキサノール等)、ニトリル類(例えば、アセトニトリル、プロピオニトリル等)、カルボン酸エステル類(例えば、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル及びその異性体、酢酸ペンチル及びその異性体等((本発明において、「酢酸ブチルの異性体」は「酢酸ブチル」の等価体であり、「酢酸ペンチルの異性体」は「酢酸ペンチル」の等価体である。)))、エーテル類(例えば、テトラヒドロフラン(THF)、1,4−ジオキサン、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、ジ−tert−ブチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル(CPME)、メチル−tert−ブチルエーテル、1,2−ジメトキシエタン(DME)、ジグリム(diglyme)等)、ケトン類(例えば、アセトン、メチルエチルケトン(MEK)、メチルイソプロピルケトン(MIPK)、メチルイソブチルケトン(MIBK)等)、アミド類(例えば、N,N−ジメチルホルムアミド(DMF)、N,N−ジメチルアセトアミド(DMAC)、N−メチルピロリドン(NMP)等)、ウレア類(例えば、N,N’−ジメチルイミダゾリジノン(DMI)、テトラメチル尿素等)、スルホキシド類(例えば、ジメチルスルホキシド(DMSO)等)、スルホン類(例えば、スルホラン等)、
水、及び任意の割合のそれらの任意の組み合わせ。「2−プロパノール」は「イソプロピルアルコール」又は「イソプロパノール」とも言う。
水、及び任意の割合のそれらの任意の組み合わせ。「2−プロパノール」は「イソプロピルアルコール」又は「イソプロパノール」とも言う。
しかしながら、収率、副生成物抑制、経済効率等の観点から、工程iiiの反応の溶媒の好ましい例は、以下を含む:芳香族炭化水素誘導体類、ハロゲン化脂肪族炭化水素類、アルコール類、ニトリル類、カルボン酸エステル類、エーテル類、ケトン類、アミド類、ウレア類、スルホキシド類、スルホン類から選択される1個以上(好ましくは1又は2個、より好ましくは1個)の有機溶媒及び水溶媒の任意の割合の組み合わせを含む。
工程iiiの反応の溶媒のより好ましい例は、アルコール類、ニトリル類、カルボン酸エステル類、エーテル類、アミド類、スルホン類から選択される1個以上(好ましくは1又は2個、より好ましくは1個)の有機溶媒及び水溶媒の任意の割合の組み合わせ含む。
工程iiiの反応の溶媒のより好ましい例は、アルコール類、ニトリル類、カルボン酸エステル類、エーテル類、アミド類から選択される1個以上(好ましくは1又は2個、より好ましくは1個)の有機溶媒及び水溶媒の任意の割合の組み合わせ含む。
工程iiiの反応の溶媒のより好ましい例は、アルコール類、ニトリル類、カルボン酸エステル類、アミド類から選択される1個以上(好ましくは1又は2個、より好ましくは1個)の有機溶媒及び水溶媒の任意の割合の組み合わせ含む。
工程iiiの反応の溶媒のより好ましい例は、アルコール類、ニトリル類、カルボン酸エステル類から選択される1個以上(好ましくは1又は2個、より好ましくは1個)の有機溶媒及び水溶媒の任意の割合の組み合わせ含む。
工程iiiの反応の溶媒の更に好ましい例は、ニトリル類、カルボン酸エステル類から選択される1個以上(好ましくは1又は2個、より好ましくは1個)の有機溶媒及び水溶媒の任意の割合の組み合わせ含む。
一つの態様では、工程iiiの反応の溶媒の特に好ましい例は、ニトリル類及び水溶媒の任意の割合の組み合わせ含む。
別の態様では、工程iiiの反応の溶媒の特に好ましい例は、カルボン酸エステル類及び水溶媒の任意の割合の組み合わせ含む。
上記と同様の観点から、工程iiiの反応の溶媒の好ましい具体的な例は、トルエン、キシレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、ジクロロメタン、1,2−ジクロロエタン、メタノール、エタノール、プロパノール、2−プロパノール、ブタノール、sec−ブタノール、イソブタノール、tert−ブタノール、ペンタノール、sec−アミルアルコール、3−ペンタノール、2−メチル−1−ブタノール、イソアミルアルコール、tert−アミルアルコール、アセトニトリル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル及びその異性体(本発明において「酢酸ブチルの異性体」は「酢酸ブチル」の等価体である。)、テトラヒドロフラン(THF)、1,4−ジオキサン、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、ジ−tert−ブチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル(CPME)、メチル−tert−ブチルエーテル、1,2−ジメトキシエタン(DME)、ジグリム(diglyme)、アセトン、メチルエチルケトン(MEK)、メチルイソプロピルケトン(MIPK)、メチルイソブチルケトン(MIBK)、N,N−ジメチルホルムアミド(DMF)、N,N−ジメチルアセトアミド(DMAC)、N−メチルピロリドン(NMP)、N,N’−ジメチルイミダゾリジノン(DMI)、テトラメチル尿素、ジメチルスルホキシド(DMSO)、スルホランから選択される1個以上(好ましくは1又は2個、より好ましくは1個)の有機溶媒及び水溶媒の任意の割合の組み合わせを含む。
上記と同様の観点から、工程iiiの反応の溶媒のより好ましい具体的な例は、トルエン、キシレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、ジクロロメタン、1,2−ジクロロエタン、メタノール、エタノール、プロパノール、2−プロパノール、ブタノール、sec−ブタノール、イソブタノール、tert−ブタノール、アセトニトリル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル及びその異性体(本発明において「酢酸ブチルの異性体」は「酢酸ブチル」の等価体である。)、テトラヒドロフラン(THF)、1,4−ジオキサン、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、ジ−tert−ブチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル(CPME)、メチル−tert−ブチルエーテル、1,2−ジメトキシエタン(DME)、ジグリム(diglyme)、アセトン、メチルエチルケトン(MEK)、メチルイソプロピルケトン(MIPK)、メチルイソブチルケトン(MIBK)、N,N−ジメチルホルムアミド(DMF)、N,N−ジメチルアセトアミド(DMAC)、N−メチルピロリドン(NMP)、N,N’−ジメチルイミダゾリジノン(DMI)、テトラメチル尿素、ジメチルスルホキシド(DMSO)、スルホランから選択される1個以上(好ましくは1又は2個、より好ましくは1個)の有機溶媒及び水溶媒の任意の割合の組み合わせを含む。
上記と同様の観点から、工程iiiの反応の溶媒のより好ましい具体的な例は、トルエン、キシレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、ジクロロメタン、1,2−ジクロロエタン、メタノール、エタノール、2−プロパノール、ブタノール、tert−ブタノール、アセトニトリル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル及びその異性体(本発明において「酢酸ブチルの異性体」は「酢酸ブチル」の等価体である。)、テトラヒドロフラン(THF)、1,4−ジオキサン、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、ジ−tert−ブチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル(CPME)、メチル−tert−ブチルエーテル、1,2−ジメトキシエタン(DME)、ジグリム(diglyme)、アセトン、メチルエチルケトン(MEK)、メチルイソプロピルケトン(MIPK)、メチルイソブチルケトン(MIBK)、N,N−ジメチルホルムアミド(DMF)、N,N−ジメチルアセトアミド(DMAC)、N−メチルピロリドン(NMP)、N,N’−ジメチルイミダゾリジノン(DMI)、テトラメチル尿素、ジメチルスルホキシド(DMSO)、スルホランから選択される1個以上(好ましくは1又は2個、より好ましくは1個)の有機溶媒及び水溶媒の任意の割合の組み合わせを含む。
工程iiiの反応の溶媒のより好ましい具体的な例は、メタノール、エタノール、2−プロパノール、ブタノール、tert−ブタノール、アセトニトリル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル及びその異性体、1,4−ジオキサン、ジグリム(diglyme)、N,N−ジメチルホルムアミド(DMF)、N−メチルピロリドン(NMP)、スルホランから選択される1個以上(好ましくは1又は2個、より好ましくは1個)の有機溶媒及び水溶媒の任意の割合の組み合わせを含む。
工程iiiの反応の溶媒のより好ましい具体的な例は、メタノール、エタノール、2−プロパノール、ブタノール、tert−ブタノール、アセトニトリル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル及びその異性体、N,N−ジメチルホルムアミド(DMF)、N−メチルピロリドン(NMP)から選択される1個以上(好ましくは1又は2個、より好ましくは1個)の有機溶媒及び水溶媒の任意の割合の組み合わせを含む。
工程iiiの反応の溶媒のより好ましい具体的な例は、メタノール、エタノール、2−プロパノール、ブタノール、tert−ブタノール、アセトニトリル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル及びその異性体から選択される1個以上(好ましくは1又は2個、より好ましくは1個)の有機溶媒及び水溶媒の任意の割合の組み合わせを含む。
工程iiiの反応の溶媒の更に好ましい具体的な例は、ブタノール、アセトニトリル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチルから選択される1個以上(好ましくは1又は2個、より好ましくは1個)の有機溶媒及び水溶媒の任意の割合の組み合わせを含む。
工程iiiの反応の溶媒の更に好ましい具体的な例は、エタノール、2−プロパノール、ブタノール、tert−ブタノール、アセトニトリルから選択される1個以上(好ましくは1又は2個、より好ましくは1個)の有機溶媒及び水溶媒の任意の割合の組み合わせを含む。
工程iiiの反応の溶媒の更に好ましい具体的な例は、アセトニトリル、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチルから選択される1個以上(好ましくは1又は2個、より好ましくは1個)の有機溶媒及び水溶媒の任意の割合の組み合わせを含む。
工程iiiの反応の溶媒の更に好ましい具体的な例は、アセトニトリル、酢酸ブチルから選択される1又は2個(好ましくは1個)の有機溶媒及び水溶媒の任意の割合の組み合わせを含む。
一つの態様では、工程iiiの反応の溶媒の特に好ましい具体的な例は、アセトニトリル溶媒及び水溶媒の任意の割合の組み合わせを含む。
別の態様では、工程iiiの反応の溶媒の特に好ましい具体的な例は、酢酸ブチル類及び水溶媒の任意の割合の組み合わせ含む。
いずれの場合も、反応が進行する限りは、溶媒は単層でもよく、2層に分離してもよい。
工程iiiの反応の溶媒の使用量について説明する。「反応の溶媒の全使用量」は、反応に使用した全ての有機溶媒の量と水溶媒の量の合計である。反応後の後処理(例えば、単離、精製等)に使用した有機溶媒及び水溶媒は含まない。反応に使用した「有機溶媒」は、原料溶液中及び反応剤溶液中の有機溶媒を含む。反応に使用した「水溶媒」は、原料溶液中及び反応剤溶液中の水(例えば、過酸化水素水溶液中の水)を含む。
工程iiiの反応の溶媒の全使用量は、反応系の撹拌が十分にできる限りは、特に制限されない。しかしながら、収率、副生成物抑制、経済効率等の観点から、工程iiiの反応の溶媒の全使用量は、例えば、式(4)の化合物(原料)1モルに対して、0.1〜10L(リットル)、好ましくは0.3〜5L、好ましくは、0.3〜3L、より好ましくは0.5〜3L、更に好ましくは0.5〜2L、更に好ましくは0.7〜1.8Lである。
上記と同様の観点から、一つの態様では、工程iiiの反応の有機溶媒の使用量は、例えば、式(4)の化合物(原料)1モルに対して、0.1〜10L(リットル)、好ましくは、0.2〜5L、より好ましくは0.3〜2L、更に好ましくは0.3〜1Lである。
別の態様では、工程iiiの反応の有機溶媒の使用量は、例えば、式(4)の化合物(原料)1モルに対して、0.4〜5L、好ましくは、0.4〜2L、より好ましくは0.4〜1.5L、更に好ましくは0.4〜1.3Lである。更にの態様では、工程iiiの反応の有機溶媒の使用量は、例えば、式(4)の化合物(原料)1モルに対して、0.5〜5L(リットル)、好ましくは、0.5〜2L、より好ましくは0.5〜1.5L、更に好ましくは0.5〜1.3Lである。
上記と同様の観点から、一つの態様では、工程iiiの反応の水溶媒の使用量は、例えば、式(4)の化合物(原料)1モルに対して、0.01〜2L(リットル)、好ましくは、0.05〜1L、より好ましくは0.1〜1L、更に好ましくは0.2〜1Lである。
別の態様では、工程iiiの反応の水溶媒の使用量は、例えば、式(4)の化合物(原料)1モルに対して、0.05〜0.8L(リットル)、好ましくは、0.1〜0.8L、より好ましくは0.2〜0.8L、更に好ましくは0.3〜0.8Lである。更に別の態様では、工程iiiの反応の水溶媒の使用量は、例えば、式(4)の化合物(原料)1モルに対して、0.05〜0.5L(リットル)、好ましくは、0.1〜0.5L、より好ましくは0.2〜0.5L、更に好ましくは0.3〜0.5Lである。更に別の態様では、工程iiiの反応の水溶媒の使用量は、例えば、式(4)の化合物(原料)1モルに対して、0.1〜0.3L(リットル)、好ましくは0.2〜0.3Lである。
2種以上の有機溶媒の組み合わせを用いるときは、2種以上の有機溶媒の割合は、反応が進行する限りは、いずれの割合でもよい。
有機溶媒と水溶媒の組み合わせを用いるときは、有機溶媒と水溶媒の割合は、反応が進行する限りは、いずれの割合でもよい。しかしながら、収率、副生成物抑制、経済効率等の観点から、有機溶媒と水溶媒の比率は、例えば、体積比で90:10〜10:90、好ましくは体積比で90:10〜50:50、より好ましくは体積比で85:15〜55:45、更に好ましくは体積比で80:20〜60:40、更に好ましくは体積比で75:25〜60:40である。
言い換えれば、有機溶媒と水溶媒からなる全溶媒中の水溶媒の量は、例えば、全溶媒の量(100vol%)に対して、10vol%から90vol%、好ましくは10vol%から50vol%、より好ましくは15vol%から45vol%、更に好ましくは20vol%から40vol%、更に好ましくは25vol%から40vol%である。
(工程iiiの前添加水(Pre-added water))
「前添加水」とは、過酸化水素水溶液を加える前に、反応系内にあらかじめ溶媒として加えた水を意味する。安全性、反応の円滑な開始、安定した反応等の観点から、後述の観点から、一つの態様では、前添加水の使用量は、式(4)の化合物1モルに対して、例えば、0(ゼロ)〜1L(リットル)、好ましくは0.01〜1L、より好ましくは0.05〜1L、更に好ましくは0.08〜1L、更に好ましくは0.1〜1Lである。別の態様では、前添加水の使用量は、式(4)の化合物1モルに対して、例えば、0(ゼロ)〜0.5L(リットル)、好ましくは0.01〜0.5L、より好ましくは0.05〜0.5L、更に好ましくは0.08〜0.5L、更に好ましくは0.1〜0.5Lである。更に別の態様では、前添加水の使用量は、式(4)の化合物1モルに対して、例えば、0(ゼロ)〜0.4L(リットル)、好ましくは0.01〜0.4L、より好ましくは0.05〜0.4L、更に好ましくは0.08〜0.2L、更に好ましくは0.1〜0.2Lである。更に別の態様では、前添加水の使用量は、式(4)の化合物1モルに対して、例えば、0(ゼロ)〜0.3L(リットル)、好ましくは0.01〜0.3L、より好ましくは0.05〜0.3L、更に好ましくは0.08〜0.3L、更に好ましくは0.1〜0.3Lである。
「前添加水」とは、過酸化水素水溶液を加える前に、反応系内にあらかじめ溶媒として加えた水を意味する。安全性、反応の円滑な開始、安定した反応等の観点から、後述の観点から、一つの態様では、前添加水の使用量は、式(4)の化合物1モルに対して、例えば、0(ゼロ)〜1L(リットル)、好ましくは0.01〜1L、より好ましくは0.05〜1L、更に好ましくは0.08〜1L、更に好ましくは0.1〜1Lである。別の態様では、前添加水の使用量は、式(4)の化合物1モルに対して、例えば、0(ゼロ)〜0.5L(リットル)、好ましくは0.01〜0.5L、より好ましくは0.05〜0.5L、更に好ましくは0.08〜0.5L、更に好ましくは0.1〜0.5Lである。更に別の態様では、前添加水の使用量は、式(4)の化合物1モルに対して、例えば、0(ゼロ)〜0.4L(リットル)、好ましくは0.01〜0.4L、より好ましくは0.05〜0.4L、更に好ましくは0.08〜0.2L、更に好ましくは0.1〜0.2Lである。更に別の態様では、前添加水の使用量は、式(4)の化合物1モルに対して、例えば、0(ゼロ)〜0.3L(リットル)、好ましくは0.01〜0.3L、より好ましくは0.05〜0.3L、更に好ましくは0.08〜0.3L、更に好ましくは0.1〜0.3Lである。
(工程iiiの反応温度)
工程iiiの反応温度は、特に制限されない。しかしながら、収率、副生成物抑制、経済効率等の観点から、一つの態様では、工程iiiの反応温度は、例えば、0(ゼロ)℃〜100℃、好ましくは20℃〜100℃、より好ましくは50℃〜90℃、好ましくは60℃〜90℃、更に好ましくは70℃〜90℃、更に好ましくは75℃〜90℃、更に好ましくは75℃〜80℃である。同様の観点から、別の態様では、工程iiiの反応温度は、例えば、50℃〜150℃、50℃〜120℃、50℃〜100℃、好ましくは60℃〜150℃、60℃〜120℃、60℃〜100℃である。
工程iiiの反応温度は、特に制限されない。しかしながら、収率、副生成物抑制、経済効率等の観点から、一つの態様では、工程iiiの反応温度は、例えば、0(ゼロ)℃〜100℃、好ましくは20℃〜100℃、より好ましくは50℃〜90℃、好ましくは60℃〜90℃、更に好ましくは70℃〜90℃、更に好ましくは75℃〜90℃、更に好ましくは75℃〜80℃である。同様の観点から、別の態様では、工程iiiの反応温度は、例えば、50℃〜150℃、50℃〜120℃、50℃〜100℃、好ましくは60℃〜150℃、60℃〜120℃、60℃〜100℃である。
(工程iiiの反応時間)
工程iiiの反応時間は、特に制限されない。しかしながら、収率、副生成物抑制、経済効率等の観点から、工程iiiの反応時間は、例えば、1時間〜48時間、好ましくは3時間〜48時間、より好ましくは3時間〜24時間、より好ましくは4時間〜24時間、更に好ましくは4時間〜12時間、更に好ましくは4時間〜8時間である。しかしながら、反応時間は、当業者が適切に調整することができる。
工程iiiの反応時間は、特に制限されない。しかしながら、収率、副生成物抑制、経済効率等の観点から、工程iiiの反応時間は、例えば、1時間〜48時間、好ましくは3時間〜48時間、より好ましくは3時間〜24時間、より好ましくは4時間〜24時間、更に好ましくは4時間〜12時間、更に好ましくは4時間〜8時間である。しかしながら、反応時間は、当業者が適切に調整することができる。
(工程iiiの仕込み方法)
原料、酸化剤、触媒、溶媒等を仕込む順番は、特に制限されない。反応が進行する限りは、それらの添加順序は、いずれの順序でもよい。しかしながら、過酸化水素水溶液を加える前に、反応系内にあらかじめ溶媒としての水と触媒を加えた場合に、反応を円滑に開始できること及び反応の初期段階が安定することが見出された。これは、より安全で工業的に好ましい方法が見出されたことを意味する。従って、過酸化水素水溶液を加える前に、反応系内に溶媒としての水を加えることが好ましい。すなわち、前述の「前添加水(pre-added water)」を用いることが好ましい。
原料、酸化剤、触媒、溶媒等を仕込む順番は、特に制限されない。反応が進行する限りは、それらの添加順序は、いずれの順序でもよい。しかしながら、過酸化水素水溶液を加える前に、反応系内にあらかじめ溶媒としての水と触媒を加えた場合に、反応を円滑に開始できること及び反応の初期段階が安定することが見出された。これは、より安全で工業的に好ましい方法が見出されたことを意味する。従って、過酸化水素水溶液を加える前に、反応系内に溶媒としての水を加えることが好ましい。すなわち、前述の「前添加水(pre-added water)」を用いることが好ましい。
(工程iiiの後処理;単離及び精製)
工程iiiの目的物である式(5)の化合物、とりわけピロキサスルホン(5−a)は、当業者に知られた方法(例えば、抽出、洗浄、再結晶を含む結晶化、結晶洗浄及び/又はその他の操作)及びそれらの改良された方法、及びそれらの任意の組み合わせにより、反応混合物から単離し精製することができる。
工程iiiの目的物である式(5)の化合物、とりわけピロキサスルホン(5−a)は、当業者に知られた方法(例えば、抽出、洗浄、再結晶を含む結晶化、結晶洗浄及び/又はその他の操作)及びそれらの改良された方法、及びそれらの任意の組み合わせにより、反応混合物から単離し精製することができる。
工程iiiにおいては、実施例に示すように、反応後、反応混合物を還元剤(例えば、亜硫酸ナトリウム水溶液)で処理することにより、未反応の過酸化水素等の過酸化物を分解することが好ましい。
後処理工程(単離及び/又は精製)では、以下の操作が行われてもよいが、これらに限定されない:後処理では、有機層と水層の分離を含む、抽出操作及び/又は洗浄操作が行われてもよい。混合物を有機層と水層に分離する場合、混合物が熱いまま、分離してもよい。例えば、有機層と水層を分離するとき、熱い混合物を用いてもよく、混合物を加熱してもよい。熱濾過を含む濾過操作により、不純物を除去してもよい。
後処理では、再結晶を含む目的物の結晶化及び結晶の洗浄を行ってもよい。再結晶を含む目的物の結晶化は当業者に知られた常法で行ってもよい。例えば、目的物の良溶媒の溶液に、貧溶媒を加えてもよい。他の例としては、目的物の飽和溶液を冷却してもよい。
更に他の例としては、目的物の有機溶媒の溶液(反応混合物を含む)から、溶媒を除去してもよい。この場合、使用できる有機溶媒の例は、後記する水混和性有機溶媒の例、好ましい例、より好ましい例、更に好ましい例を含む。系内に予め水を加えた後、有機溶媒を除去してもよい。この場合、有機溶媒を水との共沸により除去してもよい。有機溶媒の除去は、加熱下、減圧下及び常圧下で行ってもよい。更に他の例としては、目的物の水混和性有機溶媒の溶液に水を加えてもよい。水混和性有機溶媒の例は、以下を含むが、これらに限定されない:アルコール類(例えば、メタノール、エタノール、2−プロパノール、ブタノール、t−ブタノール)、ニトリル類(例えば、アセトニトリル)、エーテル類(例えば、テトラヒドロフラン(THF)、1,4−ジオキサン)、ケトン類(例えば、アセトン)、アミド類(例えば、N,N−ジメチルホルムアミド(DMF)、N,N−ジメチルアセトアミド(DMAC)、N−メチルピロリドン(NMP)等)、スルホキシド類(例えば、ジメチルスルホキシド(DMSO)等)、及びそれらの組み合わせ、好ましくはメタノール、エタノール、2−プロパノール、ブタノール、アセトニトリル、アセトン及びそれらの組み合わせ、より好ましくはエタノール、2−プロパノール、ブタノール、アセトニトリル、及びそれらの組み合わせ。「水混和性有機溶媒」は「水溶性有機溶媒」と同じ意味である。「2−プロパノール」は「イソプロピルアルコール」又は「イソプロパノール」とも言う。
上記のいずれの場合も、種晶を用いてもよい。
結晶洗浄操作は、濾取した結晶を溶媒で洗浄してもよい。結晶の懸濁液(スラリー)を撹拌した後、濾過してもよい。いずれの場合も、使用できる溶媒の例は、前記した水混和性有機溶媒の例、好ましい例、より好ましい例、更に好ましい例、及び水を含む。
上記のいずれの場合も(再結晶を含む結晶化操作、結晶洗浄操等)、水混和性有機溶媒等の溶媒の量及び水の量は、その目的が達せられる限りは、いずれの割合でもよい。水混和性有機溶媒と水の組み合わせを用いるときは、それらの割合は、その目的が達せられる限りは、いずれの割合でもよい。2種以上の水混和性有機溶媒等の溶媒の組み合わせを用いるときは、それらの割合は、その目的が達せられる限りは、いずれの割合でもよい。それらの量と割合は、目的と状況に応じて、当業者が適切に調整することができる。
上記のいずれの操作においても(抽出操作、洗浄操作、再結晶を含む結晶化操作、結晶洗浄操作等)、温度は当業者が適切に調整することができる。しかしながら、収率、純度、経済効率等の観点から、例えば、温度は0℃(ゼロ℃)〜100℃、好ましくは5℃〜90℃、より好ましくは10℃〜80℃である。これらの温度の範囲で、加熱及び冷却を行えばよい。
上記のいずれの操作においても(抽出操作、洗浄操作、再結晶を含む結晶化操作、結晶洗浄操作等)、有機溶媒(水混和性有機溶媒を含む)及び/又は水の量は、それらの添加及び除去により、当業者が適切に調整することができる。更には、場合により、溶媒の回収とリサイクルを行ってもよい。例えば、反応に用いた溶媒の回収とリサイクルを行ってもよく、後処理(単離及び/又は精製)において使用した溶媒の回収とリサイクルを行ってもよい。
上記の操作の全て又は一部を適切に組み合わせることにより、後処理(単離及び/又は精製)を行うことができる。場合により、単離及び/又は精製などの目的に合わせて、上記の操作を繰り返してもよい。加えて、上記のいずれの操作の組み合わせ及びそれらの順番を当業者が適切に選択することができる。
(ピロキサスルホンの結晶)
本発明の一態様は、ピロキサスルホンの新規な結晶及びその製造方法を含む。
以下、ピロキサスルホンの結晶化の工程について説明する。
本発明の一態様は、ピロキサスルホンの新規な結晶及びその製造方法を含む。
以下、ピロキサスルホンの結晶化の工程について説明する。
本発明のピロキサスルホンの結晶は、Cu−Kα線を用いた透過法による測定で得られる粉末X線回折スペクトルに認められる特徴的なパターンにより特定される。
本発明のピロキサスルホンの結晶の粉末X線回折スペクトル例を図1に示す。また、特許文献2および10に開示されている方法で製造したピロキサスルホンの結晶の粉末X線回折スペクトルを図2および図3に示す。それぞれの図に示された上下2つのチャートのうち、上側が透過法、下側が反射法で測定した粉末X線回折スペクトルである。本発明においては、透過法で測定した粉末X線回折スペクトルを議論の対象とする。
本発明のピロキサスルホンの結晶と、公知の方法で製造されたピロキサスルホンの結晶について、透過法で測定した粉末X線回折スペクトルを比較すると、少なくとも17.7−17.8°、18.0−18.1°および19.9−20.0°の範囲の回折角2θに特徴的なピークが認められる点では共通するが、ピーク高さの序列は異なる。具体的には、公知の方法で製造されたピロキサスルホンの結晶では17.7−17.8°のピークにおけるピーク高さが最大であるのに対し、本発明のピロキサスルホンの結晶では19.9−20.0°ピークにおけるピーク高さが最大となる。なお、本明細書中において、幅をもって指定したピーク位置の範囲内に複数本のピークが存在する場合は、そのうち最も高いピークを当該位置のピークと認定する。
驚くべきことに、前記ピロキサスルホンの結晶におけるピーク強度の序列の相違が、かかる結晶を用いて調製した農薬製剤の物理化学性を左右するのである。この点についての詳細は、後記する農薬製剤の項に譲る。
一つの態様において、本発明のピロキサスルホンの結晶の粉末X線回折スペクトルは、少なくとも17.7−17.8°、18.0−18.1°および19.9−20.0°の範囲の回折角2θに特徴的なピークを有し、前記3つのピークのうち19.9−20.0°のピークにおけるピーク高さが最大である。
本発明のピロキサスルホンの結晶の粉末X線回折スペクトルにおける19.9−20.0°のピーク高さと17.7−17.8°のピーク高さの比率は、特に限定されないが、通常1:0.01−0.99、好ましくは1:0.02−0.95、より好ましくは1:0.1−0.85、更に好ましくは1:0.3−0.75、格別好ましくは1:0.4−0.65の範囲を含む。
本発明のピロキサスルホンの結晶の粉末X線回折スペクトルにおける19.9−20.0°のピーク高さと18.0−18.1°のピーク高さの比率は、特に限定されないが、通常1:0.01−0.99、好ましくは1:0.02−0.95、より好ましくは1:0.04−0.8、更に好ましくは1:0.07−0.6、格別好ましくは1:0.1−0.5の範囲を含む。
別の態様において、本発明のピロキサスルホンの結晶の粉末X線回折スペクトルは、少なくとも17.7−17.8°、18.0−18.1°および19.9−20.0°の範囲の回折角2θに特徴的なピークを有し、前記3つのピークのうち19.9−20.0°のピークにおけるピーク高さが最大であり、また、少なくとも9.9−10.0°、20.6−20.7°および30.1−30.3°の回折角2θにもピークを有する。
更なる別の態様において、本発明のピロキサスルホンの結晶の粉末X線回折スペクトルは、少なくとも17.7−17.8°、18.0−18.1°および19.9−20.0°の範囲の回折角2θに特徴的なピークを有し、前記3つのピークのうち19.9−20.0°のピークにおけるピーク高さが最大であり、また、少なくとも4.9−5.0°、9.9−10.0°、20.6−20.7°および30.1−30.3°の回折角2θにもピークを有する。
更なる別の態様において、本発明のピロキサスルホンの結晶の粉末X線回折スペクトルは、少なくとも17.7−17.8°、18.0−18.1°および19.9−20.0°の範囲の回折角2θに特徴的なピークを有し、前記3つのピークのうち19.9−20.0°のピークにおけるピーク高さが最大であり、また、少なくとも9.9−10.0°、20.3−20.4°、20.6−20.7°および30.1−30.3°の回折角2θにもピークを有する。
更なる別の態様において、本発明のピロキサスルホンの結晶の粉末X線回折スペクトルは、少なくとも17.7−17.8°、18.0−18.1°および19.9−20.0°の範囲の回折角2θに特徴的なピークを有し、前記3つのピークのうち19.9−20.0°のピークにおけるピーク高さが最大であり、また、少なくとも9.9−10.0°、20.6−20.7°、21.8−21.9°および30.1−30.3°の回折角2θにもピークを有する。
更なる別の態様において、本発明のピロキサスルホンの結晶の粉末X線回折スペクトルは、少なくとも17.7−17.8°、18.0−18.1°および19.9−20.0°の範囲の回折角2θに特徴的なピークを有し、前記3つのピークのうち19.9−20.0°のピークにおけるピーク高さが最大であり、また、少なくとも9.9−10.0°、20.6−20.7°、22.3−22.4°および30.1−30.3°の回折角2θにもピークを有する。
更なる別の態様において、本発明のピロキサスルホンの結晶の粉末X線回折スペクトルは、少なくとも17.7−17.8°、18.0−18.1°および19.9−20.0°の範囲の回折角2θに特徴的なピークを有し、前記3つのピークのうち19.9−20.0°のピークにおけるピーク高さが最大であり、また、少なくとも9.9−10.0°、20.6−20.7°、25.4−25.5°および30.1−30.3°の回折角2θにもピークを有する。
更なる別の態様において、本発明のピロキサスルホンの結晶の粉末X線回折スペクトルは、少なくとも17.7−17.8°、18.0−18.1°および19.9−20.0°の範囲の回折角2θに特徴的なピークを有し、前記3つのピークのうち19.9−20.0°のピークにおけるピーク高さが最大であり、また、少なくとも9.9−10.0°、20.6−20.7°、26.6−26.7°および30.1−30.3°の回折角2θにもピークを有する。
更なる別の態様において、本発明のピロキサスルホンの結晶の粉末X線回折スペクトルは、少なくとも17.7−17.8°、18.0−18.1°および19.9−20.0°の範囲の回折角2θに特徴的なピークを有し、前記3つのピークのうち19.9−20.0°のピークにおけるピーク高さが最大であり、また、少なくとも9.9−10.0°、20.6−20.7°、26.9−27.0°および30.1−30.3°の回折角2θにもピークを有する。
更なる別の態様において、本発明のピロキサスルホンの結晶の粉末X線回折スペクトルは、少なくとも17.7−17.8°、18.0−18.1°および19.9−20.0°の範囲の回折角2θに特徴的なピークを有し、前記3つのピークのうち19.9−20.0°のピークにおけるピーク高さが最大であり、また、少なくとも9.9−10.0°、20.6−20.7°、27.1−27.2°および30.1−30.3°の回折角2θにもピークを有する。
更なる別の態様において、本発明のピロキサスルホンの結晶の粉末X線回折スペクトルは、少なくとも17.7−17.8°、18.0−18.1°および19.9−20.0°の範囲の回折角2θに特徴的なピークを有し、前記3つのピークのうち19.9−20.0°のピークにおけるピーク高さが最大であり、また、少なくとも9.9−10.0°、20.6−20.7°、30.1−30.3°および35.5−35.6°の回折角2θにもピークを有する。
上記いずれの態様においても、本発明のピロキサスルホンの結晶の粉末X線回折スペクトルは、その他に、11.2−11.4°、14.3−14.4°、14.9−15.1°、17.1−17.3°、19.6−19.7°、20.1−20.2°、20.8−20.9°、22.0−22.1°、22.5−22.6°、22.7−22.8°、23.1−23.3°、24.3−24.5°、25.1−25.2°、26.2−26.3°、26.9−27.0°、27.1−27.2°、27.3−27.4°、27.7−27.9°、28.3−28.4°、28.5−28.6°、29.7−29.8°、30.4−30.5°、31.5°−31.6°、32.1−32.3°、32.4−32.5°、32.8−33.0°、33.3−33.4°、34.5−34.7°、34.8−34.9°、35.3−35.4°、36.1−36.2°、36.3−36.4°、36.6−36.7°、37.2−37.3°、38.0−38.1°および38.6−38.7°の回折角2θのうち1または2以上のピークを有してよい。
別の好ましい態様において、本発明のピロキサスルホンの結晶の粉末X線回折スペクトルは、17.8°、18.0°および19.9°の回折角2θに特徴的なピークを有し、前記3つのピークのうち19.9°のピークにおけるピーク高さが最大であり、また、5.0°、9.9°、11.3°、14.4°、15.0°、19.7°、20.2°、20.4°、20.6°、20.8°、21.8°、22.1°、22.3°、22.8°、23.2°、24.4°、25.1°、25.4°、26.3°、26.6°、27.0°、27.1°、28.3°、28.5°、29.7°、30.1°、30.3°、30.6°、31.6°、32.5°、32.9°、34.6°、35.4°、35.5°、36.1°、36.7°、37.2°、38.0°および38.7°の回折角2θにもピークを有する。
別の好ましい態様において、本発明のピロキサスルホンの結晶の粉末X線回折スペクトルは、17.7°、18.0°および19.9°の回折角2θに特徴的なピークを有し、前記3つのピークのうち19.9°のピークにおけるピーク高さが最大であり、また、9.9°、14.4°、20.4°、20.6°、20.8°、21.8°、22.4°、22.5°、25.5°、26.3°、26.6°、27.0°、27.1°、28.4°、30.1°、30.3°、32.4°、34.7°、35.3°、36.1°、36.4°、38.0°および38.7°の回折角2θにもピークを有する。
別の好ましい態様において、本発明のピロキサスルホンの結晶の粉末X線回折スペクトルは、17.8°、18.1°および19.9°の回折角2θに特徴的なピークを有し、前記3つのピークのうち19.9°のピークにおけるピーク高さが最大であり、また、5.0°、9.9°、17.2°、20.6°、21.8°、22.4°、23.2°、25.2°、25.5°、26.3°、26.7°、26.9°、27.1°、29.8°、30.1°、30.2°、34.7°、34.8°および36.2°の回折角2θにもピークを有する。
別の好ましい態様において、本発明のピロキサスルホンの結晶の粉末X線回折スペクトルは、17.7°、18.0°および19.9°の回折角2θに特徴的なピークを有し、前記3つのピークのうち19.9°のピークにおけるピーク高さが最大であり、また、9.9°、20.3°、20.6°、20.7°、21.8°、22.4°、25.4°、27.0°、27.1°、30.1°、30.4°、31.5°、32.4°、33.3°、35.5°、36.1°、36.2°および36.3°の回折角2θにもピークを有する。
別の好ましい態様において、本発明のピロキサスルホンの結晶の粉末X線回折スペクトルは、17.8°、18.0°および19.9°の回折角2θに特徴的なピークを有し、前記3つのピークのうち19.9°のピークにおけるピーク高さが最大であり、また、5.0°、9.9°、20.4°、20.6°、20.8、21.8°、22.4°、22.8°、25.4°、26.6°、27.0°、27.1°、28.5°、29.8°、30.3°、31.6°、34.7°および35.6°の回折角2θにもピークを有する。
別の好ましい態様において、本発明のピロキサスルホンの結晶の粉末X線回折スペクトルは、17.7°、18.0°および19.9°の回折角2θに特徴的なピークを有し、前記3つのピークのうち19.9°のピークにおけるピーク高さが最大であり、また、4.9°、5.0°、9.9°、19.6°、20.2°、20.4°、20.6°、21.8°、22.4°、22.7°、23.2°、25.1°、25.4°、26.6°、27.0°、27.1°、28.5°、30.1°、31.5°、34.6°、34.8°、35.5°および36.1°の回折角2θにもピークを有する。
別の好ましい態様において、本発明のピロキサスルホンの結晶の粉末X線回折スペクトルは、17.7°、18.0°および19.9°の回折角2θに特徴的なピークを有し、前記3つのピークのうち19.9°のピークにおけるピーク高さが最大であり、また、4.9°、9.9°、14.4°、20.4°、20.6°、21.8°、22.3°、22.8°、24.4°、25.1°、25.4°、26.3°、26.6°、27.1°、28.5°、29.7°、30.2°、31.6°、32.4°、33.3°、34.6°、34.7°、35.6°、36.1°、36.3°、36.4°および36.7°の回折角2θにもピークを有する。
別の好ましい態様において、本発明のピロキサスルホンの結晶の粉末X線回折スペクトルは、17.7°、18.0°および19.9°の回折角2θに特徴的なピークを有し、前記3つのピークのうち19.9°のピークにおけるピーク高さが最大であり、また、5.0°、9.9°、20.6°、20.7°、22.3°、26.3°、26.6°、26.7°、27.0°、27.1°、30.1°、30.2°、31.5°、34.7°、34.8°、35.3°、35.4°、36.1°および36.2°の回折角2θにもピークを有する。
別の好ましい態様において、本発明のピロキサスルホンの結晶の粉末X線回折スペクトルは、17.8°、18.0°および20.0°の回折角2θに特徴的なピークを有し、前記3つのピークのうち20.0°のピークにおけるピーク高さが最大であり、また、4.9°、5.0°、9.9°、14.4°、15.0°、19.7°、20.2°、20.3°、20.6°、20.8°、21.8°、22.0°、22.3°、22.7°、23.2°、24.4°、25.1°、25.5°、26.6°、27.0°、27.3°、28.5°、29.7°、30.2°、30.3°、31.5°、32.4°、32.9°、33.4°、34.7°、35.6°、36.1°、36.7°、38.1°および38.7°の回折角2θにもピークを有する。
別の好ましい態様において、本発明のピロキサスルホンの結晶の粉末X線回折スペクトルは、17.7°、18.0°および19.9°の回折角2θに特徴的なピークを有し、前記3つのピークのうち19.9°のピークにおけるピーク高さが最大であり、また、5.0°、9.9°、14.4°、19.6°、20.4°、20.6°、20.7°、21.8°、22.3°、22.4°、22.8°、23.2°、25.1°、25.4°、26.6°、27.0°、28.5°、30.1°、30.3°、31.5°、32.2°、34.6°および35.6°の回折角2θにもピークを有する。
別の好ましい態様において、本発明のピロキサスルホンの結晶の粉末X線回折スペクトルは、17.7°、18.0°および19.9°の回折角2θに特徴的なピークを有し、前記3つのピークのうち19.9°のピークにおけるピーク高さが最大であり、また、5.0°、9.9°、14.4°、20.4°、20.6°、20.8°、21.8°、22.3°、22.8°、23.2°、25.1°、25.5°、26.3°、26.6°、27.0°、27.1°、28.5°、29.8°、30.1°、32.4°、34.6°、34.7°、35.5°、36.1°、38.1°および38.6°の回折角2θにもピークを有する。
別の好ましい態様において、本発明のピロキサスルホンの結晶の粉末X線回折スペクトルは、17.7°、18.0°および19.9°の回折角2θに特徴的なピークを有し、前記3つのピークのうち19.9°のピークにおけるピーク高さが最大であり、また、5.0°、9.9°、14.4°、15.0°、20.3°、20.6°、20.8°、21.8°、22.0°、22.4°、22.8°、23.2°、24.4°、25.1°、25.5°、26.2°、26.6°、27.1°、27.8°、28.5°、29.8°、30.3°、31.5°、32.4°、34.5°、35.6°、37.2°および38.1°の回折角2θにもピークを有する。
一つの態様として、本発明のピロキサスルホンの結晶を得る方法は、濃縮法、貧溶媒添加法、蒸気拡散法(シッティングドロップ法、ハンギングドロップ法、サンドイッチドロップ法を含む)、バッチ法(オイルバッチ法を含む)、透析法、液々拡散法(カウンターディフュージョン法)、冷却法、圧力法、溶融急冷法(メルトクエンチ法)、温度サイクリング法、スラリー攪拌法、超音波法などの公知の晶析技術を含む。一つの好ましい態様として、本発明のピロキサスルホンの結晶を得る方法は、濃縮法、すなわち有機溶剤を主成分とする溶媒とピロキサスルホンを溶質として含み構成されるピロキサスルホンの溶液から有機溶剤を留去してピロキサスルホンを析出させる方法を含む。別の好ましい態様として、本発明のピロキサスルホンの結晶を得る方法は、貧溶媒添加法、すなわち有機溶剤を主成分とする溶媒とピロキサスルホンを溶質として含み構成されるピロキサスルホンの溶液にピロキサスルホンの貧溶媒を添加してピロキサスルホンを析出させる方法を含む。
