JP2021162854A - ネガ型レジスト組成物 - Google Patents

Abstract

【課題】波長４４０ｎｍの光の透過率が高いカラーフィルタの製造に有用なネガ型レジスト組成物を提供する。
【解決手段】本発明のネガ型レジスト組成物は、着色剤、及び樹脂を含み、上記着色剤がキサンテン染料を含有し、上記ネガ型レジスト組成物から形成された硬化膜の分光スペクトルが下記条件１を満たす。
［条件１］
波長範囲５００ｎｍ〜５８０ｎｍに極大吸収波長を有し、該波長における透過率を５％としたとき、波長４４０ｎｍにおける透過率が８０％以上であり、且つ波長６２０ｎｍにおける透過率が８０％以上である。
【選択図】なし

Description

本発明は、ネガ型レジスト組成物に関する。

液晶表示装置等に使用されるカラーフィルタの製造には、着色組成物が用いられている。このような着色組成物としては、キナクリドン系顔料を含む着色組成物が知られている（特許文献１）。

特開２０１９−１０９４８７号公報

これまでに青色と赤色とを混合させることによりマゼンタ色が得られることが知られている。しかし、従来のマゼンタ色のカラーフィルタにおいては、波長４４０ｎｍの光の透過率が十分では無かった。本発明の目的は、波長４４０ｎｍの光の透過率が高いカラーフィルタの製造に有用なネガ型レジスト組成物を提供することにある。

本発明は、以下の発明を含む。
［１］着色剤、及び樹脂を含むネガ型レジスト組成物であり、
前記着色剤がキサンテン染料を含有し、
前記ネガ型レジスト組成物から形成された硬化膜の分光スペクトルが下記条件１を満たすことを特徴とするネガ型レジスト組成物。
［条件１］
波長範囲５００ｎｍ〜５８０ｎｍに極大吸収波長を有し、該波長における透過率を５％としたとき、波長４４０ｎｍにおける透過率が８０％以上であり、且つ波長６２０ｎｍにおける透過率が８０％以上である。
［２］前記波長６２０ｎｍにおける透過率が９０％以上である［１］に記載のネガ型レジスト組成物。
［３］前記キサンテン染料は式（Ｉ）で示されるものである［１］または［２］に記載のネガ型レジスト組成物。

［式（Ｉ）中、Ｒ¹〜Ｒ⁴は、それぞれ独立して、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０の１価の飽和炭化水素基、又は置換基を有していてもよい炭素数６〜２０の１価の芳香族炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる−ＣＨ₂−は、−Ｏ−、−ＣＯ−又は−ＮＲ¹¹−で置き換わっていてもよい。
Ｒ⁵は、−ＯＨ、−ＳＯ₃ ^-、−ＳＯ₃Ｈ、−ＳＯ₃ ^-Ｚ⁺、−ＣＯ₂Ｈ、−ＣＯ₂ ^-Ｚ⁺、−ＣＯ₂Ｒ⁸、−ＳＯ₃Ｒ⁸、又は−ＳＯ₂ＮＲ⁹Ｒ¹⁰を表す。
Ｒ⁶及びＲ⁷は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基を表す。
ｍは、０〜５の整数を表す。ｍが２以上のとき、複数のＲ⁵は同一でも異なってもよい。
ａは、０又は１の整数を表す。
Ｘは、ハロゲン原子を表す。
Ｚ⁺は、⁺Ｎ（Ｒ¹¹）₄、Ｎａ⁺、又はＫ⁺を表し、４つのＲ¹¹は同一でも異なってもよい。
Ｒ⁸は、炭素数１〜２０の１価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子で置換されていてもよい。
Ｒ⁹及びＲ¹⁰は、それぞれ独立して、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数１〜２０の１価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる−ＣＨ₂−は、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＮＨ−、又は−ＮＲ⁸−で置き換っていてもよく、Ｒ⁹及びＲ¹⁰が結合して隣接する窒素原子とともに３〜１０員環の複素環を形成していてもよい。
Ｒ¹¹は、水素原子、炭素数１〜２０の１価の飽和炭化水素基、又は炭素数７〜１０のアラルキル基を表す。］
［４］前記キサンテン染料が式（Ｉａ）及び／又は式（Ｉｂ１）で示されるものである［３］に記載のネガ型レジスト組成物。

［式（Ｉａ）中、
Ｒ^a1及びＲ^a4は、それぞれ独立して、２個以下の炭素数が１〜４の１価の飽和脂肪族炭化水素基を有していてもよい１価の芳香族炭化水素基である。
Ｒ^a2及びＲ^a3は、それぞれ独立して、水素原子、メチル基、又はエチル基である。
Ｒ⁵〜Ｒ⁷、ｍ、ａ、及びＸは上記と同じ意味を表す。］

［式（Ｉｂ１）中、Ｒ^b1〜Ｒ^b4は、それぞれ独立して、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０の１価の飽和炭化水素基、又は置換基を有していてもよい炭素数６〜２０の１価の芳香族炭化水素基を表し、
Ｒ^b1〜Ｒ^b4に含まれる少なくとも１つの飽和炭化水素基または芳香族炭化水素基が、ハロゲン原子、−ＯＨ、−ＯＲ⁸、−ＣＯ₂Ｈ、−ＣＯ₂Ｒ⁸、−ＳＯ₃ ^-、−ＳＯ₃Ｈ、−ＳＯ₃ ^-Ｚ⁺、−ＳＲ⁸、−ＳＯ₂Ｒ⁸、−ＳＯ₃Ｒ⁸、−ＳＯ₂ＮＲ⁹Ｒ¹⁰、又は−Ｓｉ（ＯＲ¹²）（ＯＲ¹³）（ＯＲ¹⁴）を置換基として有するか、又はＲ^b1〜Ｒ^b4に含まれる少なくとも１つの芳香族炭化水素基が、３個以上の炭素数が１〜４の１価の飽和脂肪族炭化水素基を置換基として有し、
Ｒ¹²、Ｒ¹³、及びＲ¹⁴は、それぞれ独立して炭素数１〜４の１価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子で置換されていてもよく、
Ｒ⁵〜Ｒ¹⁰、ｍ、ａ、及びＸは上記と同じ意味を表す。］
［５］前記キサンテン染料が前記式（Ｉｂ１）で示されるものから選択される２種以上の組み合わせ、または前記式（Ｉｂ１）で示されるものと前記式（Ｉａ）で示されるものとの組み合わせである［４］に記載のネガ型レジスト組成物。
［６］前記着色剤が、染料のみ、または染料と赤色顔料もしくは紫色顔料との組み合わせである［１］〜［５］のいずれかに記載のネガ型レジスト組成物。
［７］さらに重合性化合物、及び重合開始剤を含む［１］〜［６］のいずれかに記載のネガ型レジスト組成物。
［８］膜厚が１．５μｍ以下である硬化膜を形成することが可能な［１］〜［７］のいずれかに記載のネガ型レジスト組成物。
［９］［１］〜［８］のいずれかに記載のネガ型レジスト組成物から形成されるカラーフィルタ。
［１０］［９］に記載のカラーフィルタを含む表示装置。

本発明のネガ型レジスト組成物から、波長４４０ｎｍの光の透過率が高いカラーフィルタが得られる。

＜ネガ型レジスト組成物＞
本発明のネガ型レジスト組成物は、着色剤（Ａ）、及び樹脂（Ｃ）を含むネガ型レジスト組成物であり、着色剤（Ａ）がキサンテン染料を含有し、ネガ型レジスト組成物から形成された硬化膜の分光スペクトルが下記条件１を満たすものである。
［条件１］
波長範囲５００ｎｍ〜５８０ｎｍに極大吸収波長を有し、該波長における透過率を５％としたとき、波長４４０ｎｍにおける透過率が８０％以上であり、且つ波長６２０ｎｍにおける透過率が８０％以上である。

上記構成により、波長４４０ｎｍの光の透過率が高いマゼンタ色のカラーフィルタが得られる。ネガ型レジスト組成物とは、露光部の現像液に対する溶解性が低下することによって、露光部が現像後に残存する性質を有するレジストである。またネガ型レジスト組成物は、露光部の現像液に対する溶解性が高いポジ型レジスト組成物よりも、パターンを所望の寸法範囲に仕上げるための露光から現像までのプロセス条件の範囲が広い傾向にあるため好ましい。

上記硬化膜の分光スペクトルは、ガラス基板上に下記条件にて硬化膜を作製して、測色機で測定することにより得ることができる。測色機としてはＯＳＰ−ＳＰ−２００（オリンパス（株）製）が挙げられる。
［硬化膜作製方法］
５ｃｍ角のガラス基板上に、ネガ型レジスト組成物をスピンコート法で塗布したのち、１００℃で３分間プリベークして着色組成物層を形成する。放冷後、露光機を用いて、大気雰囲気下、６０ｍＪ／ｃｍ²の露光量（３６５ｎｍ基準）で着色組成物層に光照射を行う。その後、２３０℃で２０分間ポストベークを行う。

硬化膜の透過率を得るに当たっては、極大吸収波長の透過率が５％となるように硬化膜の膜厚を調整した上で、波長４４０ｎｍにおける透過率と、波長６２０ｎｍにおける透過率とを測定すればよい。また硬化膜の透過率を得るに当たっては、上記のように硬化膜の膜厚を調整せずに、極大吸収波長における透過率と、波長４４０ｎｍにおける透過率と、波長６２０ｎｍにおける透過率とを測定した上で、極大吸収波長における透過率が５％となるように波長４４０ｎｍにおける透過率と波長６２０ｎｍにおける透過率とを算出してもよい。