留去とは、溶媒を構成する有機溶剤の一部または全部を、揮発または沸騰させることにより蒸発させて、溶液から除去することを言う。ピロキサスルホンの溶液を構成する有機溶剤を留去すると、溶液が濃縮され、過飽和状態となり、溶媒に対して過剰となったピロキサスルホンが結晶として析出する。留去は常圧で実施してもよいし、所望により減圧または加圧して実施してもよい。また、留去は室温で実施してもよいし、所望により系を加熱または冷却して実施してもよい。
また、貧溶媒とは、溶質を溶解する能力が低い溶媒を言う。ピロキサスルホンの溶液を構成する溶媒に貧溶媒を添加すると、貧溶媒の量が増すにしたがってピロキサスルホンの溶解度が低下し、過飽和状態となり、溶媒に対して過剰となったピロキサスルホンが結晶として析出する。貧溶媒の添加は室温で実施してもよいし、所望により系を加熱または冷却して実施してもよい。
上記いずれの態様においても、本発明のピロキサスルホンの結晶を得る方法には、あらゆる有機溶剤が任意に使用できるということはできず、有機溶剤の選択は極めて重要となる。有機溶剤の選択を誤ると、所望の粉末X線回折スペクトルに認められる特徴的なパターンを有するピロキサスルホンの結晶は、得ることができない。
有機溶剤を留去して本発明のピロキサスルホンを析出させる態様において、使用できる有機溶剤としては、少なくとも以下を含む:芳香族炭化水素誘導体類(例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、トリクロロベンゼン、ニトロベンゼン等)、ハロゲン化脂肪族炭化水素類(例えば、ジクロロメタン、テトラクロロエチレン等)、アルコール類(例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、tert−ブタノール等)、ニトリル類(例えば、アセトニトリル、プロピオニトリル等)、カルボン酸類(蟻酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸等)、カルボン酸エステル類(例えば、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル及びその異性体、酢酸ペンチル及びその異性体等)、エーテル類(例えば、テトラヒドロフラン、2−メチルテトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、ジ−tert−ブチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、メチル−tert−ブチルエーテル、1,2−ジメトキシエタン、ジグリム(diglyme)等)、ケトン類(例えば、メチルイソプロピルケトン、メチルイソブチルケトン等)、アミド類(例えば、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド等)、ウレア類(例えば、N,N’−ジメチルイミダゾリジノン、テトラメチル尿素等)、スルホキシド類(例えば、ジエチルスルホキシド等)、スルホン類(例えば、スルホラン等)、及び任意の割合のそれらの任意の組み合わせ。特に、ニトリル類、カルボン酸類、カルボン酸エステル類、ケトン類、アミド類およびジハロゲン化脂肪族炭化水素類。
上記のうち、好ましい有機溶剤としては、以下を含む:C2−C5アルカンニトリル、C1−C4カルボン酸、C1−C4アルキルC1−C4カルボキシレート、C1−C4アルキルC1−C4アルキルケトン、N,N−ジ(C1−C4アルキル)C1−C4アルカンアミド、C1−C4ジハロアルカン。特に、アセトニトリル、酢酸、酢酸エチル、メチルイソブチルケトン、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミドおよびジクロロメタン。
上記の態様において、ピロキサスルホンの溶液を構成する溶媒は、更に水を含む含水溶媒であってもよい。ただし、含水溶媒におけるピロキサスルホンの溶解度を十分に高いものとする観点から、有機溶剤を主成分として含むことが好ましい。なお、本明細書中において、ある成分を主成分として含むとは、議論の対象とする組成物を構成する各成分の容量の総和のうち該成分の容量が3分の1以上を占めることを意味する。
上記のうち、好ましい溶媒としては、以下を含む:C1−C4アルコール/C2−C5アルカンニトリル混合溶媒、含水C2−C5アルカンニトリル、C1−C4カルボン酸、C1−C4アルキルC1−C4カルボキシレート、N,N−ジ(C1−C4アルキル)C1−C4アルカンアミドおよびC1−C4ジハロアルカン/C1−C4アルコール混合溶媒。特に、アセトニトリル/メタノール混合溶媒、含水アセトニトリル、酢酸、酢酸エチル、メチルイソブチルケトン、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミドおよびジクロロメタン/エタノール混合溶媒。
一方、上記のうち、一種単独で使用することを避けるべき有機溶剤としては、以下を含む:クロロホルム、ジメチルスルホキシド、1,4−ジオキサン、2−メチルテトラヒドロフラン、N−メチルピロリドン、テトラヒドロフラン、トリフルオロエタノールおよび二硫化炭素。ただし、これらの有機溶剤を他の有機溶剤と組み合わせて使用する態様や、これらの有機溶剤と水を含む含水溶媒の態様までも排除するものではない。
貧溶媒を添加して本発明のピロキサスルホンを析出させる態様において、使用できる有機溶剤としては、少なくとも以下を含む:芳香族炭化水素誘導体類(例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、トリクロロベンゼン、ニトロベンゼン等)、ハロゲン化脂肪族炭化水素類(例えば、ジクロロメタン、テトラクロロエチレン等)、アルコール類(例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、tert−ブタノール等)、ニトリル類(例えば、アセトニトリル、プロピオニトリル等)、カルボン酸類(蟻酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸等)、カルボン酸エステル類(例えば、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル及びその異性体、酢酸ペンチル及びその異性体等)、エーテル類(例えば、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、ジ−tert−ブチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、メチル−tert−ブチルエーテル、1,2−ジメトキシエタン、ジグリム(diglyme)等)、ケトン類(例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソプロピルケトン、メチルイソブチルケトン等)、アミド類(例えば、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン等)、ウレア類(例えば、N,N’−ジメチルイミダゾリジノン、テトラメチル尿素等)、スルホキシド類(例えば、ジメチルスルホキシド、ジエチルスルホキシド等)、スルホン類(例えば、スルホラン等)、及び任意の割合のそれらの任意の組み合わせ。特に、ニトリル類、ケトン類およびカルボン酸エステル類。
上記のうち、好ましい有機溶剤としては、以下を含む:C2−C5アルカンニトリルおよびC1−C4アルキルC1−C4カルボキシレート。特に、アセトニトリル、アセトンおよび酢酸エチル。
上記の態様において、ピロキサスルホンの溶液を構成する溶媒は、更に水を含む含水溶媒であってもよい。ただし、含水溶媒におけるピロキサスルホンの溶解度を十分に高いものとする観点から、有機溶剤を主成分として含むことが好ましい。
上記の態様において、用いられる貧溶媒は、20℃におけるピロキサスルホンの溶解度が50g/L以下である溶媒を言い、少なくとも以下を含む:エーテル類(ジエチルエーテル、メチルtert−ブチルエーテル、アニソール、2−メチルテトラヒドロフラン等)、カルボン酸エステル類(酢酸イソプロピル等)、ケトン類(メチルイソブチルケトン等)、脂肪族炭化水素類(シクロヘキサン、ヘプタン等)、アルコール類(メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、イソブタノール、tert−ブタノール等)、芳香族炭化水素誘導体類(トルエン、キシレン等)および水。特に、アルコール類。
上記の貧溶媒は、ピロキサスルホンの溶液を構成する溶媒と相溶するものを用いることが好ましい。また、C1−C4アルコール類が好ましく、エタノールまたはイソプロパノールが更に好ましく、エタノールが格別好ましい。
ピロキサスルホンの溶液を構成する溶媒と貧溶媒の組み合わせのうち、特に好ましいものとしては、以下を含む:アセトニトリルとエタノール、アセトンとエタノール、酢酸エチルとエタノール。
上記のいずれの場合も、本発明のピロキサスルホンの結晶を得るにあたり、種晶を用いてもよい。
一つの態様において、ピロキサスルホンの溶液は、ピロキサスルホンを合成する反応に用いた反応溶液であってもよい。ピロキサスルホンを合成する方法は特に限定されないが、公知の方法に従って合成することができる。ピロキサスルホンを合成する方法は、好ましくは前記工程(iii)を含む方法である。
本発明のピロキサスルホンの結晶において、通常、結晶の形状は柱状または短柱状である。ここで、結晶の形状が柱状または短柱状であるとは、観察対象の結晶の正投影図に内接する長方形を仮想したときに、該長方形の短辺と長辺の長さの比が1:1−1:10、好ましくは1:1−1:5であるような結晶であることを言う。また、結晶の形状が針状であるとは、前記長方形の長辺の長さが短辺の長さの10倍を超えるような結晶であることを言う。ピロキサスルホンの結晶の形状は、光学顕微鏡や電子顕微鏡などの手段を用いて観察することができ、その観察方法は特に限定されない。本発明のピロキサスルホンの結晶は、その10個を無作為に観察したとき、8個以上の結晶の形状が柱状または短柱状であることが好ましい。
一つの態様において、本発明のピロキサスルホンの結晶は嵩比重がおよそ1.0g/mLの柱状結晶である。一方で特許文献2および10に開示されている方法で得られる針状結晶の嵩比重はおよそ0.5g/mLである。
柱状結晶は嵩比重が大きく、輸送時や製造現場での保管スペースや、使用する各種機器の容量、取り扱いの観点から、針状結晶と比べ有利である。さらに、針状結晶では結晶析出時にスケーリングが観察され、回収率が低くなる傾向がある。
柱状結晶は嵩比重が大きく、輸送時や製造現場での保管スペースや、使用する各種機器の容量、取り扱いの観点から、針状結晶と比べ有利である。さらに、針状結晶では結晶析出時にスケーリングが観察され、回収率が低くなる傾向がある。
本発明のピロキサスルホンの結晶の検鏡写真を図4に示す。また、特許文献2および10に開示されている方法で製造したピロキサスルホンの結晶の検鏡写真を図5および図6に示す。
本発明のピロキサスルホンの結晶は、除草活性成分として単独で使用することも可能であるが、需要者である農業従事者の安全性、利便性等の観点から、各種の農薬助剤と調合した農薬組成物すなわち農薬製剤に加工して使用することが好ましい。
本発明のピロキサスルホンの結晶は、公知慣用の製剤技術により多様な剤型の農薬製剤に加工することができ、そのようにした農薬製剤(以下、本発明の農薬製剤と言うことがある)もまた本発明に包含される。
本発明の農薬製剤の剤型の例は、以下を含むが、これらに限定されない:粉剤、粒剤などの、在り姿のまま農耕地等に散布する製剤の態様;水和剤、顆粒水和剤、水性懸濁剤または油性懸濁剤などの、散布用水にといて懸濁液を調製し、該懸濁液を農耕地等に散布する製剤の態様;乳剤、EW剤などの、散布用水にといて乳液を調製し、該乳液を農耕地等に散布する製剤の態様。
前記剤型の好ましい例は、水和剤、顆粒水和剤、水性懸濁剤または油性懸濁剤などの、散布用水にといて懸濁液を調製し、該懸濁液を農耕地等に散布する製剤の態様を含む。
一つの態様では、前記剤型のより好ましい具体的な例は、水和剤、顆粒水和剤などの固体製剤を含む。
前記固体製剤の更に好ましい具体的な例は、水和剤を含む。
別の態様では、前記剤型のより好ましい具体的な例は、水性懸濁剤または油性懸濁剤などの液体製剤を含む。
前記液体製剤の更に好ましい具体的な例は、水性懸濁剤を含む。
水和剤は、農薬活性成分(本発明においてはピロキサスルホンの結晶)と、農薬助剤として界面活性剤および固体担体を含む粉状の固体製剤である。水和剤の製造方法は、特に限定されない。
顆粒水和剤は、農薬活性成分(本発明においてはピロキサスルホンの結晶)と、農薬助剤として界面活性剤および固体担体を含む粒状の固体製剤である。顆粒水和剤の製造方法は、特に限定されない。
水性懸濁剤は、農薬活性成分(本発明においてはピロキサスルホンの結晶)と、農薬助剤として界面活性剤および水を含む水性の液体製剤である。水性懸濁剤の製造方法は、特に限定されない。
油性懸濁剤は、農薬活性成分(本発明においてはピロキサスルホンの結晶)と、農薬助剤として界面活性剤および油性分散媒を含む油性の液体製剤である。油性分散媒としては、農薬活性成分の貧溶媒であるものが好ましく用いられる。油性懸濁剤の製造方法は、特に限定されない。
前記界面活性剤の配合量や配合比率は、当業者が適宜設定することができる。界面活性剤は1種を単独で用いてもよいし、任意の2種以上を組み合わせて用いてもよい。界面活性剤の例は、以下を含むが、これらに限定されない:ポリオキシアルキレン脂肪酸エステル、ポリオキシアルキレンソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシアルキレンソルビトール脂肪酸エステル、ポリオキシアルキレンヒマシ油、ポリオキシアルキレン硬化ヒマシ油、ポリグリセリン脂肪酸エステル、ポリオキシアルキレンアルキルエーテル、ポリオキシアルキレンアルキルアリールエーテル、ポリオキシアルキレンアリールフェニルエーテル、ソルビタンモノアルキルカルボキシレート、アセチレンアルコール及びアセチレンジオール並びにそれらのアルキレンオキシド付加物などのノニオン性界面活性剤;テトラアルキルアンモニウム塩、アルキルアミン、アルキルピリミジニウム塩などのカチオン性界面活性剤;アルキルアリールスルホン酸塩及びその縮合物、ジアルキルスルホン酸塩、ジアルキルコハク酸塩、アリールスルホン酸塩及びその縮合物、アルキル硫酸エステル塩、アルキルリン酸エステル塩、アルキルアリール硫酸エステル塩、アルキルアリールリン酸エステル塩、リグニンスルホン酸塩、ポリカルボン酸塩、ポリオキシアルキレンアルキルエーテル硫酸塩、ポリオキシアルキレンアルキルエーテルリン酸塩、ポリオキシアルキレンアリールエーテル硫酸塩、ポリオキシアルキレンアリールエーテルリン酸塩、ポリオキシアルキレンアルキルアリールエーテル硫酸塩、ポリオキシアルキレンアルキルアリールエーテルリン酸塩などのアニオン性界面活性剤;アルキルベタイン、アルキルアミンオキシド、アルキルイミダゾリニウムベタイン、アミノ酸、レシチンなどの両性界面活性剤;ポリエーテル変性シリコーンなどのシリコーン系界面活性剤;ペルフルオロアルキルスルホン酸、ペルフルオロアルキルカルボン酸、フッ素テロマーアルコールなどのフッ素系界面活性剤。
前記固体担体の配合量や配合比率は、当業者が適宜設定することができる。固体担体は1種を単独で用いてもよいし、任意の2種以上を組み合わせて用いてもよい。固体担体の例は、以下を含むが、これらに限定されない:ベントナイト、タルク、クレー、カオリン、珪藻土、無晶形二酸化ケイ素、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウムなどの鉱物質微粉;グルコース、砂糖、乳糖などの糖類、カルボキシメチルセルロース及びその塩類、澱粉、デキストリン及びその誘導体、微結晶セルロース、尿素などの有機物;硫酸ナトリウム、硫酸アンモニウム及び塩化カリウムのような水溶性無機塩類。
前記油性分散媒の配合量や配合比率は、当業者が適宜設定することができる。油性分散媒は1種を単独で用いてもよいし、任意の2種以上を組み合わせて用いてもよい。油性分散媒の例は、以下を含むが、これらに限定されない:鯨油、タラ肝油、麝香油、ミンク油などの動物油;大豆油、菜種油、トウモロコシ油、コーン油、ヒマワリ油、綿実油、亜麻仁油、ココナツ油、パーム油、アザミ油、ウオルナッツ油、アラキス油、オリーブ油、パパヤ油、椿油、ヤシ油、ごま油、米ぬか油、落花生油、亜麻仁油、きり油、ひまわり油、ひまし油などの植物油;オレイン酸メチル、菜種油メチルエステル、又は菜種油エチルエステルなどの脂肪酸エステル類;パラフィン、オレフィン、アルキルベンゼン(例えば、トルエン、キシレン、メシチレン、エチルベンゼン等)、アルキルナフタレン(例えば、メチルナフタレン、ジメチルナフタレン、エチルナフタレン等)、ケロシン、フェニルキシリルエタンなどの鉱物油。
上記の他、本発明の農薬製剤には、所望により、澱粉、アルギン酸、グリセリン、ポリビニルピロリドン、ポリウレタン、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリブテン、ポリビニルアルコール、アラビアガム、流動パラフィン、エチルセルロース、ポリビニルアセテート、増粘性多糖類(例えば、キサンタンガム、アラビアガム、グアーガム)等の結合剤;ステアリン酸カルシウム、タルク、シリカ等の滑沢剤;比較的低分子量の水溶性物質(例えば、尿素、食塩)、水溶性多価アルコール(例えば、プロピレングリコール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、グリセリン)などの凍結防止剤;ブリリアントブルーFCF、シアニングリーンG、エリオグリーンGなどの着色剤;ソルビン酸、ソルビン酸カリウム、パラクロロメタキシレノ−ル、パラオキシ安息香酸ブチル、デヒドロ酢酸ナトリウム、5−クロロ−2−メチル−4−イソチアゾリン−3−オン、2−ブロモ−2−プロパン−1,3−ジオール、1,2−ベンゾイソチアゾリン−3−オンなどの防腐剤;無機酸(例えば、塩酸、硫酸、リン酸)、有機酸(例えば、クエン酸、フタル酸、コハク酸)、有機金属塩(例えば、クエン酸ナトリウム、フタル酸水素カリウム)、無機金属塩(例えば、リン酸水素二ナトリウム、リン酸二水素ナトリウム、リン酸水素二カリウム、リン酸二水素カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、ホウ酸ナトリウム)、水酸化物(例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム)、有機アミン類(例えば、トリエタノールアミン)などのpH調整剤;シリコーン系消泡剤(例えば、ジメチルポリシロキサン、ポリフェニルシロキサン)、脂肪酸(例えば、ミリスチン酸)、脂肪酸金属塩(例えば、ステアリン酸ナトリウム)などの消泡剤等の農薬助剤を含有させてもよい。また、液体製剤である本発明の農薬製剤には、所望により、増粘剤を含有させてもよい。増粘剤としては、特に限定されないが、例えば、前掲のうち、固体担体、結合剤として記載した材料が使用できる。本発明の農薬製剤にこれらの農薬助剤を使用する場合の配合量や配合比率は、当業者が適宜設定することができる。
また、本発明の農薬製剤には、所望により、毒性軽減剤を含有させてもよい。毒性軽減剤を含有させる場合の配合量や配合比率は、当業者が適宜設定することができる。毒性軽減剤は1種を単独で用いてもよいし、任意の2種以上を組み合わせて用いてもよい。毒性軽減剤の例は、以下を含むが、これらに限定されない:ベノキサコル(benoxacor)、フリラゾール(furilazole)、ジクロルミド(dichlormid)、ジシクロノン(dicyclonone)、DKA−24(N1,N2−ジアリル−N2−ジクロロアセチルグリシンアミド)、AD−67(4−ジクロロアセチル−1−オキサ−4−アザスピロ[4.5]デカン)、PPG−1292(2,2−ジクロロ−N−(1,3−ジオキサン−2−イルメチル)−N−(2−プロペニル)アセトアミド)、R−29148(3−ジクロロアセチル−2,2,5−トリメチル−1,3−オキサゾリジン)、クロキントセット−メキシル(cloquintcet−mexyl)、ナフタル酸無水物(1,8−Naphthalic Anhydride)、メフェンピル−ジエチル(mefenpyr−diethyl)、メフェンピル(mefenpyr)、メフェンピルエチル(mefenpyr−ethyl)、フェンクロラゾール−エチル(fenchlorazole−O−ethyl)、フェンクロリム(fenclorim)、MG−191(2−ジクロロメチル−2−メチル−1,3−ジオキサン)、シオメトリニル(cyometrinil)、フルラゾール(flurazole)、フルキソフェニム(fluxofenim)、イソキサジフェン(isoxadifen)、イソキサジフェン−エチル(isoxadifen−ethyl)、MON4660(コード番号)、オキサベトリニル(oxabetrinil)、シプロスルファミド(cyprosulfamide)、低級アルキル置換安息香酸、TI−35(コード番号)又はN−(2−メトキシベンゾイル)−4−[(メチルアミノカルボニル)アミノ]ベンゼンスルホンアミド(化学名、CAS登録番号:129531−12−0)。
また、本発明の農薬製剤には、所望により、本発明のピロキサスルホンの結晶とは別に、追加の除草活性成分を含有させてもよい。追加の除草活性成分を含有させる場合の配合量や配合比率は、当業者が適宜設定することができる。追加の除草活性成分は1種を単独で用いてもよいし、任意の2種以上を組み合わせて用いてもよい。追加の除草活性成分の例は、以下を含むが、これらに限定されない:アイオキシニル(ioxynil)、アクロニフェン(aclonifen)、アクロレイン(acrolein)、アザフェニジン(azafenidin)、アシフルオルフェン(acifluorfen)(ナトリウムなどとの塩を含む)、アジムスルフロン(azimsulfuron)、アシュラム(asulam)、アセトクロ−ル(acetochlor)、アトラジン(atrazine)、アニロホス(anilofos)、アミカルバゾン(amicarbazone)、アミドスルフロン(amidosulfuron)、アミトロール(amitrole)、アミノシクロピラクロル(aminocyclopyrachlor)、アミノピラリド(aminopyralid)、アミプロホス・メチル(amiprofos−methyl)、アメトリン(ametryn)、アラクロール(alachlor)、アロキシジム(alloxydim)、イソウロン(isouron)、イソキサクロルトール(isoxachlortole)、イソキサフルトール(isoxaflutole)、イソキサベン(isoxaben)、イソプロツロン(isoproturon)、イプフェンカルバゾン(ipfencarbazone)、イマザキン(imazaquin)、イマザピク(imazapic)(アミンなどとの塩を含む)、イマザピル(imazapyr)(イソプロピルアミンなどの塩を含む)、イマザメタベンズ・メチル(imazamethabenz−methyl)、イマザモックス(imazamox)、イマゼタピル(imazethapyr)、イマゾスルフロン(imazosulfuron)、インダジフラム(indaziflam)、インダノファン(indanofan)、エグリナジン・エチル(eglinazine−ethyl)、エスプロカルブ(esprocarb)、エタメトスルフロン・メチル(ethametsulfuron−methyl)、エタルフルラリン(ethalfluralin)、エチジムロン(ethidimuron)、エトキシスルフロン(ethoxysulfuron)、エトキシフェン・エチル(ethoxyfen−ethyl)、エトフメセート(ethofumesate)、エトベンザニド(etobenzanid)、エンドタール二ナトリウム塩(endothal−disodium)、オキサジアゾン(oxadiazon)、オキサジアルギル(oxadiargyl)、オキサジクロメホン(oxaziclomefone)、オキサスルフロン(oxasulfuron)、オキシフルオルフェン(oxyfluorfen)、オリザリン(oryzalin)、オルトスルファムロン(orthosulfamuron)、オルベンカルブ(orbencarb)、オレイン酸(oleic acid)、カフェンストロール(cafenstrole)、カルフェントラゾン・エチル(carfentrazone−ethyl)、カルブチレート(karbutilate)、カルベタミド(carbetamide)、キザロホップ(quizalofop−ethyl)、キザロホップ・P・エチル(quizalofop−P−ethyl)、キザロホップ・P・テフリル(quizalofop−P−tefuryl)、キノクラミン(quinoclamine)、キンクロラック(quinclorac)、キンメラック(quinmerac)、クミルロン(cumyluron)、クラシホス(clacyfos)、グリホサート(glyphosate)(ナトリウム、カリウム、アンモニウム、アミン、プロピルアミン、イソプロピルアミン、ジメチルアミンまたはトリメシウムなどの塩を含む)、グルホシネート(glufosinate)(アミンまたはナトリウムなどの塩を含む)、グルホシネート・P・ナトリウム塩(glufosinate−P−sodium)、クレトジム(clethodim)、クロジナホップ・プロパルギル(clodinafop−propargyl)、クロピラリド(clopyralid)、クロマゾン(clomazone)、クロメトキシフェン(chlomethoxyfen)、クロメプロップ(clomeprop)、クロランスラム・メチル(cloransulam−methyl)、クロランベン(chloramben)、クロリダゾン(chloridazon)、クロリムロン・エチル(chlorimuron−ethyl)、クロルスルフロン(chlorsulfuron)、クロルタル・ジメチル(chlorthal−dimethyl)、クロルチアミド(chlorthiamid)、クロルフタリム(chlorphthalim)、クロルフルレノール・メチル(chlorflurenol−methyl)、クロルプロファム(chlorpropham)、クロルブロムロン(chlorbromuron)、クロロクスロン(chloroxuron)、クロロトルロン(chlorotoluron)、ケトスピラドックス(ketospiradox)(ナトリウム、カルシウムまたはアンモニアなどの塩を含む)、サフルフェナシル(saflufenacil)、サルメンチン(sarmentine)、シアナジン(cyanazine)、シアナミド(cyanamide)、ジウロン(diuron)、ジエタチル・エチル(diethatyl−ethyl)、ジカンバ(dicamba)(アミン、ジエチルアミン、イソプロピルアミン、ジグリコールアミン、ナトリウムまたはリチウムなどの塩を含む)、シクロエート(cycloate)、シクロキシジム(cycloxydim)、ジクロスラム(diclosulam)、シクロスルファムロン(cyclosulfamuron)、シクロピラニル(cyclopyranil)、シクロピリモレート(cyclopyrimorate)、ジクロベニル(dichlobenil)、ジクロホップ・P・メチル(diclofop−P−methyl)、ジクロホップ・メチル(diclofop−methyl)、ジクロルプロップ(dichlorprop)、ジクロルプロップ−P(dichlorprop−P)、ジクワット(diquat)、ジチオピル(dithiopyr)、シデュロン(siduron)、ジニトラミン(dinitramine)、シニドン・エチル(cinidon−ethyl)、シノスルフロン(cinosulfuron)、ジノゼブ(dinoseb)、ジノテルブ(dinoterb)、シハロホップ・ブチル(cyhalofop−butyl)、ジフェナミド(diphenamid)、ジフェンゾコート(difenzoquat)、ジフルフェニカン(diflufenican)、ジフルフェンゾピル(diflufenzopyr)、シマジン(simazine)、ジメタクロール(dimethachlor)、ジメタメトリン(dimethametryn)、ジメテナミド(dimethenamid)、ジメテナミド・P(dimethenamid−P)、シメトリン(simetryn)、ジメピペレート(dimepiperate)、ジメフロン(dimefuron)、シンメチリン(cinmethylin)、スエップ(swep)、スルコトリオン(sulcotrione)、スルフェントラゾン(sulfentrazone)、スルホサート(sulfosate)、スルホスルフロン(sulfosulfuron)、スルホメツロン・メチル(sulfometuron−methyl)、セトキシジム(sethoxydim)、ターバシル(terbacil)、ダイムロン(daimuron)、タキストミン・A(thaxtomin A)、ダラポン(dalapon)、チアゾピル(thiazopyr)、チアフェナシル(tiafenacil)、チエンカルバゾン(thiencarbazone)(ナトリウム塩、メチルエステルなどを含む)、チオカルバジル(tiocarbazil)、チオベンカルブ(thiobencarb)、チジアジミン(thidiazimin)、チフェンスルフロン・メチル(thifensulfuron−methyl)、デスメディファム(desmedipham)、デスメトリン(desmetryne)、テトフルピロリメット(tetflupyrolimet)、テニルクロール(thenylchlor)、テブタム(tebutam)、テブチウロン(tebuthiuron)、テプラロキシジム(tepraloxydim)、テフリルトリオン(tefuryltrione)、テムボトリオン(tembotrione)、テルブチラジン(terbuthylazine)、テルブトリン(terbutryn)、テルブメトン(terbumeton)、トプラメゾン(topramezone)、トラルコキシジム(tralkoxydim)、トリアジフラム(triaziflam)、トリアスルフロン(triasulfuron)、トリアファモン(triafamone)、トリアレート(tri−allate)、トリエタジン(trietazine)、トリクロピル(triclopyr)、トリクロピル−ブトティル(triclopyr−butotyl)、トリフルジムオキサジン(trifludimoxazin)、トリトスルフロン(tritosulfuron)、トリフルスルフロン・メチル(triflusulfuron−methyl)、トリフルラリン(trifluralin)、トリフロキシスルフロンナトリウム塩(trifloxysulfuron−sodium)、トリベニュロン・メチル(tribenuron−methyl)、トルピラレート(tolpyralate)、ナプタラム(naptalam)(ナトリウムなどとの塩を含む)、ナプロアニリド(naproanilide)、ナプロパミド(napropamide)、ナプロパミド−M(napropamide−M)、ニコスルフロン(nicosulfuron)、ネブロン(neburon)、ノルフルラゾン(norflurazon)、バーナレート(vernolate)、パラコート(paraquat)、ハルキシフェン−ベンジル(halauxifen−benzyl)、ハルキシフェン−メチル(halauxifen−methyl)、ハロキシホップ(haloxyfop)、ハロキシホップ・P(haloxyfop−P)、ハロキシホップ−エトティル(haloxyfop−etotyl)、ハロサフェン(halosafen)、ハロスルフロン・メチル(halosulfuron−methyl)、ビクスロゾン(bixlozone)、ピクロラム(picloram)、ピコリナフェン(picolinafen)、ビシクロピロン(bicyclopyrone)、ビスピリバック・ナトリウム塩(bispyribac−sodium)、ピノキサデン(pinoxaden)、ビフェノックス(bifenox)、ピペロホス(piperophos)、ピラクロニル(pyraclonil)、ピラスルホトール(pyrasulfotole)、ピラゾキシフェン(pyrazoxyfen)、ピラゾスルフロン・エチル(pyrazosulfuron−ethyl)、ピラゾリネート(pyrazolynate)、ビラナホス(bilanafos)、ピラフルフェン・エチル(pyraflufen−ethyl)、ピリダフォル(pyridafol)、ピリチオバック・ナトリウム塩(pyrithiobac−sodium)、ピリデート(pyridate)、ピリフタリド(pyriftalid)、ピリブチカルブ(pyributicarb)、ピリベンゾキシム(pyribenzoxim
)、ピリミスルファン(pyrimisulfan)、ピリミノバック・メチル(pyriminobac−methyl)、ピロクススラム(pyroxsulam)、フェニソファム(phenisopham)、フェニュロン(fenuron)、フェノキサスルホン(fenoxasulfone)、フェノキサプロップ(fenoxaprop)(メチル、エチル、イソプロピルエステルを含む)、フェノキサプロップ・P(fenoxaprop−P)(メチル、エチル、イソプロピルエステルを含む)、フェンキノトリオン(fenquinotrione)、フェンチアプロップ・エチル(fenthiaprop−ethyl)、フェントラザミド(fentrazamide)、フェンメディファム(phenmedipham)、ブタクロール(butachlor)、ブタフェナシル(butafenacil)、ブタミホス(butamifos)、ブチレート(butylate)、ブテナクロール(butenachlor)、ブトラリン(butralin)、ブトロキシジム(butroxydim)、フラザスルフロン(flazasulfuron)、フラムプロップ(flamprop)(メチル、エチル、イソプロピルエステルを含む)、フラムプロップ・M(flamprop−M)(メチル、エチル、イソプロピルエステルを含む)、プリミスルフロン・メチル(primisulfuron−methyl)、フルアジホップ・ブチル(fluazifop−butyl)、フルアジホップ・P・ブチル(fluazifop−P−butyl)、フルアゾレート(fluazolate)、フルオメツロン(fluometuron)、フルオログリコフェン・エチル(fluoroglycofen−ethyl)、フルカルバゾン・ナトリウム塩(flucarbazone−sodium)、フルクロラリン(fluchloralin)、フルセトスルフロン(flucetosulfuron)、フルチアセット・メチル(fluthiacet−methyl)、フルピルスルフロン・メチル・ナトリウム塩(flupyrsulfuron−methyl−sodium)、フルフェナセット(flufenacet)、フルフェンピル・エチル(flufenpyr−ethyl)、フルプロパネート(flupropanate)、フルポキサム(flupoxame)、フルミオキサジン(flumioxazin)、フルミクロラック・ペンチル(flumiclorac−pentyl)、フルメツラム(flumetsulam)、フルリドン(fluridone)、フルルタモン(flurtamone)、フルロキシピル(fluroxypyr)、フルロクロリドン(flurochloridone)、プレチラクロール(pretilachlor)、プロカルバゾン・ナトリウム塩(procarbazone−sodium)、プロジアミン(prodiamine)、プロスルフロン(prosulfuron)、プロスルホカルブ(prosulfocarb)、プロパキザホップ(propaquizafop)、プロパクロール(propachlor)、プロパジン(propazine)、プロパニル(propanil)、プロピザミド(propyzamide)、プロピソクロール(propisochlor)、プロピリスルフロン(propyrisulfuron)、プロファム(propham)、プロフルアゾール(profluazol)、プロポキシカルバゾン・ナトリウム塩(propoxycarbazone−sodium)、プロホキシジム(profoxydim)、ブロマシル(bromacil)、ブロムピラゾン(brompyrazon)、プロメトリン(prometryn)、プロメトン(prometon)、ブロモキシニル(bromoxynil)(酪酸、オクタン酸またはヘプタン酸などのエステル体を含む)、ブロモフェノキシム(bromofenoxim)、ブロモブチド(bromobutide)、フロラスラム(florasulam)、フロルピラキシフェン(florpyrauxifen)、ヘキサジノン(hexazinone)、ペトキサミド(pethoxamid)、ベナゾリン(benazolin)、ペノキススラム(penoxsulam)、ヘプタマロキシログルカン(heptamaloxyloglucan)、ベフルブタミド(beflubutamid)、ベフルブタミド−M(beflubutamid−M)、ペブレート(pebulate)、ペラルゴン酸(pelargonic−acid)、ベンカルバゾン(bencarbazone)、ペンジメタリン(pendimethalin)、ベンズフェンジゾン(benzfendizone)、ベンスリド(bensulide)、ベンスルフロン・メチル(bensulfuron−methyl)、ベンゾビシクロン(benzobicyclon)、ベンゾフェナップ(benzofenap)、ベンタゾン(bentazone)、ペンタノクロール(pentanochlor)、ペントキサゾン(pentoxazone)、ベンフルラリン(benfluralin)、ベンフレセート(benfuresate)、ホサミン(fosamine)、ホメサフェン(fomesafen)、ホラムスルフロン(foramsulfuron)、メコプロップ(mecoprop)(ナトリウム、カリウム、イソプロピルアミン、トリエタノールアミン、ジメチルアミンなどの塩を含む)、メコプロップ・P・カリウム塩(mecoprop−P−potassium)、メソスフロン・メチル(mesosulfuron−methyl)、メソトリオン(mesotrione)、メタザクロール(metazachlor)、メタゾスルフロン(metazosulfuron)、メタベンズチアズロン(methabenzthiazuron)、メタミトロン(metamitron)、メタミホップ(metamifop)、DSMA(メタンアルソン酸二ナトリウム)、メチオゾリン(methiozolin)、メチルダイムロン(methyldymuron)、メトキスロン(metoxuron)、メトスラム(metosulam)、メトスルフロン・メチル(metsulfuron−methyl)、メトブロムロン(metobromuron)、メトベンズロン(metobenzuron)、メトラクロール(metolachlor)、メトリブジン(metribuzin)、メフェナセット(mefenacet)、モノスルフロン(monosulfuron)(メチル、エチル、イソプロピルエステルを含む)、モノリニュロン(monolinuron)、モリネート(molinate)、ヨードスルフロン(iodosulfuron)、ヨードスルフロンメチルナトリウム塩(iodosulfulon−methyl−sodium)、ヨーフェンスルフロン(iofensulfuron)、ヨーフェンスルフロン・ナトリウム塩(iofensulfuron−sodium)、ラクトフェン(lactofen)、ランコトリオン(lancotrione)、リニュロン(linuron)、リムスルフロン(rimsulfuron)、レナシル(lenacil)、TCA(2,2,2−トリクロロ酢酸)(ナトリウム、カルシウム又はアンモニアなどの塩を含む)、2,3,6−TBA(2,3,6−トリクロロ安息香酸)、2,4,5−T(2,4,5−トリクロロフェノキシ酢酸)、2,4−D(2,4−ジクロロフェノキシ酢酸)(アミン、ジエチルアミン、トリエタノールアミン、イソプロピルアミン、ナトリウム又はリチウムなどの塩を含む)、ACN(2−アミノ−3−クロロ−1,4−ナフトキノン)、MCPA(2−メチル−4−クロロフェノキシ酢酸)、MCPB(2−メチル−4−クロロフェノキシ酪酸)(ナトリウム塩、エチルエステルなどを含む)、2,4−DB(4−(2,4−ジクロロフェノキシ)酪酸)、DNOC(4,6−ジニトロ−O−クレゾール)(アミン又はナトリウムなどの塩を含む)、AE−F‐150944(コード番号)、HW−02(コード番号)、IR−6396(コード番号)、MCPA・チオエチル(MCPA−thioethyl)、SYP−298(コード番号)、SYP−300(コード番号)、EPTC(S−エチルジプロピルチオカーバメート)、S−メトラクロール(S−metolachlor)、S−9750(コード番号)、MSMA(MSMA)。
)、ピリミスルファン(pyrimisulfan)、ピリミノバック・メチル(pyriminobac−methyl)、ピロクススラム(pyroxsulam)、フェニソファム(phenisopham)、フェニュロン(fenuron)、フェノキサスルホン(fenoxasulfone)、フェノキサプロップ(fenoxaprop)(メチル、エチル、イソプロピルエステルを含む)、フェノキサプロップ・P(fenoxaprop−P)(メチル、エチル、イソプロピルエステルを含む)、フェンキノトリオン(fenquinotrione)、フェンチアプロップ・エチル(fenthiaprop−ethyl)、フェントラザミド(fentrazamide)、フェンメディファム(phenmedipham)、ブタクロール(butachlor)、ブタフェナシル(butafenacil)、ブタミホス(butamifos)、ブチレート(butylate)、ブテナクロール(butenachlor)、ブトラリン(butralin)、ブトロキシジム(butroxydim)、フラザスルフロン(flazasulfuron)、フラムプロップ(flamprop)(メチル、エチル、イソプロピルエステルを含む)、フラムプロップ・M(flamprop−M)(メチル、エチル、イソプロピルエステルを含む)、プリミスルフロン・メチル(primisulfuron−methyl)、フルアジホップ・ブチル(fluazifop−butyl)、フルアジホップ・P・ブチル(fluazifop−P−butyl)、フルアゾレート(fluazolate)、フルオメツロン(fluometuron)、フルオログリコフェン・エチル(fluoroglycofen−ethyl)、フルカルバゾン・ナトリウム塩(flucarbazone−sodium)、フルクロラリン(fluchloralin)、フルセトスルフロン(flucetosulfuron)、フルチアセット・メチル(fluthiacet−methyl)、フルピルスルフロン・メチル・ナトリウム塩(flupyrsulfuron−methyl−sodium)、フルフェナセット(flufenacet)、フルフェンピル・エチル(flufenpyr−ethyl)、フルプロパネート(flupropanate)、フルポキサム(flupoxame)、フルミオキサジン(flumioxazin)、フルミクロラック・ペンチル(flumiclorac−pentyl)、フルメツラム(flumetsulam)、フルリドン(fluridone)、フルルタモン(flurtamone)、フルロキシピル(fluroxypyr)、フルロクロリドン(flurochloridone)、プレチラクロール(pretilachlor)、プロカルバゾン・ナトリウム塩(procarbazone−sodium)、プロジアミン(prodiamine)、プロスルフロン(prosulfuron)、プロスルホカルブ(prosulfocarb)、プロパキザホップ(propaquizafop)、プロパクロール(propachlor)、プロパジン(propazine)、プロパニル(propanil)、プロピザミド(propyzamide)、プロピソクロール(propisochlor)、プロピリスルフロン(propyrisulfuron)、プロファム(propham)、プロフルアゾール(profluazol)、プロポキシカルバゾン・ナトリウム塩(propoxycarbazone−sodium)、プロホキシジム(profoxydim)、ブロマシル(bromacil)、ブロムピラゾン(brompyrazon)、プロメトリン(prometryn)、プロメトン(prometon)、ブロモキシニル(bromoxynil)(酪酸、オクタン酸またはヘプタン酸などのエステル体を含む)、ブロモフェノキシム(bromofenoxim)、ブロモブチド(bromobutide)、フロラスラム(florasulam)、フロルピラキシフェン(florpyrauxifen)、ヘキサジノン(hexazinone)、ペトキサミド(pethoxamid)、ベナゾリン(benazolin)、ペノキススラム(penoxsulam)、ヘプタマロキシログルカン(heptamaloxyloglucan)、ベフルブタミド(beflubutamid)、ベフルブタミド−M(beflubutamid−M)、ペブレート(pebulate)、ペラルゴン酸(pelargonic−acid)、ベンカルバゾン(bencarbazone)、ペンジメタリン(pendimethalin)、ベンズフェンジゾン(benzfendizone)、ベンスリド(bensulide)、ベンスルフロン・メチル(bensulfuron−methyl)、ベンゾビシクロン(benzobicyclon)、ベンゾフェナップ(benzofenap)、ベンタゾン(bentazone)、ペンタノクロール(pentanochlor)、ペントキサゾン(pentoxazone)、ベンフルラリン(benfluralin)、ベンフレセート(benfuresate)、ホサミン(fosamine)、ホメサフェン(fomesafen)、ホラムスルフロン(foramsulfuron)、メコプロップ(mecoprop)(ナトリウム、カリウム、イソプロピルアミン、トリエタノールアミン、ジメチルアミンなどの塩を含む)、メコプロップ・P・カリウム塩(mecoprop−P−potassium)、メソスフロン・メチル(mesosulfuron−methyl)、メソトリオン(mesotrione)、メタザクロール(metazachlor)、メタゾスルフロン(metazosulfuron)、メタベンズチアズロン(methabenzthiazuron)、メタミトロン(metamitron)、メタミホップ(metamifop)、DSMA(メタンアルソン酸二ナトリウム)、メチオゾリン(methiozolin)、メチルダイムロン(methyldymuron)、メトキスロン(metoxuron)、メトスラム(metosulam)、メトスルフロン・メチル(metsulfuron−methyl)、メトブロムロン(metobromuron)、メトベンズロン(metobenzuron)、メトラクロール(metolachlor)、メトリブジン(metribuzin)、メフェナセット(mefenacet)、モノスルフロン(monosulfuron)(メチル、エチル、イソプロピルエステルを含む)、モノリニュロン(monolinuron)、モリネート(molinate)、ヨードスルフロン(iodosulfuron)、ヨードスルフロンメチルナトリウム塩(iodosulfulon−methyl−sodium)、ヨーフェンスルフロン(iofensulfuron)、ヨーフェンスルフロン・ナトリウム塩(iofensulfuron−sodium)、ラクトフェン(lactofen)、ランコトリオン(lancotrione)、リニュロン(linuron)、リムスルフロン(rimsulfuron)、レナシル(lenacil)、TCA(2,2,2−トリクロロ酢酸)(ナトリウム、カルシウム又はアンモニアなどの塩を含む)、2,3,6−TBA(2,3,6−トリクロロ安息香酸)、2,4,5−T(2,4,5−トリクロロフェノキシ酢酸)、2,4−D(2,4−ジクロロフェノキシ酢酸)(アミン、ジエチルアミン、トリエタノールアミン、イソプロピルアミン、ナトリウム又はリチウムなどの塩を含む)、ACN(2−アミノ−3−クロロ−1,4−ナフトキノン)、MCPA(2−メチル−4−クロロフェノキシ酢酸)、MCPB(2−メチル−4−クロロフェノキシ酪酸)(ナトリウム塩、エチルエステルなどを含む)、2,4−DB(4−(2,4−ジクロロフェノキシ)酪酸)、DNOC(4,6−ジニトロ−O−クレゾール)(アミン又はナトリウムなどの塩を含む)、AE−F‐150944(コード番号)、HW−02(コード番号)、IR−6396(コード番号)、MCPA・チオエチル(MCPA−thioethyl)、SYP−298(コード番号)、SYP−300(コード番号)、EPTC(S−エチルジプロピルチオカーバメート)、S−メトラクロール(S−metolachlor)、S−9750(コード番号)、MSMA(MSMA)。
また、本発明の農薬製剤には、所望により、本発明のピロキサスルホンの結晶に加えて、害虫防除活性成分を含有させてもよい。害虫防除活性成分を含有させる場合の配合量や配合比率は、当業者が適宜設定することができる。害虫防除活性成分は1種を単独で用いてもよいし、任意の2種以上を組み合わせて用いてもよい。害虫防除活性成分の例は、以下を含むが、これらに限定されない:アクリナトリン(acrinathrin)、アザジラクチン(azadirachtin)、アザメチホス(azamethiphos)、アジンホス・エチル(azinphos−ethyl)、アジンホス・メチル(azinphos−methyl)、アセキノシル(acequinocyl)、アセタミプリド(acetamiprid)、アセトプロール(acetoprole)、アセフェート(acephate)、アゾシクロチン(azocyclotin)、アバメクチン(abamectin)、アフィドピロペン(afidopyropen)、アフォキソレイナー(afoxolaner)、アミドフルメット(amidoflumet)、アミトラズ(amitraz)、アラニカルブ(alanycarb)、アルジカルブ(aldicarb)、アルドキシカルブ(aldoxycarb)、アレスリン(allethrin)[d−cis−trans−体、d−trans−体を含む]、イサゾホス(isazophos)、イサミドホス(isamidofos)、イソカルボホス(isocarbophos)、イソキサチオン(isoxathion)、イソシクロセラム(isocycloseram)、イソフェンホス・メチル(isofenphos−methyl)、イソプロカルブ(isoprocarb)、イベルメクチン(ivermectin)、イミシアホス(imicyafos)、イミダクロプリド(imidacloprid)、イミプロトリン(imiprothrin)、インドキサカルブ(indoxacarb)、エスフェンバレレート(esfenvalerate)、エチオフェンカルブ(ethiofencarb)、エチオン(ethion)、エチプロール(ethiprole)、エチレンジブロミド(ethylene dibromide)、エトキサゾール(etoxazole)、エトフェンプロックス(etofenprox)、エトプロホス(ethoprophos)、エトリムホス(etrimfos)、エマメクチンベンゾエート(emamectin benzoate)、エンドスルファン(endosulfan)、エンペントリン(empenthrin)、オキサゾスルフィル(oxazosulfyl)、オキサミル(oxamyl)、オキシジメトン・メチル(oxydemeton−methyl)、オキシデプロホス(oxydeprofos)、オメトエート(omethoate)、カズサホス(cadusafos)、カッパ−テフルトリン(kappa−tefluthrin)、カッパ−ビフェントリン(kappa−bifenthrin)、カデスリン(kadethrin)、カランジン(karanjin)、カルタップ(cartap)、カルバリル(carbaryl)、カルボスルファン(carbosulfan)、カルボフラン(carbofuran)、ガンマ−BHC(gamma−BHC)、キシリルカルブ(xylylcarb)、キナルホス(quinalphos)、キノプレン(kinoprene)、キノメチオネート(chinomethionat)、クマホス(coumaphos)、クリオライト(cryolite)、クロチアニジン(clothianidin)、クロフェンテジン(clofentezine)、クロマフェノジド(chromafenozide)、クロラントラニリプロール(chlorantraniliprole)、クロルエトキシホス(chlorethoxyfos)、クロルデン(chlordane)、クロルピクリン(chloropicrin)、クロルピリホス(chlorpyrifos)、クロルピリホス・メチル(chlorpyrifos−methyl)、クロルフェナピル(chlorfenapyr)、クロルフェンビンホス(chlorfenvinphos)、クロルフルアズロン(chlorfluazuron)、クロルメホス(chlormephos)、クロロプラレスリン(chloroprallethrin)、シアノホス(cyanophos)、ジアフェンチウロン(diafenthiuron)、ジアミダホス(diamidafos)、シアントラニリプロール(cyantraniliprole)、ジエノクロル(dienochlor)、シエノピラフェン(cyenopyrafen)、ジオキサベンゾホス(dioxabenzofos)、ジオフェノラン(diofenolan)、シクラニリプロール(cyclaniliprole)、ジクロトホス(dicrotophos)、ジクロフェンチオン(dichlofenthion)、シクロプロトリン(cycloprothrin)、ジクロルボス(dichlorvos)、ジクロロメゾチアズ(dicloromezotiaz)、1,3−ジクロロプロペン(1,3−dichloropropene)、ジコホル(dicofol)、ジシクラニル(dicyclanil)、ジスルホトン(disulfoton)、ジノテフラン(dinotefuran)、ジノブトン(dinobuton)、シハロジアミド(cyhalodiamide)、シハロトリン(cyhalothrin)[gamma−体,lambda−体を含む]、シフェノトリン(cyphenothrin)[(1R)−trans−体を含む]、シフルトリン(cyfluthrin)[beta−体を含む]、ジフルベンズロン(diflubenzuron)、シフルメトフェン(cyflumetofen)、ジフロビダジン(diflovidazin)、シヘキサチン(cyhexatin)、シペルメトリン(cypermethrin)[alpha−体,beta−体,theta−体,zeta−体を含む]、ジムプロピリダッツ(dimpropyridaz)、ジメチルビンホス(dimethylvinphos)、ジメフルスリン(dimefluthrin)、ジメトエート(dimethoate)、シラフルオフェン(silafluofen)、シロマジン(cyromazine)、スピネトラム(spinetoram)、スピノサド(spinosad)、スピロジクロフェン(spirodiclofen)、スピロテトラマト(spirotetramat)、スピロピジオン(spiropidion)、スピロメシフェン(spiromesifen)、スルコフロン・ナトリウム塩(sulcofuron−sodium)、スルフルラミド(sulfluramid)、スルホキサフロル(sulfoxaflor)、スルホテップ(sulfotep)、ダイアジノン(diazinon)、チアクロプリド(thiacloprid)、チアメトキサム(thiamethoxam)、チオキサザフェン(tioxazafen)、チオジカルブ(thiodicarb)、チオシクラム(thiocyclam)、チオスルタップ(thiosultap)、チオナジン(thionazin)、チオファノックス(thiofanox)、チオメトン(thiometon)、チクロピラゾフロル(tyclopyrazoflor)、テトラクロラントラニリプロール(tetrachlorantraniliprole)、テトラクロルビンホス(tetrachlorvinphos)、テトラジホン(tetradifon)、テトラニリプロール(tetraniliprole)、テトラメチルフルスリン(tetramethylfluthrin)、テトラメトリン(tetramethrin)、テブピリムホス(tebupirimfos)、テブフェノジド(tebufenozide)、テブフェンピラド(tebufenpyrad)、テフルトリン(tefluthrin)、テフルベンズロン(teflubenzuron)、デメトン・S・メチル(demeton−S−methyl)、テメホス(temephos)、デルタメトリン(deltamethrin)、テルブホス(terbufos)、トラロメトリン(tralomethrin)、トランスフルトリン(transfluthrin)、トリアザメート(triazamate)、トリアゾホス(triazophos)、トリクロルホン(trichlorfon)、トリフルムロン(triflumuron)、トリフルメゾピリム(triflumezopyrim)、トリメタカルブ(trimethacarb)、トルフェンピラド(tolfenpyrad)、ナレッド(naled)、ニテンピラム(nitenpyram)、ノバルロン(novaluron)、ノビフルムロン(noviflumuron)、バーティシリウム レカニ(Verticillium lecanii)、ハイドロプレン(hydroprene)、パスツーリアペネトランス胞子(Pasteuriapenetrans)、バミドチオン(vamidothion)、パラチオン(parathion)、パラチオン・メチル(parathion−methyl)、ハルフェンプロックス(halfenprox)、ハロフェノジド(halofenozide)、ビオアレスリン(bioallethrin)、ビオアレスリンS−シクロペンテニル(bioallethrin S−cyclopentenyl)、ビオレスメトリン(bioresmethrin)、ビストリフルロン(bistrifluron)、ヒドラメチルノン(hydramethylnon)、ビフェナゼート(bifenazate)、ビフェントリン(bifenthrin)、ピフルブミド(pyflubumide)、ピペロニルブトキシド(piperonyl butoxide)、ピメトロジン(pymetrozine)、ピラクロホス(pyraclofos)、ピラフルプロール(pyrafluprole)、ピリダフェンチオン(pyridaphenthion)、ピリダベン(pyridaben)、ピリダリル(pyridalyl)、ピリフルキナゾン(pyrifluquinazon)、ピリプロール(pyriprole)、ピリプロキシフェン(pyriproxyfen)、ピリミカルブ(pirimicarb)、ピリミジフェン(pyrimidifen)、ピリミノストロビン(pyriminostrobin)、ピリミホス・メチル(pirimiphos−methyl)、ピレトリン(pyrethrine)、ファムフル(famphur)、フィプロニル(fipronil)、フェナザキン(fenazaquin)、フェナミホス(fenamiphos)、フェニトロチオン(fenitrothion)、フェノキシカルブ(fenoxycarb)、フェノチオカルブ(fenothiocarb)、フェノトリン(phenothrin)[(1R)−trans−体を含む]、フェノブカルブ(fenobucarb)、フェンチオン(fenthion)、フェントエート(phenthoate)、フェンバレレート(fenvalerate)、フェンピロキシメート(fenpyroximate)、フェンブタンチン・オキシド(fenbutatin oxide)、フェンプロパトリン(fenpropathrin)、フォノホス(fonofos)、フッ化スルフリル(sulfuryl fluoride)、ブトカルボキシム(butocarboxim)、ブトキシカルボキシム(butoxycarboxim)、ブプロフェジン(buprofezin)、フラチオカルブ(furathiocarb)、プラレトリン(prallethrin)、フルアクリピリム(fluacrypyrim)、フルアザインドリジン(fluazaindolizine)、フルアズロン(fluazuron)、フルエンスルホン(fluensu
lfone)、フルオロ酢酸ナトリウム塩(sodium fluoroacetate)、フルキサメタミド(fluxametamide)、フルシクロクスロン(flucycloxuron)、フルシトリネート(flucythrinate)、フルスルファミド(flusulfamide)、フルバリネート(fluvalinate)[tau−体を含む]、フルピラジフロン(flupyradifurone)、フルピラゾホス(flupyrazofos)、フルピリミン(flupyrimin)、フルフィプロール(flufiprole)、フルフェネリム(flufenerim)、フルフェノキシストロビン(flufenoxystrobin)、フルフェノクスロン(flufenoxuron)、フルヘキサフォン(fluhexafon)、フルベンジアミド(flubendiamide)、フルメトリン(flumethrin)、フルララナル(fluralaner)、プロチオホス(prothiofos)、プロトリフェンブト(protrifenbute)、フロニカミド(flonicamid)、プロパホス(propaphos)、プロパルギット(propargite)、プロフェノホス(profenofos)、ブロフラニリド(broflanilide)、ブロフルスリネート(brofluthrinate)、プロフルトリン(profluthrin)、プロペタムホス(propetamphos)、プロポキスル(propoxur)、フロメトキン(flometoquin)、ブロモプロピレート(bromopropylate)、ヘキサチアゾクス(hexythiazox)、ヘキサフルムロン(hexaflumuron)、ペキロマイセス・テヌイペス(Paecilomyces tenuipes)、ペキロマイセス・フモソロセウス(Paecilomyces fumosoroceus)、ヘプタフルスリン(heptafluthrin)、ヘプテノホス(heptenophos)、ペルメトリン(permethrin)、ベンクロチアズ(benclothiaz)、ベンズピリモキサン(benzpyrimoxan)、ベンスルタップ(bensultap)、ベンゾキシメート(benzoximate)、ベンダイオカルブ(bendiocarb)、ベンフラカルブ(benfuracarb)、ボーベリア・テネーラ(Beauveria tenella)、ボーベリア・バッシアーナ(Beauveria bassiana)、ボーベリア・ブロンニアティ(Beauveria brongniartii)、ホキシム(phoxim)、ホサロン(phosalone)、ホスチアゼート(fosthiazate)、ホスチエタン(fosthietan)、ホスファミドン(phosphamidon)、ホスメット(phosmet)、ポリナクチン複合体(polynactins)、ホルメタネート(formetanate)、ホレート(phorate)、マラチオン(malathion)、ミルベメクチン(milbemectin)、メカルバム(mecarbam)、メスルフェンホス(mesulfenfos)、メソプレン(methoprene)、メソミル(methomyl)、メタフルミゾン(metaflumizone)、メタミドホス(methamidophos)、メタム(metham)、メチオカルブ(methiocarb)、メチダチオン(methidathion)、メチルイソチオシアネート(methyl isothiocyanate)、メチルブロマイド(methyl bromide)、メトキシクロル(methoxychlor)、メトキシフェノジド(methoxyfenozide)、メトトリン(methothrin)、メトフルトリン(metofluthrin)、イプシロン−メトフルトリン(epsilon−metofluthrin)、メトルカルブ(metolcarb)、メビンホス(mevinphos)、メペルフルスリン(meperfluthrin)、モナクロスポリウム・フィマトパガム(Monacrosporium phymatophagum)、モノクロトホス(monocrotophos)、モムフルオロスリン(momfluorothrin)、イプシロン−モムフルオロスリン(epsilon−momfluorothrin)、リトルアA(litlure−A)、リトルアB(litlure−B)、リン化アルミニウム(aluminium phosphide)、リン化亜鉛(zinc phosphide)、リン化水素(phosphine)、ルフェヌロン(lufenuron)、レスカルレ(rescalure)、レスメトリン(resmethrin)、レピメクチン(lepimectin)、ロテノン(rotenone)、酸化フェンブタスズ(fenbutatin oxide)、石灰窒素(calcium cyanide)、硫酸ニコチン(nicotinesulfate)、(Z)−11−テトラデセニル=アセタート、(Z)−11−ヘキサデセナール、(Z)−11−ヘキサデセニル=アセタート、(Z)−9,12−テトラデカジエニル=アセタート、(Z)−9−テトラデセン−1−オール、(Z,E)−9,11−テトラデカジエニル=アセタート、(Z,E)−9,12−テトラデカジエニル=アセタート、バシルス・ポピリエ(Bacillus popilliae)、バシルス・ズブチリス(Bacillus subtillis)、バシルス・スフェリカス(Bacillus sphaericus)、バシルス・チューリンゲンシス・亜種・アイザワイ(Bacillus thuringiensis subsp. Aizawai)、バシルス・チューリンゲンシス・亜種・イスラエレンシス(Bacillus thuringiensis subsp. Israelensis)、バシルス・チューリンゲンシス・亜種・クルスターキ(Bacillus thuringiensis subsp. Kurstaki)、バシルス・チューリンゲンシス・亜種・テネブリオニス(Bacillus thuringiensis subsp. Tenebrionis)、Btタンパク質 (Cry1Ab、Cry1Ac、Cry1Fa、Cry2Ab、mCry3A、Cry3Ab、Cry3Bb、Cry34/35Ab1)、CL900167(コード番号)、DCIP(ビス−(2−クロロ−1−メチルエチル)エーテル)、DDT(1,1,1−トリクロロ−2,2−ビス(4−クロロフェニル)エタン)、DEP(ジメチル−2,2,2−トリクロロ−1−ヒドロキシエチルホスホネート)、DNOC(4,6−ジニトロ−o−クレゾール)、DSP(O,O−ジエチル−O−[4−(ジメチルスルファモイル)フェニル]−ホスホロチオネート)、EPN(O−エチル−O−4−(ニトロフェニル)フェニルホスホノチオエート)、核多角体病ウイルス包埋体、NA−85(コード番号)、NA−89(コード番号)、NC−515(コード番号)、RU15525(コード番号)、XMC、Z−13−イコセン−10−オン、ZXI8901(コード番号)、2−クロロ−4−フルオロ−5−[(5−トリフルオロメチルチオ)ペンチルオキシ]フェニル2,2,2−トリフルオロエチル スルホキシド(化学名、CAS登録番号:1472050−04−6)、2,4−ジクロロ−5−{2−[4−(トリフルオロメチル)フェニル]エトキシ}フェニル 2,2,2−トリフルオロエチル スルホキシド(化学名、CAS登録番号:1472052−11−1)、2,4−ジメチル−5−[6−(トリフルオロメチルチオ)へキシルオキシ]フェニル−2,2,2−トリフルオロエチル スルホキシド(化学名、CAS登録番号:1472050−34−2)、2−{2−フルオロ−4−メチル−5−[(2,2,2−トリフルオロエチル)スルフィニル]フェノキシ}−5−(トリフルオロメチル)ピリジン(化学名、CAS登録番号:1448758−62−0)、3−クロロ−2−{2−フルオロ−4−メチル−5−[(2,2,2−トリフルオロエチル)スルフィニル]フェノキシ}−5−(トリフルオロメチル)ピリジン(化学名、CAS登録番号:1448761−28−1)、4−フルオロ−2−メチル−5−(5,5−ジメチルヘキシルオキシ)フェニル 2,2,2−トリフルオロエチル スルホキシド(化学名、CAS登録番号:1472047−71−4)、NI−30(コード番号)。
lfone)、フルオロ酢酸ナトリウム塩(sodium fluoroacetate)、フルキサメタミド(fluxametamide)、フルシクロクスロン(flucycloxuron)、フルシトリネート(flucythrinate)、フルスルファミド(flusulfamide)、フルバリネート(fluvalinate)[tau−体を含む]、フルピラジフロン(flupyradifurone)、フルピラゾホス(flupyrazofos)、フルピリミン(flupyrimin)、フルフィプロール(flufiprole)、フルフェネリム(flufenerim)、フルフェノキシストロビン(flufenoxystrobin)、フルフェノクスロン(flufenoxuron)、フルヘキサフォン(fluhexafon)、フルベンジアミド(flubendiamide)、フルメトリン(flumethrin)、フルララナル(fluralaner)、プロチオホス(prothiofos)、プロトリフェンブト(protrifenbute)、フロニカミド(flonicamid)、プロパホス(propaphos)、プロパルギット(propargite)、プロフェノホス(profenofos)、ブロフラニリド(broflanilide)、ブロフルスリネート(brofluthrinate)、プロフルトリン(profluthrin)、プロペタムホス(propetamphos)、プロポキスル(propoxur)、フロメトキン(flometoquin)、ブロモプロピレート(bromopropylate)、ヘキサチアゾクス(hexythiazox)、ヘキサフルムロン(hexaflumuron)、ペキロマイセス・テヌイペス(Paecilomyces tenuipes)、ペキロマイセス・フモソロセウス(Paecilomyces fumosoroceus)、ヘプタフルスリン(heptafluthrin)、ヘプテノホス(heptenophos)、ペルメトリン(permethrin)、ベンクロチアズ(benclothiaz)、ベンズピリモキサン(benzpyrimoxan)、ベンスルタップ(bensultap)、ベンゾキシメート(benzoximate)、ベンダイオカルブ(bendiocarb)、ベンフラカルブ(benfuracarb)、ボーベリア・テネーラ(Beauveria tenella)、ボーベリア・バッシアーナ(Beauveria bassiana)、ボーベリア・ブロンニアティ(Beauveria brongniartii)、ホキシム(phoxim)、ホサロン(phosalone)、ホスチアゼート(fosthiazate)、ホスチエタン(fosthietan)、ホスファミドン(phosphamidon)、ホスメット(phosmet)、ポリナクチン複合体(polynactins)、ホルメタネート(formetanate)、ホレート(phorate)、マラチオン(malathion)、ミルベメクチン(milbemectin)、メカルバム(mecarbam)、メスルフェンホス(mesulfenfos)、メソプレン(methoprene)、メソミル(methomyl)、メタフルミゾン(metaflumizone)、メタミドホス(methamidophos)、メタム(metham)、メチオカルブ(methiocarb)、メチダチオン(methidathion)、メチルイソチオシアネート(methyl isothiocyanate)、メチルブロマイド(methyl bromide)、メトキシクロル(methoxychlor)、メトキシフェノジド(methoxyfenozide)、メトトリン(methothrin)、メトフルトリン(metofluthrin)、イプシロン−メトフルトリン(epsilon−metofluthrin)、メトルカルブ(metolcarb)、メビンホス(mevinphos)、メペルフルスリン(meperfluthrin)、モナクロスポリウム・フィマトパガム(Monacrosporium phymatophagum)、モノクロトホス(monocrotophos)、モムフルオロスリン(momfluorothrin)、イプシロン−モムフルオロスリン(epsilon−momfluorothrin)、リトルアA(litlure−A)、リトルアB(litlure−B)、リン化アルミニウム(aluminium phosphide)、リン化亜鉛(zinc phosphide)、リン化水素(phosphine)、ルフェヌロン(lufenuron)、レスカルレ(rescalure)、レスメトリン(resmethrin)、レピメクチン(lepimectin)、ロテノン(rotenone)、酸化フェンブタスズ(fenbutatin oxide)、石灰窒素(calcium cyanide)、硫酸ニコチン(nicotinesulfate)、(Z)−11−テトラデセニル=アセタート、(Z)−11−ヘキサデセナール、(Z)−11−ヘキサデセニル=アセタート、(Z)−9,12−テトラデカジエニル=アセタート、(Z)−9−テトラデセン−1−オール、(Z,E)−9,11−テトラデカジエニル=アセタート、(Z,E)−9,12−テトラデカジエニル=アセタート、バシルス・ポピリエ(Bacillus popilliae)、バシルス・ズブチリス(Bacillus subtillis)、バシルス・スフェリカス(Bacillus sphaericus)、バシルス・チューリンゲンシス・亜種・アイザワイ(Bacillus thuringiensis subsp. Aizawai)、バシルス・チューリンゲンシス・亜種・イスラエレンシス(Bacillus thuringiensis subsp. Israelensis)、バシルス・チューリンゲンシス・亜種・クルスターキ(Bacillus thuringiensis subsp. Kurstaki)、バシルス・チューリンゲンシス・亜種・テネブリオニス(Bacillus thuringiensis subsp. Tenebrionis)、Btタンパク質 (Cry1Ab、Cry1Ac、Cry1Fa、Cry2Ab、mCry3A、Cry3Ab、Cry3Bb、Cry34/35Ab1)、CL900167(コード番号)、DCIP(ビス−(2−クロロ−1−メチルエチル)エーテル)、DDT(1,1,1−トリクロロ−2,2−ビス(4−クロロフェニル)エタン)、DEP(ジメチル−2,2,2−トリクロロ−1−ヒドロキシエチルホスホネート)、DNOC(4,6−ジニトロ−o−クレゾール)、DSP(O,O−ジエチル−O−[4−(ジメチルスルファモイル)フェニル]−ホスホロチオネート)、EPN(O−エチル−O−4−(ニトロフェニル)フェニルホスホノチオエート)、核多角体病ウイルス包埋体、NA−85(コード番号)、NA−89(コード番号)、NC−515(コード番号)、RU15525(コード番号)、XMC、Z−13−イコセン−10−オン、ZXI8901(コード番号)、2−クロロ−4−フルオロ−5−[(5−トリフルオロメチルチオ)ペンチルオキシ]フェニル2,2,2−トリフルオロエチル スルホキシド(化学名、CAS登録番号:1472050−04−6)、2,4−ジクロロ−5−{2−[4−(トリフルオロメチル)フェニル]エトキシ}フェニル 2,2,2−トリフルオロエチル スルホキシド(化学名、CAS登録番号:1472052−11−1)、2,4−ジメチル−5−[6−(トリフルオロメチルチオ)へキシルオキシ]フェニル−2,2,2−トリフルオロエチル スルホキシド(化学名、CAS登録番号:1472050−34−2)、2−{2−フルオロ−4−メチル−5−[(2,2,2−トリフルオロエチル)スルフィニル]フェノキシ}−5−(トリフルオロメチル)ピリジン(化学名、CAS登録番号:1448758−62−0)、3−クロロ−2−{2−フルオロ−4−メチル−5−[(2,2,2−トリフルオロエチル)スルフィニル]フェノキシ}−5−(トリフルオロメチル)ピリジン(化学名、CAS登録番号:1448761−28−1)、4−フルオロ−2−メチル−5−(5,5−ジメチルヘキシルオキシ)フェニル 2,2,2−トリフルオロエチル スルホキシド(化学名、CAS登録番号:1472047−71−4)、NI−30(コード番号)。
また、本発明の農薬製剤には、所望により、本発明のピロキサスルホンの結晶に加えて、病害防除活性成分を含有させてもよい。病害防除活性成分を含有させる場合の配合量や配合比率は、当業者が適宜設定することができる。病害防除活性成分は1種を単独で用いてもよいし、任意の2種以上を組み合わせて用いてもよい。病害防除活性成分の例は、以下を含むが、これらに限定されない:アザコナゾール(azaconazole)、アシベンゾラル・S・メチル(acibenzolar−S−methyl)、アゾキシストロビン(azoxystrobin)、アニラジン(anilazine)、アミスルブロム(amisulbrom)、アミノピリフェン(aminopyrifen)、アメトクトラジン(ametoctradin)、アルジモルフ(aldimorph)、イソチアニル(isotianil)、イソピラザム(isopyrazam)、イソフェタミド(isofetamid)、イソフルシプラム(isoflucypram)、イソプロチオラン(isoprothiolane)、イプコナゾール(ipconazole)、イプフルフェノキン(ipflufenoquin)、イプフェントリフルコナゾール(ipfentrifluconazole)、イプロジオン(iprodione)、イプロバリカルブ(iprovalicarb)、イプロベンホス(iprobenfos)、イマザリル(imazalil)、イミノクタジン・アルベシル酸塩(iminoctadine−trialbesilate)、イミノクタジン酢酸塩(iminoctadine−triacetate)、イミベンコナゾール(imibenconazole)、インピルフルキサム(inpyrfluxam)、インプリマチンA(imprimatin A)、インプリマチンB(imprimatin B)、エジフェンホス(edifenphos)、エタコナゾ−ル(etaconazole)、エタボキサム(ethaboxam)、エチリモル(ethirimol)、エトキシキン(ethoxyquin)、エトリジアゾール(etridiazole)、エネストロブリン(enestroburin)、エノキサストロビン(enoxastrobin)、エポキシコナゾール(epoxiconazole)、オーガニックオイル(organic oils)、オキサジキシル(oxadixyl)、オキサジニラゾール(oxazinylazole)、オキサチアピプロリン(oxathiapiprolin)、オキシカルボキシン(oxycarboxin)、オキシキノリン銅(oxine−copper)、オキシテトラサイクリン(oxytetracycline)、オキスポコナゾールフマル酸塩(oxpoconazole−fumarate)、オキソリニック酸(oxolinic acid)、オクタン酸銅(copper dioctanoate)、オクチリノン(octhilinone)、オフラセ(ofurace)、オリサストロビン(orysastrobin)、オルソフェニルフェノール(o−phenylphenol)、カスガマイシン(kasugamycin)、カプタホール(captafol)、カルプロパミド(carpropamid)、カルベンダジム(carbendazim)、カルボキシン(carboxin)、カルボネ(carvone)、キノキシフェン(quinoxyfen)、キノフメリン(quinofumelin)、 キノメチオネート(chinomethionat)、キャプタン(captan)、キンコナゾール(quinconazole)、キントゼン(quintozene)、グアザチン(guazatine)、クフラネブ(cufraneb)、クモキシストロビン(coumoxystrobin)、クレソキシム・メチル(kresoxim−methyl)、クロジラコン(clozylacon)、クロゾリネート(chlozolinate)、クロロタロニル(chlorothalonil)、クロロネブ(chloroneb)、シアゾファミド(cyazofamid)、ジエトフェンカルブ(diethofencarb)、ジクロシメット(diclocymet)、ジクロフルアニド(dichlofluanid)、ジクロベンチアゾクス(dichlobenthiazox)、ジクロメジン(diclomezine)、ジクロラン(dicloran)、ジクロロフェン(dichlorophen)、ジチアノン(dithianon)、ジニコナゾール(diniconazole)、ジニコナゾール・M(diniconazole−M)、ジネブ(zineb)、ジノカップ(dinocap)、ジピメチトロン(dipymetitrone)、ジフェニルアミン(diphenylamine)、ジフェノコナゾール(difenoconazole)、シフルフェナミド(cyflufenamid)、ジフルメトリム(diflumetorim)、シプロコナゾール(cyproconazole)、シプロジニル(cyprodinil)、シメコナゾール(simeconazole)、ジメチリモル(dimethirimol)、ジメチルジスルフィド(dimethyl disulfide)、ジメトモルフ(dimethomorph)、シモキサニル(cymoxanil)、ジモキシストロビン(dimoxystrobin)、ジラム(ziram)、シルチオファム(silthiofam)、ストレプトマイシン(streptomycin)、スピロキサミン(spiroxamine)、セダキサン(sedaxane)、ゾキサミド(zoxamide)、ダゾメット(dazomet)、チアジニル(tiadinil)、チアベンダゾール(thiabendazole)、チウラム(thiram)、チオファネート(thiophanate)、チオファネート・メチル(thiophanate−methyl)、チフルザミド(thifluzamide)、テクナゼン(tecnazene)、テクロフタラム(tecloftalam)、テトラコナゾール(tetraconazole)、デバカルブ(debacarb)、テブコナゾール(tebuconazole)、テブフロキン(tebufloquin)、テルビナフィン(terbinafine)、ドジン(dodine)、ドデモルフ(dodemorph)、トリアジメノール(triadimenol)、トリアジメホン(triadimefon)、トリアゾキシド(triazoxide)、トリクラミド(trichlamide)、トリクロピリカルブ(triclopyricarb)、トリシクラゾール(tricyclazole)、トリチコナゾール(triticonazole)、トリデモルフ(tridemorph)、トリフルミゾール(triflumizole)、トリフロキシストロビン(trifloxystrobin)、トリホリン(triforine)、トリルフルアニド(tolylfluanid)、トルクロホス・メチル(tolclofos−methyl)、トルニファニド(tolnifanide)、トルプロカルブ(tolprocarb)、ナーバム(nabam)、ナタマイシン(natamycin)、ナフティフィン(naftifine)、ニトラピリン(nitrapyrin)、ニトロタル・イソプロピル(nitrothal−isopropyl)、ヌアリモル(nuarimol)、ノニルフェノールスルホン酸銅(copper nonyl phenol sulphonate)、バチルス・ズブチリス(Bacillus subtilis)(strain:QST 713)、バリダマイシン(validamycin)、バリフェナレート(valifenalate)、ピカルブトラゾックス(picarbutrazox)、ビキサフェン(bixafen)、ピコキシストロビン(picoxystrobin)、ピジフルメトフェン(pydiflumetofen)、ビテルタノール(bitertanol)、ビナパクリル(binapacryl)、ビフェニル(biphenyl)、ピペラリン(piperalin)、ヒメキサゾール(hymexazol)、ピラオキシストロビン(pyraoxystrobin)、ピラクロストロビン(pyraclostrobin)、ピラジフルミド(pyraziflumid)、ピラゾホス(pyrazophos)、ピラプロポイン(pyrapropoyne)、ピラメトストロビン(pyrametostrobin)、ピリオフェノン(pyriofenone)、ピリソキサゾール(pyrisoxazole)、ピリダクロメチル(pyridachlometyl)、ピリフェノックス(pyrifenox)、ピリブチカルブ(pyributicarb)、ピリベンカルブ(pyribencarb)、ピリメタニル(pyrimethanil)、ピロキロン(pyroquilon)、ビンクロゾリン(vinclozolin)、ファーバム(ferbam)、ファモキサドン(famoxadone)、フェナジンオキシド(phenazine oxide)、フェナミドン(fenamidone)、フェナミンストロビン(fenaminstrobin)、フェナリモル(fenarimol)、フェノキサニル(fenoxanil)、フェリムゾン(ferimzone)、フェンピクロニル(fenpiclonil)、フェンピコキサミド(fenpicoxamid)、フェンピラザミン(fenpyrazamine)、フェンブコナゾール(fenbuconazole)、フェンフラム(fenfuram)、フェンプロピジン(fenpropidin)、フェンプロピモルフ(fenpropimorph)、フェンヘキサミド(fenhexamid)、フォルペット(folpet)、フサライド(phthalide)、ブピリメート(bupirimate)、フベリダゾール(fuberidazole)、ブラストサイジン−S(blasticidin−S)、フラメトピル(furametpyr)、フララキシル(furalaxyl)、フランカルボン酸(furancarboxylic acid)、フルアジナム(fluazinam)、フルインダピル(fluindapyr)、フルオキサストロビン(fluoxastrobin)、フルオキサピプロリン(fluoxapiprolin)、フルオピコリド(fluopicolide)、フルオピモミド(fluopimomide)、フルオピラム(fluopyram)、フルオルイミド(fluoroimide)、フルキサピロキサド(fluxapyroxad)、フルキンコナゾール(fluquinconazole)、フルコナゾール(furconazole)、フルコナゾール・シス(furconazole−cis)、フルジオキソニル(fludioxonil)、フルシラゾール(flusilazole)、フルスルファミド(flusulfamide)、フルチアニル(flutianil)、フルトラニル(flutolanil)、フルトリアホール(flutriafol)、フルフェノキシストロビン(flufenoxystrobin)、フルメトベル(flumetover)、フルモルフ(flumorph)、プロキナジド(proquinazid)、プロクロラズ(prochloraz)、プロシミドン(procymidone)、プロチオカルブ(prothiocarb)、プロチオコナゾール(prothioconazole)、ブロノポール(bronopol)、プロパモカルブ塩酸塩(propamocarb−hydrochloride)、プロピコナゾール(propiconazole)、プロピネブ(propineb)、プロベナゾール(probenazole)、ブロムコナゾール(bromuconazole)、フロメトキン(flometoquin)、フロリルピコキサミド(florylpicoxamid)、ヘキサコナゾール(hexaconazole)、ベナ