上記波長４４０ｎｍにおける透過率は８０％以上であり、好ましくは８５％以上、より好ましくは９０％以上、さらに好ましくは９２％以上である。一方、上限は特に限定されないが、１００％以下であってもよく、９９％以下であってもよい。

上記波長６２０ｎｍにおける透過率は８０％以上であり、好ましくは９０％以上、より好ましくは９３％以上、さらに好ましくは９５％以上、特に好ましくは９７％以上である。一方、上限は特に限定されないが、１００％以下であってもよい。

以下、各成分について詳細に説明する。なお、本明細書において、各成分として例示する化合物は、特に断りのない限り、単独で又は複数種を組合わせて使用することができる。

＜着色剤（Ａ）＞
着色剤（Ａ）は、キサンテン染料（Ａ１）を含むものである。着色剤（Ａ）の含有量は、ネガ型レジスト組成物の固形分に対して、好ましくは５〜６０質量％であり、より好ましくは８〜５５質量％であり、さらに好ましくは１０〜５０質量％である。着色剤の含有量が前記の範囲にあると、カラーフィルタとしたときの色濃度を向上し、且つ組成物中に樹脂等を必要量含有させることができる。ここで、ネガ型レジスト組成物の固形分とは、本発明のネガ型レジスト組成物から溶剤を除いた成分の合計量をいう。固形分及びこれに対する各成分の含有量は、例えば、液体クロマトグラフィー又はガスクロマトグラフィーなどの公知の分析手段で測定することができる。

＜キサンテン染料（Ａ１）＞
キサンテン染料（Ａ１）は、分子内にキサンテン骨格を有する化合物を含む染料である。キサンテン染料（Ａ１）としては、式（Ｉ）で表される化合物（以下、「化合物（Ｉ）」という場合がある。）を含む染料が好ましい。

［式（Ｉ）中、Ｒ¹〜Ｒ⁴は、それぞれ独立して、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０の１価の飽和炭化水素基、又は置換基を有していてもよい炭素数６〜２０の１価の芳香族炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる−ＣＨ₂−は、−Ｏ−、−ＣＯ−又は−ＮＲ¹¹−で置き換わっていてもよい。
Ｒ⁵は、−ＯＨ、−ＳＯ₃ ^-、−ＳＯ₃Ｈ、−ＳＯ₃ ^-Ｚ⁺、−ＣＯ₂Ｈ、−ＣＯ₂ ^-Ｚ⁺、−ＣＯ₂Ｒ⁸、−ＳＯ₃Ｒ⁸、又は−ＳＯ₂ＮＲ⁹Ｒ¹⁰を表す。
Ｒ⁶及びＲ⁷は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基を表す。
ｍは、０〜５の整数を表す。ｍが２以上のとき、複数のＲ⁵は同一でも異なってもよい。
ａは、０又は１の整数を表す。
Ｘは、ハロゲン原子を表す。
Ｚ⁺は、⁺Ｎ（Ｒ¹¹）₄、Ｎａ⁺、又はＫ⁺を表し、４つのＲ¹¹は同一でも異なってもよい。
Ｒ⁸は、炭素数１〜２０の１価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子で置換されていてもよい。
Ｒ⁹及びＲ¹⁰は、それぞれ独立して、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数１〜２０の１価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる−ＣＨ₂−は、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＮＨ−、又は−ＮＲ⁸−で置き換っていてもよく、Ｒ⁹及びＲ¹⁰が結合して隣接する窒素原子とともに３〜１０員環の複素環を形成していてもよい。
Ｒ¹¹は、水素原子、炭素数１〜２０の１価の飽和炭化水素基、又は炭素数７〜１０のアラルキル基を表す。］

化合物（Ｉ）は、その互変異性体であってもよい。化合物（Ｉ）を用いる場合、キサンテン染料（Ａ１）中の化合物（Ｉ）の含有量は、好ましくは５０質量％以上、より好ましくは７０質量％以上、さらに好ましくは９０質量％以上、最も好ましくは１００質量％である。

Ｒ¹〜Ｒ⁴における炭素数１〜２０の１価の飽和炭化水素基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ドデシル基、ヘキサデシル基、イコシル基等の直鎖状アルキル基；イソプロピル基、イソブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、２−エチルヘキシル基等の分岐鎖状アルキル基；シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、トリシクロデシル基等の炭素数２〜２０の脂環式飽和炭化水素基が挙げられる。当該飽和炭化水素基の炭素数は、置換基を有する場合、置換基の炭素も含めた数である。飽和炭化水素基が有していてもよい置換基としては、ハロゲン原子、−ＯＨ、−ＯＲ⁸、−ＳＯ₃ ^-、−ＳＯ₃Ｈ、−ＳＯ₃ ^-Ｚ⁺、−ＣＯ₂Ｈ、−ＣＯ₂Ｒ⁸、−ＳＲ⁸、−ＳＯ₂Ｒ⁸、−ＳＯ₃Ｒ⁸、−ＳＯ₂ＮＲ⁹Ｒ¹⁰、又は−Ｓｉ（ＯＲ¹²）（ＯＲ¹³）（ＯＲ¹⁴）が挙げられる。Ｒ¹²、Ｒ¹³、及びＲ¹⁴は、それぞれ独立して炭素数１〜４の１価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子で置換されていてもよい。

Ｒ¹〜Ｒ⁴における炭素数６〜２０の１価の芳香族炭化水素基としては、フェニル基等の単環芳香族炭化水素基、ナフチル基、アントリル基、フェナントリル基、ビフェニル基、テルフェニル基等の多環芳香族炭化水素基が挙げられる。多環芳香族炭化水素基として、ビフェニル基、テルフェニル基等の非縮合多環芳香族炭化水素基が好ましい。また多環芳香族炭化水素基は、置換基を有していないことが好ましい。置換基を有する１価の芳香族炭化水素基としては、トルイル基、キシリル基、メシチル基、プロピルフェニル基、ブチルフェニル基等が挙げられる。当該芳香族炭化水素基の炭素数は、置換基を有する場合、置換基の炭素も含めた数である。芳香族炭化水素基が有していてもよい置換基としては、ハロゲン原子、−Ｒ⁸、−ＯＨ、−ＯＲ⁸、−ＳＯ₃ ^-、−ＳＯ₃Ｈ、−ＳＯ₃ ^-Ｚ⁺、−ＣＯ₂Ｈ、−ＣＯ₂Ｒ⁸、−ＳＲ⁸、−ＳＯ₂Ｒ⁸、−ＳＯ₃Ｒ⁸、−ＳＯ₂ＮＲ⁹Ｒ¹⁰、又は−Ｓｉ（ＯＲ¹²）（ＯＲ¹³）（ＯＲ¹⁴）が挙げられる。

Ｒ⁸〜Ｒ¹¹における炭素数１〜２０の１価の飽和炭化水素基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ドデシル基、ヘキサデシル基、イコシル基等の直鎖状アルキル基；イソプロピル基、イソブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、２−エチルヘキシル基等の分岐鎖状アルキル基；シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、トリシクロデシル基等の炭素数３〜２０の脂環式飽和炭化水素基が挙げられる。

Ｒ⁹及びＲ¹⁰における炭素数１〜２０の１価の飽和炭化水素基は、置換基を有していてもよい。該置換基としては、ヒドロキシ基、ハロゲン原子が挙げられる。

Ｒ¹²〜Ｒ¹⁴における炭素数１〜４の１価の飽和炭化水素基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等の直鎖状アルキル基；イソプロピル基、イソブチル基等の分岐鎖状アルキル基等の炭素数１〜４の脂環式飽和炭化水素基が挙げられる。

Ｚ⁺は、⁺Ｎ（Ｒ¹¹）₄、Ｎａ⁺又はＫ⁺であり、好ましくは⁺Ｎ（Ｒ¹¹）₄である。⁺Ｎ（Ｒ¹¹）₄中の４つのＲ¹¹のうち、少なくとも２つが炭素数５〜２０の１価の飽和炭化水素基であることが好ましい。また、４つのＲ¹¹の合計炭素数は２０〜８０であることが好ましく、２０〜６０であることがより好ましい。化合物（Ｉ）中に⁺Ｎ（Ｒ¹¹）₄が存在する場合、Ｒ¹¹がこれらの基であると、化合物（Ｉ）を含む本発明のネガ型レジスト組成物から異物が少ないカラーフィルタを形成できる。

−ＯＲ⁸としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基、２−エチルヘキシルオキシ基、イコシルオキシ基が挙げられる。

−ＣＯ₂Ｒ⁸としては、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、ヘキシルオキシカルボニル基、イコシルオキシカルボニル基が挙げられる。

−ＳＲ⁸としては、例えば、メチルスルファニル基、エチルスルファニル基、ブチルス
ルファニル基、ヘキシルスルファニル基、デシルスルファニル基、イコシルスルファニル基等が挙げられる。
−ＳＯ₂Ｒ⁸としては、例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、ブチルスルホニル基、ヘキシルスルホニル基、デシルスルホニル基、イコシルスルホニル基が挙げられる。
−ＳＯ₃Ｒ⁸としては、例えば、メトキシスルホニル基、エトキシスルホニル基、プロポキシスルホニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシスルホニル基、ヘキシルオキシスルホニル基、イコシルオキシスルホニル基が挙げられる。