ラキシル(benalaxyl)、ベナラキシル・M(benalaxyl−M)、ベノダニル(benodanil)、ベノミル(benomyl)、ペフラゾエート(pefurazoate)、ペンコナゾール(penconazole)、ペンシクロン(pencycuron)、ベンゾビンジフルピル(benzovindiflupyr)、ベンチアゾール(benthiazole)、ベンチアバリカルブイソプロピル(benthiavalicarb−isopropyl)、ペンチオピラド(penthiopyrad)、ペンフルフェン(penflufen)、ボスカリド(boscalid)、ホセチル(fosetyl)(alminium,calcium,sodium)、ポリオキシン(polyoxin)、ポリカーバメート(polycarbamate)、ボルドー液(Bordeaux mixture)、マンコゼブ(mancozeb)、マンジプロパミド(mandipropamid)、マンデストロビン(mandestrobin)、マンネブ(maneb)、ミクロブタニル(myclobutanil)、ミネラルオイル(mineral oils)、ミルディオマイシン(mildiomycin)、メタスルホカルブ(methasulfocarb)、メタム(metam)、メタラキシル(metalaxyl)、メタラキシル・M(metalaxyl−M)、メチラム(metiram)、メチルテトラプロール(metyltetraprole)、メトコナゾール(metconazole)、メトミノストロビン(metominostrobin)、メトラフェノン(metrafenone)、メパニピリム(mepanipyrim)、メフェントリフルコナゾール(mefentrifluconazole)、メプチルジノカップ(meptyldinocap)、メプロニル(mepronil)、ヨードカルブ(iodocarb)、ラミナリン(laminarin)、亜リン酸および塩(phosphorous acid and salts)、塩基性塩化銅(copper oxychloride)、銀(silver)、酸化第一銅(cuprous oxide)、水酸化第二銅(copper hydroxide)、炭酸水素カリウム(potassium bicarbonate)、炭酸水素ナトリウム(sodium bicarbonate)、硫黄(sulfur)、硫酸オキシキノリン(oxyquinoline sulfate)、硫酸銅(copper sulfate)、(3,4−ジクロロイソチアゾール−5−イル)メチル 4−(tert−ブチル)安息香酸エステル(化学名、CAS登録番号:1231214−23−5)、BAF−045(コード番号)、BAG−010(コード番号)、UK−2A(コード番号)、DBEDC(ドデシルベンゼンスルホン酸ビスエチレンジアミン銅錯塩[II])、MIF−1002(コード番号)、NF−180(コード番号)、TPTA(酢酸トリフェニルスズ)、TPTC(トリフェニルチンクロライド)、TPTH(水酸化トリフェニルスズ)、非病原性エルビニア・カロトボーラ。
ラキシル(benalaxyl)、ベナラキシル・M(benalaxyl−M)、ベノダニル(benodanil)、ベノミル(benomyl)、ペフラゾエート(pefurazoate)、ペンコナゾール(penconazole)、ペンシクロン(pencycuron)、ベンゾビンジフルピル(benzovindiflupyr)、ベンチアゾール(benthiazole)、ベンチアバリカルブイソプロピル(benthiavalicarb−isopropyl)、ペンチオピラド(penthiopyrad)、ペンフルフェン(penflufen)、ボスカリド(boscalid)、ホセチル(fosetyl)(alminium,calcium,sodium)、ポリオキシン(polyoxin)、ポリカーバメート(polycarbamate)、ボルドー液(Bordeaux mixture)、マンコゼブ(mancozeb)、マンジプロパミド(mandipropamid)、マンデストロビン(mandestrobin)、マンネブ(maneb)、ミクロブタニル(myclobutanil)、ミネラルオイル(mineral oils)、ミルディオマイシン(mildiomycin)、メタスルホカルブ(methasulfocarb)、メタム(metam)、メタラキシル(metalaxyl)、メタラキシル・M(metalaxyl−M)、メチラム(metiram)、メチルテトラプロール(metyltetraprole)、メトコナゾール(metconazole)、メトミノストロビン(metominostrobin)、メトラフェノン(metrafenone)、メパニピリム(mepanipyrim)、メフェントリフルコナゾール(mefentrifluconazole)、メプチルジノカップ(meptyldinocap)、メプロニル(mepronil)、ヨードカルブ(iodocarb)、ラミナリン(laminarin)、亜リン酸および塩(phosphorous acid and salts)、塩基性塩化銅(copper oxychloride)、銀(silver)、酸化第一銅(cuprous oxide)、水酸化第二銅(copper hydroxide)、炭酸水素カリウム(potassium bicarbonate)、炭酸水素ナトリウム(sodium bicarbonate)、硫黄(sulfur)、硫酸オキシキノリン(oxyquinoline sulfate)、硫酸銅(copper sulfate)、(3,4−ジクロロイソチアゾール−5−イル)メチル 4−(tert−ブチル)安息香酸エステル(化学名、CAS登録番号:1231214−23−5)、BAF−045(コード番号)、BAG−010(コード番号)、UK−2A(コード番号)、DBEDC(ドデシルベンゼンスルホン酸ビスエチレンジアミン銅錯塩[II])、MIF−1002(コード番号)、NF−180(コード番号)、TPTA(酢酸トリフェニルスズ)、TPTC(トリフェニルチンクロライド)、TPTH(水酸化トリフェニルスズ)、非病原性エルビニア・カロトボーラ。
また、本発明の農薬製剤には、所望により、本発明のピロキサスルホンの結晶に加えて、植物成長調節活性成分を含有させてもよい。植物成長調節活性成分を含有させる場合の配合量や配合比率は、当業者が適宜設定することができる。植物成長調節活性成分は1種を単独で用いてもよいし、任意の2種以上を組み合わせて用いてもよい。植物成長調節活性成分の例は、以下を含むが、これらに限定されない:1−メチルシクロプロペン(1−methylcyclopropene)、1−ナフチルアセトアミド(1−naphthylacetamide)、2,6−ジイソプロピルナフタレン(2,6−diisopropylnaphthalene)、4−CPA(4−クロロフェノキシ酢酸)、ベンジルアミノプリン(benzylaminopurine)、アンシミドール(ancymidol)、アビグリシン(aviglycine)、カルボネ(carvone)、クロルメコート(chlormequat)、クロプロップ(cloprop)、クロキシホナック(cloxyfonac)、クロキシホナック・カリウム塩(cloxyfonac−potassium)、シクラニリド(cyclanilide)、サイトカイニン(cytokinins)、ダミノジット(daminozide)、ジケグラック(dikegulac)、ジメチピン(dimethipin)、エテホン(ethephon)、エポコレオン(epocholeone)、エチクロゼート(ethychlozate)、フルメトラリン(flumetralin)、フルレノール(flurenol)、フルルプリミドール(flurprimidol)、プロニトリジン(pronitridine)、ホルクロルフェニュロン(forchlorfenuron)、ジベレリン(gibberellins)、イナベンフィド(inabenfide)、インドール酢酸(indole acetic acid)、インドール酪酸(indole butyric acid)、マレイン酸ヒドラジド(maleic hydrazide)、メフルイジド(mefluidide)、メピコート・クロリド(mepiquat chloride)、n−デシルアルコール(n−decanol)、パクロブトラゾール(paclobutrazol)、プロヘキサジオン・カルシウム塩(prohexadione−calcium)、プロヒドロジャスモン(prohydrojasmon)、シントフェン(sintofen)、チジアズロン(thidiazuron)、トリアコンタノール(triacontanol)、トリネキサパック・エチル(trinexapac−ethyl)、ウニコナゾール(uniconazole)、ウニコナゾール−P(uniconazole−P)、4−オキソ−4−(2−フェニルエチル)アミノ酪酸(化学名、CAS登録番号:1083−55−2)、過酸化カルシウム。
剤型が水和剤である本発明の農薬製剤の好ましい態様は、農薬製剤中、10−90wt%の本発明のピロキサスルホンの結晶、5−20wt%の界面活性剤および5−85wt%の固体担体を含む。また、任意選択で、0−80wt%の追加の除草活性成分、0−5wt%の結合剤、0−1wt%の着色剤、0−1wt%の消泡剤、0−80%の毒性軽減剤を含む。
上記の水和剤を製造する一つの態様は、本発明のピロキサスルホンの結晶を含む粉体を微粉砕する工程と、原料全体を混合して均一化する工程を含む。いずれの工程においても、公知慣用の技術および装置を用いることができる。
剤型が顆粒水和剤である本発明の農薬製剤の好ましい態様は、農薬製剤中、10−90wt%の本発明のピロキサスルホンの結晶、5−20wt%の界面活性剤および5−85wt%の固体担体を含む。また、任意選択で、0−80wt%の追加の除草活性成分、0−5wt%の結合剤、0−1wt%の着色剤、0−1wt%の消泡剤、0−80%の毒性軽減剤を含む。
上記の顆粒水和剤を製造する一つの態様は、本発明のピロキサスルホンの結晶を含む粉体またはスラリーを微粉砕する工程と、原料全体を均一化しつつ更に若干量の水を添加して練る混錬工程と、前記工程で得た混錬物を造粒する工程と、前記工程で得た造粒物を乾燥する工程を含む。いずれの工程においても、公知慣用の技術および装置を用いることができる。
剤型が水性懸濁剤である本発明の農薬製剤の好ましい態様は、農薬製剤中、5−65wt%の本発明のピロキサスルホンの結晶、5−10wt%の界面活性剤および30−90wt%の水を含む。また、任意選択で、0−50wt%の追加の除草活性成分、0−15wt%の凍結防止剤、0−1wt%の着色剤、0−3wt%の防腐剤、0−5%のpH調整剤、0−1wt%の消泡剤、0−5wt%の増粘剤、0−50%の毒性軽減剤を含む。
更に、薬効向上や比重調整などを目的として、0−20wt%の油性分散媒を含んでもよい。
更に、薬効向上や比重調整などを目的として、0−20wt%の油性分散媒を含んでもよい。
上記の水性懸濁剤を製造する一つの態様は、本発明のピロキサスルホンの結晶を含むスラリーを微粉砕する工程と、原料全体を混合して均一化する工程を含む。また、別の態様では、本発明のピロキサスルホンの結晶を含む粉体を微粉砕する工程と、原料全体を混合して均一化する工程を含む。いずれの工程においても、公知慣用の技術および装置を用いることができる。
剤型が油性懸濁剤である本発明の農薬製剤の好ましい態様は、農薬製剤中、5−65wt%の本発明のピロキサスルホンの結晶、5−10wt%の界面活性剤および30−90wt%の油性分散媒を含む。また、任意選択で、0−50wt%の追加の除草活性成分、0−15wt%の凍結防止剤、0−1wt%の着色剤、0−3wt%の防腐剤、0−5%のpH調整剤、0−1wt%の消泡剤、0−5wt%の増粘剤、0−50%の毒性軽減剤を含む。
上記の油性懸濁剤を製造する一つの態様は、本発明のピロキサスルホンの結晶を含むスラリーを微粉砕する工程と、原料全体を混合して均一化する工程を含む。また、別の態様では、本発明のピロキサスルホンの結晶を含む粉体を微粉砕する工程と、原料全体を混合して均一化する工程を含む。いずれの工程においても、公知慣用の技術および装置を用いることができる。
本発明の農薬製剤は、いくつかの優れた物理化学的性質を示す。
本発明の農薬製剤における優れた物理化学的性質の一例として、散布用水にといて懸濁液を調製し、該懸濁液を農耕地等に散布する固体製剤(例えば、水和剤、顆粒水和剤)である本発明の農薬製剤は、水に投入した際に、水とのなじみが大変よい点を挙げることができる。特許文献2および10に記載されている公知のピロキサスルホンの結晶を原料として製造された水和剤や顆粒水和剤は、水に投入した際に継粉が発生してしまうことがあり、この継粉がほぐれるまで散布液を攪拌し続ける必要があった。これに対し、本発明の農薬製剤では継粉が発生しないため、使用時に均一な懸濁液を速やかに調製できる。
水和剤などの固体製剤と水とのなじみの良し悪しを定量的に評価する指標として、水和性が提案されている。これらの検定法は日本国農林水産省告示第71号及び第750号(1960年2月3日、1975年7月25日)に記載されている。
水和性の測定に必要な3度硬水は、以下のようにして調製する。炭酸カルシウム0.3077g、酸化マグネシウム0.092gを少量の希塩酸に溶かしたのち、砂浴上で蒸発乾固して塩酸を除去し、水で1Lに希釈する。この水を更に10倍に希釈し、3度硬水として試験に供する。なお、前記により調製した3度硬水の硬度はドイツ硬度表記で3.004°dHであり、アメリカ硬度に換算すれば53.47ppmに相当する。
以下、水和性の測定法を概説する。500mL容のビーカーに20℃の3度硬水200mLを入れ、このビーカーに、あらかじめ#40メッシュ標準篩(test sieves)を通過させた試料5gを、水面上約10cmの位置から、薄く広がるように静かに落とす。試料を落とし終わってから試料全量が水面下に没するまでの時間Tを測定する。更に、ビーカー内をガラス棒でかき混ぜて懸濁状態の均一性を観察する。
通常、水とのなじみが良い試料を測定した場合は、時間Tは短くなり、水とのなじみが悪い試料を測定した場合は、時間Tは長くなる。ただし、水とのなじみの悪さが凝集傾向として現れ、継粉を形成するような試料においては、継粉の表面だけが水に濡れて水面下に没してしまうため、時間Tは測定試料と水とのなじみの良し悪しを反映せず、短い値が測定されることがある。ビーカー内をガラス棒でかき混ぜた際に、水中で浮遊する継粉が観察される場合は、時間Tの値に関わらず、測定試料は水とのなじみが悪いと判断すべきである。
本発明の農薬製剤における優れた物理化学的性質の別の一例として、散布用水にといて懸濁液を調製し、該懸濁液を農耕地等に散布する製剤(例えば、水和剤、顆粒水和剤、水性懸濁剤または油性懸濁剤)である本発明の農薬製剤は、使用時に水にといて調製した散布液中の固形分がハードケーキを形成しない点を挙げることができる。農薬製剤を水にといて散布液を調製する作業は、農薬を散布するための準備行為であって、調製した散布液を農薬の散布に供さないまま長時間静置することは、通常はしない。しかしながら、作業中の農業従事者に急用が生じ、または作業中に天候が急変するなどの事情により、農薬の散布を中断、延期せざるをえない状況は起こりうる。また、散布対象の圃場が広く、農薬の散布自体に長時間を要するような場合も、作業全体の後半に散布する分の散布液は、調製後散布されるまでに一定の時間を経ることになる。希釈液の組成は、ほとんどが水で構成される希薄な懸濁液であるから、粘度が低く、また、構造粘性も有さないため、攪拌を止めると、固形分は直ちに沈降し始める。特許文献2および10に記載されている公知のピロキサスルホンの結晶を原料として製造された農薬製剤の希釈液は、固形分の堆積層が形成されると、攪拌を再開しても再分散せず、均一な懸濁状態を回復できない場合があり、このような事態を防ぐためには、調製後の散布液は実際に散布を終えるまで攪拌を継続する必要があった。これはエネルギーの浪費であり、作業者は該エネルギーのコストを負担することを強いられる。一方、本発明の農薬製剤の希釈液は、固形分の堆積層が形成されても、攪拌を再開すれば、固形分の堆積層は容易に渦流に巻き上げられて再分散するため、散布液を調製した後は攪拌を止めてもよく、農薬の散布の中断、延期や長時間に及ぶ農薬散布に、より低いコストで対応できる。
本発明の農薬製剤が上記したような優れた物理化学的性質を示す理由として、発明者らは確乎たる知見を持たず、理論に拘束されることを望まないが、一つの仮説として、従来知られていたピロキサスルホンの結晶が、図5および図6に示したように、互いに絡みつきやすく、凝集傾向にあるのに対し、本発明のピロキサスルオンの結晶はそのような傾向が見られないため、ハードケーキングを起こしにくく、また、界面活性剤の湿展分散作用を受けやすいという結果をもたらす可能性が考えられる。
以下、実施例により本発明を更に詳細に説明するが、本発明はこれら実施例によって何ら限定されない。
本明細書中、実施例、比較例及び参考例の各物性と収率の測定には、次の機器及び条件を用いた。加えて、本発明で得られた生成物は公知化合物であり、当業者に知られた常法により同定された。
(HPLC分析:高速液体クロマトグラフィー分析)
(HPLC分析条件)
機器:株式会社島津製作所製LC2010シリーズ又はこれに準ずるもの
カラム:YMC-Pack, ODS-A, A-312 (150mmx6.0mmID, S-5μm, 120A)
溶離液:
(HPLC分析条件)
機器:株式会社島津製作所製LC2010シリーズ又はこれに準ずるもの
カラム:YMC-Pack, ODS-A, A-312 (150mmx6.0mmID, S-5μm, 120A)
溶離液:
流速:1.0 ml/min
検出:UV 230nm
カラム温度:40℃
注入量:5 μL
検出:UV 230nm
カラム温度:40℃
注入量:5 μL
HPLC分析方法に関しては、必要に応じて、以下の文献を参照することができる。
文献(a):(社)日本化学会編、「新実験化学講座9 分析化学 II」、第86〜112頁(1977年)、発行者 飯泉新吾、丸善株式会社
文献(b):(社)日本化学会編、「実験化学講座20−1 分析化学」第5版、第130〜151頁(2007年)、発行者 村田誠四郎、丸善株式会社
文献(a):(社)日本化学会編、「新実験化学講座9 分析化学 II」、第86〜112頁(1977年)、発行者 飯泉新吾、丸善株式会社
文献(b):(社)日本化学会編、「実験化学講座20−1 分析化学」第5版、第130〜151頁(2007年)、発行者 村田誠四郎、丸善株式会社
(GC分析:ガスクロマトグラフィー分析)
(GC分析条件)
機器:GC-1700(株式会社島津製作所製)
カラム:DB-5MS(25m×0.2mmφ×0.33μm)
昇温条件:80℃(3分)→10℃/分→250℃(0分)
インジェクション温度:280℃
検出器温度:300℃
検出方法:FID
カラム流量:1 mL/分
内部標準物質:ジトリルエーテル
(GC分析条件)
機器:GC-1700(株式会社島津製作所製)
カラム:DB-5MS(25m×0.2mmφ×0.33μm)
昇温条件:80℃(3分)→10℃/分→250℃(0分)
インジェクション温度:280℃
検出器温度:300℃
検出方法:FID
カラム流量:1 mL/分
内部標準物質:ジトリルエーテル
GC分析方法に関しては、必要に応じて、以下の文献を参照することができる。
文献(c):(社)日本化学会編、「新実験化学講座9 分析化学 II」、第60〜86頁(1977年)、発行者 飯泉新吾、丸善株式会社
文献(d):(社)日本化学会編、「実験化学講座20−1 分析化学」第5版、第121〜129頁(2007年)、発行者 村田誠四郎、丸善株式会社
文献(c):(社)日本化学会編、「新実験化学講座9 分析化学 II」、第60〜86頁(1977年)、発行者 飯泉新吾、丸善株式会社
文献(d):(社)日本化学会編、「実験化学講座20−1 分析化学」第5版、第121〜129頁(2007年)、発行者 村田誠四郎、丸善株式会社
(GC−MS分析:ガスクロマトグラフィー質量分析)
分析装置:6890N Network GC System(Agilent Technologies製)
質量検出器:5973N MSD(Agilent Technologies製)
分析装置:6890N Network GC System(Agilent Technologies製)
質量検出器:5973N MSD(Agilent Technologies製)
(1H−NMR:1H核磁気共鳴スペクトル)
機器:JEOL JMN−ECS−300又はJEOL JMN−Lambda−400(JEOL RESONANCE製)
溶媒:CDCl3及び/又はDMSO−d6
内部基準物質:テトラメチルシラン(TMS)及び当業者に知られたその他。
機器:JEOL JMN−ECS−300又はJEOL JMN−Lambda−400(JEOL RESONANCE製)
溶媒:CDCl3及び/又はDMSO−d6
内部基準物質:テトラメチルシラン(TMS)及び当業者に知られたその他。
(粉末X線回折パターン測定)
機器 :X‘Pert PRO(PANalytical社製)
X線 :Cu−Kα
測定形式 :透過法(transmission mode)
電圧 :45kV
電流 :40mA
測定範囲(2θ):3−40°
測定間隔(2θ):0.013°
機器 :X‘Pert PRO(PANalytical社製)
X線 :Cu−Kα
測定形式 :透過法(transmission mode)
電圧 :45kV
電流 :40mA
測定範囲(2θ):3−40°
測定間隔(2θ):0.013°
(収率及び純度)
特に指定しない限り、本発明における収率は、原料化合物(出発化合物)のモル数に対する、得られた目的化合物のモル数から計算することができる。
すなわち、用語「収率」は、「モル収率」を意味する。
従って、収率は、以下の式により表される:
収率(%)=(得られた目的化合物のmol数)/(出発化合物のmol数)×100
特に指定しない限り、本発明における収率は、原料化合物(出発化合物)のモル数に対する、得られた目的化合物のモル数から計算することができる。
すなわち、用語「収率」は、「モル収率」を意味する。
従って、収率は、以下の式により表される:
収率(%)=(得られた目的化合物のmol数)/(出発化合物のmol数)×100
しかしながら、例えば、目的物の反応収率、不純物の収率、及び生成物の純度等の評価においては、HPLC面積百分率分析又はGC面積百分率分析を用いてもよい。
本明細書中、室温及び常温は10℃から30℃である。
本明細書中、用語「一晩(over night)」は、8時間から16時間を意味する。
本明細書中、「熟成(age/aged/aging)」の操作は、当業者に知られた常法により、混合物が撹拌されていることを含む。
[実施例1]
3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルチオ]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物4−a)の製造
3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルチオ]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物4−a)の製造
[実施例1−1]
(工程i)
4−クロロメチル−5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール(化合物2−a)の製造
(工程i)
4−クロロメチル−5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール(化合物2−a)の製造
5−ジフルオロメトキシ−4−ヒドロキシメチル−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール(1−a)(46.7g、純度:68.6%、アセトニトリルを含む、0.13mol、100mol%)に、塩化チオニル(17.0g、0.14mol、110mol%)を内温20℃〜30℃で1時間かけて滴下した。滴下後、混合物を内温20℃〜30℃で1時間熟成した。反応終了後、反応混合物に窒素を30分間吹き込んで、過剰の塩化チオニルを除去し、酢酸エチル(78mL、0.6L/mol)を加えた。得られた標題化合物(2−a)の酢酸エチル溶液は134gであった。
(工程ii)
3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルチオ]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物4−a)の製造
3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルチオ]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物4−a)の製造
工程iで製造した4−クロロメチル−5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチル−ピラゾール(2−a)の酢酸エチル溶液(134g、0.13molスケール相当)を氷冷撹拌下、内温10℃以下に冷却した。これに[5,5−ジメチル(4,5−ジヒドロイソオキサゾロ−3−イル)]チオカルボキサミジン臭化水素酸塩(3−b)の水溶液(134.6g、純度:27%、0.14mol相当)を加えた後、48%水酸化ナトリウム水溶液(54.2g、0.65mol、500mol%)を内温が10℃を超えないように30分間かけて滴下した。滴下後、混合物を内温10℃以下で30分間熟成し、内温25℃まで加温し4時間熟成した。反応終了後、反応混合物を有機層と水層に分離した。得られた有機層を、HPLC絶対検量線法により分析したところ、目的物(4−a)の収率は91.6%(127.8g、2工程を通じて)であった。
[実施例1−2]及び[実施例1−3]
溶媒として酢酸エチルの代わりに酢酸イソプロピル又は酢酸ブチルを用いた以外は、実施例1−1と同様にして反応と分析を行った。結果を以下の表2に示す。実施例1−1の結果も下表に要約する。
溶媒として酢酸エチルの代わりに酢酸イソプロピル又は酢酸ブチルを用いた以外は、実施例1−1と同様にして反応と分析を行った。結果を以下の表2に示す。実施例1−1の結果も下表に要約する。
表中、収率はいずれも2工程を通じての収率を意味する。
[実施例1−4]
(工程i)
4−クロロメチル−5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール(化合物2−a)の製造
(工程i)
4−クロロメチル−5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール(化合物2−a)の製造
5−ジフルオロメトキシ−4−ヒドロキシメチル−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール(1−a)(123.2g、純度:69.9%、アセトニトリルを含む、0.35mol、100mol%)に、塩化チオニル(45.8g、0.39mol、110mol%)を内温20℃〜30℃で1時間かけて滴下した。滴下後、混合物を内温20℃〜30℃で1時間熟成した。反応終了後、反応混合物に窒素を30分間吹き込んで、過剰の塩化チオニルを除去し、酢酸ブチル(280mL、0.9L/mol)を加えた。得られた溶液を次工程へ使用した。
(工程ii)
3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルチオ]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物4−a)の製造
3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルチオ]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物4−a)の製造
工程iで製造した4−クロロメチル−5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチル−ピラゾール(2−a)の酢酸ブチル溶液(0.35molスケール相当)を氷冷攪拌下、内温10℃以下に冷却した。これに[5,5−ジメチル(4,5−ジヒドロイソオキサゾロ−3−イル)]チオカルボキサミジン臭化水素酸塩(3−b)の水溶液(362.4g、純度:27%、0.39mol相当)を加えた後、48%水酸化ナトリウム水溶液(145.8g、1.8mol、500mol%)を内温が10℃を超えないように2時間かけて滴下した。滴下後、混合物を内温10℃以下で30分間熟成した後、内温25℃まで加温し4時間熟成した。反応終了後、反応混合物を有機層と水層に分離した。得られた有機層を、HPLC絶対検量線法により分析したところ、目的物(4−a)の収率は87.4%(287.8g、2工程を通じて)であった。
[実施例1−5]
(工程i)
4−クロロメチル−5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール(化合物2−a)の製造
(工程i)
4−クロロメチル−5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール(化合物2−a)の製造
5−ジフルオロメトキシ−4−ヒドロキシメチル−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール(1−a)(45.8g、純度:69.9%、アセトニトリルを含む、0.13mol、100mol%)に、塩化チオニル(17.0g、0.14mol、110mol%)を内温20℃〜30℃で1時間かけて滴下した。滴下後、混合物を内温20℃〜30℃で1時間熟成した。反応終了後、反応混合物に窒素を30分間吹き込んで、過剰の塩化チオニルを除去し、ブタノール(130mL、1.0L/mol)を加えた。得られた標題化合物(2−a)のブタノール溶液は168gであった。
(工程ii)
3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルチオ]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾールの製造
3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルチオ]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾールの製造
工程iで製造した4−クロロメチル−5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチル−ピラゾール(2−a)のブタノール溶液(0.13molスケール相当)を内温20℃〜30℃にした。これに[5,5−ジメチル(4,5−ジヒドロイソオキサゾロ−3−イル)]チオカルボキサミジン臭化水素酸塩(3−b)の水溶液(134.6g、純度:27%、0.14mol相当)を加えた後、48%水酸化ナトリウム水溶液(54.2g、0.65mol、500mol%)を内温20℃〜30℃で30分間かけて滴下した。滴下後、混合物を内温20℃〜30℃で3時間熟成した。反応終了後、反応混合物を有機層と水層に分離した。得られた有機層を、HPLC絶対検量線法により分析したところ、目的物(4−a)の収率は91.9%(185.7g、2工程を通じて)であった。
[実施例1−6]
(工程i)
4−クロロメチル−5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール(化合物2−a)の製造
(工程i)
4−クロロメチル−5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール(化合物2−a)の製造
5−ジフルオロメトキシ−4−ヒドロキシメチル−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール(1−a)(35.5g、純度:69.4%、アセトニトリルを含む、0.10mol、100mol%)に、塩化チオニル(13.1g、0.11mol、110mol%)を内温15℃〜20℃で1時間かけて滴下した。滴下後、混合物を内温15℃〜20℃で1時間熟成した。反応終了後、反応混合物に窒素を30分間吹き込んで、過剰の塩化チオニルを除去し、アセトニトリル80mL(0.8L/mol)を加えた。得られた溶液をGC内部標準法により分析した。その結果、標題化合物(2−a)の収率は96.4%であった。
(工程ii)
3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルチオ]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物4−a)の製造
3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルチオ]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物4−a)の製造
反応フラスコに、48%水酸化ナトリウム水溶液(50.0g、0.6mol、600mol%)を加え、[5,5−ジメチル(4,5−ジヒドロイソオキサゾロ−3−イル)]チオカルボキサミジン臭化水素酸塩(3−b)の水溶液(111.8g、純度:25%、0.11mol、110mol%)を内温15℃〜25℃で1時間かけて滴下した。滴下後、混合物を内温15℃〜20℃で30分間熟成した。反応混合物に、工程iで製造した4−クロロメチル−5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチル−ピラゾール(2−a)のアセトニトリル溶液を内温15℃〜25℃で1時間かけて滴下し、混合物を室温で一晩熟成した。得られた反応混合物を有機層と水層に分離した。得られた有機層を、HPLC絶対検量線法により分析したところ、目的物(4−a)の収率は94.6%(101.5g、2工程を通じて)であった。
[実施例1−7]
(工程i)
4−クロロメチル−5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール(化合物2−a)の製造
(工程i)
4−クロロメチル−5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール(化合物2−a)の製造
5−ジフルオロメトキシ−4−ヒドロキシメチル−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール(1−a)(35.5g、純度:69.4%、アセトニトリルを含む、0.10mol、100mol%)に、アセトニトリル80mL(0.8L/mol)を加えた。塩化チオニル(13.1g、0.11mol、110mol%)を内温15℃〜20℃で1時間かけて滴下した。滴下後、混合物を内温15℃〜20℃で1時間熟成した。反応終了後、反応混合物に窒素を30分間吹き込んで、過剰の塩化チオニルを除去した。得られた溶液をGC内部標準法により分析した。その結果、標題化合物(2−a)の収率は97.3%であった。
(工程ii)
3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルチオ]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物4−a)の製造
3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルチオ]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物4−a)の製造
反応フラスコに、48%水酸化ナトリウム水溶液(50.0g、0.6mol、600mol%)を加え、[5,5−ジメチル(4,5−ジヒドロイソオキサゾロ−3−イル)]チオカルボキサミジン臭化水素酸塩(3−b)の水溶液(111.8g、純度:25%、0.11mol、110mol%)を内温15℃〜25℃で1時間かけて滴下した。反応混合物に、工程iで製造した4−クロロメチル−5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチル−ピラゾール(2−a)のアセトニトリル溶液を内温15℃〜25℃で1時間かけて滴下し、混合物を室温で一晩熟成した。得られた反応混合物を有機層と水層に分離した。得られた有機層を、HPLC絶対検量線法により分析したところ、目的物(4−a)の収率は94.6%(101.5g、2工程を通じて)であった。
[実施例1−8]
(工程i)
4−クロロメチル−5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール(化合物2−a)の製造
(工程i)
4−クロロメチル−5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール(化合物2−a)の製造
5−ジフルオロメトキシ−4−ヒドロキシメチル−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール(1−a)(116.6g、純度:84.4%、アセトニトリルを含む、0.40mol、100mol%)に溶媒としてアセトニトリル(320ml、0.8L/mol)を加えて希釈した。水冷撹拌下、塩化チオニル(52.4g、0.44mol、110mol%)を内温が20℃を超えないように、1時間かけて滴下した。滴下後、混合物を内温25℃以下で30分間熟成した。反応終了後、反応混合物に窒素を30分間吹き込んで、過剰の塩化チオニルを除去することにより、標題化合物(2−a)の赤褐色アセトニトリル溶液(366g)を得た。
(工程ii)
3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルチオ]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物4−a)の製造
3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルチオ]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物4−a)の製造
工程iで製造した4−クロロメチル−5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチル−ピラゾール(2−a)のアセトニトリル溶液(188g、0.2molスケール相当)を氷冷撹拌下、内温10℃以下に冷却した。これに[5,5−ジメチル(4,5−ジヒドロイソオキサゾロ−3−イル)]チオカルボキサミジン塩酸塩(3−a)の水溶液(183.3g、純度:30%、0.22mol相当)を加えた後、48%水酸化ナトリウム水溶液(83.3g、1.0mol、500mol%)を内温が10℃を超えないように30分間かけて滴下した。滴下後、混合物を内温10℃以下で30分間熟成した後、内温25℃まで加温し4時間熟成した。得られた反応混合物を有機層と水層を分離した。得られた有機層を、HPLC絶対検量線法により分析したところ、目的物(4−a)の収率は94.1%(181.8g、2工程を通じて)であった。
[実施例1−9]
(工程ii)
3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルチオ]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物4−a)の製造
(工程ii)
3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルチオ]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物4−a)の製造
4−クロロメチル−5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチル−ピラゾール(2−a)(29.1g、0.11mol、100mol%)にアセトニトリル(88mL、0.8L/mol)を加えアセトニトリル溶液とした。これに48%水酸化ナトリウム水溶液(54.2g、0.66mol、600mol%)を加え、内温5℃〜10℃にした。これに[5,5−ジメチル(4,5−ジヒドロイソオキサゾロ−3−イル)]チオカルボキサミジン臭化水素酸塩(3−b)の水溶液(103.7g、0.12mol、110mol%)を内温5℃〜10℃で1時間かけて滴下した。更に、48%水酸化ナトリウム水溶液(3.0g、0.04mol、30mol%)を加え、室温で一晩熟成した。反応終了後、反応混合物を有機層と水層に分離した。得られた有機層を、HPLC絶対検量線法により分析したところ、目的物(4−a)の収率は91.9%(88.1g)であった。
[実施例1−10]
(工程ii)
3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルチオ]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物4−a)の製造
(工程ii)
3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルチオ]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物4−a)の製造
[5,5−ジメチル(4,5−ジヒドロイソオキサゾロ−3−イル)]チオカルボキサミジン塩酸塩(3−a)の水溶液(2.5g、0.012mol、100mol%)にジエチルエーテル(20mL、2.3L/mol)を加えジエチルエーテル溶液とした。これに10%水酸化ナトリウム水溶液(16.7g、0.042mol、350mol%)を加え、室温にした。これに4−ブロモメチル−5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチル−ピラゾール(2−b)(2.5g、0.012mol、100mol%)を加え、室温で一晩熟成した。減圧濃縮後、得られた結晶を分析したところ、目的物(4−a)の収率は94%(4.05g)であった。
[実施例2]
3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルホニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物5−a)の製造
3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルホニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物5−a)の製造
[実施例2−1]
(工程iii)
3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルホニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物5−a)の製造
(工程iii)
3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルホニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物5−a)の製造