−ＳＯ₂ＮＲ⁹Ｒ¹⁰としては、例えば、スルファモイル基；
Ｎ−メチルスルファモイル基、Ｎ−エチルスルファモイル基、Ｎ−プロピルスルファモイル基、Ｎ−イソプロピルスルファモイル基、Ｎ−ブチルスルファモイル基、Ｎ−イソブチルスルファモイル基、Ｎ−ｓｅｃ−ブチルスルファモイル基、Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチルスルファモイル基、Ｎ−ペンチルスルファモイル基、Ｎ−（１−エチルプロピル）スルファモイル基、Ｎ−（１，１−ジメチルプロピル）スルファモイル基、Ｎ−（１，２−ジメチルプロピル）スルファモイル基、Ｎ−（２，２−ジメチルプロピル）スルファモイル基、Ｎ−（１−メチルブチル）スルファモイル基、Ｎ−（２−メチルブチル）スルファモイル基、Ｎ−（３−メチルブチル）スルファモイル基、Ｎ−シクロペンチルスルファモイル基、Ｎ−ヘキシルスルファモイル基、Ｎ−（１，３−ジメチルブチル）スルファモイル基、Ｎ−（３，３−ジメチルブチル）スルファモイル基、Ｎ−ヘプチルスルファモイル基、Ｎ−（１−メチルヘキシル）スルファモイル基、Ｎ−（１，４−ジメチルペンチル）スルファモイル基、Ｎ−オクチルスルファモイル基、Ｎ−（２−エチルヘキシル）スルファモイル基、Ｎ−（１，５−ジメチル）ヘキシルスルファモイル基、Ｎ−（１，１，２，２−テトラメチルブチル）スルファモイル基等のＮ−１置換スルファモイル基；
Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−エチルメチルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジエチルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−プロピルメチルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−イソプロピルメチルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチルメチルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ブチルエチルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ビス（１−メチルプロピル）スルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ヘプチルメチルスルファモイル基等のＮ，Ｎ−２置換スルファモイル基等が挙げられる。

−Ｓｉ（ＯＲ¹²）（ＯＲ¹³）（ＯＲ¹⁴）としては、例えばトリメトキシシリル基、トリエトキシシリル基等が挙げられる。

Ｒ⁵は、−ＣＯ₂Ｈ、−ＣＯ₂ ^-Ｚ⁺、−ＣＯ₂Ｒ⁸、−ＳＯ₃ ^-、−ＳＯ₃ ^-Ｚ⁺、−ＳＯ₃Ｈ、又はＳＯ₂ＮＨＲ⁹が好ましく、ＳＯ₃ ^-、−ＳＯ₃ ^-Ｚ⁺、−ＳＯ₃Ｈ又はＳＯ₂ＮＨＲ⁹がより好ましい。

ｍは、０〜５の整数を表し、１〜４が好ましく、１又は２がより好ましく、１がさらに好ましい。

Ｒ⁶及びＲ⁷における炭素数１〜６のアルキル基としては、前記で挙げたアルキル基のうち、炭素数１〜６のものが挙げられ、炭素数１〜２のアルキル基が好ましい。Ｒ⁶及びＲ⁷は水素原子であることがより好ましい。

Ｒ¹¹における炭素数７〜１０のアラルキル基としては、ベンジル基、フェニルエチル基、フェニルブチル基等が挙げられる。

Ｘにおけるハロゲン原子としては、塩素原子、フッ素原子、臭素原子等が挙げられる。

ａは、０又は１の整数を表し、０が好ましい。

化合物（Ｉ）としては、式（Ｉａ）で表される化合物（以下「化合物（Ｉａ）」が好ましく挙げられる。式（Ｉａ）で表される化合物は、化合物（Ｉ）のうち化合物（Ｉａ）以外の化合物（以下「化合物（Ｉｂ）」という場合がある。）と組み合わせることなく用いてもよく、化合物（Ｉａ）と化合物（Ｉｂ）を組み合わせて用いてもよい。また化合物（Ｉａ）は２種以上、組み合わせて用いてもよい。

［式（Ｉａ）中、
Ｒ^a1及びＲ^a4は、それぞれ独立して、２個以下の炭素数が１〜４の１価の飽和脂肪族炭化水素基を有していてもよい１価の芳香族炭化水素基である。
Ｒ^a2及びＲ^a3は、それぞれ独立して、水素原子、メチル基、又はエチル基である。
Ｒ⁵〜Ｒ⁷、ｍ、ａ、及びＸは上記と同じ意味を表す。］

Ｒ^a1及びＲ^a4としては、上記Ｒ¹及びＲ⁴と同様の基のうち、置換基を有していない１価の芳香族炭化水素基、又は２個以下の炭素数が１〜４の１価の飽和脂肪族炭化水素基を有している１価の芳香族炭化水素基が挙げられる。このうち２個以下の炭素数が１〜４の１価の飽和脂肪族炭化水素基を有している１価の芳香族炭化水素基が好ましい。

置換基を有していない１価の芳香族炭化水素基としては、フェニル基等の単環芳香族炭化水素基、ナフチル基、アントリル基、フェナントリル基、ビフェニル基、テルフェニル基等の多環芳香族炭化水素基が挙げられる。多環芳香族炭化水素基として、ビフェニル基、テルフェニル基等の非縮合多環芳香族炭化水素基が好ましい。２個以下の炭素数が１〜４の１価の飽和脂肪族炭化水素基を有する１価の芳香族炭化水素基としては、トルイル基、キシリル基、メシチル基、モノプロピルフェニル基、ジプロピルフェニル基、モノブチルフェニル基、ジブチルフェニル基等が挙げられる。該芳香族炭化水素基の炭素数は、好ましくは７〜２０、より好ましくは７〜１６、さらに好ましくは７〜１０であり、最も好ましくは８である。該芳香族炭化水素基の炭素数は、置換基の炭素も含めた数である。該芳香族炭化水素基は、該飽和脂肪族炭化水素基以外の置換基を有していないことが好ましい。

該芳香族炭化水素基に結合している該飽和脂肪族炭化水素基の数は、１〜２であることが好ましく、２であることがより好ましい。該飽和脂肪族炭化水素基は、該芳香族炭化水素基の結合手に対して、オルト位またはメタ位に結合していることが好ましく、オルト位に結合していることがより好ましい。該飽和脂肪族炭化水素基としては、置換基を有していない飽和脂肪族炭化水素基が挙げられる。該飽和脂肪族炭化水素基の炭素数は、好ましくは１〜４であり、より好ましくは１〜３であり、さらに好ましくは１〜２であり、最も好ましくは１である。

Ｒ^a2及びＲ^a3としては、水素原子、メチル基、エチル基が挙げられ、これらのうち水素原子、又はメチル基が好ましく、水素原子がより好ましい。

化合物（Ｉｂ）としては、式（Ｉｂ１）で表される化合物（以下「化合物（Ｉｂ１）」という場合がある。）が好ましい。化合物式（Ｉｂ１）は、化合物（Ｉａ）と組み合わせて用いるのが好ましいが、化合物（Ｉａ）と組み合わせることなく用いてもよい。則ち、キサンテン染料（Ａ１）は、化合物（Ｉａ）及び／又は化合物（Ｉｂ１）であってもよく、化合物（Ｉａ）、又は化合物（Ｉａ）と化合物（Ｉｂ１）であることが好ましく、化合物（Ｉａ）であることがより好ましい。

［式（Ｉｂ１）中、Ｒ^b1〜Ｒ^b4は、それぞれ独立して、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０の１価の飽和炭化水素基、又は置換基を有していてもよい炭素数６〜２０の１価の芳香族炭化水素基を表し、
Ｒ^b1〜Ｒ^b4に含まれる少なくとも１つの飽和炭化水素基または芳香族炭化水素基が、ハロゲン原子、−ＯＨ、−ＯＲ⁸、−ＣＯ₂Ｈ、−ＣＯ₂Ｒ⁸、−ＳＯ₃ ^-、−ＳＯ₃Ｈ、−ＳＯ₃ ^-Ｚ⁺、−ＳＲ⁸、−ＳＯ₂Ｒ⁸、−ＳＯ₃Ｒ⁸、−ＳＯ₂ＮＲ⁹Ｒ¹⁰、又は−Ｓｉ（ＯＲ¹²）（ＯＲ¹³）（ＯＲ¹⁴）を置換基として有するか、又はＲ^b1〜Ｒ^b4に含まれる少なくとも１つの芳香族炭化水素基が、３個以上の炭素数が１〜４の１価の飽和脂肪族炭化水素基を置換基として有し、
Ｒ¹²、Ｒ¹³、及びＲ¹⁴は、それぞれ独立して炭素数１〜４の１価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子で置換されていてもよく、
Ｒ⁵〜Ｒ¹⁰、ｍ、ａ、及びＸは上記と同じ意味を表す。］

Ｒ^b1及びＲ^b4としては、上記Ｒ¹及びＲ⁴と同様の基のうち、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０の１価の飽和炭化水素基、置換基を有していてもよい炭素数６〜２０の１価の芳香族炭化水素基、又は３個以上の炭素数が１〜４の１価の飽和脂肪族炭化水素基を置換基として有している芳香族炭化水素基が挙げられる。このうち置換基を有していてもよい炭素数１〜２０の１価の飽和炭化水素基、置換基を有している炭素数６〜２０の１価の芳香族炭化水素基、又は３個以上の炭素数が１〜４の１価の飽和脂肪族炭化水素基を置換基として有している芳香族炭化水素基が好ましい。

置換基を有していてもよい炭素数１〜２０の１価の飽和炭化水素基の炭素数としては、１〜１０が好ましく、２〜８がより好ましく、２〜７がさらに好ましい。当該飽和脂肪族炭化水素基の炭素数は、置換基の炭素も含めた数である。置換基としては、ハロゲン原子、−ＯＨ、−ＯＲ⁸、−ＣＯ₂Ｈ、−ＣＯ₂Ｒ⁸、−ＳＯ₃ ^-、−ＳＯ₃Ｈ、−ＳＯ₃ ^-Ｚ⁺、−ＳＲ⁸、−ＳＯ₂Ｒ⁸、−ＳＯ₃Ｒ⁸、−ＳＯ₂ＮＲ⁹Ｒ¹⁰、又は−Ｓｉ（ＯＲ¹²）（ＯＲ¹³）（ＯＲ¹⁴）が好ましく、より好ましくは−ＯＨ、−ＯＲ⁸、−ＣＯ₂Ｈ、−ＣＯ₂Ｒ⁸、−ＳＯ₃ ^-、−ＳＯ₃Ｈ、−ＳＯ₃ ^-Ｚ⁺、−ＳＲ⁸、−ＳＯ₂Ｒ⁸、−ＳＯ₃Ｒ⁸、又は−Ｓｉ（ＯＲ¹²）（ＯＲ¹³）（ＯＲ¹⁴）であり、さらに好ましくは−ＯＨ、−ＯＲ⁸、−ＣＯ₂Ｈ、−ＣＯ₂Ｒ⁸、又は−Ｓｉ（ＯＲ¹²）（ＯＲ¹³）（ＯＲ¹⁴）であり、最も好ましくは−Ｓｉ（ＯＲ¹²）（ＯＲ¹³）（ＯＲ¹⁴）である。置換基の数は、１つの飽和脂肪族炭化水素基あたり１〜５が好ましく、１〜３がより好ましく、１〜２がさらに好ましく、１が最も好ましい。

置換基を有していてもよい炭素数６〜２０の１価の芳香族炭化水素基の炭素数は、好ましくは７〜２０、より好ましくは７〜１６、さらに好ましくは７〜１２であり、さらにより好ましくは７〜１０であり、特に好ましくは７〜８であり、最も好ましくは８である。該芳香族炭化水素基の炭素数は、置換基の炭素も含めた数である。置換基としては、炭素数が１〜４の１価の飽和脂肪族炭化水素基、ハロゲン原子、−ＯＨ、−ＯＲ⁸、−ＣＯ₂Ｈ、−ＣＯ₂Ｒ⁸、−ＳＯ₃ ^-、−ＳＯ₃Ｈ、−ＳＯ₃ ^-Ｚ⁺、−ＳＲ⁸、−ＳＯ₂Ｒ⁸、−ＳＯ₃Ｒ⁸、−ＳＯ₂ＮＲ⁹Ｒ¹⁰、又は−Ｓｉ（ＯＲ¹²）（ＯＲ¹³）（ＯＲ¹⁴）が好ましく、より好ましくは炭素数が１〜４の１価の飽和脂肪族炭化水素基、−ＯＨ、−ＯＲ⁸、−ＣＯ₂Ｈ、−ＣＯ₂Ｒ⁸、−ＳＯ₃ ^-、−ＳＯ₃Ｈ、−ＳＯ₃ ^-Ｚ⁺、−ＳＲ⁸、−ＳＯ₂Ｒ⁸、−ＳＯ₃Ｒ⁸、又は−ＳＯ₂ＮＲ⁹Ｒ¹⁰である。さらに好ましくは炭素数が１〜４の１価の飽和脂肪族炭化水素基、−ＯＲ⁸、−ＳＯ₃ ^-、−ＳＯ₃Ｈ、−ＳＯ₃ ^-Ｚ⁺、−ＳＲ⁸、−ＳＯ₂Ｒ⁸、−ＳＯ₃Ｒ⁸、又は−ＳＯ₂ＮＲ⁹Ｒ¹⁰である。置換基の数は、１つの芳香族炭化水素基あたり１〜５が好ましく、１〜３がより好ましく、１〜２がさらに好ましいく、２が最も好ましい。置換基は、該芳香族炭化水素基の結合手に対して、オルト位及び／又はメタ位に結合していることが好ましく、オルト位に結合していることがより好ましい。

３個以上の炭素数が１〜４の１価の飽和脂肪族炭化水素基を置換基として有している芳香族炭化水素基の炭素数は、好ましくは９〜２０、より好ましくは９〜１３、さらに好ましくは９〜１２であり、最も好ましくは９である。該芳香族炭化水素基の炭素数は、置換基の炭素も含めた数である。該芳香族炭化水素基は、該飽和脂肪族炭化水素基以外の置換基を有していないことが好ましい。該飽和脂肪族炭化水素基の個数は、１つの芳香族炭化水素基あたり、好ましくは３〜５、より好ましくは３〜４、最も好ましくは３である。該飽和脂肪族炭化水素基は、該芳香族炭化水素基の結合手に対して、オルト位及び／又はパラ位に結合していることが好ましく、オルト位及びパラ位に結合していることがより好ましい。該１価の飽和脂肪族炭化水素基の炭素数は、１〜５であることが好ましく、１〜３であることがより好ましく、１〜２であることがさらに好ましく、１であることが最も好ましい。

Ｒ^b2及びＲ^b3としては、上記Ｒ²及びＲ³と同様の基のうち、水素原子、又は置換基を有していてもよい炭素数１〜２０の１価の飽和炭化水素基が好ましく挙げられる。このうち置換基を有していてもよい炭素数１〜２０の１価の飽和炭化水素基がより好ましく、置換基を有している炭素数１〜２０の１価の飽和炭化水素基がさらに好ましい。

置換基を有していてもよい炭素数１〜２０の１価の飽和炭化水素基の炭素数としては、１〜１０が好ましく、１〜６がより好ましく、１〜４がさらに好ましい。当該飽和脂肪族炭化水素基の炭素数は、置換基の炭素も含めた数である。置換基としては、ハロゲン原子、−ＯＨ、−ＯＲ⁸、−ＣＯ₂Ｈ、−ＣＯ₂Ｒ⁸、−ＳＯ₃ ^-、−ＳＯ₃Ｈ、−ＳＯ₃ ^-Ｚ⁺、−ＳＲ⁸、−ＳＯ₂Ｒ⁸、−ＳＯ₃Ｒ⁸、−ＳＯ₂ＮＲ⁹Ｒ¹⁰、又は−Ｓｉ（ＯＲ¹²）（ＯＲ¹³）（ＯＲ¹⁴）が好ましく挙げられ、より好ましくは−ＯＨ、−ＯＲ⁸、−ＣＯ₂Ｈ、−ＣＯ₂Ｒ⁸、−ＳＯ₃ ^-、−ＳＯ₃Ｈ、−ＳＯ₃ ^-Ｚ⁺、−ＳＲ⁸、−ＳＯ₂Ｒ⁸、−ＳＯ₃Ｒ⁸、又は−Ｓｉ（ＯＲ¹²）（ＯＲ¹³）（ＯＲ¹⁴）であり、さらに好ましくは−ＯＨ、−ＯＲ⁸、−ＣＯ₂Ｈ、−ＣＯ₂Ｒ⁸、又は−Ｓｉ（ＯＲ¹²）（ＯＲ¹³）（ＯＲ¹⁴）であり、最も好ましくは−ＣＯ₂Ｈ、又は−ＣＯ₂Ｒ⁸である。置換基の数は、１つの飽和脂肪族炭化水素基あたり１〜５が好ましく、１〜３がより好ましく、１〜２がさらに好ましく、１が最も好ましい。

化合物（Ｉａ）としては、式（ＩａＸ）と表１とで特定される化合物Ｎｏ．１〜４８が好ましい。

式中の記号は以下の基を意味する（以下で＊は結合手を表す）。

化合物（Ｉｂ１）としては、式（Ｉｂｘ）と表２とで特定される化合物Ｎｏ．４９〜７４、及び式Ａ３−１〜Ａ３−８で表される化合物が好ましい。

式中の記号は以下の基を意味する（以下で＊は結合手を表す）。

着色剤（Ａ）が、染料のみであってもよいし、染料と顔料の組み合わせであってもよい。このうち着色剤（Ａ）が、染料のみ、または染料と赤色顔料もしくは紫色顔料との組み合わせであることが好ましく、キサンテン染料（Ａ１）のみ、またはキサンテン染料（Ａ１）と赤色顔料もしくは紫色顔料との組み合わせであることがより好ましく、キサンテン染料（Ａ１）のみ、またはキサンテン染料（Ａ１）と紫色顔料との組み合わせであることがさらに好ましく、キサンテン染料（Ａ１）のみであることがさらにより好ましい。

キサンテン染料（Ａ１）が化合物（Ｉａ）及び／又は化合物（Ｉｂ１）であることが好ましい。即ち、キサンテン染料（Ａ１）は、化合物（Ｉａ）または化合物（Ｉｂ１）のいずれか、または化合物（Ｉａ）と化合物（Ｉｂ１）の組み合わせであることが好ましい。

キサンテン染料（Ａ１）が、化合物（Ｉｂ）から選択される２種以上の組み合わせ、または化合物（Ｉｂ）と化合物（Ｉａ）との組み合わせであることも好ましい。より好ましくは、化合物（Ｉｂ１）から選択される２種以上の組み合わせ、または化合物（Ｉｂ１）と化合物（Ｉａ）との組み合わせである。

キサンテン染料（Ａ１）の含有量は、着色剤（Ａ）の総量に対して、好ましくは３０〜１００質量％、より好ましくは６０〜１００質量％、さらに好ましくは８０〜１００質量％、最も好ましくは１００質量％である。着色剤（Ａ）が顔料等を含む場合は、キサンテン染料（Ａ１）の含有量は９０質量％以下、８０質量％以下、７０質量％以下であってもよい。

キサンテン染料（Ａ１）中の化合物（Ｉａ）の含有量は、好ましくは３０〜１００質量％、より好ましくは６０〜１００質量％、さらに好ましくは８０〜１００質量％、最も好ましくは１００質量％である。着色剤（Ａ）が化合物（Ｉｂ）等を含む場合には、化合物（Ｉａ）の含有量は８０質量％以下、７０質量％以下、６０質量％以下であってもよい。