窒素気流下、反応フラスコに実施例1−3で製造した化合物(4−a)の酢酸ブチル溶液(87.2g、純度:41.2%、100mmol、100mol%、酢酸ブチル51.3g(0.6L/mol)を含む)、水10ml(0.1L/mol)及びタングステン酸ナトリウム二水和物(1.6g、5mmol、5mol%)を加えた。混合物を内温70℃〜80℃に加温した。そこに35%過酸化水素水溶液(27.2g、280mmol、280mol%、水17.7g(0.2L/mol)を含む)を内温70℃〜80℃で1時間かけて滴下し、混合物を内温75℃〜80℃に保ちながら7時間熟成した。
反応中間体である、3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルフィニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物6−a;SO誘導体)は、この時点で0.6%(HPLC面積百分率;230nm)であった。
反応中間体である、3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルフィニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物6−a;SO誘導体)は、この時点で0.6%(HPLC面積百分率;230nm)であった。
反応混合物に20%亜硫酸ナトリウム水溶液(31.5g、50mmol、50mol%)を加え、混合物を内温60℃〜70℃で30分間撹拌した。得られた混合物を有機層と水層に分離した。得られた有機層に水50ml(0.5L/mol)を加え、減圧下で濃縮した。得られた粗生成物にイソプロパノール133.5ml(1.7L/mol)を加え、室温で結晶を濾別した。得られた結晶をイソプロパノール12.4ml(0.2L/mol)及び水10ml(0.1L/mol)で順次洗浄した。その結果、収率93.0%で目的物(化合物5−a)の結晶を得た。
1H−NMR値(CDCl3/TMS δ(ppm)):6.83(1H,t,J=71.9Hz)、4.60(2H,s)、3.88(3H,s)、3.11(2H,s)、1.52(6H,s)
1H−NMR値(CDCl3/TMS δ(ppm)):6.83(1H,t,J=71.9Hz)、4.60(2H,s)、3.88(3H,s)、3.11(2H,s)、1.52(6H,s)
[実施例2−2]
(工程iii)
3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルホニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物5−a)の製造
(工程iii)
3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルホニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物5−a)の製造
窒素気流下、反応フラスコに化合物(4−a)の酢酸ブチル溶液(94.1g、純度:38.2%、100mmol、100mol%、酢酸ブチル58.2g(0.7L/mol))、水10ml(0.1L/mol)及びタングステン酸ナトリウム二水和物(1.6g、5mmol、5mol%)を加えた。混合物を内温70℃〜80℃に加温した。そこに30%過酸化水素水溶液(28.4g、250mmol、250mol%、水19.9g(0.2L/mol)を含む)を内温70℃〜80℃で1時間かけて滴下し、混合物を内温75℃〜80℃に保ちながら5時間熟成した。
反応中間体である、3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルフィニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物6−a;SO誘導体)は、この時点で0.2%(HPLC面積百分率;230nm)であった。
反応混合物に20%亜硫酸ナトリウム水溶液(31.5g、50mmol、50mol%)を加え、混合物を内温60℃〜70℃で30分間撹拌した。得られた混合物を有機層と水層に分離した。得られた有機層に水50ml(0.5L/mol)を加え、減圧下で濃縮した。得られた粗生成物にイソプロパノール133.5ml(1.7L/mol)を加え、室温で結晶を濾別した。得られた結晶をイソプロパノール12.4ml(0.2L/mol)及び水10ml(0.1L/mol)で洗浄した。その結果、収率89.6%で目的物(化合物5−a)の結晶を得た。
反応中間体である、3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルフィニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物6−a;SO誘導体)は、この時点で0.2%(HPLC面積百分率;230nm)であった。
反応混合物に20%亜硫酸ナトリウム水溶液(31.5g、50mmol、50mol%)を加え、混合物を内温60℃〜70℃で30分間撹拌した。得られた混合物を有機層と水層に分離した。得られた有機層に水50ml(0.5L/mol)を加え、減圧下で濃縮した。得られた粗生成物にイソプロパノール133.5ml(1.7L/mol)を加え、室温で結晶を濾別した。得られた結晶をイソプロパノール12.4ml(0.2L/mol)及び水10ml(0.1L/mol)で洗浄した。その結果、収率89.6%で目的物(化合物5−a)の結晶を得た。
[実施例2−3]
(工程iii)
3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルホニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物5−a)の製造
(工程iii)
3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルホニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物5−a)の製造
窒素気流下、反応フラスコに化合物(4−a)の酢酸イソプロピル溶液(100.6g、純度:35.7%、100mmol、100mol%、酢酸イソプロピル64.7g(0.7L/mol)を含む)、水10ml(0.1L/mol)及びタングステン酸ナトリウム二水和物(1.6g、5mmol、5mol%)を加えた。混合物を内温70℃〜80℃に加温した。そこに35%過酸化水素水溶液(27.2g、280mmol、280mol%、水17.7g(0.2L/mol)を含む)を内温70℃〜80℃で1時間かけて滴下し、混合物を内温75℃〜80℃に保ちながら7時間熟成した。
反応中間体である、3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルフィニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物6−a;SO誘導体)は、この時点で2.5%(HPLC面積百分率;230nm)であった。
反応混合物に20%亜硫酸ナトリウム水溶液(31.5g、50mmol、50mol%)を加え、混合物を内温60℃〜70℃で30分間撹拌した。得られた混合物を有機層と水層に分離した。得られた有機層に水50ml(0.5L/mol)を加え、減圧下で濃縮した。得られた粗生成物にイソプロパノール133.5ml(1.7L/mol)を加え、室温で結晶を濾別した。得られた結晶をイソプロパノール12.4ml(0.2L/mol)及び水10ml(0.1L/mol)で順次洗浄した。その結果、収率91.8%で目的物(化合物5−a)の結晶を得た。
反応中間体である、3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルフィニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物6−a;SO誘導体)は、この時点で2.5%(HPLC面積百分率;230nm)であった。
反応混合物に20%亜硫酸ナトリウム水溶液(31.5g、50mmol、50mol%)を加え、混合物を内温60℃〜70℃で30分間撹拌した。得られた混合物を有機層と水層に分離した。得られた有機層に水50ml(0.5L/mol)を加え、減圧下で濃縮した。得られた粗生成物にイソプロパノール133.5ml(1.7L/mol)を加え、室温で結晶を濾別した。得られた結晶をイソプロパノール12.4ml(0.2L/mol)及び水10ml(0.1L/mol)で順次洗浄した。その結果、収率91.8%で目的物(化合物5−a)の結晶を得た。
[実施例2−4]
(工程iii)
3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルホニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物5−a)の製造
(工程iii)
3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルホニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物5−a)の製造
窒素気流下、反応フラスコに化合物(4−a)の酢酸エチル溶液(107.3g、純度:33.5%、100mmol、100mol%、酢酸エチル71.4g(0.8L/mol)を含む)、水10ml(0.1L/mol)及びタングステン酸ナトリウム二水和物(1.6g、5mmol、5mol%)を加えた。混合物を内温70℃〜80℃に加温した。そこに35%過酸化水素水溶液(27.2g、280mmol、280mol%、水17.7g(0.2L/mol)を含む)を内温70℃〜80℃で1時間かけて滴下し、混合物を内温75℃〜80℃に保ちながら7時間熟成した。
反応中間体である、3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルフィニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物6−a;SO誘導体)は、この時点で1.8%(HPLC面積百分率;230nm)であった。
反応混合物に20%亜硫酸ナトリウム水溶液(31.5g、50mmol、50mol%)を加え、混合物を内温60℃〜70℃で30分間撹拌した。得られた混合物を有機層と水層に分離した。得られた有機層に水50ml(0.5L/mol)を加え、減圧下で濃縮した。得られた粗生成物にイソプロパノール133.5ml(1.7L/mol)を加え、室温で結晶を濾別した。得られた結晶をイソプロパノール12.4ml(0.2L/mol)及び水10ml(0.1L/mol)で順次洗浄した。その結果、収率89.1%で目的物(化合物5−a)の結晶を得た。
反応中間体である、3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルフィニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物6−a;SO誘導体)は、この時点で1.8%(HPLC面積百分率;230nm)であった。
反応混合物に20%亜硫酸ナトリウム水溶液(31.5g、50mmol、50mol%)を加え、混合物を内温60℃〜70℃で30分間撹拌した。得られた混合物を有機層と水層に分離した。得られた有機層に水50ml(0.5L/mol)を加え、減圧下で濃縮した。得られた粗生成物にイソプロパノール133.5ml(1.7L/mol)を加え、室温で結晶を濾別した。得られた結晶をイソプロパノール12.4ml(0.2L/mol)及び水10ml(0.1L/mol)で順次洗浄した。その結果、収率89.1%で目的物(化合物5−a)の結晶を得た。
[実施例2−5]
(工程iii)
3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルホニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物5−a)の製造
(工程iii)
3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルホニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物5−a)の製造
窒素気流下、反応フラスコに化合物(4−a)の酢酸ブチル溶液(94.1g、純度:38.2%、100mmol、100mol%、酢酸ブチル58.2g(0.7L/mol))、ブタノール5.0g(0.06L/mol)、水10ml(0.1L/mol)及びタングステン酸ナトリウム二水和物(1.6g、5mmol、5mol%)を加えた。混合物を内温70℃〜80℃に加温した。そこに30%過酸化水素水溶液(28.4g、250mmol、250mol%、水19.9g(0.2L/mol)を含む)を内温70℃〜80℃で1時間かけて滴下し、混合物を内温75℃〜80℃に保ちながら5時間熟成した。
反応中間体である、3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルフィニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物6−a;SO誘導体)は、この時点で0.2%(HPLC面積百分率;230nm)であった。
反応混合物に20%亜硫酸ナトリウム水溶液(31.5g、50mmol、50mol%)を加え、混合物を内温60℃〜70℃で30分間撹拌した。得られた混合物を有機層と水層に分離した。得られた有機層に水50ml(0.5L/mol)を加え、減圧下で濃縮した。得られた粗生成物にイソプロパノール117.8ml(1.5L/mol)を加え、室温で結晶を濾別した。得られた結晶をイソプロパノール12.4ml(0.2L/mol)及び水10ml(0.1L/mol)で洗浄した。その結果、収率92%で目的物(化合物5−a)の結晶を得た。
反応中間体である、3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルフィニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物6−a;SO誘導体)は、この時点で0.2%(HPLC面積百分率;230nm)であった。
反応混合物に20%亜硫酸ナトリウム水溶液(31.5g、50mmol、50mol%)を加え、混合物を内温60℃〜70℃で30分間撹拌した。得られた混合物を有機層と水層に分離した。得られた有機層に水50ml(0.5L/mol)を加え、減圧下で濃縮した。得られた粗生成物にイソプロパノール117.8ml(1.5L/mol)を加え、室温で結晶を濾別した。得られた結晶をイソプロパノール12.4ml(0.2L/mol)及び水10ml(0.1L/mol)で洗浄した。その結果、収率92%で目的物(化合物5−a)の結晶を得た。
[実施例2−6]
(工程iii)
3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルホニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物5−a)の製造
(工程iii)
3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルホニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物5−a)の製造
反応中間体である、3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルフィニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物6−a;SO誘導体)は、この時点で2.2%(HPLC面積百分率;230nm)であった。
反応混合物に20%亜硫酸ナトリウム水溶液(31.5g、50mmol、50mol%)を加え、室温で結晶を濾別した。その結果、収率91.2%で目的物(化合物5−a)の結晶を得た。
[実施例2−7]
(工程iii)
3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルホニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物5−a)の製造
(工程iii)
3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルホニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物5−a)の製造
窒素気流下、反応フラスコに化合物(4−a)のブタノール溶液(89.7g、純度:20.0%、50mmol、50mol%、ブタノール71.8g(1.8L/mol))、水5ml(0.1L/mol)及びタングステン酸ナトリウム二水和物(0.5g、1.5mmol、3mol%)、硫酸水素テトラブチルアンモニウム(0.2g、0.5mmol、1mol%)、リン酸フェニル(0.1g、0.5mmol、1mol%)を加えた。混合物を内温75℃〜85℃に加温した。そこに35%過酸化水素水溶液(14.6g、150mmol、300mol%、水9.5g(0.2L/mol)を含む)を内温75℃〜85℃で1時間かけて滴下し、混合物を内温75℃〜85℃に保ちながら5時間熟成した。さらに、そこに35%過酸化水素水溶液(4.9g、50mmol、100mol%、水3.2g(0.1L/mol)を含む)を滴下し、混合物を内温75℃〜85℃に保ちながら3時間熟成した。
反応中間体である、3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルフィニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物6−a;SO誘導体)は、この時点で0.7%(HPLC面積百分率;230nm)であった。
反応混合物に10%亜硫酸ナトリウム水溶液(12.6g、10mmol、20mol%)を加え、室温で結晶を濾別した。得られた結晶をブタノール10ml(0.2L/mol)及び水10ml(0.2L/mol)で順次洗浄した。その結果、収率90.0%で目的物(化合物5−a)の結晶を得た。
反応中間体である、3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルフィニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物6−a;SO誘導体)は、この時点で0.7%(HPLC面積百分率;230nm)であった。
反応混合物に10%亜硫酸ナトリウム水溶液(12.6g、10mmol、20mol%)を加え、室温で結晶を濾別した。得られた結晶をブタノール10ml(0.2L/mol)及び水10ml(0.2L/mol)で順次洗浄した。その結果、収率90.0%で目的物(化合物5−a)の結晶を得た。
[実施例2−8]
(工程iii)
3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルホニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物5−a)の製造
(工程iii)
3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルホニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物5−a)の製造
窒素気流下、反応フラスコに化合物(4−a)(3.05g、純度:100%、8.5mmol、100mol%)、エタノール6.7g(1.0L/mol))、水0.9ml(0.1L/mol)及びタングステン酸ナトリウム二水和物(0.084g、0.3mmol、3mol%)、硫酸水素テトラブチルアンモニウム(0.087g、0.3mmol、3mol%)、リン酸フェニル(0.083g、0.3mmol、3mol%)を加えた。混合物を内温75℃〜80℃に加温した。そこに35%過酸化水素水溶液(4.13g、42.5mmol、500mol%、水2.7g(0.3L/mol)を含む)を内温75℃〜80℃で1時間かけて滴下し、混合物を内温75℃〜80℃に保ちながら3時間熟成した。
反応中間体である、3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルフィニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物6−a;SO誘導体)は、この時点で0.6%(HPLC面積百分率;230nm)であった。
反応混合物にアセトニトリルを加え均一とした。HPLC外部標準法により分析した結果、収率92.3%で目的物(5−a)を得た。
反応中間体である、3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルフィニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物6−a;SO誘導体)は、この時点で0.6%(HPLC面積百分率;230nm)であった。
反応混合物にアセトニトリルを加え均一とした。HPLC外部標準法により分析した結果、収率92.3%で目的物(5−a)を得た。
[実施例2−9]
(工程iii)
3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルホニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物5−a)の製造
(工程iii)
3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルホニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物5−a)の製造
窒素気流下、反応フラスコに化合物(4−a)(3.05g、純度:100%、8.5mmol、100mol%)、tert−ブタノール6.6g(1.0L/mol))、水0.9ml(0.1L/mol)及びタングステン酸ナトリウム二水和物(0.084g、0.3mmol、3mol%)、硫酸水素テトラブチルアンモニウム(0.087g、0.3mmol、3mol%)、リン酸フェニル(0.083g、0.3mmol、3mol%)を加えた。混合物を内温75℃〜80℃に加温した。そこに35%過酸化水素水溶液(4.13g、42.5mmol、500mol%、水2.7g(0.3L/mol)を含む)を内温75℃〜80℃で1時間かけて滴下し、混合物を内温75℃〜80℃に保ちながら3時間熟成した。
反応中間体である、3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルフィニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物6−a;SO誘導体)は、この時点で0.6%(HPLC面積百分率;230nm)であった。
反応混合物にアセトニトリルを加え均一とした。HPLC外部標準法により分析した結果、収率95.0%で目的物(5−a)を得た。
反応中間体である、3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルフィニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物6−a;SO誘導体)は、この時点で0.6%(HPLC面積百分率;230nm)であった。
反応混合物にアセトニトリルを加え均一とした。HPLC外部標準法により分析した結果、収率95.0%で目的物(5−a)を得た。
[実施例2−10]
(工程iii)
3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルホニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物5−a)の製造
(工程iii)
3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルホニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物5−a)の製造
窒素気流下、反応フラスコに化合物(4−a)(3.05g、純度:100%、8.5mmol、100mol%)、アセトニトリル6.7g(1.0L/mol))、水0.9ml(0.1L/mol)及びタングステン酸ナトリウム二水和物(0.084g、0.3mmol、3mol%)、硫酸水素テトラブチルアンモニウム(0.087g、0.3mmol、3mol%)、リン酸フェニル(0.083g、0.3mmol、3mol%)を加えた。混合物を内温75℃〜80℃に加温した。そこに35%過酸化水素水溶液(2.48g、25.5mmol、300mol%、水1.6g(0.2L/mol)を含む)を内温75℃〜80℃で1時間かけて滴下し、混合物を内温75℃〜80℃に保ちながら3時間熟成した。
反応中間体である、3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルフィニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物6−a;SO誘導体)は、この時点で0.4%(HPLC面積百分率;230nm)であった。
反応混合物にアセトニトリルを加え均一とした。HPLC外部標準法により分析した結果、収率95.7%で目的物(5−a)を得た。
反応中間体である、3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルフィニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物6−a;SO誘導体)は、この時点で0.4%(HPLC面積百分率;230nm)であった。
反応混合物にアセトニトリルを加え均一とした。HPLC外部標準法により分析した結果、収率95.7%で目的物(5−a)を得た。
[実施例2−11]
(工程iii)
3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルホニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物5−a)の製造
(工程iii)
3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルホニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物5−a)の製造
窒素気流下、反応フラスコに化合物(4−a)(3.05g、純度:100%、8.5mmol、100mol%)、メタノール6.7g(1.0L/mol))、水0.9ml(0.1L/mol)及びタングステン酸ナトリウム二水和物(0.084g、0.3mmol、3mol%)、硫酸水素テトラブチルアンモニウム(0.087g、0.3mmol、3mol%)、リン酸フェニル(0.083g、0.3mmol、3mol%)を加えた。混合物を内温65℃〜70℃に加温した。そこに35%過酸化水素水溶液(4.13g、42.5mmol、500mol%、水2.7g(0.3L/mol)を含む)を内温65℃〜70℃で1時間かけて滴下し、混合物を内温65℃〜70℃に保ちながら6時間熟成した。
反応中間体である、3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルフィニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物6−a;SO誘導体)は、この時点で1.8%(HPLC面積百分率;230nm)であった。
反応混合物にアセトニトリルを加え均一とした。HPLC外部標準法により分析した結果、収率96%で目的物(5−a)を得た。
反応中間体である、3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルフィニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物6−a;SO誘導体)は、この時点で1.8%(HPLC面積百分率;230nm)であった。
反応混合物にアセトニトリルを加え均一とした。HPLC外部標準法により分析した結果、収率96%で目的物(5−a)を得た。
[実施例2−12]
(工程iii)
3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルホニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物5−a)の製造
(工程iii)
3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルホニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物5−a)の製造
窒素気流下、反応フラスコに化合物(4−a)(3.05g、純度:100%、8.5mmol、100mol%)、メタノール6.7g(1.0L/mol))、水0.9ml(0.1L/mol)及びタングステン酸ナトリウム二水和物(0.084g、0.3mmol、3mol%)、硫酸(0.087g、0.85mmol、10mol%)を加えた。混合物を内温65℃〜70℃に加温した。そこに35%過酸化水素水溶液(4.13g、42.5mmol、500mol%、水2.7g(0.3L/mol)を含む)を内温65℃〜70℃で1時間かけて滴下し、混合物を内温65℃〜70℃に保ちながら6時間熟成した。
反応中間体である、3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルフィニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物6−a;SO誘導体)は、この時点で1.4%(HPLC面積百分率;230nm)であった。
反応混合物にアセトニトリルを加え均一とした。HPLC外部標準法により分析した結果、収率96%で目的物(5−a)を得た。
反応中間体である、3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルフィニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物6−a;SO誘導体)は、この時点で1.4%(HPLC面積百分率;230nm)であった。
反応混合物にアセトニトリルを加え均一とした。HPLC外部標準法により分析した結果、収率96%で目的物(5−a)を得た。
[実施例2−13]
(工程iii)
3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルホニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物5−a)の製造
(工程iii)
3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルホニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物5−a)の製造
窒素気流下、反応フラスコに化合物(4−a)のアセトニトリル溶液(86.2g、純度:41.7%、100mmol、100mol%、アセトニトリル50.3g(0.6L/molを含む))、水10ml(0.1L/mol)及びタングステン酸ナトリウム二水和物(1.6g、5mmol、5mol%)を加えた。混合物を内温70℃〜80℃に加温した。そこに35%過酸化水素水溶液(24.3g、250mmol、250mol%、水15.8g(0.2L/mol)を含む)を内温70℃〜80℃で1時間かけて滴下し、混合物を内温75℃〜80℃に保ちながら5時間熟成した。
反応中間体である、3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルフィニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物6−a;SO誘導体)は、この時点で0.5%(HPLC面積百分率;230nm)であった。
反応混合物に20%亜硫酸ナトリウム水溶液(31.5g、50mmol、50mol%)を加え、混合物を内温60℃〜70℃で30分間撹拌した。得られた混合物を有機層と水層に分離した。得られた有機層に水50ml(0.5L/mol)を加え、減圧下で濃縮した。得られた粗生成物にイソプロパノール117.8ml(1.5L/mol)を加え、室温で結晶を濾別した。得られた結晶をイソプロパノール12.4ml(0.2L/mol)及び水10ml(0.1L/mol)で順次洗浄した。その結果、収率95.0%で目的物(化合物5−a)の結晶を得た。
反応中間体である、3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルフィニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物6−a;SO誘導体)は、この時点で0.5%(HPLC面積百分率;230nm)であった。
反応混合物に20%亜硫酸ナトリウム水溶液(31.5g、50mmol、50mol%)を加え、混合物を内温60℃〜70℃で30分間撹拌した。得られた混合物を有機層と水層に分離した。得られた有機層に水50ml(0.5L/mol)を加え、減圧下で濃縮した。得られた粗生成物にイソプロパノール117.8ml(1.5L/mol)を加え、室温で結晶を濾別した。得られた結晶をイソプロパノール12.4ml(0.2L/mol)及び水10ml(0.1L/mol)で順次洗浄した。その結果、収率95.0%で目的物(化合物5−a)の結晶を得た。
[実施例2−14]
(工程iii)
3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルホニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物5−a)の製造
(工程iii)
3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルホニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物5−a)の製造
窒素気流下、反応フラスコに化合物(4−a)のアセトニトリル溶液(88.9g、純度:40.4%、100mmol、100mol%、アセトニトリル65g(0.8L/mol)を含む))、水10ml(0.1L/mol)及びタングステン酸ナトリウム二水和物(1.0g、3mmol、3mol%)を加えた。混合物を内温75℃〜80℃に加温した。そこに35%過酸化水素水溶液(22.4g、230mmol、230mol%、水15g(0.15L/mol)を含む)を内温75℃〜80℃で1時間かけて滴下し、混合物を内温75℃〜80℃に保ちながら5時間熟成した。
反応中間体である、3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルフィニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物6−a;SO誘導体)は、この時点で0.5%(HPLC面積百分率;230nm)であった。
反応混合物に17%亜硫酸ナトリウム水溶液(22.2g、30mmol、30mol%)を加え、混合物を内温55℃〜65℃で30分間撹拌した。得られた混合物を有機層と水層に分離した。得られた有機層に水50ml(0.5L/mol)を加え、減圧下で濃縮した。得られた粗生成物にイソプロパノール80ml(0.8L/mol)を加え、室温で結晶を濾別した。得られた結晶をイソプロパノール10ml(0.1L/mol)及び水10ml(0.1L/mol)で順次洗浄した。その結果、収率95.9%で目的物(5−a)の結晶を得た。
反応中間体である、3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルフィニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物6−a;SO誘導体)は、この時点で0.5%(HPLC面積百分率;230nm)であった。
反応混合物に17%亜硫酸ナトリウム水溶液(22.2g、30mmol、30mol%)を加え、混合物を内温55℃〜65℃で30分間撹拌した。得られた混合物を有機層と水層に分離した。得られた有機層に水50ml(0.5L/mol)を加え、減圧下で濃縮した。得られた粗生成物にイソプロパノール80ml(0.8L/mol)を加え、室温で結晶を濾別した。得られた結晶をイソプロパノール10ml(0.1L/mol)及び水10ml(0.1L/mol)で順次洗浄した。その結果、収率95.9%で目的物(5−a)の結晶を得た。
[実施例2−15]
(工程iii)
3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルホニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物5−a)の製造
アセトニトリル溶媒の使用量を1.3L/molに、最初に仕込む水溶媒(前添加水)の使用量を0.3L/molに、タングステン酸ナトリウム二水和物の使用量を5mol%に、35%過酸化水素水溶液の使用量を300mmol%に、滴下温度と熟成温度を55℃〜65℃に、熟成時間を3時間に変更した以外は、実施例2−14と同様に反応及び分析を行った。
熟成3時間の時点で、3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルフィニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物6−a;SO誘導体)は0.1%(HPLC面積百分率;230nm)であった。
実施例2−14と同様に後処理を行った。その結果、収率92.2%で目的物(5−a)の結晶を得た。
(工程iii)
3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルホニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物5−a)の製造
アセトニトリル溶媒の使用量を1.3L/molに、最初に仕込む水溶媒(前添加水)の使用量を0.3L/molに、タングステン酸ナトリウム二水和物の使用量を5mol%に、35%過酸化水素水溶液の使用量を300mmol%に、滴下温度と熟成温度を55℃〜65℃に、熟成時間を3時間に変更した以外は、実施例2−14と同様に反応及び分析を行った。
熟成3時間の時点で、3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルフィニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物6−a;SO誘導体)は0.1%(HPLC面積百分率;230nm)であった。
実施例2−14と同様に後処理を行った。その結果、収率92.2%で目的物(5−a)の結晶を得た。
[実施例2−16]
(工程iii)
3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルホニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物5−a)の製造
アセトニトリル溶媒の使用量を0.45L/molに、最初に仕込む水溶媒(前添加水)の使用量を0.1L/molに、タングステン酸ナトリウム二水和物の使用量を5mol%に、35%過酸化水素水溶液の使用量を300mmol%に、滴下温度と熟成温度を60℃〜65℃に、熟成時間を5時間に変更した以外は、実施例2−14と同様に反応及び分析を行った。
熟成5時間の時点で、3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルフィニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物6−a;SO誘導体)は0.3%(HPLC面積百分率;230nm)であった。収率:90%以上
(工程iii)
3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルホニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物5−a)の製造
アセトニトリル溶媒の使用量を0.45L/molに、最初に仕込む水溶媒(前添加水)の使用量を0.1L/molに、タングステン酸ナトリウム二水和物の使用量を5mol%に、35%過酸化水素水溶液の使用量を300mmol%に、滴下温度と熟成温度を60℃〜65℃に、熟成時間を5時間に変更した以外は、実施例2−14と同様に反応及び分析を行った。
熟成5時間の時点で、3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルフィニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物6−a;SO誘導体)は0.3%(HPLC面積百分率;230nm)であった。収率:90%以上
[実施例2−17]
(工程iii)
3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルホニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物5−a)の製造
(工程iii)
3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルホニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物5−a)の製造
窒素気流下、反応フラスコに化合物(4−a)のアセトニトリル溶液(102.6g、純度:35.0%、100mmol、100mol%、アセトニトリル65g(0.8L/mol)を含む))、水10ml(0.1L/mol)及びモリブデン酸アンモニウム四水和物(1.23g、1mmol、1mol%)を加えた。混合物を内温75℃〜80℃に加温した。そこに35%過酸化水素水溶液(29.2g、300mmol、300mol%、水19g(0.19L/mol)を含む)を内温75℃〜80℃で1時間かけて滴下し、混合物を内温75℃〜80℃に保ちながら2時間熟成した。
反応中間体である、3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルフィニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物6−a;SO誘導体)は、この時点で0%(HPLC面積百分率;230nm)であった。
反応混合物に20%亜硫酸ナトリウム水溶液(22.2g、35mmol、35mol%)を加え、混合物を内温55℃〜65℃で30分間撹拌した。得られた混合物を有機層と水層に分離した。得られた有機層に水50ml(0.5L/mol)を加え、減圧下で濃縮した。得られた粗生成物にイソプロパノール80ml(0.8L/mol)を加え、室温で結晶を濾別した。得られた結晶をイソプロパノール10ml(0.1L/mol)及び水10ml(0.1L/mol)で順次洗浄した。その結果、収率94.7%で目的物(5−a)の結晶を得た。
反応中間体である、3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルフィニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物6−a;SO誘導体)は、この時点で0%(HPLC面積百分率;230nm)であった。