キサンテン染料（Ａ１）中の化合物（Ｉｂ）の含有量は、好ましくは２０〜８０質量％、より好ましくは３０〜７０質量％、さらに好ましくは４０〜６０質量％である。

化合物（Ｉｂ）の化合物（Ｉａ）１００質量部に対する含有量は、好ましくは２０〜１５０質量部、より好ましくは５０〜１３０質量部、さらに好ましくは８０〜１１０質量部である。

＜その他の染料（Ａ２）＞
着色剤（Ａ）は、さらに、キサンテン染料（Ａ１）以外の染料（「その他の染料（Ａ２）」という場合がある。）を含んでもよい。その他の染料（Ａ２）としては、キサンテン染料（Ａ１）以外の染料であれば特に限定されず、油溶性染料、酸性染料、塩基性染料、直接染料、媒染染料、酸性染料のアミン塩や酸性染料のスルホンアミド誘導体などの染料が挙げられ、例えば、カラーインデックス（Ｔｈｅ Ｓｏｃｉｅｔｙ ｏｆ Ｄｙｅｒｓ ａｎｄ Ｃｏｌｏｕｒｉｓｔｓ出版）で染料、すなわちＣ．Ｉ．ピグメント以外で色相を有するものに分類されている化合物や、染色ノート（色染社）に記載されている公知の染料が挙げられる。また、化学構造によれば、アゾ染料、アントラキノン染料、シアニン染料、フタロシアニン染料、ナフトキノン染料、キノンイミン染料、メチン染料、アゾメチン染料、スクワリリウム染料、アクリジン染料、スチリル染料、クマリン染料、キノリン染料及びニトロ染料等が挙げられる。
＜顔料（Ａ３）＞
着色剤（Ａ）は、顔料（Ａ３）を含んでもよい。顔料（Ａ３）としては、有機顔料及び無機顔料が挙げられ、カラーインデックス（Ｔｈｅ Ｓｏｃｉｅｔｙ ｏｆ Ｄｙｅｒｓ ａｎｄ Ｃｏｌｏｕｒｉｓｔｓ出版）でピグメントに分類されている化合物等が挙げられる。

有機顔料としては、例えば、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド９、９７、１０５、１２２、１２３、１４４、１４９、１６６、１６８、１７６、１７７、１８０、１９２、２０９、２１５、２１６、２２４、２４２、２５４、２５５、２６４、２６５などの赤色顔料；
Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５、１５：３、１５：４、１５：６、６０などの青色顔料；Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット１、１９、２３、２９、３２、３６、３８などの紫色顔料；
Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン７、３６、５８などの緑色顔料などが挙げられる。

中でも、赤色顔料、紫色顔料が好ましく、紫色顔料がより好ましく、Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット１９がさらに好ましい。

無機顔料としては、金属酸化物や金属錯塩のような金属化合物が挙げられ、具体的には、鉄、コバルト、アルミニウム、カドミウム、鉛、銅、チタン、マグネシウム、クロム、亜鉛、アンチモン等の金属の酸化物又は複合金属酸化物が挙げられる。

前記の顔料（Ａ３）は、必要に応じて、ロジン処理、酸性基又は塩基性基が導入された顔料誘導体や分散剤などを用いた表面処理、高分子化合物などによる顔料表面へのグラフト処理、硫酸微粒化法などによる微粒化処理、又は不純物を除去するための有機溶剤や水などによる洗浄処理、イオン性不純物のイオン交換法などによる除去処理などが施されていてもよい。また、顔料（Ａ３）は、粒径が均一であることが好ましい。

また、顔料（Ａ３）を用いる場合、顔料（Ａ３）の含有量は、着色剤（Ａ）の総量に対して、好ましくは１０〜９０質量％、より好ましくは２０〜８０質量％、さらに好ましくは３０〜７０質量％である。

＜溶剤（Ｂ）＞
ネガ型レジスト組成物は、溶剤（Ｂ）を含んでいてもよい。溶剤（Ｂ）は、特に限定されず、当該分野で通常使用される溶剤を用いることができる。例えば、エステル溶剤（分子内に−ＣＯＯ−を含み、−Ｏ−を含まない溶剤）、エーテル溶剤（分子内に−Ｏ−を含み、−ＣＯＯ−を含まない溶剤）、エーテルエステル溶剤（分子内に−ＣＯＯ−と−Ｏ−とを含む溶剤）、ケトン溶剤（分子内に−ＣＯ−を含み、−ＣＯＯ−を含まない溶剤）、アルコール溶剤（分子内にＯＨを含み、−Ｏ−、−ＣＯ−及び−ＣＯＯ−を含まない溶剤）、芳香族炭化水素溶剤、アミド溶剤、ジメチルスルホキシド等の中から選択して用いることができる。

エステル溶剤としては、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸ブチル、２−ヒドロキシイソブタン酸メチル、酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチル、酢酸イソブチル、ギ酸ペンチル、酢酸イソペンチル、プロピオン酸ブチル、酪酸イソプロピル、酪酸エチル、酪酸ブチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸プロピル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、シクロヘキサノールアセテート、γ−ブチロラクトン、プロピレングリコールジアセテート、１，３−ブチレングリコールジアセテートなどが挙げられる。

エーテル溶剤としては、例えば、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテルなどのエチレングリコールモノアルキルエーテル類；ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテルなどのジエチレングリコールモノアルキルエーテル類；プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテルなどのプロピレングリコールモノアルキルエーテル類；テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、１，４−ジオキサンなどの環状エーテル類；ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、ジエチレングリコールジプロピルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテルなどのジエチレングリコールジアルキルエーテル類；ジプロピレングリコールジメチルエーテルなどのジプロピレングリコールジアルキルエーテル類；アニソール、フェネトール、メチルアニソールなどのフェノールエーテル類；３−メトキシ−１−ブタノール、３−メトキシ−３−メチルブタノールなどが挙げられる。

エーテルエステル溶剤としては、例えば、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテートなどのエチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類；プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテートなどのプロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類；ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテートなどのジエチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類；ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートなどのジプロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類；メトキシ酢酸メチル、メトキシ酢酸エチル、メトキシ酢酸ブチル、エトキシ酢酸メチル、エトキシ酢酸エチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、２−メトキシプロピオン酸メチル、２−メトキシプロピオン酸エチル、２−メトキシプロピオン酸プロピル、２−エトキシプロピオン酸メチル、２−エトキシプロピオン酸エチル、２−メトキシ−２−メチルプロピオン酸メチル、２−エトキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、３−メトキシブチルアセテート、３−メチル−３−メトキシブチルアセテートなどが挙げられる。

ケトン溶剤としては、４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノン、アセトン、２−ブタノン、２−ヘプタノン、３−ヘプタノン、４−ヘプタノン、４−メチル−２−ペンタノン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、イソホロンなどが挙げられる。

アルコール溶剤としては、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、ヘキサノール、シクロヘキサノール、エチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリンなどが挙げられる。

芳香族炭化水素溶剤としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレンなどが挙げられる。

アミド溶剤としては、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドンなどが挙げられる。

前記の溶剤のうち、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、及び／又は４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノンが好ましい。

特に、エーテルエステル溶剤を含む溶剤が好ましい。この場合、エーテルエステル溶剤の含有量は、溶剤（Ｂ）の総量に対して、４０質量％以上１００質量％以下であることが好ましく、分散安定性の点で、４０質量％以上９９質量％以下であることがより好ましい。エーテルエステル溶剤の前記含有量の下限は、好ましくは６０質量％、より好ましくは７０質量％である。
エーテルエステル溶剤は、好ましくは、エチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、プロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類及びジエチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類からなる群から選ばれる少なくとも一種であり、より好ましくは、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートである。
溶剤（Ｂ）が混合溶剤である場合、エーテルエステル溶剤と組み合わせる溶剤は、好ましくは、エーテル溶剤及びケトン溶剤からなる群から選ばれる少なくとも一種であり、より好ましくは、プロピレングリコールモノメチルエーテル及び４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノンからなる群から選ばれる少なくとも一種である。
溶剤（Ｂ）がこのような溶剤であると、本発明のネガ型レジスト組成物から調製されるネガ型レジスト組成物から高明度なカラーフィルタを製造することができるため好ましい。
溶剤（Ｂ）としては、着色剤（Ａ）の溶解度（２３℃）が５質量％以下の溶剤であることが好ましく、着色剤（Ａ）の溶解度（２３℃）が０．３〜３質量％である溶剤であることがより好ましい。キサンテン染料（Ａ１）の溶解度が前記範囲となる溶剤（Ｂ）が特に好ましい。

＜樹脂（Ｃ）＞
本発明のネガ型レジスト組成物は、樹脂（Ｃ）を含む。樹脂（Ｃ）としては、アルカリ可溶性樹脂が好ましい。ネガ型レジスト組成物がアルカリ可溶性樹脂を含むことにより、非露光部の現像液に対する溶解性が向上する。またアルカリ可溶性樹脂は、後述するアミン基を有する分散剤との相溶性に優れる。樹脂（Ｃ）としては、以下の樹脂［Ｋ１］〜［Ｋ６］等が挙げられる。
樹脂［Ｋ１］不飽和カルボン酸及び不飽和カルボン酸無水物からなる群から選ばれる少なくとも一種（ａ）（以下「（ａ）」という場合がある）と、炭素数２〜４の環状エーテル構造とエチレン性不飽和結合とを有する単量体（ｂ）（以下「（ｂ）」という場合がある）との共重合体；
樹脂［Ｋ２］（ａ）と（ｂ）と、（ａ）と共重合可能な単量体（ｃ）（ただし、（ａ）及び（ｂ）とは異なる。）（以下「（ｃ）」という場合がある）との共重合体；
樹脂［Ｋ３］（ａ）と（ｃ）との共重合体；
樹脂［Ｋ４］（ａ）と（ｃ）との共重合体に（ｂ）を反応させることにより得られる樹脂；
樹脂［Ｋ５］（ｂ）と（ｃ）との共重合体に（ａ）を反応させることにより得られる樹脂；
樹脂［Ｋ６］（ｂ）と（ｃ）との共重合体に（ａ）を反応させ、さらにカルボン酸無水物を反応させることにより得られる樹脂。

（ａ）としては、具体的には、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、ｏ−、ｍ−、ｐ−ビニル安息香酸等の不飽和モノカルボン酸類；
マレイン酸、フマル酸、シトラコン酸、メサコン酸、イタコン酸、３−ビニルフタル酸、４−ビニルフタル酸、３，４，５，６−テトラヒドロフタル酸、１，２，３，６−テトラヒドロフタル酸、ジメチルテトラヒドロフタル酸、１、４−シクロヘキセンジカルボン酸等の不飽和ジカルボン酸類；
メチル−５−ノルボルネン−２，３−ジカルボン酸、５−カルボキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５，６−ジカルボキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−カルボキシ−５−メチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−カルボキシ−５−エチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−カルボキシ−６−メチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−カルボキシ−６−エチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン等のカルボキシ基を含有するビシクロ不飽和化合物類；
無水マレイン酸、シトラコン酸無水物、イタコン酸無水物、３−ビニルフタル酸無水物、４−ビニルフタル酸無水物、３，４，５，６−テトラヒドロフタル酸無水物、１，２，３，６−テトラヒドロフタル酸無水物、ジメチルテトラヒドロフタル酸無水物、５，６−ジカルボキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン無水物等の不飽和ジカルボン酸類無水物；
こはく酸モノ〔２−（メタ）アクリロイルオキシエチル〕、フタル酸モノ〔２−（メタ）アクリロイルオキシエチル〕等の２価以上の多価カルボン酸の不飽和モノ〔（メタ）アクリロイルオキシアルキル〕エステル類；
α−（ヒドロキシメチル）アクリル酸のような、同一分子中にヒドロキシ基及びカルボキシ基を含有する不飽和アクリレート類等が挙げられる。
これらのうち、共重合反応性の点や得られる樹脂のアルカリ水溶液への溶解性の点から、アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸等が好ましい。

（ｂ）は、例えば、炭素数２〜４の環状エーテル構造（例えば、オキシラン環、オキセタン環及びテトラヒドロフラン環からなる群から選ばれる少なくとも一種）とエチレン性不飽和結合とを有する重合性化合物をいう。（ｂ）は、炭素数２〜４の環状エーテル構造と（メタ）アクリロイルオキシ基とを有する単量体が好ましい。
尚、本明細書において、「（メタ）アクリル酸」とは、アクリル酸及びメタクリル酸よりなる群から選ばれる少なくとも一種を表す。「（メタ）アクリロイル」及び「（メタ）アクリレート」等の表記も、同様の意味を有する。

（ｂ）としては、例えば、オキシラニル基とエチレン性不飽和結合とを有する単量体（ｂ１）（以下「（ｂ１）」という場合がある）、オキセタニル基とエチレン性不飽和結合とを有する単量体（ｂ２）（以下「（ｂ２）」という場合がある）、テトラヒドロフリル基とエチレン性不飽和結合とを有する単量体（ｂ３）（以下「（ｂ３）」という場合がある）等が挙げられる。

（ｂ１）としては、例えば、直鎖状又は分枝鎖状の脂肪族不飽和炭化水素がエポキシ化された構造を有する単量体（ｂ１−１）（以下「（ｂ１−１）」という場合がある）、脂環式不飽和炭化水素がエポキシ化された構造を有する単量体（ｂ１−２）（以下「（ｂ１−２）」という場合がある）が挙げられる。

（ｂ１−１）としては、グリシジル（メタ）アクリレート、β−メチルグリシジル（メタ）アクリレート、β−エチルグリシジル（メタ）アクリレート、グリシジルビニルエーテル、ｏ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、ｍ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、ｐ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、α−メチル−ｏ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、α−メチル−ｍ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、α−メチル−ｐ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、２，３−ビス（グリシジルオキシメチル）スチレン、２，４−ビス（グリシジルオキシメチル）スチレン、２，５−ビス（グリシジルオキシメチル）スチレン、２，６−ビス（グリシジルオキシメチル）スチレン、２，３，４−トリス（グリシジルオキシメチル）スチレン、２，３，５−トリス（グリシジルオキシメチル）スチレン、２，３，６−トリス（グリシジルオキシメチル）スチレン、３，４，５−トリス（グリシジルオキシメチル）スチレン、２，４，６−トリス（グリシジルオキシメチル）スチレン等が挙げられる。

（ｂ１−２）としては、ビニルシクロヘキセンモノオキサイド、１，２−エポキシ−４−ビニルシクロヘキサン（例えば、セロキサイド（登録商標）２０００；（株）ダイセル製）、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル（メタ）アクリレート（例えば、サイクロマー（登録商標）Ａ４００；（株）ダイセル製）、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル（メタ）アクリレート（例えば、サイクロマーＭ１００；（株）ダイセル製）、式（ＢＩ）で表される化合物及び式（ＢＩＩ）で表される化合物等が挙げられる。

［式（ＢＩ）及び式（ＢＩＩ）中、Ｒ^a及びＲ^bは、水素原子、又は炭素数１〜４のアルキル基を表し、該アルキル基に含まれる水素原子は、ヒドロキシ基で置換されていてもよい。
Ｘ^a及びＸ^bは、単結合、＊−Ｒ^c−、＊−Ｒ^c−Ｏ−、＊−Ｒ^c−Ｓ−又は＊−Ｒ^c−ＮＨ−を表す。
Ｒ^cは、炭素数１〜６のアルカンジイル基を表す。
＊は、Ｏとの結合手を表す。］

炭素数１〜４のアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等が挙げられる。
水素原子がヒドロキシで置換されたアルキル基としては、ヒドロキシメチル基、１−ヒドロキシエチル基、２−ヒドロキシエチル基、１−ヒドロキシプロピル基、２−ヒドロキシプロピル基、３−ヒドロキシプロピル基、１−ヒドロキシ−１−メチルエチル基、２−ヒドロキシ−１−メチルエチル基、１−ヒドロキシブチル基、２−ヒドロキシブチル基、３−ヒドロキシブチル基、４−ヒドロキシブチル基等が挙げられる。
Ｒ^a及びＲ^bとしては、好ましくは水素原子、メチル基、ヒドロキシメチル基、１−ヒドロキシエチル基、２−ヒドロキシエチル基が挙げられ、より好ましくは水素原子、メチル基が挙げられる。

アルカンジイル基としては、メチレン基、エチレン基、プロパン−１，２−ジイル基、プロパン−１，３−ジイル基、ブタン−１，４−ジイル基、ペンタン−１，５−ジイル基、ヘキサン−１，６−ジイル基等が挙げられる。
Ｘ^a及びＸ^bとしては、好ましくは単結合、メチレン基、エチレン基、＊−ＣＨ₂−Ｏ−
及び＊−ＣＨ₂ＣＨ₂−Ｏ−が挙げられ、より好ましくは単結合、＊−ＣＨ₂ＣＨ₂−Ｏ−が挙げられる（＊はＯとの結合手を表す）。

式（ＢＩ）で表される化合物としては、式（ＢＩ−１）〜式（ＢＩ−１５）で表される化合物等が挙げられる。好ましくは式（ＢＩ−１）、式（ＢＩ−３）、式（ＢＩ−５）、式（ＢＩ−７）、式（ＢＩ−９）又は式（ＢＩ−１１）〜式（ＢＩ−１５）で表される化合物が挙げられる。より好ましくは式（ＢＩ−１）、式（ＢＩ−７）、式（ＢＩ−９）又は式（ＢＩ−１５）で表される化合物が挙げられる。

式（ＢＩＩ）で表される化合物としては、式（ＢＩＩ−１）〜式（ＢＩＩ−１５）で表される化合物等が挙げられる。好ましくは式（ＢＩＩ−１）、式（ＢＩＩ−３）、式（ＢＩＩ−５）、式（ＢＩＩ−７）、式（ＢＩＩ−９）又は式（ＢＩＩ−１１）〜式（ＢＩＩ−１５）で表される化合物が挙げられる。より好ましくは式（ＢＩＩ−１）、式（ＢＩＩ−７）、式（ＢＩＩ−９）又は式（ＢＩＩ−１５）で表される化合物が挙げられる。

式（ＢＩ）で表される化合物及び式（ＢＩＩ）で表される化合物は、それぞれ単独で用いても、式（ＢＩ）で表される化合物と式（ＢＩＩ）で表される化合物とを併用してもよい。これらを併用する場合、式（ＢＩ）で表される化合物及び式（ＢＩＩ）で表される化合物の含有比率はモル基準で、好ましくは５：９５〜９５：５、より好ましくは１０：９０〜９０：１０、さらに好ましくは２０：８０〜８０：２０である。

（ｂ２）としては、オキセタニル基と（メタ）アクリロイルオキシ基とを有する単量体がより好ましい。（ｂ２）としては、３−メチル−３−メタクリルロイルオキシメチルオキセタン、３−メチル−３−アクリロイルオキシメチルオキセタン、３−エチル−３−メタクリロイルオキシメチルオキセタン、３−エチル−３−アクリロイルオキシメチルオキセタン、３−メチル−３−メタクリロイルオキシエチルオキセタン、３−メチル−３−アクリロイルオキシエチルオキセタン、３−エチル−３−メタクリロイルオキシエチルオキセタン、３−エチル−３−アクリロイルオキシエチルオキセタン等が挙げられる。