反応混合物に20%亜硫酸ナトリウム水溶液(22.2g、35mmol、35mol%)を加え、混合物を内温55℃〜65℃で30分間撹拌した。得られた混合物を有機層と水層に分離した。得られた有機層に水50ml(0.5L/mol)を加え、減圧下で濃縮した。得られた粗生成物にイソプロパノール80ml(0.8L/mol)を加え、室温で結晶を濾別した。得られた結晶をイソプロパノール10ml(0.1L/mol)及び水10ml(0.1L/mol)で順次洗浄した。その結果、収率94.7%で目的物(5−a)の結晶を得た。
[実施例2−18]
(工程iii)
3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルホニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物5−a)の製造
(工程iii)
3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルホニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物5−a)の製造
窒素気流下、反応フラスコに化合物(4−a)(100.1g、純度:35.0%、100mmol、100mol%、2-プロパノール62.5g(0.8L/mol)を含む))、水10ml(0.1L/mol)及びモリブデン酸アンモニウム四水和物(1.23g、1mmol、1mol%)を加えた。混合物を内温75℃〜80℃に加温した。
そこに35%過酸化水素水溶液(29.2g、300mmol、300mol%、水12.8g(0.12L/mol)を含む)を内温75℃〜80℃で1時間かけて滴下し、混合物を内温75℃〜80℃に保ちながら5時間熟成した。
反応中間体である、3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルフィニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物6−a;SO誘導体)は、この時点で残存していたため、35%過酸化水素水溶液(19.5g、200mmol、200mol%、水19g(0.19L/mol)を含む)を滴下し、混合物を内温75℃〜80℃に保ちながら5時間熟成した。
反応中間体である、3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルフィニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物6−a;SO誘導体)は、この時点で2.0%(HPLC面積百分率;230nm)であった。
反応混合物を撹拌し室温まで冷却し、室温で結晶を濾別した。得られた結晶をイソプロパノール10ml(0.1L/mol)及び水10ml(0.1L/mol)で順次洗浄した。その結果、収率93.2%で目的物(5−a)の結晶を得た。
そこに35%過酸化水素水溶液(29.2g、300mmol、300mol%、水12.8g(0.12L/mol)を含む)を内温75℃〜80℃で1時間かけて滴下し、混合物を内温75℃〜80℃に保ちながら5時間熟成した。
反応中間体である、3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルフィニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物6−a;SO誘導体)は、この時点で残存していたため、35%過酸化水素水溶液(19.5g、200mmol、200mol%、水19g(0.19L/mol)を含む)を滴下し、混合物を内温75℃〜80℃に保ちながら5時間熟成した。
反応中間体である、3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルフィニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物6−a;SO誘導体)は、この時点で2.0%(HPLC面積百分率;230nm)であった。
反応混合物を撹拌し室温まで冷却し、室温で結晶を濾別した。得られた結晶をイソプロパノール10ml(0.1L/mol)及び水10ml(0.1L/mol)で順次洗浄した。その結果、収率93.2%で目的物(5−a)の結晶を得た。
[実施例2−19]
(工程iii)
3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルホニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物5−a)の製造
溶媒をジメチルホルムアミドに、35%過酸化水素水溶液の使用量を400mmol%に、熟成時間を8時間に、変更した以外は、実施例2−17と同様に反応及び分析を行った。
熟成8時間の時点で、3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルフィニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物6−a;SO誘導体)は1.9%(HPLC面積百分率;230nm)であった。
反応混合物を撹拌し室温まで冷却しジメチルホルムアミドを加え均一とした。HPLC外部標準法により分析した結果、収率95.1%で目的物(5−a)の結晶を得た。
(工程iii)
3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルホニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物5−a)の製造
溶媒をジメチルホルムアミドに、35%過酸化水素水溶液の使用量を400mmol%に、熟成時間を8時間に、変更した以外は、実施例2−17と同様に反応及び分析を行った。
熟成8時間の時点で、3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルフィニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物6−a;SO誘導体)は1.9%(HPLC面積百分率;230nm)であった。
反応混合物を撹拌し室温まで冷却しジメチルホルムアミドを加え均一とした。HPLC外部標準法により分析した結果、収率95.1%で目的物(5−a)の結晶を得た。
[実施例2−20]
(工程iii)
3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルホニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物5−a)の製造
溶媒をジエチレングリコールジメチルエーテル(ジグライム)に、35%過酸化水素水溶液滴下後の熟成時間を1時間に、変更した以外は、実施例2−17と同様に反応及び分析を行った。
熟成1時間の時点で、3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルフィニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物6−a;SO誘導体)は0%(HPLC面積百分率;230nm)であった。
反応混合物にジメチルホルムアミドを加え均一とした。HPLC外部標準法により分析した結果、収率96.9%で目的物(5−a)を得た。
(工程iii)
3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルホニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物5−a)の製造
溶媒をジエチレングリコールジメチルエーテル(ジグライム)に、35%過酸化水素水溶液滴下後の熟成時間を1時間に、変更した以外は、実施例2−17と同様に反応及び分析を行った。
熟成1時間の時点で、3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルフィニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物6−a;SO誘導体)は0%(HPLC面積百分率;230nm)であった。
反応混合物にジメチルホルムアミドを加え均一とした。HPLC外部標準法により分析した結果、収率96.9%で目的物(5−a)を得た。
[実施例2−21]
(工程iii)
3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルホニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物5−a)の製造
反応容器に化合物(4−a)(0.9g、純度:100%、100mmol、100mol%)、アセトニトリル2mL(0.8L/mol)及びモリブデン酸アンモニウム四水和物(0.03g、0.025mmol、1mol%)を加えた。混合物を80℃に加温した。そこに35%過酸化水素水溶液(0.85g、350mmol、350mol%、水0.55g(0.2L/mol)を含む)を加え6時間熟成した。
反応中間体である、3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルフィニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物6−a;SO誘導体)は、この時点で0%(HPLC面積百分率;230nm)であった。
さらに、目的物である、3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルホニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物5−a;SO2誘導体)は、99.4%(HPLC面積百分率;230nm)、
3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルチオ]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物4−a;S誘導体)は、0%(HPLC面積百分率;230nm)であった。
(工程iii)
3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルホニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物5−a)の製造
反応容器に化合物(4−a)(0.9g、純度:100%、100mmol、100mol%)、アセトニトリル2mL(0.8L/mol)及びモリブデン酸アンモニウム四水和物(0.03g、0.025mmol、1mol%)を加えた。混合物を80℃に加温した。そこに35%過酸化水素水溶液(0.85g、350mmol、350mol%、水0.55g(0.2L/mol)を含む)を加え6時間熟成した。
反応中間体である、3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルフィニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物6−a;SO誘導体)は、この時点で0%(HPLC面積百分率;230nm)であった。
さらに、目的物である、3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルホニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物5−a;SO2誘導体)は、99.4%(HPLC面積百分率;230nm)、
3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルチオ]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物4−a;S誘導体)は、0%(HPLC面積百分率;230nm)であった。
[実施例2−22]
(工程iii)
3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルホニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物5−a)の製造
反応容器に化合物(4−a)(0.9g、純度:100%、100mmol、100mol%)、エタノール2mL(0.8L/mol)及びモリブデン酸アンモニウム四水和物(0.03g、0.025mmol、1mol%)を加えた。混合物を80℃に加温した。そこに35%過酸化水素水溶液(0.85g、350mmol、350mol%、水0.55g(0.2L/mol)を含む)を加え6時間熟成した。
反応中間体である、3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルフィニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物6−a;SO誘導体)は、この時点で0%(HPLC面積百分率;230nm)であった。
さらに、目的物である、3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルホニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物5−a;SO2誘導体)は、99.4%(HPLC面積百分率;230nm)、
3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルチオ]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物4−a;S誘導体)は、0%(HPLC面積百分率;230nm)であった。
(工程iii)
3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルホニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物5−a)の製造
反応容器に化合物(4−a)(0.9g、純度:100%、100mmol、100mol%)、エタノール2mL(0.8L/mol)及びモリブデン酸アンモニウム四水和物(0.03g、0.025mmol、1mol%)を加えた。混合物を80℃に加温した。そこに35%過酸化水素水溶液(0.85g、350mmol、350mol%、水0.55g(0.2L/mol)を含む)を加え6時間熟成した。
反応中間体である、3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルフィニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物6−a;SO誘導体)は、この時点で0%(HPLC面積百分率;230nm)であった。
さらに、目的物である、3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルホニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物5−a;SO2誘導体)は、99.4%(HPLC面積百分率;230nm)、
3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルチオ]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物4−a;S誘導体)は、0%(HPLC面積百分率;230nm)であった。
[実施例2−23]
(工程iii)
3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルホニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物5−a)の製造
反応容器に化合物(4−a)(0.9g、純度:100%、100mmol、100mol%)、N-メチルピロリドン2mL(0.8L/mol)及びモリブデン酸アンモニウム四水和物(0.03g、0.025mmol、1mol%)を加えた。混合物を80℃に加温した。そこに35%過酸化水素水溶液(0.85g、350mmol、350mol%、水0.55g(0.2L/mol)を含む)を加え6時間熟成した。
反応中間体である、3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルフィニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物6−a;SO誘導体)は、この時点で0%(HPLC面積百分率;230nm)であった。
さらに、目的物である、3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルホニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物5−a;SO2誘導体)は、98.0%(HPLC面積百分率;230nm)、
3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルチオ]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物4−a;S誘導体)は、0%(HPLC面積百分率;230nm)であった。
(工程iii)
3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルホニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物5−a)の製造
反応容器に化合物(4−a)(0.9g、純度:100%、100mmol、100mol%)、N-メチルピロリドン2mL(0.8L/mol)及びモリブデン酸アンモニウム四水和物(0.03g、0.025mmol、1mol%)を加えた。混合物を80℃に加温した。そこに35%過酸化水素水溶液(0.85g、350mmol、350mol%、水0.55g(0.2L/mol)を含む)を加え6時間熟成した。
反応中間体である、3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルフィニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物6−a;SO誘導体)は、この時点で0%(HPLC面積百分率;230nm)であった。
さらに、目的物である、3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルホニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物5−a;SO2誘導体)は、98.0%(HPLC面積百分率;230nm)、
3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルチオ]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物4−a;S誘導体)は、0%(HPLC面積百分率;230nm)であった。
[実施例2−24]
(工程iii)
3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルホニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物5−a)の製造
反応容器に化合物(4−a)(0.9g、純度:100%、100mmol、100mol%)、スルホラン2mL(0.8L/mol)及びモリブデン酸アンモニウム四水和物(0.03g、0.025mmol、1mol%)を加えた。混合物を80℃に加温した。そこに35%過酸化水素水溶液(0.85g、350mmol、350mol%、水0.55g(0.2L/mol)を含む)を加え6時間熟成した。
反応中間体である、3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルフィニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物6−a;SO誘導体)は、この時点で0%(HPLC面積百分率;230nm)であった。
さらに、目的物である、3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルホニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物5−a;SO2誘導体)は、98.7%(HPLC面積百分率;230nm)、
3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルチオ]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物4−a;S誘導体)は、0%(HPLC面積百分率;230nm)であった。
(工程iii)
3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルホニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物5−a)の製造
反応容器に化合物(4−a)(0.9g、純度:100%、100mmol、100mol%)、スルホラン2mL(0.8L/mol)及びモリブデン酸アンモニウム四水和物(0.03g、0.025mmol、1mol%)を加えた。混合物を80℃に加温した。そこに35%過酸化水素水溶液(0.85g、350mmol、350mol%、水0.55g(0.2L/mol)を含む)を加え6時間熟成した。
反応中間体である、3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルフィニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物6−a;SO誘導体)は、この時点で0%(HPLC面積百分率;230nm)であった。
さらに、目的物である、3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルホニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物5−a;SO2誘導体)は、98.7%(HPLC面積百分率;230nm)、
3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルチオ]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物4−a;S誘導体)は、0%(HPLC面積百分率;230nm)であった。
[実施例2−25]
(工程iii)
3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルホニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物5−a)の製造
反応容器に化合物(4−a)(0.9g、純度:100%、100mmol、100mol%)、ジオキサン2mL(0.8L/mol)及びモリブデン酸アンモニウム四水和物(0.03g、0.025mmol、1mol%)を加えた。混合物を80℃に加温した。そこに35%過酸化水素水溶液(0.85g、350mmol、350mol%、水0.55g(0.2L/mol)を含む)を加え6時間熟成した。
反応中間体である、3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルフィニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物6−a;SO誘導体)は、この時点で0%(HPLC面積百分率;230nm)であった。
さらに、目的物である、3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルホニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物5−a;SO2誘導体)は、99.4%(HPLC面積百分率;230nm)、
3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルチオ]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物4−a;S誘導体)は、0%(HPLC面積百分率;230nm)であった。
(工程iii)
3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルホニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物5−a)の製造
反応容器に化合物(4−a)(0.9g、純度:100%、100mmol、100mol%)、ジオキサン2mL(0.8L/mol)及びモリブデン酸アンモニウム四水和物(0.03g、0.025mmol、1mol%)を加えた。混合物を80℃に加温した。そこに35%過酸化水素水溶液(0.85g、350mmol、350mol%、水0.55g(0.2L/mol)を含む)を加え6時間熟成した。
反応中間体である、3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルフィニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物6−a;SO誘導体)は、この時点で0%(HPLC面積百分率;230nm)であった。
さらに、目的物である、3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルホニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物5−a;SO2誘導体)は、99.4%(HPLC面積百分率;230nm)、
3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルチオ]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物4−a;S誘導体)は、0%(HPLC面積百分率;230nm)であった。
[実施例2−26]
(工程iii)
3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルホニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物5−a)の製造
(工程iii)
3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルホニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物5−a)の製造
窒素気流下、反応フラスコに化合物(4−a)(0.9g、純度:100%、100mmol、100mol%)、ジメチルホルムアミド2mL(0.8L/mol)、ニオブ酸ナトリウム(20mg、0.125mmol、5mol%)及び硫酸(29mg、0.3mmol、12mol%)を加えた。混合物を内温75℃〜80℃に加温した。そこに35%過酸化水素水溶液(0.73g、7.5mmol、300mol%、水0.47g(0.2L/mol)を含む)を内温75℃〜80℃で1時間かけて滴下し、混合物を内温75℃〜80℃に保ちながら4時間熟成した。35%過酸化水素水溶液(0.36g、3.8mmol、150mol%、水0.2g(0.1L/mol)を含む)を滴下し、3時間熟成した。
反応中間体である、3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルフィニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物6−a;SO誘導体)は、この時点で2.6%(HPLC面積百分率;230nm)であった。
反応混合物にアセトニトリルを加え均一とした。HPLC外部標準法により分析した結果、収率93.9%で目的物(5−a)を得た。
反応中間体である、3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルフィニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物6−a;SO誘導体)は、この時点で2.6%(HPLC面積百分率;230nm)であった。
反応混合物にアセトニトリルを加え均一とした。HPLC外部標準法により分析した結果、収率93.9%で目的物(5−a)を得た。
[実施例2−27]
(工程iii)
3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルホニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物5−a)の製造
(工程iii)
3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルホニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物5−a)の製造
窒素気流下、反応フラスコに化合物(4−a)(0.9g、純度:100%、2.5mmol、100mol%、)、ジメチルホルムアミド2mL(0.8L/mol)及びタングステン酸ナトリウム二水和物(41mg、0.125mmol、5mol%)を加えた。混合物を内温75℃〜80℃に加温した。そこに35%過酸化水素水溶液(0.85g、8.75mmol、300mol%、水0.55g(0.2L/mol)を含む)を加え6時間熟成した。
この時点で、HPLC面積百分率(230nm)で分析した結果、
3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルフィニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物6−a;SO誘導体)は、0.5%
3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルホニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物5−a;SO2誘導体)は、97.2%
3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルチオ]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物4−a;S誘導体)は、0%
であった。
[実施例2−28]
(工程iii)
3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルホニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物5−a)の製造
この時点で、HPLC面積百分率(230nm)で分析した結果、
3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルフィニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物6−a;SO誘導体)は、0.5%
3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルホニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物5−a;SO2誘導体)は、97.2%
3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルチオ]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物4−a;S誘導体)は、0%
であった。
[実施例2−28]
(工程iii)
3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルホニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物5−a)の製造
窒素気流下、反応フラスコに化合物(4−a)(0.9g、純度:100%、2.5mmol、100mol%、)、2-プロパノール2mL(0.8L/mol)及びチタンアセチルアセトネート(33mg、0.125mmol、5mol%)を加えた。混合物を内温75℃〜80℃に加温した。そこに35%過酸化水素水溶液(0.85g、8.75mmol、300mol%、水0.55g(0.2L/mol)を含む)を加え6時間熟成した。
この時点で、HPLC面積百分率(230nm)で分析した結果、
3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルフィニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物6−a;SO誘導体)は、71.7%
3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルホニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物5−a;SO2誘導体)は、6.9%
3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルチオ]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物4−a;S誘導体)は、19.4%
であった。
この時点で、HPLC面積百分率(230nm)で分析した結果、
3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルフィニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物6−a;SO誘導体)は、71.7%
3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルホニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物5−a;SO2誘導体)は、6.9%
3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルチオ]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物4−a;S誘導体)は、19.4%
であった。
[実施例2−29]
(工程iii)
3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルホニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物5−a)の製造
(工程iii)
3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルホニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物5−a)の製造
窒素気流下、反応フラスコに化合物(4−a)(0.9g、純度:100%、2.5mmol、100mol%、)、アセトニトリル2mL(0.8L/mol)及び塩化酸化ジルコニウム八水和物(40mg、0.125mmol、5mol%)を加えた。混合物を内温75℃〜80℃に加温した。そこに35%過酸化水素水溶液(0.85g、8.75mmol、300mol%、水0.55g(0.2L/mol)を含む)を加え6時間熟成した。
この時点で、HPLC面積百分率(230nm)で分析した結果、
3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルフィニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物6−a;SO誘導体)は、56.5%
3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルホニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物5−a;SO2誘導体)は、11.0%
3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルチオ]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物4−a;S誘導体)は、0%
であった。
この時点で、HPLC面積百分率(230nm)で分析した結果、
3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルフィニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物6−a;SO誘導体)は、56.5%
3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルホニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物5−a;SO2誘導体)は、11.0%
3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルチオ]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物4−a;S誘導体)は、0%
であった。
[実施例2−30]
(工程iii)
3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルホニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物5−a)の製造
(工程iii)
3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルホニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物5−a)の製造
窒素気流下、反応フラスコに化合物(4−a)(0.9g、純度:100%、2.5mmol、100mol%、)、2-プロパノール2mL(0.8L/mol)及び塩化酸化ジルコニウム八水和物(40mg、0.125mmol、5mol%)を加えた。混合物を内温75℃〜80℃に加温した。そこに35%過酸化水素水溶液(0.85g、8.75mmol、300mol%、水0.55g(0.2L/mol)を含む)を加え6時間熟成した。
この時点で、HPLC面積百分率(230nm)で分析した結果、
3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルフィニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物6−a;SO誘導体)は、71.6%
3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルホニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物5−a;SO2誘導体)は、12.5%
3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルチオ]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物4−a;S誘導体)は、1.4%
であった。
この時点で、HPLC面積百分率(230nm)で分析した結果、
3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルフィニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物6−a;SO誘導体)は、71.6%
3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルホニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物5−a;SO2誘導体)は、12.5%
3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルチオ]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物4−a;S誘導体)は、1.4%
であった。
[実施例2−31]
(工程iii)
3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルホニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物5−a)の製造
(工程iii)
3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルホニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物5−a)の製造
窒素気流下、反応フラスコに化合物(4−a)(0.9g、純度:100%、2.5mmol、100mol%、)、ジメチルホルムアミド2mL(0.8L/mol)及びタンタル酸リチウム(29mg、0.125mmol、5mol%)を加えた。混合物を内温75℃〜80℃に加温した。そこに35%過酸化水素水溶液(1.42g、14.6mmol、500mol%、水0.92g(0.37L/mol)を含む)を加え6時間熟成した。
この時点で、HPLC面積百分率(230nm)で分析した結果、
3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルフィニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物6−a;SO誘導体)は、29.3%
3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルホニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物5−a;SO2誘導体)は、67.1%
3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルチオ]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物4−a;S誘導体)は、0%
であった。
この時点で、HPLC面積百分率(230nm)で分析した結果、
3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルフィニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物6−a;SO誘導体)は、29.3%
3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルホニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物5−a;SO2誘導体)は、67.1%
3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルチオ]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物4−a;S誘導体)は、0%
であった。
[実施例2−32]
(工程iii)
3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルホニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物5−a)の製造
(工程iii)
3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルホニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物5−a)の製造