（ｂ３）としては、テトラヒドロフリル基と（メタ）アクリロイルオキシ基とを有する単量体がより好ましい。（ｂ３）としては、具体的には、テトラヒドロフルフリルアクリレート（例えば、ビスコートＶ＃１５０、大阪有機化学工業（株）製）、テトラヒドロフルフリルメタクリレート等が挙げられる。

（ｂ）としては、得られるカラーフィルタの耐熱性、耐薬品性等の信頼性をより高くすることができる点で、（ｂ１）であることが好ましい。さらに、ネガ型レジスト組成物の保存安定性が優れるという点で、（ｂ１−２）がより好ましい。

（ｃ）としては、例えば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ｓｅｃ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔｅｒｔ−ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ドデシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、シクロペンチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、２−メチルシクロヘキシル（メタ）アクリレート、トリシクロ［５．２．１．０^2,6］デカン−８−イル（メタ）アクリレート（当該技術分野では、慣用名として「ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート」といわれている。また、「トリシクロデシル（メタ）アクリレート」という場合がある。）、トリシクロ［５．２．１．０^2,6］デセン−８−イル（メタ）アクリレート（当該技術分野では、慣用名として「ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート」といわれている。）、ジシクロペンタニルオキシエチル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、アダマンチル（メタ）アクリレート、アリル（メタ）アクリレート、プロパルギル（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、ナフチル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリル酸エステル類；
２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート等のヒドロキシ基含有（メタ）アクリル酸エステル類；
マレイン酸ジエチル、フマル酸ジエチル、イタコン酸ジエチル等のジカルボン酸ジエステル類；
ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−メチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−エチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−ヒドロキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−ヒドロキシメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−（２’−ヒドロキシエチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−メトキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−エトキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５，６−ジヒドロキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５，６−ジ（ヒドロキシメチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５，６−ジ（２’−ヒドロキシエチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５，６−ジメトキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５，６−ジエトキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−ヒドロキシ−５−メチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−ヒドロキシ−５−エチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−ヒドロキシメチル−５−メチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−シクロヘキシルオキシカルボニルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−フェノキシカルボニルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５，６−ビス（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５，６−ビス（シクロヘキシルオキシカルボニル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン等のビシクロ不飽和化合物類；
Ｎ−フェニルマレイミド、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド、Ｎ−ベンジルマレイミド、Ｎ−スクシンイミジル−３−マレイミドベンゾエート、Ｎ−スクシンイミジル−４−マレイミドブチレート、Ｎ−スクシンイミジル−６−マレイミドカプロエート、Ｎ−スクシンイミジル−３−マレイミドプロピオネート、Ｎ−（９−アクリジニル）マレイミド等のジカルボニルイミド誘導体類；
スチレン、α−メチルスチレン、ｍ−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレン、ビニルトルエン、ｐ−メトキシスチレン等のスチレン系モノマー；アクリロニトリル、メタクリロニトリル等のニトリル系モノマー；塩化ビニル、塩化ビニリデン等のハロゲン化ビニル類；アクリルアミド、メタクリルアミド等のアミド系モノマー；酢酸ビニル；１，３−ブタジエン、イソプレン、２，３−ジメチル−１，３−ブタジエン等のジエン系モノマー等が挙げられる。
これらのうち、共重合反応性及び耐熱性の点から、スチレン、ビニルトルエン、Ｎ−フェニルマレイミド、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド、Ｎ−ベンジルマレイミド、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン等が好ましい。

樹脂［Ｋ１］において、それぞれに由来する構造単位の比率は、樹脂［Ｋ１］を構成する全構造単位中、
（ａ）に由来する構造単位；２〜６０モル％
（ｂ）に由来する構造単位；４０〜９８モル％
であることが好ましく、
（ａ）に由来する構造単位；１０〜５０モル％
（ｂ）に由来する構造単位；５０〜９０モル％
であることがより好ましい。
樹脂［Ｋ１］の構造単位の比率が、前記の範囲にあると、ネガ型レジスト組成物の保存安定性、着色パターンを形成する際の現像性、及び得られるカラーフィルタの耐溶剤性に優れる傾向がある。

樹脂［Ｋ１］は、例えば、文献「高分子合成の実験法」（大津隆行著 発行所（株）化学同人 第１版第１刷 １９７２年３月１日発行）に記載された方法及び当該文献に記載された引用文献を参考にして製造することができる。

具体的には、（ａ）及び（ｂ）の所定量、重合開始剤及び溶剤等を反応容器中に入れて、例えば、窒素により酸素を置換することにより、脱酸素雰囲気にし、攪拌しながら、加熱及び保温する方法が挙げられる。なお、ここで用いられる重合開始剤及び溶剤等は、特に限定されず、当該分野で通常使用されているものを使用することができる。例えば、重合開始剤としては、アゾ化合物（２，２’−アゾビスイソブチロニトリル、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）等）や有機過酸化物（ベンゾイルペルオキシド等）が挙げられ、溶剤としては、各モノマーを溶解するものであればよく、本発明のネガ型レジスト組成物の溶剤（Ｂ）として後述する溶剤等が挙げられる。

なお、得られた共重合体は、反応後の溶液をそのまま使用してもよいし、濃縮あるいは希釈した溶液を使用してもよいし、再沈殿等の方法で固体（粉体）として取り出したものを使用してもよい。特に、この重合の際に溶剤として、本発明のネガ型レジスト組成物に含まれる溶剤を使用することにより、反応後の溶液をそのまま本発明のネガ型レジスト組成物の調製に使用することができるため、本発明のネガ型レジスト組成物の製造工程を簡略化することができる。

樹脂［Ｋ２］において、それぞれに由来する構造単位の比率は、樹脂［Ｋ２］を構成する全構造単位中、
（ａ）に由来する構造単位；２〜４５モル％
（ｂ）に由来する構造単位；２〜９５モル％
（ｃ）に由来する構造単位；１〜６５モル％
であることが好ましく、
（ａ）に由来する構造単位；５〜４０モル％
（ｂ）に由来する構造単位；５〜８０モル％
（ｃ）に由来する構造単位；５〜６０モル％
であることがより好ましい。
樹脂［Ｋ２］の構造単位の比率が、前記の範囲にあると、ネガ型レジスト組成物の保存安定性、着色パターンを形成する際の現像性、並びに、得られるカラーフィルタの耐溶剤性、耐熱性及び機械強度に優れる傾向がある。

樹脂［Ｋ２］は、例えば、樹脂［Ｋ１］の製造方法として記載した方法と同様に製造することができる。

樹脂［Ｋ３］において、それぞれに由来する構造単位の比率は、樹脂［Ｋ３］を構成する全構造単位中、
（ａ）に由来する構造単位；２〜６０モル％
（ｃ）に由来する構造単位；４０〜９８モル％
であることが好ましく、
（ａ）に由来する構造単位；１０〜５０モル％
（ｃ）に由来する構造単位；５０〜９０モル％
であることがより好ましい。
樹脂［Ｋ３］は、例えば、樹脂［Ｋ１］の製造方法として記載した方法と同様に製造することができる。

樹脂［Ｋ４］は、（ａ）と（ｃ）との共重合体を得て、（ｂ）が有する炭素数２〜４の環状エーテルを（ａ）が有するカルボン酸及び／又はカルボン酸無水物に付加させることにより製造することができる。
まず（ａ）と（ｃ）との共重合体を、樹脂［Ｋ１］の製造方法として記載した方法と同様に製造する。この場合、それぞれに由来する構造単位の比率は、樹脂［Ｋ３］で挙げたものと同じ比率であることが好ましい。

次に、前記共重合体中の（ａ）に由来するカルボン酸及び／又はカルボン酸無水物の一部に、（ｂ）が有する炭素数２〜４の環状エーテルを反応させる。
（ａ）と（ｃ）との共重合体の製造に引き続き、フラスコ内雰囲気を窒素から空気に置換し、（ｂ）カルボン酸又はカルボン酸無水物と環状エーテルとの反応触媒（例えばトリス（ジメチルアミノメチル）フェノール等）及び重合禁止剤（例えばハイドロキノン等）等をフラスコ内に入れて、例えば、６０〜１３０℃で、１〜１０時間反応することにより、樹脂［Ｋ４］を製造することができる。
（ｂ）の使用量は、（ａ）１００モルに対して、５〜８０モルが好ましく、より好ましくは１０〜７５モルである。この範囲にすることにより、ネガ型レジスト組成物の保存安定性、パターンを形成する際の現像性、並びに、得られるパターンの耐溶剤性、耐熱性、機械強度及び感度のバランスが良好になる傾向がある。環状エーテルの反応性が高く、未反応の（ｂ）が残存しにくいことから、樹脂［Ｋ４］に用いる（ｂ）としては（ｂ１）が好ましく、さらに（ｂ１−１）が好ましい。
前記反応触媒の使用量は、（ａ）、（ｂ）及び（ｃ）の合計量１００質量部に対して０．００１〜５質量部が好ましい。前記重合禁止剤の使用量は、（ａ）、（ｂ）及び（ｃ）の合計量１００質量部に対して０．００１〜５質量部が好ましい。
仕込方法、反応温度及び時間等の反応条件は、製造設備や重合による発熱量等を考慮して適宜調整することができる。なお、重合条件と同様に、製造設備や重合による発熱量等を考慮し、仕込方法や反応温度を適宜調整することができる。