窒素気流下、反応フラスコに化合物(4−a)(0.9g、純度:100%、2.5mmol、100mol%、)、ジメチルホルムアミド2mL(0.8L/mol)及びタンタル酸リチウム(290mg、1.25mmol、50mol%)を加えた。混合物を内温75℃〜80℃に加温した。そこに35%過酸化水素水溶液(0.99g、10.2mmol、350mol%、水0.64g(0.36L/mol)を含む)を加え6時間熟成した。
この時点で、HPLC面積百分率(230nm)で分析した結果、
3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルフィニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物6−a;SO誘導体)は、17.9%
3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルホニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物5−a;SO2誘導体)は、80.4%
3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルチオ]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物4−a;S誘導体)は、0%
であった。
この時点で、HPLC面積百分率(230nm)で分析した結果、
3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルフィニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物6−a;SO誘導体)は、17.9%
3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルホニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物5−a;SO2誘導体)は、80.4%
3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルチオ]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物4−a;S誘導体)は、0%
であった。
[実施例2−33]
(工程iii)
3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルホニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物5−a)の製造
(工程iii)
3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルホニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物5−a)の製造
窒素気流下、反応フラスコに化合物(4−a)(8.34g、純度:100%、23.2mmol、100mol%)、エタノール24.6g(0.8L/mol)、水2.3ml(0.1L/mol)及びタングステン酸ナトリウム二水和物(0.38g、1.16mmol、5mol%)を加えた。混合物を内温75℃〜78℃に加温した。そこに35%過酸化水素水溶液(11.3g、116mmol、500mol%、水17.2g(0.3L/mol)を含む)を内温75℃〜78℃で滴下し、混合物を内温75℃〜78℃に保ちながら5時間熟成した。
反応中間体である、3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルフィニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物6−a;SO誘導体)は、この時点で2.9%(HPLC面積百分率;230nm)であった。
さらに、35%過酸化水素水溶液(2.26g、23.2mmol、100mol%、水6.4g(0.06L/mol)を含む)を内温75℃〜78℃で滴下し、混合物を内温75℃〜78℃に保ちながら1時間熟成した。
反応中間体である、3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルフィニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物6−a;SO誘導体)は、この時点で0.6%(HPLC面積百分率;230nm)であった。
反応混合物にジメチルホルムアミドを加え均一とした。HPLC外部標準法により分析した結果、収率94.2%で目的物(5−a)を得た。
反応中間体である、3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルフィニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物6−a;SO誘導体)は、この時点で2.9%(HPLC面積百分率;230nm)であった。
さらに、35%過酸化水素水溶液(2.26g、23.2mmol、100mol%、水6.4g(0.06L/mol)を含む)を内温75℃〜78℃で滴下し、混合物を内温75℃〜78℃に保ちながら1時間熟成した。
反応中間体である、3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルフィニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物6−a;SO誘導体)は、この時点で0.6%(HPLC面積百分率;230nm)であった。
反応混合物にジメチルホルムアミドを加え均一とした。HPLC外部標準法により分析した結果、収率94.2%で目的物(5−a)を得た。
[実施例2−34]
(工程iii)
3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルホニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物5−a)の製造
(工程iii)
3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルホニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物5−a)の製造
窒素気流下、反応フラスコに化合物(4−a)(138g、純度:78.1%、300mmol、100mol%)、エタノール237g(1.0L/mol)、水90ml(0.3L/mol)及びタングステン酸ナトリウム二水和物(5.0g、15mmol、5mol%)を加えた。混合物を内温50℃〜60℃に加温した。そこに35%過酸化水素水溶液(87.5g、900mmol、300mol%、水56.9g(0.2L/mol)を含む)を内温50℃〜60℃で1時間かけて滴下し、混合物を内温50℃〜60℃に保ちながら7時間熟成した。
反応中間体である、3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルフィニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物6−a;SO誘導体)は、この時点で3.2%(HPLC面積百分率;230nm)であった。
反応中間体である、3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルフィニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物6−a;SO誘導体)は、この時点で3.2%(HPLC面積百分率;230nm)であった。
[実施例2−35]
(工程iii)
3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルホニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物5−a)の製造
(工程iii)
3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルホニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物5−a)の製造
窒素気流下、反応フラスコに化合物(4−a)(3.1g、純度:100%、8.5mmol、100mol%)、アセトニトリル2.7g(0.4L/mol)、水0.9ml(0.1L/mol)、タングステン酸ナトリウム二水和物(0.084g、0.26mmol、3mol%)、硫酸(0.087g、0.85mmol、10mol%)を加えた。混合物を内温75℃〜80℃に加温した。そこに35%過酸化水素水溶液(2.48g、25.5mmol、300mol%、水1.6g(0.2L/mol)を含む)を内温75℃〜80℃で1時間かけて滴下し、混合物を内温75℃〜80℃に保ちながら6時間熟成した。
反応中間体である、3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルフィニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物6−a;SO誘導体)は、この時点で0.3%(HPLC面積百分率;230nm)であった。
反応混合物にアセトニトリルを加え均一とした。HPLC外部標準法により分析した結果、収率96.4%で目的物(5−a)を得た。
反応中間体である、3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルフィニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物6−a;SO誘導体)は、この時点で0.3%(HPLC面積百分率;230nm)であった。
反応混合物にアセトニトリルを加え均一とした。HPLC外部標準法により分析した結果、収率96.4%で目的物(5−a)を得た。
[実施例2−36]
(工程iii)
3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルホニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物5−a)の製造
(工程iii)
3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルホニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物5−a)の製造
窒素気流下、反応フラスコに化合物(4−a)(0.9g、純度:100%、2.5mmol、100mol%)、アセトニトリル0.8g(0.4L/mol)、水0.3ml(0.1L/mol)、モリブデン酸アンモニウム四水和物(0.031g、0.03mmol、1mol%)を加えた。混合物を80℃に加温した。そこに35%過酸化水素水溶液(0.9g、8.8mmol、350mol%、水0.6g(0.2L/mol)を含む)を加え6時間熟成した。
反応中間体である、3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルフィニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物6−a;SO誘導体)は、この時点で0.67%(HPLC面積百分率;230nm)であった。目的物である、3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルホニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物5−a;SO2誘導体)は、この時点で97.4%(HPLC面積百分率;230nm)であった。
反応中間体である、3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルフィニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物6−a;SO誘導体)は、この時点で0.67%(HPLC面積百分率;230nm)であった。目的物である、3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルホニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物5−a;SO2誘導体)は、この時点で97.4%(HPLC面積百分率;230nm)であった。
[比較例2−1]
(工程iii)
3−[(5−ヒドロキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルホニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾールの製造
(工程iii)
3−[(5−ヒドロキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルホニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾールの製造
窒素気流下、反応フラスコに3−[(5−ヒドロキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルチオ]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(2.6g、純度:100%、8.5mmol、100mol%)、アセトニトリル2.7g(0.4L/mol)、水0.9ml(0.1L/mol)、タングステン酸ナトリウム二水和物(0.084g、0.26mmol、3mol%)、硫酸(0.087g、0.85mmol、10mol%)を加えた。混合物を内温75℃〜80℃に加温した。そこに35%過酸化水素水溶液(2.48g、25.5mmol、300mol%、水1.6g(0.2L/mol)を含む)を内温75℃〜80℃で1時間かけて滴下し、混合物を内温75℃〜80℃に保ちながら6時間熟成した。
反応中間体である、3−[(5−ヒドロキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルフィニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾールは、この時点で4.55%(HPLC面積百分率;230nm)であった。
さらに、目的物である、3−[(5−ヒドロキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルホニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾールは、この時点で0.53%(HPLC面積百分率;230nm)であった。
反応中間体である、3−[(5−ヒドロキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルフィニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾールは、この時点で4.55%(HPLC面積百分率;230nm)であった。
さらに、目的物である、3−[(5−ヒドロキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルホニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾールは、この時点で0.53%(HPLC面積百分率;230nm)であった。
[比較例2−2]
(工程iii)
3−[(1,3,5−トリメチルピラゾール−4−イル)メチルスルホニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾールの製造
(工程iii)
3−[(1,3,5−トリメチルピラゾール−4−イル)メチルスルホニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾールの製造
窒素気流下、反応フラスコに3−[(1,3,5−トリメチルピラゾール−4−イル)メチルチオ]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(2.2g、純度:100%、8.5mmol、100mol%)、アセトニトリル2.7g(0.4L/mol)、水0.9ml(0.1L/mol)、タングステン酸ナトリウム二水和物(0.084g、0.26mmol、3mol%)、硫酸(0.087g、0.85mmol、10mol%)を加えた。混合物を内温75℃〜80℃に加温した。そこに35%過酸化水素水溶液(2.48g、25.5mmol、300mol%、水1.6g(0.2L/mol)を含む)を内温75℃〜80℃で1時間かけて滴下し、混合物を内温75℃〜80℃に保ちながら6時間熟成した。
反応中間体である、3−[(1,3,5−トリメチルピラゾール−4−イル)メチルスルフィニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾールは、この時点で0%(HPLC面積百分率;230nm)であった。
さらに、目的物である、3−[(1,3,5−トリメチルピラゾール−4−イル)メチルスルホニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾールは、この時点で0.4%(HPLC面積百分率;230nm)であった。
反応中間体である、3−[(1,3,5−トリメチルピラゾール−4−イル)メチルスルフィニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾールは、この時点で0%(HPLC面積百分率;230nm)であった。
さらに、目的物である、3−[(1,3,5−トリメチルピラゾール−4−イル)メチルスルホニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾールは、この時点で0.4%(HPLC面積百分率;230nm)であった。
[比較例2−3]
(工程iii)
3−[(5−メトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルホニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾールの製造
(工程iii)
3−[(5−メトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルホニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾールの製造
窒素気流下、反応フラスコに3−[(5−メトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルチオ]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(2.8g、純度:100%、8.5mmol、100mol%)、アセトニトリル2.7g(0.4L/mol)、水0.9ml(0.1L/mol)、タングステン酸ナトリウム二水和物(0.084g、0.26mmol、3mol%)、硫酸(0.087g、0.85mmol、10mol%)を加えた。混合物を内温75℃〜80℃に加温した。そこに35%過酸化水素水溶液(2.48g、25.5mmol、300mol%、水1.6g(0.2L/mol)を含む)を内温75℃〜80℃で1時間かけて滴下し、混合物を内温75℃〜80℃に保ちながら6時間熟成した。
反応中間体である、3−[(5−メトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルフィニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾールは、この時点で0%(HPLC面積百分率;230nm)であった。
さらに、目的物である、3−[(5−メトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルホニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾールは、この時点で3.3%(HPLC面積百分率;230nm)であった。
反応中間体である、3−[(5−メトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルフィニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾールは、この時点で0%(HPLC面積百分率;230nm)であった。
さらに、目的物である、3−[(5−メトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルホニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾールは、この時点で3.3%(HPLC面積百分率;230nm)であった。
[比較例2−4]
(工程iii)
3−[(5−ヒドロキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルホニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾールの製造
(工程iii)
3−[(5−ヒドロキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルホニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾールの製造
窒素気流下、反応フラスコに3−[(5−ヒドロキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルチオ]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(0.8g、純度:100%、2.5mmol、100mol%)、アセトニトリル0.8g(0.4L/mol)、水0.3ml(0.1L/mol)、モリブデン酸アンモニウム四水和物(0.031g、0.03mmol、1mol%)を加えた。
混合物を80℃に加温した。そこに35%過酸化水素水溶液(0.9g、8.8mmol、350mol%、水0.6g(0.2L/mol)を含む)を加え6時間熟成した。
反応中間体である、3−[(5−ヒドロキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルフィニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾールは、この時点で0%(HPLC面積百分率;230nm)であった。
さらに、目的物である、3−[(5−ヒドロキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルホニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾールは、この時点で0%(HPLC面積百分率;230nm)であった。
混合物を80℃に加温した。そこに35%過酸化水素水溶液(0.9g、8.8mmol、350mol%、水0.6g(0.2L/mol)を含む)を加え6時間熟成した。
反応中間体である、3−[(5−ヒドロキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルフィニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾールは、この時点で0%(HPLC面積百分率;230nm)であった。
さらに、目的物である、3−[(5−ヒドロキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルホニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾールは、この時点で0%(HPLC面積百分率;230nm)であった。
[比較例2−5]
(工程iii)
3−[(1,3,5−トリメチルピラゾール−4−イル)メチルスルホニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾールの製造
(工程iii)
3−[(1,3,5−トリメチルピラゾール−4−イル)メチルスルホニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾールの製造
窒素気流下、反応フラスコに3−[(1,3,5−トリメチルピラゾール−4−イル)メチルチオ]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(0.6g、純度:100%、2.5mmol、100mol%)、アセトニトリル0.8g(0.4L/mol)、水0.3ml(0.1L/mol)、モリブデン酸アンモニウム四水和物(0.031g、0.03mmol、1mol%)を加えた。混合物を80℃に加温した。そこに35%過酸化水素水溶液(0.9g、8.8mmol、350mol%、水0.6g(0.2L/mol)を含む)を加え6時間熟成した。
反応中間体である、3−[(1,3,5−トリメチルピラゾール−4−イル)メチルスルフィニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾールは、この時点で0.7%(HPLC面積百分率;230nm)であった。
さらに、目的物である、3−[(1,3,5−トリメチルピラゾール−4−イル)メチルスルホニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾールは、この時点で14.6%(HPLC面積百分率;230nm)であった。
反応中間体である、3−[(1,3,5−トリメチルピラゾール−4−イル)メチルスルフィニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾールは、この時点で0.7%(HPLC面積百分率;230nm)であった。
さらに、目的物である、3−[(1,3,5−トリメチルピラゾール−4−イル)メチルスルホニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾールは、この時点で14.6%(HPLC面積百分率;230nm)であった。
[比較例2−6]
(工程iii)
3−[(5−メトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルホニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾールの製造
(工程iii)
3−[(5−メトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルホニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾールの製造
窒素気流下、反応フラスコに3−[(5−メトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルチオ]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(0.8g、純度:100%、2.5mmol、100mol%)、アセトニトリル0.8g(0.4L/mol)、水0.3ml(0.1L/mol)、モリブデン酸アンモニウム四水和物(0.031g、0.03mmol、1mol%)を加えた。混合物を80℃に加温した。そこに35%過酸化水素水溶液(0.9g、8.8mmol、350mol%、水0.6g(0.2L/mol)を含む)を加え6時間熟成した。
反応中間体である、3−[(5−メトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルフィニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾールは、この時点で0%(HPLC面積百分率;230nm)であった。
さらに、目的物である、3−[(5−メトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルホニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾールは、この時点で82.7%(HPLC面積百分率;230nm)であった。
反応中間体である、3−[(5−メトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルフィニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾールは、この時点で0%(HPLC面積百分率;230nm)であった。
さらに、目的物である、3−[(5−メトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルホニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾールは、この時点で82.7%(HPLC面積百分率;230nm)であった。
上記比較例2−1から2−6では、本発明の方法を式(4)の化合物に類似の化合物に適用した。その結果、式(4)の化合物以外の類似の化合物については、反応が完結しない、反応中間体であるSO誘導体が多く残る、分解する、及び/又は低収率であった。驚くべきことに、本発明の方法は式(4)の化合物においてのみ、特異的に有効であった。
加えて、予期せずして、化合物(4−a)において、特に高い効果が得られた。
加えて、予期せずして、化合物(4−a)において、特に高い効果が得られた。
[比較例2−7]
(工程iii)
3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルホニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物5−a)の製造
タングステン酸ナトリウム二水和物と過酸化水素水溶液を用いる化合物(4−a)から化合物(5−a)の製造において、有機溶媒としてメチルイソブチルケトン(MIBK)を使用した。内温70℃〜80℃に加温した後、過酸化水素水溶液を滴下した。熟成7時間の時点で、3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルフィニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物6−a;SO誘導体)が10%以上残存していた(HPLC面積百分率;230nm)。
(工程iii)
3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルホニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物5−a)の製造
タングステン酸ナトリウム二水和物と過酸化水素水溶液を用いる化合物(4−a)から化合物(5−a)の製造において、有機溶媒としてメチルイソブチルケトン(MIBK)を使用した。内温70℃〜80℃に加温した後、過酸化水素水溶液を滴下した。熟成7時間の時点で、3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルフィニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物6−a;SO誘導体)が10%以上残存していた(HPLC面積百分率;230nm)。
[参考例]
(工程iii)
3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルホニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物5−a)の製造
(工程iii)
3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルホニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物5−a)の製造
窒素気流下、反応フラスコに化合物(4−a)2.8g(100mmol、100mol%)、酢酸8.4g(1.0L/mol)及びタングステン酸ナトリウム二水和物80mg(3mmol、3mol%)を加えた。混合物に、30%過酸化水素2.2g(250mmol、250mol%)を内温26℃〜35℃で20分かけて滴下し、混合物を内温26℃〜35℃に保ちながら16時間熟成した。
反応中間体である、3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルフィニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物6−a;SO誘導体)は、熟成16時間の時点で5.0%であった(HPLC面積百分率)。
反応混合物に水4gを添加し、10℃で1時間熟成した後、析出した結晶を濾別した。
得られた結晶を石油エーテル20ml及び水20mlで順次洗浄した。得られた結晶をHPLC(面積百分率;230nm)により分析したところ、反応中間体である、3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルフィニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物6−a;SO誘導体)は、HPLC面積百分率5.5%であった。
反応中間体である、3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルフィニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物6−a;SO誘導体)は、熟成16時間の時点で5.0%であった(HPLC面積百分率)。
反応混合物に水4gを添加し、10℃で1時間熟成した後、析出した結晶を濾別した。
得られた結晶を石油エーテル20ml及び水20mlで順次洗浄した。得られた結晶をHPLC(面積百分率;230nm)により分析したところ、反応中間体である、3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルフィニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物6−a;SO誘導体)は、HPLC面積百分率5.5%であった。
参考例は特表2013-512201(JP2013-512201A)(特許文献7)実施例9Cの再現実験である。特表2013-512201(JP2013-512201A)(特許文献7)に記載の製造方法では、過剰量の過酸化水素を加えて16時間熟成後も、反応中間体の化合物(6−a)が5.0%も残存していた。また、精製した後でも、化合物(6−a)の比率は下がらなかった。式(5)の化合物と式(6)の化合物とを分離することによる式(5)の化合物の精製が困難であることが改めて確認された。特表2013-512201(JP2013-512201A)(特許文献7)に記載の製造方法では、反応系内に危険な有機過酸(過酢酸)が生成するという問題もある。なお、この危険性のため、この方法では加熱は避けるべきである。
[参考製造例1]
[5,5−ジメチル(4,5−ジヒドロイソオキサゾロ−3−イル)]チオカルボキサミジン臭化水素酸塩水溶液の製造
[5,5−ジメチル(4,5−ジヒドロイソオキサゾロ−3−イル)]チオカルボキサミジン臭化水素酸塩水溶液の製造
WO2006/038657Aに記載の方法で得られた3−ブロモ−5,5−ジメチル−4,5−ジヒドロイソオキサゾール(BIO)の酢酸ブチル溶液(251.5g、純度:18%、0.25mol)にチオ尿素(20g、0.26mol、105mol%)を加え、内温を15℃〜25℃にした。これに35%塩酸(26g、0.25mol、100mol%)を内温15℃〜25℃で30分間かけて滴下した。滴下後、混合物を内温15℃〜25℃で6時間熟成した。反応終了後、水(88g、0.35L/mol)を加え15分撹拌し、反応混合物を有機層と水層に分離した。得られた有機層に水(25g、0.1L/mol)を加え15分撹拌し、反応混合物を有機層と水層に分離した。得られた水層を合わせたところ、収率90%相当の目的物を含む水溶液208.6gを得た。得られた目的物は原料BIO由来の臭化水素酸塩と塩酸由来の塩酸塩を含む。
[実施例3]
3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルホニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物5−a、ピロキサスルホン)の結晶化
3−[(5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−3−トリフルオロメチルピラゾール−4−イル)メチルスルホニル]−4,5−ジヒドロ−5,5−ジメチルイソオキサゾール(化合物5−a、ピロキサスルホン)の結晶化
[実施例3−1]
実施例2−14に準じた方法でピロキサスルホンの結晶を得た。この結晶は、Cu−Kα線を用いた透過法による粉末X線回折測定において、17.8°、18.0°および19.9°の回折角2θに特徴的なピークを有し、前記3つのピークのうち、19.9°のピークにおけるピーク高さが最大である粉末X線回折スペクトルを示した。該粉末X線回折スペクトルの全てのピークにおける回折角度2θとピーク高さを表3に示す。この結晶の形状は、柱状または短柱状であった。また、本製法と同様に製造されたピロキサスルホンの柱状結晶の嵩比重は、1.04g/mLであった。
実施例2−14に準じた方法でピロキサスルホンの結晶を得た。この結晶は、Cu−Kα線を用いた透過法による粉末X線回折測定において、17.8°、18.0°および19.9°の回折角2θに特徴的なピークを有し、前記3つのピークのうち、19.9°のピークにおけるピーク高さが最大である粉末X線回折スペクトルを示した。該粉末X線回折スペクトルの全てのピークにおける回折角度2θとピーク高さを表3に示す。この結晶の形状は、柱状または短柱状であった。また、本製法と同様に製造されたピロキサスルホンの柱状結晶の嵩比重は、1.04g/mLであった。
実施例3−2から実施例3−12及び比較例3−3から3−12では、実施例2−14に準じた方法で得たピロキサスルホンを用いた。
[実施例3−2]
ピロキサスルホンを、87vol%アセトニトリル含水溶媒に溶解した。得られた溶液から、常圧下でアセトニトリルと水を留去し、ピロキサスルホンの結晶を析出させた。得られた結晶を回収し、本発明のピロキサスルホンの結晶を得た。この結晶は、Cu−Kα線を用いた透過法による粉末X線回折測定において、17.7°、18.0°および19.9°の回折角2θに特徴的なピークを有し、かつ、前記3つのピークのうち、19.9°のピークにおけるピーク高さが最大である粉末X線回折スペクトルを示した。該粉末X線回折スペクトルの全てのピークにおける回折角度2θとピーク高さを表3に示す。この結晶の形状は、柱状または短柱状であった。
ピロキサスルホンを、87vol%アセトニトリル含水溶媒に溶解した。得られた溶液から、常圧下でアセトニトリルと水を留去し、ピロキサスルホンの結晶を析出させた。得られた結晶を回収し、本発明のピロキサスルホンの結晶を得た。この結晶は、Cu−Kα線を用いた透過法による粉末X線回折測定において、17.7°、18.0°および19.9°の回折角2θに特徴的なピークを有し、かつ、前記3つのピークのうち、19.9°のピークにおけるピーク高さが最大である粉末X線回折スペクトルを示した。該粉末X線回折スペクトルの全てのピークにおける回折角度2θとピーク高さを表3に示す。この結晶の形状は、柱状または短柱状であった。
[実施例3−3]
ピロキサスルホンを、N,N−ジメチルアセトアミドに溶解した。得られた溶液から、常圧下でN,N−ジメチルアセトアミドを留去し、ピロキサスルホンの結晶を析出させた。得られた結晶を回収し、本発明のピロキサスルホンの結晶を得た。この結晶は、Cu−Kα線を用いた透過法による粉末X線回折測定において、17.8°、18.1°および19.9°の回折角2θに特徴的なピークを有し、かつ、前記3つのピークのうち、19.9°のピークにおけるピーク高さが最大である粉末X線回折スペクトルを示した。該粉末X線回折スペクトルの全てのピークにおける回折角度2θとピーク高さを表3に示す。
この結晶の形状は、柱状または短柱状であった。
ピロキサスルホンを、N,N−ジメチルアセトアミドに溶解した。得られた溶液から、常圧下でN,N−ジメチルアセトアミドを留去し、ピロキサスルホンの結晶を析出させた。得られた結晶を回収し、本発明のピロキサスルホンの結晶を得た。この結晶は、Cu−Kα線を用いた透過法による粉末X線回折測定において、17.8°、18.1°および19.9°の回折角2θに特徴的なピークを有し、かつ、前記3つのピークのうち、19.9°のピークにおけるピーク高さが最大である粉末X線回折スペクトルを示した。該粉末X線回折スペクトルの全てのピークにおける回折角度2θとピーク高さを表3に示す。
この結晶の形状は、柱状または短柱状であった。
[実施例3−4]
ピロキサスルホンを、N,N−ジメチルホルムアミドに溶解した。得られた溶液から、常圧下でN,N−ジメチルホルムアミドを留去し、ピロキサスルホンの結晶を析出させた。得られた結晶を回収し、本発明のピロキサスルホンの結晶を得た。この結晶は、Cu−Kα線を用いた透過法による粉末X線回折測定において、17.7°、18.0°および19.9°の回折角2θに特徴的なピークを有し、かつ、前記3つのピークのうち、19.9°のピークにおけるピーク高さが最大である粉末X線回折スペクトルを示した。該粉末X線回折スペクトルの全てのピークにおける回折角度2θとピーク高さを表3に示す。
この結晶の形状は、柱状または短柱状であった。
ピロキサスルホンを、N,N−ジメチルホルムアミドに溶解した。得られた溶液から、常圧下でN,N−ジメチルホルムアミドを留去し、ピロキサスルホンの結晶を析出させた。得られた結晶を回収し、本発明のピロキサスルホンの結晶を得た。この結晶は、Cu−Kα線を用いた透過法による粉末X線回折測定において、17.7°、18.0°および19.9°の回折角2θに特徴的なピークを有し、かつ、前記3つのピークのうち、19.9°のピークにおけるピーク高さが最大である粉末X線回折スペクトルを示した。該粉末X線回折スペクトルの全てのピークにおける回折角度2θとピーク高さを表3に示す。
この結晶の形状は、柱状または短柱状であった。
[実施例3−5]
ピロキサスルホンを、酢酸エチルに溶解した。得られた溶液から、常圧下で酢酸エチルを留去し、ピロキサスルホンの結晶を析出させた。得られた結晶を回収し、本発明のピロキサスルホンの結晶を得た。この結晶は、Cu−Kα線を用いた透過法による粉末X線回折測定において、17.8°、18.0°および19.9°の回折角2θに特徴的なピークを有し、かつ、前記3つのピークのうち、19.9°のピークにおけるピーク高さが最大である粉末X線回折スペクトルを示した。該粉末X線回折スペクトルの全てのピークにおける回折角度2θとピーク高さを表3に示す。この結晶の形状は、柱状または短柱状であった。
ピロキサスルホンを、酢酸エチルに溶解した。得られた溶液から、常圧下で酢酸エチルを留去し、ピロキサスルホンの結晶を析出させた。得られた結晶を回収し、本発明のピロキサスルホンの結晶を得た。この結晶は、Cu−Kα線を用いた透過法による粉末X線回折測定において、17.8°、18.0°および19.9°の回折角2θに特徴的なピークを有し、かつ、前記3つのピークのうち、19.9°のピークにおけるピーク高さが最大である粉末X線回折スペクトルを示した。該粉末X線回折スペクトルの全てのピークにおける回折角度2θとピーク高さを表3に示す。この結晶の形状は、柱状または短柱状であった。
[実施例3−6]
ピロキサスルホンを、メチルイソブチルケトンに溶解した。得られた溶液から、常圧下でメチルイソブチルケトンを留去し、ピロキサスルホンの結晶を析出させた。得られた結晶を回収し、本発明のピロキサスルホンの結晶を得た。この結晶は、Cu−Kα線を用いた透過法による粉末X線回折測定において、17.7°、18.0°および19.9°の回折角2θに特徴的なピークを有し、かつ、前記3つのピークのうち、19.9°のピークにおけるピーク高さが最大である粉末X線回折スペクトルを示した。該粉末X線回折スペクトルの全てのピークにおける回折角度2θとピーク高さを表3に示す。この結晶の形状は、柱状または短柱状であった。
ピロキサスルホンを、メチルイソブチルケトンに溶解した。得られた溶液から、常圧下でメチルイソブチルケトンを留去し、ピロキサスルホンの結晶を析出させた。得られた結晶を回収し、本発明のピロキサスルホンの結晶を得た。この結晶は、Cu−Kα線を用いた透過法による粉末X線回折測定において、17.7°、18.0°および19.9°の回折角2θに特徴的なピークを有し、かつ、前記3つのピークのうち、19.9°のピークにおけるピーク高さが最大である粉末X線回折スペクトルを示した。該粉末X線回折スペクトルの全てのピークにおける回折角度2θとピーク高さを表3に示す。この結晶の形状は、柱状または短柱状であった。
[実施例3−7]
ピロキサスルホンを、酢酸に溶解した。得られた溶液から、常圧下で酢酸を留去し、ピロキサスルホンの結晶を析出させた。得られた結晶を回収し、乾燥して、本発明のピロキサスルホンの結晶を得た。この結晶は、Cu−Kα線を用いた透過法による粉末X線回折測定において、17.7°、18.0°および19.9°の回折角2θに特徴的なピークを有し、かつ、前記3つのピークのうち、19.9°のピークにおけるピーク高さが最大である粉末X線回折スペクトルを示した。該粉末X線回折スペクトルの全てのピークにおける回折角度2θとピーク高さを表3に示す。この結晶の形状は、柱状または短柱状であった。
ピロキサスルホンを、酢酸に溶解した。得られた溶液から、常圧下で酢酸を留去し、ピロキサスルホンの結晶を析出させた。得られた結晶を回収し、乾燥して、本発明のピロキサスルホンの結晶を得た。この結晶は、Cu−Kα線を用いた透過法による粉末X線回折測定において、17.7°、18.0°および19.9°の回折角2θに特徴的なピークを有し、かつ、前記3つのピークのうち、19.9°のピークにおけるピーク高さが最大である粉末X線回折スペクトルを示した。該粉末X線回折スペクトルの全てのピークにおける回折角度2θとピーク高さを表3に示す。この結晶の形状は、柱状または短柱状であった。
[実施例3−8]
ピロキサスルホンを、アセトニトリル1容量部とメタノール2容量部からなる混合溶媒に溶解した。得られた溶液から、常圧下でアセトニトリルとメタノールを留去し、ピロキサスルホンの結晶を析出させた。得られた結晶を回収し、乾燥して、本発明のピロキサスルホンの結晶を得た。この結晶は、Cu−Kα線を用いた透過法による粉末X線回折測定において、17.7°、18.0°および19.9°の回折角2θに特徴的なピークを有し、かつ、前記3つのピークのうち、19.9°のピークにおけるピーク高さが最大である粉末X線回折スペクトルを示した。該粉末X線回折スペクトルの全てのピークにおける回折角度2θとピーク高さを表3に示す。この結晶の形状は、柱状または短柱状であった。
ピロキサスルホンを、アセトニトリル1容量部とメタノール2容量部からなる混合溶媒に溶解した。得られた溶液から、常圧下でアセトニトリルとメタノールを留去し、ピロキサスルホンの結晶を析出させた。得られた結晶を回収し、乾燥して、本発明のピロキサスルホンの結晶を得た。この結晶は、Cu−Kα線を用いた透過法による粉末X線回折測定において、17.7°、18.0°および19.9°の回折角2θに特徴的なピークを有し、かつ、前記3つのピークのうち、19.9°のピークにおけるピーク高さが最大である粉末X線回折スペクトルを示した。該粉末X線回折スペクトルの全てのピークにおける回折角度2θとピーク高さを表3に示す。この結晶の形状は、柱状または短柱状であった。
[実施例3−9]
ピロキサスルホンを、ジクロロメタン1容量部とエタノール1容量部からなる混合溶媒に溶解した。得られた溶液から、常圧下でジクロロメタンとエタノールを留去し、ピロキサスルホンの結晶を析出させた。得られた結晶を回収し、乾燥して、本発明のピロキサスルホンの結晶を得た。この結晶は、Cu−Kα線を用いた透過法による粉末X線回折測定において、17.8°、18.0°および20.0°の回折角2θに特徴的なピークを有し、かつ、前記3つのピークのうち、20.0°のピークにおけるピーク高さが最大である粉末X線回折スペクトルを示した。該粉末X線回折スペクトルの全てのピークにおける回折角度2θとピーク高さを表3に示す。この結晶の形状は、柱状または短柱状であった。
ピロキサスルホンを、ジクロロメタン1容量部とエタノール1容量部からなる混合溶媒に溶解した。得られた溶液から、常圧下でジクロロメタンとエタノールを留去し、ピロキサスルホンの結晶を析出させた。得られた結晶を回収し、乾燥して、本発明のピロキサスルホンの結晶を得た。この結晶は、Cu−Kα線を用いた透過法による粉末X線回折測定において、17.8°、18.0°および20.0°の回折角2θに特徴的なピークを有し、かつ、前記3つのピークのうち、20.0°のピークにおけるピーク高さが最大である粉末X線回折スペクトルを示した。該粉末X線回折スペクトルの全てのピークにおける回折角度2θとピーク高さを表3に示す。この結晶の形状は、柱状または短柱状であった。
[実施例3−10]
ピロキサスルホンを、アセトンに溶解した。得られた溶液に2倍量のエタノールを加え、ピロキサスルホンの結晶を析出させた。得られた結晶を乾燥して、本発明のピロキサスルホンの結晶を得た。この結晶は、Cu−Kα線を用いた透過法による粉末X線回折測定において、17.7°、18.0°および19.9°の回折角2θに特徴的なピークを有し、かつ、前記3つのピークのうち、19.9°のピークにおけるピーク高さが最大である粉末X線回折スペクトルを示した。該粉末X線回折スペクトルの全てのピークにおける回折角度2θとピーク高さを表3に示す。この結晶の形状は、柱状または短柱状であった。
ピロキサスルホンを、アセトンに溶解した。得られた溶液に2倍量のエタノールを加え、ピロキサスルホンの結晶を析出させた。得られた結晶を乾燥して、本発明のピロキサスルホンの結晶を得た。この結晶は、Cu−Kα線を用いた透過法による粉末X線回折測定において、17.7°、18.0°および19.9°の回折角2θに特徴的なピークを有し、かつ、前記3つのピークのうち、19.9°のピークにおけるピーク高さが最大である粉末X線回折スペクトルを示した。該粉末X線回折スペクトルの全てのピークにおける回折角度2θとピーク高さを表3に示す。この結晶の形状は、柱状または短柱状であった。
[実施例3−11]
ピロキサスルホンを、アセトニトリルに溶解した。得られた溶液に2倍量のエタノールを加え、ピロキサスルホンの結晶を析出させた。得られた結晶を乾燥して、本発明のピロキサスルホンの結晶を得た。この結晶は、Cu−Kα線を用いた透過法による粉末X線回折測定において、17.7°、18.0°および19.9°の回折角2θに特徴的なピークを有し、かつ、前記3つのピークのうち、19.9°のピークにおけるピーク高さが最大である粉末X線回折スペクトルを示した。該粉末X線回折スペクトルの全てのピークにおける回折角度2θとピーク高さを表3に示す。この結晶の形状は、柱状または短柱状であった。
ピロキサスルホンを、アセトニトリルに溶解した。得られた溶液に2倍量のエタノールを加え、ピロキサスルホンの結晶を析出させた。得られた結晶を乾燥して、本発明のピロキサスルホンの結晶を得た。この結晶は、Cu−Kα線を用いた透過法による粉末X線回折測定において、17.7°、18.0°および19.9°の回折角2θに特徴的なピークを有し、かつ、前記3つのピークのうち、19.9°のピークにおけるピーク高さが最大である粉末X線回折スペクトルを示した。該粉末X線回折スペクトルの全てのピークにおける回折角度2θとピーク高さを表3に示す。この結晶の形状は、柱状または短柱状であった。
[実施例3−12]
ピロキサスルホンを、酢酸エチルに溶解した。得られた溶液に2倍量のエタノールを加え、ピロキサスルホンの結晶を析出させた。得られた結晶を乾燥して、本発明のピロキサスルホンの結晶を得た。この結晶は、Cu−Kα線を用いた透過法による粉末X線回折測定において、17.7°、18.0°および19.9°の回折角2θに特徴的なピークを有し、かつ、前記3つのピークのうち、19.9°のピークにおけるピーク高さが最大である粉末X線回折スペクトルを示した。該粉末X線回折スペクトルの全てのピークにおける回折角度2θとピーク高さを表3に示す。この結晶の形状は、柱状または短柱状であった。
ピロキサスルホンを、酢酸エチルに溶解した。得られた溶液に2倍量のエタノールを加え、ピロキサスルホンの結晶を析出させた。得られた結晶を乾燥して、本発明のピロキサスルホンの結晶を得た。この結晶は、Cu−Kα線を用いた透過法による粉末X線回折測定において、17.7°、18.0°および19.9°の回折角2θに特徴的なピークを有し、かつ、前記3つのピークのうち、19.9°のピークにおけるピーク高さが最大である粉末X線回折スペクトルを示した。該粉末X線回折スペクトルの全てのピークにおける回折角度2θとピーク高さを表3に示す。この結晶の形状は、柱状または短柱状であった。
[実施例3−A]
実施例3−1のピロキサスルホンの結晶50質量部、ポリカルボン酸塩8質量部、ポリオキシエチレンジスチリルフェニルエーテル硫酸塩5質量部、アルキルベンゼンスルホン酸塩1質量部および残部にクレーを加えて全体を100質量部とし、衝撃式粉砕機を用いて混合粉砕し、水和剤を得た。
実施例3−1のピロキサスルホンの結晶50質量部、ポリカルボン酸塩8質量部、ポリオキシエチレンジスチリルフェニルエーテル硫酸塩5質量部、アルキルベンゼンスルホン酸塩1質量部および残部にクレーを加えて全体を100質量部とし、衝撃式粉砕機を用いて混合粉砕し、水和剤を得た。
[実施例3−B]
実施例3−1のピロキサスルホンの結晶40質量部、ナフタレンスルホン酸塩ホルマリン縮合物1.67質量部、ジオクチルスルホコハク酸塩0.83質量部、ポリオキシエチレントリスチリルフェニルエーテル2.08質量部、プロピレングリコール8.75質量部、キサンタンガム0.05質量部、ジメチルポリシロキサン0.2質量部、メチルクロロイソチアゾロンとブロノポールの混合物0.02質量部および残部に水を加えて全体を85質量部とし、湿式粉砕機を用いて混合粉砕し、スラリーを得た。別途、キサンタンガム0.08質量部、ベントナイト0.08質量部および残部に水を加えて全体を15質量部とした混合液に、前記スラリー85質量部を加えて混合し、本発明の水性懸濁剤を得た。
実施例3−1のピロキサスルホンの結晶40質量部、ナフタレンスルホン酸塩ホルマリン縮合物1.67質量部、ジオクチルスルホコハク酸塩0.83質量部、ポリオキシエチレントリスチリルフェニルエーテル2.08質量部、プロピレングリコール8.75質量部、キサンタンガム0.05質量部、ジメチルポリシロキサン0.2質量部、メチルクロロイソチアゾロンとブロノポールの混合物0.02質量部および残部に水を加えて全体を85質量部とし、湿式粉砕機を用いて混合粉砕し、スラリーを得た。別途、キサンタンガム0.08質量部、ベントナイト0.08質量部および残部に水を加えて全体を15質量部とした混合液に、前記スラリー85質量部を加えて混合し、本発明の水性懸濁剤を得た。
[比較例3−1]
7.3gの化合物(4−a)を含むクロロホルム溶液50mLに、氷冷下、純度70%のm−クロロ過安息香酸12.5gを加え、1時間攪拌した。混合物を外気温20℃で16時間攪拌した。反応終了確認後、反応溶液を水に注ぎクロロホルムで抽出した。得られた有機層を亜硫酸水素ナトリウム水溶液、炭酸水素ナトリウム水溶液、水および食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下でクロロホルムを留去し、ピロキサスルホンの結晶を析出させ、ピロキサスルホンの結晶を含む残渣を得た。得られた残渣をn−ヘキサンで洗浄し、ピロキサスルホンの結晶を得た。この結晶は、Cu−Kα線を用いた透過法による粉末X線回折測定において、17.7°、18.0°および19.9°の回折角2θに特徴的なピークを有し、かつ、前記3つのピークのうち、17.7°のピークにおけるピーク高さが最大である粉末X線回折スペクトルを示した。該粉末X線回折スペクトルの全てのピークにおける回折角度2θとピーク高さを表4に示す。この結晶の形状は、針状であった。なお、本例は、特許文献2に記載されている参考例3の再現実験である。また、本製法と同様に製造されたピロキサスルホンの針状結晶の嵩比重は、0.53g/mLであった。
7.3gの化合物(4−a)を含むクロロホルム溶液50mLに、氷冷下、純度70%のm−クロロ過安息香酸12.5gを加え、1時間攪拌した。混合物を外気温20℃で16時間攪拌した。反応終了確認後、反応溶液を水に注ぎクロロホルムで抽出した。得られた有機層を亜硫酸水素ナトリウム水溶液、炭酸水素ナトリウム水溶液、水および食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下でクロロホルムを留去し、ピロキサスルホンの結晶を析出させ、ピロキサスルホンの結晶を含む残渣を得た。得られた残渣をn−ヘキサンで洗浄し、ピロキサスルホンの結晶を得た。この結晶は、Cu−Kα線を用いた透過法による粉末X線回折測定において、17.7°、18.0°および19.9°の回折角2θに特徴的なピークを有し、かつ、前記3つのピークのうち、17.7°のピークにおけるピーク高さが最大である粉末X線回折スペクトルを示した。該粉末X線回折スペクトルの全てのピークにおける回折角度2θとピーク高さを表4に示す。この結晶の形状は、針状であった。なお、本例は、特許文献2に記載されている参考例3の再現実験である。また、本製法と同様に製造されたピロキサスルホンの針状結晶の嵩比重は、0.53g/mLであった。
[比較例3−2]
窒素気流下、反応フラスコに化合物(4−a)2.8g、酢酸8.4g及びタングステン酸ナトリウム二水和物80mgを加えた。混合物の内温を26−35℃に維持しつつ30%過酸化水素2.2gを20分間かけて滴下した。混合物を内温26−35℃に保ちながら16時間攪拌した。反応混合物に水4gを添加し、10℃で1時間攪拌し、ピロキサスルホンの結晶を析出させ、ピロキサスルホンの結晶を含む残渣を得た。得られた残渣を石油エーテル20mL及び水20mLで順次洗浄し、ピロキサスルホンの結晶を得た。この結晶は、Cu−Kα線を用いた透過法による粉末X線回折測定において、17.8°、18.0°および19.9°の回折角2θに特徴的なピークを有し、かつ、前記3つのピークのうち、17.8°のピークにおけるピーク高さが最大である粉末X線回折スペクトルを示した。該粉末X線回折スペクトルの全てのピークにおける回折角度2θとピーク高さを表4に示す。この結晶の形状は、針状であった。なお、本例は、特許文献7に記載されている実施例9Cの再現実験である。。
窒素気流下、反応フラスコに化合物(4−a)2.8g、酢酸8.4g及びタングステン酸ナトリウム二水和物80mgを加えた。混合物の内温を26−35℃に維持しつつ30%過酸化水素2.2gを20分間かけて滴下した。混合物を内温26−35℃に保ちながら16時間攪拌した。反応混合物に水4gを添加し、10℃で1時間攪拌し、ピロキサスルホンの結晶を析出させ、ピロキサスルホンの結晶を含む残渣を得た。得られた残渣を石油エーテル20mL及び水20mLで順次洗浄し、ピロキサスルホンの結晶を得た。この結晶は、Cu−Kα線を用いた透過法による粉末X線回折測定において、17.8°、18.0°および19.9°の回折角2θに特徴的なピークを有し、かつ、前記3つのピークのうち、17.8°のピークにおけるピーク高さが最大である粉末X線回折スペクトルを示した。該粉末X線回折スペクトルの全てのピークにおける回折角度2θとピーク高さを表4に示す。この結晶の形状は、針状であった。なお、本例は、特許文献7に記載されている実施例9Cの再現実験である。。
[比較例3−3]
ピロキサスルホンを、クロロホルムに溶解した。得られた溶液から、常圧下でクロロホルムを留去し、ピロキサスルホンの結晶を析出させた。得られた結晶を回収し、ピロキサスルホンの結晶を得た。この結晶は、Cu−Kα線を用いた透過法による粉末X線回折測定において、17.7°、18.0°および19.9°の回折角2θに特徴的なピークを有し、かつ、前記3つのピークのうち、17.7°のピークにおけるピーク高さが最大である粉末X線回折スペクトルを示した。該粉末X線回折スペクトルの全てのピークにおける回折角度2θとピーク高さを表4に示す。この結晶の形状は、針状であった。
ピロキサスルホンを、クロロホルムに溶解した。得られた溶液から、常圧下でクロロホルムを留去し、ピロキサスルホンの結晶を析出させた。得られた結晶を回収し、ピロキサスルホンの結晶を得た。この結晶は、Cu−Kα線を用いた透過法による粉末X線回折測定において、17.7°、18.0°および19.9°の回折角2θに特徴的なピークを有し、かつ、前記3つのピークのうち、17.7°のピークにおけるピーク高さが最大である粉末X線回折スペクトルを示した。該粉末X線回折スペクトルの全てのピークにおける回折角度2θとピーク高さを表4に示す。この結晶の形状は、針状であった。
[比較例3−4]
ピロキサスルホンを、ジメチルスルホキシドに溶解した。得られた溶液から、常圧下でジメチルスルホキシドを留去し、ピロキサスルホンの結晶を析出させた。得られた結晶を回収し、ピロキサスルホンの結晶を得た。この結晶は、Cu−Kα線を用いた透過法による粉末X線回折測定において、17.8°、18.0°および19.9°の回折角2θに特徴的なピークを有し、かつ、前記3つのピークのうち、17.8°のピークにおけるピーク高さが最大である粉末X線回折スペクトルを示した。該粉末X線回折スペクトルの全てのピークにおける回折角度2θとピーク高さを表4に示す。この結晶の形状は、針状であった。
ピロキサスルホンを、ジメチルスルホキシドに溶解した。得られた溶液から、常圧下でジメチルスルホキシドを留去し、ピロキサスルホンの結晶を析出させた。得られた結晶を回収し、ピロキサスルホンの結晶を得た。この結晶は、Cu−Kα線を用いた透過法による粉末X線回折測定において、17.8°、18.0°および19.9°の回折角2θに特徴的なピークを有し、かつ、前記3つのピークのうち、17.8°のピークにおけるピーク高さが最大である粉末X線回折スペクトルを示した。該粉末X線回折スペクトルの全てのピークにおける回折角度2θとピーク高さを表4に示す。この結晶の形状は、針状であった。
[比較例3−5]
ピロキサスルホンを、1,4−ジオキサンに溶解した。得られた溶液から、常圧下で1,4−ジオキサンを留去し、ピロキサスルホンの結晶を析出させた。得られた結晶を回収し、ピロキサスルホンの結晶を得た。この結晶は、Cu−Kα線を用いた透過法による粉末X線回折測定において、17.8°、18.0°および20.0°の回折角2θに特徴的なピークを有し、かつ、前記3つのピークのうち、18.0°のピークにおけるピーク高さが最大である粉末X線回折スペクトルを示した。該粉末X線回折スペクトルの全てのピークにおける回折角度2θとピーク高さを表4に示す。この結晶の形状は、針状であった。
ピロキサスルホンを、1,4−ジオキサンに溶解した。得られた溶液から、常圧下で1,4−ジオキサンを留去し、ピロキサスルホンの結晶を析出させた。得られた結晶を回収し、ピロキサスルホンの結晶を得た。この結晶は、Cu−Kα線を用いた透過法による粉末X線回折測定において、17.8°、18.0°および20.0°の回折角2θに特徴的なピークを有し、かつ、前記3つのピークのうち、18.0°のピークにおけるピーク高さが最大である粉末X線回折スペクトルを示した。該粉末X線回折スペクトルの全てのピークにおける回折角度2θとピーク高さを表4に示す。この結晶の形状は、針状であった。
[比較例3−6]
ピロキサスルホンを、2−メチルテトラヒドロフランに溶解した。得られた溶液から、常圧下で2−メチルテトラヒドロフランを留去し、ピロキサスルホンの結晶を析出させた。得られた結晶を回収し、ピロキサスルホンの結晶を得た。この結晶は、Cu−Kα線を用いた透過法による粉末X線回折測定において、17.8°、18.0°および20.0°の回折角2θに特徴的なピークを有し、かつ、前記3つのピークのうち、17.8°のピークにおけるピーク高さが最大である粉末X線回折スペクトルを示した。該粉末X線回折スペクトルの全てのピークにおける回折角度2θとピーク高さを表4に示す。この結晶の形状は、針状であった。
ピロキサスルホンを、2−メチルテトラヒドロフランに溶解した。得られた溶液から、常圧下で2−メチルテトラヒドロフランを留去し、ピロキサスルホンの結晶を析出させた。得られた結晶を回収し、ピロキサスルホンの結晶を得た。この結晶は、Cu−Kα線を用いた透過法による粉末X線回折測定において、17.8°、18.0°および20.0°の回折角2θに特徴的なピークを有し、かつ、前記3つのピークのうち、17.8°のピークにおけるピーク高さが最大である粉末X線回折スペクトルを示した。該粉末X線回折スペクトルの全てのピークにおける回折角度2θとピーク高さを表4に示す。この結晶の形状は、針状であった。
[比較例3−7]
ピロキサスルホンを、N−メチルピロリドンに溶解した。得られた溶液から、常圧下でN−メチルピロリドンを留去し、ピロキサスルホンの結晶を析出させた。得られた結晶を回収し、ピロキサスルホンの結晶を得た。この結晶は、Cu−Kα線を用いた透過法による粉末X線回折測定において、17.8°、18.0°および20.0°の回折角2θに特徴的なピークを有し、かつ、前記3つのピークのうち、18.0°のピークにおけるピーク高さが最大である粉末X線回折スペクトルを示した。該粉末X線回折スペクトルの全てのピークにおける回折角度2θとピーク高さを表4に示す。この結晶の形状は、針状であった。
ピロキサスルホンを、N−メチルピロリドンに溶解した。得られた溶液から、常圧下でN−メチルピロリドンを留去し、ピロキサスルホンの結晶を析出させた。得られた結晶を回収し、ピロキサスルホンの結晶を得た。この結晶は、Cu−Kα線を用いた透過法による粉末X線回折測定において、17.8°、18.0°および20.0°の回折角2θに特徴的なピークを有し、かつ、前記3つのピークのうち、18.0°のピークにおけるピーク高さが最大である粉末X線回折スペクトルを示した。該粉末X線回折スペクトルの全てのピークにおける回折角度2θとピーク高さを表4に示す。この結晶の形状は、針状であった。
[比較例3−8]
ピロキサスルホンを、テトラヒドロフランに溶解した。得られた溶液から、常圧下でテトラヒドロフランを留去し、ピロキサスルホンの結晶を析出させた。得られた結晶を回収し、ピロキサスルホンの結晶を得た。この結晶は、Cu−Kα線を用いた透過法による粉末X線回折測定において、17.8°、18.0°および19.9°の回折角2θに特徴的なピークを有し、かつ、前記3つのピークのうち、17.8°のピークにおけるピーク高さが最大である粉末X線回折スペクトルを示した。該粉末X線回折スペクトルの全てのピークにおける回折角度2θとピーク高さを表4に示す。この結晶の形状は、針状であった。
ピロキサスルホンを、テトラヒドロフランに溶解した。得られた溶液から、常圧下でテトラヒドロフランを留去し、ピロキサスルホンの結晶を析出させた。得られた結晶を回収し、ピロキサスルホンの結晶を得た。この結晶は、Cu−Kα線を用いた透過法による粉末X線回折測定において、17.8°、18.0°および19.9°の回折角2θに特徴的なピークを有し、かつ、前記3つのピークのうち、17.8°のピークにおけるピーク高さが最大である粉末X線回折スペクトルを示した。該粉末X線回折スペクトルの全てのピークにおける回折角度2θとピーク高さを表4に示す。この結晶の形状は、針状であった。
[比較例3−9]
ピロキサスルホンを、トリフルオロエタノールに溶解した。得られた溶液から、常圧下でトリフルオロエタノールを留去し、ピロキサスルホンの結晶を析出させた。得られた結晶を回収し、ピロキサスルホンの結晶を得た。この結晶は、Cu−Kα線を用いた透過法による粉末X線回折測定において、17.8°、18.0°および20.0°の回折角2θに特徴的なピークを有し、かつ、前記3つのピークのうち、17.8°のピークにおけるピーク高さが最大である粉末X線回折スペクトルを示した。該粉末X線回折スペクトルの全てのピークにおける回折角度2θとピーク高さを表4に示す。この結晶の形状は、針状であった。
ピロキサスルホンを、トリフルオロエタノールに溶解した。得られた溶液から、常圧下でトリフルオロエタノールを留去し、ピロキサスルホンの結晶を析出させた。得られた結晶を回収し、ピロキサスルホンの結晶を得た。この結晶は、Cu−Kα線を用いた透過法による粉末X線回折測定において、17.8°、18.0°および20.0°の回折角2θに特徴的なピークを有し、かつ、前記3つのピークのうち、17.8°のピークにおけるピーク高さが最大である粉末X線回折スペクトルを示した。該粉末X線回折スペクトルの全てのピークにおける回折角度2θとピーク高さを表4に示す。この結晶の形状は、針状であった。
[比較例3−10]
ピロキサスルホンを、二硫化炭素に溶解した。得られた溶液から、常圧下で二硫化炭素を留去し、ピロキサスルホンの結晶を析出させた。得られた結晶を回収し、ピロキサスルホンの結晶を得た。この結晶は、Cu−Kα線を用いた透過法による粉末X線回折測定において、17.7°、18.0°および19.9°の回折角2θに特徴的なピークを有し、かつ、前記3つのピークのうち、17.7°のピークにおけるピーク高さが最大である粉末X線回折スペクトルを示した。該粉末X線回折スペクトルの全てのピークにおける回折角度2θとピーク高さを表4に示す。この結晶の形状は、針状であった。
ピロキサスルホンを、二硫化炭素に溶解した。得られた溶液から、常圧下で二硫化炭素を留去し、ピロキサスルホンの結晶を析出させた。得られた結晶を回収し、ピロキサスルホンの結晶を得た。この結晶は、Cu−Kα線を用いた透過法による粉末X線回折測定において、17.7°、18.0°および19.9°の回折角2θに特徴的なピークを有し、かつ、前記3つのピークのうち、17.7°のピークにおけるピーク高さが最大である粉末X線回折スペクトルを示した。該粉末X線回折スペクトルの全てのピークにおける回折角度2θとピーク高さを表4に示す。この結晶の形状は、針状であった。
[比較例3−11]
ピロキサスルホンを、アセトンに溶解した。得られた溶液に2倍量の二硫化炭素を加え、ピロキサスルホンの結晶を析出させた。得られた結晶を乾燥して、ピロキサスルホンの結晶を得た。この結晶は、Cu−Kα線を用いた透過法による粉末X線回折測定において、17.7°、18.0°および20.0°の回折角2θに特徴的なピークを有し、かつ、前記3つのピークのうち、17.7°のピークにおけるピーク高さが最大である粉末X線回折スペクトルを示した。該粉末X線回折スペクトルの全てのピークにおける回折角度2θとピーク高さを表4に示す。この結晶の形状は、針状であった。
ピロキサスルホンを、アセトンに溶解した。得られた溶液に2倍量の二硫化炭素を加え、ピロキサスルホンの結晶を析出させた。得られた結晶を乾燥して、ピロキサスルホンの結晶を得た。この結晶は、Cu−Kα線を用いた透過法による粉末X線回折測定において、17.7°、18.0°および20.0°の回折角2θに特徴的なピークを有し、かつ、前記3つのピークのうち、17.7°のピークにおけるピーク高さが最大である粉末X線回折スペクトルを示した。該粉末X線回折スペクトルの全てのピークにおける回折角度2θとピーク高さを表4に示す。この結晶の形状は、針状であった。
[比較例3−12]
ピロキサスルホンを、ジクロロメタンに溶解した。得られた溶液に2倍量の二硫化炭素を加え、ピロキサスルホンの結晶を析出させた。得られた結晶を乾燥して、ピロキサスルホンの結晶を得た。この結晶は、Cu−Kα線を用いた透過法による粉末X線回折測定において、17.8°、18.0°および20.0°の回折角2θに特徴的なピークを有し、かつ、前記3つのピークのうち、17.8°のピークにおけるピーク高さが最大である粉末X線回折スペクトルを示した。該粉末X線回折スペクトルの全てのピークにおける回折角度2θとピーク高さを表4に示す。この結晶の形状は、針状であった。
ピロキサスルホンを、ジクロロメタンに溶解した。得られた溶液に2倍量の二硫化炭素を加え、ピロキサスルホンの結晶を析出させた。得られた結晶を乾燥して、ピロキサスルホンの結晶を得た。この結晶は、Cu−Kα線を用いた透過法による粉末X線回折測定において、17.8°、18.0°および20.0°の回折角2θに特徴的なピークを有し、かつ、前記3つのピークのうち、17.8°のピークにおけるピーク高さが最大である粉末X線回折スペクトルを示した。該粉末X線回折スペクトルの全てのピークにおける回折角度2θとピーク高さを表4に示す。この結晶の形状は、針状であった。
[比較例3−X]
比較例3−3のピロキサスルホンの結晶50質量部、ポリカルボン酸塩4質量部、ポリオキシエチレンジスチリルフェニルエーテル硫酸塩1質量部およびクレーを加えて全体を100質量部とし、衝撃式粉砕機を用いて混合粉砕し、水和剤を得た。
比較例3−3のピロキサスルホンの結晶50質量部、ポリカルボン酸塩4質量部、ポリオキシエチレンジスチリルフェニルエーテル硫酸塩1質量部およびクレーを加えて全体を100質量部とし、衝撃式粉砕機を用いて混合粉砕し、水和剤を得た。
[比較例3−Y]
比較例3−3のピロキサスルホンの結晶40質量部、ナフタレンスルホン酸塩ホルマリン縮合物1.67質量部、ジオクチルスルホコハク酸塩0.83質量部、ポリオキシエチレントリスチリルフェニルエーテル2.08質量部、プロピレングリコール8.75質量部、キサンタンガム0.05質量部、ジメチルポリシロキサン0.2質量部、メチルクロロイソチアゾロンとブロノポールの混合物0.02質量部および残部に水を加えて全体を85質量部とし、湿式粉砕機を用いて混合粉砕し、スラリーを得た。別途、キサンタンガム0.08質量部、ベントナイト0.08質量部および残部に水を加えて全体を15質量部とした混合液に、前記スラリー85質量部を加えて混合し、水性懸濁剤を得た。
比較例3−3のピロキサスルホンの結晶40質量部、ナフタレンスルホン酸塩ホルマリン縮合物1.67質量部、ジオクチルスルホコハク酸塩0.83質量部、ポリオキシエチレントリスチリルフェニルエーテル2.08質量部、プロピレングリコール8.75質量部、キサンタンガム0.05質量部、ジメチルポリシロキサン0.2質量部、メチルクロロイソチアゾロンとブロノポールの混合物0.02質量部および残部に水を加えて全体を85質量部とし、湿式粉砕機を用いて混合粉砕し、スラリーを得た。別途、キサンタンガム0.08質量部、ベントナイト0.08質量部および残部に水を加えて全体を15質量部とした混合液に、前記スラリー85質量部を加えて混合し、水性懸濁剤を得た。
[試験例3−1:水和性]
500mL容のビーカーに20℃の3度硬水200mLを入れた。このビーカーに、あらかじめ#40メッシュ標準篩を通過させた実施例3−Aまたは比較例3−Xの水和剤5gを、水面上約10cmの位置から、薄く広がるように静かに落とした。試料を落とし終わってから試料全量が水面下に没するまでの時間を測定した。更に、ビーカー内をガラス棒でかき混ぜて懸濁状態の均一性を観察した。結果を表5に示した。
500mL容のビーカーに20℃の3度硬水200mLを入れた。このビーカーに、あらかじめ#40メッシュ標準篩を通過させた実施例3−Aまたは比較例3−Xの水和剤5gを、水面上約10cmの位置から、薄く広がるように静かに落とした。試料を落とし終わってから試料全量が水面下に没するまでの時間を測定した。更に、ビーカー内をガラス棒でかき混ぜて懸濁状態の均一性を観察した。結果を表5に示した。
[試験例3−2:希釈液の再分散性]
実施例3−Bおよび比較例3−Yの水性懸濁剤0.5mLを採り、100mL容共栓メスシリンダーに入れ、さらに3度硬水を加えて全量を100mLとした。共栓メスシリンダーを30rpmで30回倒立し、20℃恒温にて1日間静置した。その後、共栓メスシリンダーの底部を観察しながら30rpmで倒立し、共栓メスシリンダーの底部に固着した固形物が全く認められなくなるまでに要した倒立回数を記録した。また、実施例3−Bおよび比較例3−Yの水性懸濁剤50mLを採り、50mL容スクリュー管内に密封し、54℃恒温にて2週間静置貯蔵したのち、同様の試験に供試した。結果を表6に示した。
実施例3−Bおよび比較例3−Yの水性懸濁剤0.5mLを採り、100mL容共栓メスシリンダーに入れ、さらに3度硬水を加えて全量を100mLとした。共栓メスシリンダーを30rpmで30回倒立し、20℃恒温にて1日間静置した。その後、共栓メスシリンダーの底部を観察しながら30rpmで倒立し、共栓メスシリンダーの底部に固着した固形物が全く認められなくなるまでに要した倒立回数を記録した。また、実施例3−Bおよび比較例3−Yの水性懸濁剤50mLを採り、50mL容スクリュー管内に密封し、54℃恒温にて2週間静置貯蔵したのち、同様の試験に供試した。結果を表6に示した。
本明細書に記載のすべての出版物、特許、および特許出願は、本明細書の説明に関連して使用される可能性のある、当該出版物、特許、および特許出願に記載されている方法を説明および開示する目的のために、参照により本明細書にその全体が完全に組み込まれる。本発明の開示を理解又は完了するために必要な程度まで、本明細書に記載の全ての刊行物、特許、及び特許出願が、各々が個々に組み入れられたかのように同程度まで、参照により本明細書に明示的に組み入れられる。上記および本明細書全体で論じられているすべての出版物、特許、および特許出願は、本出願の出願日前の開示のためにのみ提供されている。
本明細書に記載されるのと同様または等価ないずれの方法および試薬も、本発明の方法および実施において用いることができる。従って、本発明は、前記の説明によって制約されるものではなく、しかし特許請求の範囲及びその均等物によって定義されることを意図するものである。それら均等物は添付の特許請求の範囲により定義される本発明の範囲内に入る。
Claims (34)
- 式(4)の化合物の製造方法であって、以下の工程iiを含む方法:
(工程ii) 塩基の存在下で、式(2)の化合物を式(3)の化合物と反応させて、式(4)の化合物を製造する工程;
(ここで、式(2)中、
R1、R2及びR3は、それぞれ独立して、1以上の置換基により置換されていてもよい(C1−C6)アルキル;1以上の置換基により置換されていてもよい(C3−C6)シクロアルキル;1以上の置換基により置換されていてもよい(C2−C6)アルケニル;1以上の置換基により置換されていてもよい(C2−C6)アルキニル;又は1以上の置換基により置換されていてもよい(C6−C10)アリールであり、
X1は脱離基であり、
式(3)中、
R4及びR5は、それぞれ独立して、1以上の置換基により置換されていてもよい(C1−C6)アルキル;1以上の置換基により置換されていてもよい(C3−C6)シクロアルキル;1以上の置換基により置換されていてもよい(C2−C6)アルケニル;1以上の置換基により置換されていてもよい(C2−C6)アルキニル;1以上の置換基により置換されていてもよい(C1−C6)アルコキシ;又は1以上の置換基により置換されていてもよい(C6−C10)アリールであり;又は
R4及びR5は、それらが結合している炭素原子と一緒になって、4〜12員の炭素環を形成し、ここで形成された環は1以上の置換基により置換されていてもよく、
X2は酸を形成する原子又は原子団であり、
式(4)中、R1、R2、R3、R4及びR5は、上記で定義した通りである。)。 - 請求項1に記載の方法であって、工程iiの塩基が、アルカリ金属水酸化物類である方法。
- 請求項1に記載の方法であって、工程iiの塩基が、水酸化ナトリウムである方法。
- 請求項1から3のいずれか1項に記載の方法であって、
式(2)中、
R1が(C1−C4)アルキルであり、
R2が(C1−C4)パーフルオロアルキルであり、
R3が1〜9個のフッ素原子により置換されていてもよい(C1−C4)アルキルであり、
X1が塩素原子又は臭素原子であり、
式(3)中、
R4及びR5が、それぞれ独立して、(C1−C4)アルキルであり、
X2が塩素原子、臭素原子、硫酸基、硫酸水素基、リン酸基、リン酸一水素基、メタンスルホニルオキシ、p−トルエンスルホニルオキシ又はそれらの2個以上の混合物であり、式(4)中、R1、R2、R3、R4及びR5は、上記で定義した通りである方法。 - 請求項1から3のいずれか1項に記載の方法であって、
式(2)中、
R1がメチルであり、
R2がトリフルオロメチルであり、
R3がジフルオロメチルであり、
X1が塩素原子であり、
式(3)中、
R4及びR5がメチルであり、
X2が塩素原子、臭素原子又はそれらの混合物であり、
式(4)中、R1、R2、R3、R4及びR5は、上記で定義した通りである方法。 - 請求項6に記載の方法であって、工程iのハロゲン化剤が塩素化剤である方法。
- 請求項6に記載の方法であって、工程iのハロゲン化剤が塩化チオニルである方法。
- 請求項7又は8に記載の方法であって、
式(1)中、
R1が(C1−C4)アルキルであり、
R2が(C1−C4)パーフルオロアルキルであり、
R3が1〜9個のフッ素原子により置換されていてもよい(C1−C4)アルキルであり、
式(2)中、
R1、R2及びR3は、上記で定義した通りであり、
X1が塩素原子である、方法。 - 請求項7又は8に記載の方法であって、
式(1)中、
R1がメチルであり、
R2がトリフルオロメチルであり、
R3がジフルオロメチルであり、
式(2)中、
R1、R2及びR3は、上記で定義した通りであり、
X1が塩素原子である、方法。 - 請求項11に記載の方法であって、工程iiiの過酸化水素が、10〜70wt%過酸化水素水溶液である方法。
- 請求項11又は12に記載の方法であって、工程iiiの金属触媒が、タングステン触媒、モリブデン触媒及びニオブ触媒から選ばれる方法。
- 請求項11又は12に記載の方法であって、工程iiiの金属触媒が、タングステン触媒である方法。
- 請求項11又は12に記載の方法であって、工程iiiの金属触媒が、タングステン酸、タングステン酸塩、金属タングステン、酸化タングステン、炭化タングステン、塩化タングステン、臭化タングステン、硫化タングステン、リンタングステン酸若しくはその塩、ケイタングステン酸若しくはその塩、又はそれらの混合物である方法。
- 請求項11又は12に記載の方法であって、工程iiiの金属触媒が、タングステン酸ナトリウムである方法。
- 請求項11から16のいずれか1項に記載の方法であって、工程iiiの反応が、有機溶媒及び水溶媒の存在下で行われる方法。
- 請求項17に記載の方法であって、工程iiiの反応の有機溶媒が、アルコール類、ニトリル類、カルボン酸エステル類から選択される1個以上の有機溶媒である方法。
- 請求項17に記載の方法であって、工程iiiの反応の有機溶媒が、アセトニトリル又は酢酸ブチルである方法。
- 請求項11から19のいずれか1項に記載の方法であって、
式(4)中、
R1が(C1−C4)アルキルであり、
R2が(C1−C4)パーフルオロアルキルであり、
R3が1〜9個のフッ素原子により置換されていてもよい(C1−C4)アルキルであり、
R4及びR5が、それぞれ独立して、(C1−C4)アルキルであり、
式(5)中、R1、R2、R3、R4及びR5は、上記で定義した通りである方法。 - 請求項11から19のいずれか1項に記載の方法であって、
式(4)中、
R1がメチルであり、
R2がトリフルオロメチルであり、
R3がジフルオロメチルであり、
R4及びR5がメチルであり、
式(5)中、R1、R2、R3、R4及びR5は、上記で定義した通りである方法。 - 式(5)の化合物の製造方法であって、以下の工程iiiを含む方法であり、工程iiiの反応が0〜50のアクセプター数を有する有機溶媒及び水溶媒の存在下で行われる方法:
(工程iii) 金属触媒の存在下で、式(4)の化合物を過酸化水素と反応させて、式(5)の化合物を製造する工程;
(ここで、式(4)及び式(5)中、
R1、R2及びR3は、それぞれ独立して、1以上の置換基により置換されていてもよい(C1−C6)アルキル;1以上の置換基により置換されていてもよい(C3−C6)シクロアルキル;1以上の置換基により置換されていてもよい(C2−C6)アルケニル;1以上の置換基により置換されていてもよい(C2−C6)アルキニル;又は1以上の置換基により置換されていてもよい(C6−C10)アリールであり、
R4及びR5は、それぞれ独立して、1以上の置換基により置換されていてもよい(C1−C6)アルキル;1以上の置換基により置換されていてもよい(C3−C6)シクロアルキル;1以上の置換基により置換されていてもよい(C2−C6)アルケニル;1以上の置換基により置換されていてもよい(C2−C6)アルキニル;1以上の置換基により置換されていてもよい(C1−C6)アルコキシ;又は1以上の置換基により置換されていてもよい(C6−C10)アリールであり;又は
R4及びR5は、それらが結合している炭素原子と一緒になって、4〜12員の炭素環を形成し、ここで形成された環は1以上の置換基により置換されていてもよい。)。 - 請求項22に記載の方法であって、工程iiiの過酸化水素が、10〜70wt%過酸化水素水溶液である方法。
- 請求項22又は23に記載の方法であって、工程iiiの金属触媒が、タングステン触媒、モリブデン触媒及びニオブ触媒から選ばれる方法。
- 請求項22又は23に記載の方法であって、工程iiiの金属触媒が、タングステン触媒である方法。
- 請求項22又は23に記載の方法であって、工程iiiの金属触媒が、タングステン酸、タングステン酸塩、金属タングステン、酸化タングステン、炭化タングステン、塩化タングステン、臭化タングステン、硫化タングステン、リンタングステン酸若しくはその塩、ケイタングステン酸若しくはその塩、又はそれらの混合物である方法。
- 請求項22又は23に記載の方法であって、工程iiiの金属触媒が、タングステン酸ナトリウムである方法。
- 請求項22から27のいずれか1項に記載の方法であって、工程iiiの反応の有機溶媒が、アルコール類、ニトリル類、カルボン酸エステル類から選択される1個以上の有機溶媒である方法。
- 請求項22から27のいずれか1項に記載の方法であって、工程iiiの反応の有機溶媒が、アセトニトリル又は酢酸ブチルである方法。
- 請求項22から29のいずれか1項に記載の方法であって、
式(4)中、
R1が(C1−C4)アルキルであり、
R2が(C1−C4)パーフルオロアルキルであり、
R3が1〜9個のフッ素原子により置換されていてもよい(C1−C4)アルキルであり、
R4及びR5が、それぞれ独立して、(C1−C4)アルキルであり、
式(5)中、R1、R2、R3、R4及びR5は、上記で定義した通りである方法。 - 請求項22から29のいずれか1項に記載の方法であって、
式(4)中、
R1がメチルであり、
R2がトリフルオロメチルであり、
R3がジフルオロメチルであり、
R4及びR5がメチルであり、
式(5)中、R1、R2、R3、R4及びR5は、上記で定義した通りである方法。 - ピロキサスルホンの結晶であって、Cu−Kα線を用いた透過法による粉末X線回折測定において、少なくとも17.8−17.9°、18.0−18.1°および19.9−20.0°の範囲の回折角2θにピークを有するスペクトルを示し、前記3つのピークのうち、19.9−20.0°のピーク高さが最大であることを特徴とする、結晶。
- 請求項32に記載のピロキサスルホンの結晶と、界面活性剤を含む、農薬組成物。
- 請求項1から31のいずれか1項に記載の方法により製造される、式(5)の化合物の農薬としての使用。
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