樹脂［Ｋ５］は、第一段階として、上述した樹脂［Ｋ１］の製造方法と同様にして、（ｂ）と（ｃ）との共重合体を得る。前記と同様に、得られた共重合体は、反応後の溶液をそのまま使用してもよいし、濃縮あるいは希釈した溶液を使用してもよいし、再沈殿等の方法で固体（粉体）として取り出したものを使用してもよい。
（ｂ）及び（ｃ）に由来する構造単位の比率は、前記の共重合体を構成する全構造単位の合計モル数に対して、それぞれ、
（ｂ）に由来する構造単位；５〜９５モル％
（ｃ）に由来する構造単位；５〜９５モル％
であることが好ましく、
（ｂ）に由来する構造単位；１０〜９０モル％
（ｃ）に由来する構造単位；１０〜９０モル％
であることがより好ましい。

さらに、樹脂［Ｋ４］の製造方法と同様の条件で、（ｂ）と（ｃ）との共重合体が有する（ｂ）に由来する環状エーテルに、（ａ）が有するカルボン酸又はカルボン酸無水物を反応させることにより、樹脂［Ｋ５］を得ることができる。
前記の共重合体に反応させる（ａ）の使用量は、（ｂ）１００モルに対して、５〜８０モルが好ましい。環状エーテルの反応性が高く、未反応の（ｂ）が残存しにくいことから、樹脂［Ｋ５］に用いる（ｂ）としては（ｂ１）が好ましく、さらに（ｂ１−１）が好ましい。

樹脂［Ｋ６］は、樹脂［Ｋ５］に、さらにカルボン酸無水物を反応させることにより得られる樹脂である。
環状エーテルとカルボン酸又はカルボン酸無水物との反応により発生するヒドロキシ基に、カルボン酸無水物を反応させる。
カルボン酸無水物としては、無水コハク酸、無水マレイン酸、シトラコン酸無水物、イタコン酸無水物、３−ビニルフタル酸無水物、４−ビニルフタル酸無水物、３，４，５，６−テトラヒドロフタル酸無水物、１，２，３，６−テトラヒドロフタル酸無水物、ジメチルテトラヒドロフタル酸無水物、５，６−ジカルボキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン無水物（ハイミック酸無水物）等が挙げられる。カルボン酸無水物の使用量は、（ａ）の使用量１モルに対して、０．５〜１モルが好ましい。

樹脂（Ｃ）としては、具体的に、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル（メタ）アクリレート／（メタ）アクリル酸共重合体、３，４−エポキシトリシクロ［５．２．１．０^2,6］デシルアクリレート／（メタ）アクリル酸共重合体等の樹脂［Ｋ１］；グリシジル
（メタ）アクリレート／ベンジル（メタ）アクリレート／（メタ）アクリル酸共重合体、グリシジル（メタ）アクリレート／スチレン／（メタ）アクリル酸共重合体、３，４−エポキシトリシクロ［５．２．１．０^2,6］デシルアクリレート／（メタ）アクリル酸／Ｎ
−シクロヘキシルマレイミド共重合体、３，４−エポキシトリシクロ［５．２．１．０^2,6］デシルアクリレート／（メタ）アクリル酸／スチレン系モノマー共重合体、３−メチ
ル−３−（メタ）アクリルロイルオキシメチルオキセタン／（メタ）アクリル酸／スチレン共重合体等の樹脂［Ｋ２］；ベンジル（メタ）アクリレート／（メタ）アクリル酸共重合体、スチレン／（メタ）アクリル酸共重合体等の樹脂［Ｋ３］；ベンジル（メタ）アクリレート／（メタ）アクリル酸共重合体にグリシジル（メタ）アクリレートを付加させた樹脂、トリシクロデシル（メタ）アクリレート／スチレン／（メタ）アクリル酸共重合体にグリシジル（メタ）アクリレートを付加させた樹脂、トリシクロデシル（メタ）アクリレート／ベンジル（メタ）アクリレート／（メタ）アクリル酸共重合体にグリシジル（メタ）アクリレートを付加させた樹脂等の樹脂［Ｋ４］；トリシクロデシル（メタ）アクリレート／グリシジル（メタ）アクリレートの共重合体に（メタ）アクリル酸を反応させた樹脂、トリシクロデシル（メタ）アクリレート／スチレン／グリシジル（メタ）アクリレートの共重合体に（メタ）アクリル酸を反応させた樹脂等の樹脂［Ｋ５］；トリシクロデシル（メタ）アクリレート／グリシジル（メタ）アクリレートの共重合体に（メタ）アクリル酸を反応させた樹脂にさらにテトラヒドロフタル酸無水物を反応させた樹脂等の樹脂［Ｋ６］等が挙げられる。
中でも、樹脂（Ｃ）としては、樹脂［Ｋ１］及び／又は樹脂［Ｋ２］が好ましい。

樹脂（Ｃ）のポリスチレン換算の重量平均分子量は、好ましくは３，０００〜１００，０００であり、より好ましくは５，０００〜５０，０００であり、さらに好ましくは５，０００〜３０，０００である。樹脂（Ｃ）の分子量分布［重量平均分子量（Ｍｗ）／数平均分子量（Ｍｎ）］は、好ましくは１．１〜６であり、より好ましくは１．２〜４である。

樹脂（Ｃ）の酸価は、好ましくは５０〜１７０ｍｇＫＯＨ／ｇであり、より好ましくは６０〜１５０ｍｇＫＯＨ／ｇであり、さらに好ましくは７０〜１３５ｍｇＫＯＨ／ｇである。ここで酸価は樹脂１ｇを中和するに必要な水酸化カリウムの量（ｍｇ）として測定される値であり、例えば水酸化カリウム水溶液を用いて滴定することにより求めることができる。

＜分散剤（Ｄ）＞
本発明のネガ型レジスト組成物は、分散剤（Ｄ）をさらに含むことが好ましい。分散剤（Ｄ）としては、着色剤の分散に用いられるものであれば、アミン基を有し、アミン価が０〜５５ｍｇＫＯＨ／ｇ（好ましくは２〜４０ｍｇＫＯＨ／ｇ）であれば特に限定されず、例えば高分子分散剤が挙げられる。

前記高分子分散剤としては、アクリル系分散剤、ウレタン系分散剤等が挙げられる。

前記アクリル系分散剤としては、例えば、アクリル系ブロック共重合体が挙げられ、アクリル系ブロック共重合体としては、着色剤吸着基（染料吸着基ともいう）として塩基性基を含む着色剤吸着ブロックにさらに着色剤吸着基として酸基を含む着色剤吸着ブロックと、着色剤吸着基を含まないブロックとを有するブロック共重合体を使用することが好ましい。

前記着色剤吸着基として、塩基性基を含む着色剤吸着ブロックにさらに酸基を含む着色剤吸着ブロックとしては、塩基性基を有する単量体と共に酸性基を有する単量体を用いることにより構成されるものを挙げることができる。

前記塩基性基を有する単量体としては、１級アミノ基、２級アミノ基、３級アミノ基又は４級アンモニウム基を有する単量体であって、
具体的には、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド、ジエチルアクリルアミド、ジメチルアミノプロピルメタクリルアミド、アクリロイルモルホリン、ビニルイミダゾール、２−ビニルピリジン、アミノ基とカプロラクトン骨格を有する単量体、グリシジル（メタ）アクリレート等のグリシジル基を有する単量体と分子中に１個の２級アミノ基を有する化合物との反応物、（メタ）アクリロイルアルキルイソシアネート化合物と４−（２−アミノメチル）−ピリジン、４−（２−アミノエチル）−ピリジン、４−（２−ヒドロキシエチル）ピリジン、１−（２−アミノエチル）−ピペラジン、２−アミノ−６−メトキシベンゾチアゾール、１−（２−ヒドロキシエチルイミダゾール）、Ｎ，Ｎ−ジアリルメラミン、Ｎ，Ｎ−ジメチル−１，３−プロパンジアミンとの反応物等が挙げられる。

前記酸性基を有する単量体としては、カルボキシ基、スルホン酸基、リン酸基を有する単量体であって、具体的には、カルボキシ基を有する単量体として、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸等の不飽和モノカルボン酸化合物、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸等の不飽和ジカルボン酸化合物及びそのハーフエステル等、スルホン酸基を有する単量体として、２−アクリルアミド−２−メチル−１−プロパンスルホン酸、２−メタクリルアミド−２−メチル−１−プロパンスルホン酸、スチレンスルホン酸等、リン酸基を有する単量体として、アシッドホスホニル（メタ）アクリレート、アシッドホスホニルエチル（メタ）アクリレート等が挙げられる。

前記着色剤吸着基を含まないブロックの構成成分としては、スチレン、α−メチルスチレン、ビニルトルエン、塩化ベンジル等の芳香族ビニル化合物、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート等の不飽和カルボン酸アルキルエステル、ベンジル（メタ）アクリレート等の不飽和カルボン酸アリールアルキルエステル、ポリカプロラクトン含有単量体、ポリアルキレングリコールモノエステル系単量体等が例示できる。前記アクリル系ブロック共重合体は、リビングアニオン重合等により得ることができ、従来公知の重合方法を用いることができる。

前記アクリル系ブロック共重合体のアミン価は０〜５５ｍｇＫＯＨ／ｇであり、好ましくは０〜５０ｍｇＫＯＨ／ｇであり、より好ましくは２〜４０ｍｇＫＯＨ／ｇである。なお、アミン価はアクリル系ブロック共重合体の固形分１ｇあたりのアミン価を意味し、０．１ｍｏｌ／Ｌの塩酸水溶液を用い、電位差滴定法（例えば、ＣＯＭＴＩＴＥ（ＡＵＴＯＴＩＴＲＡＴＯＲ ＣＯＭ−９００、ＢＵＲＥＴ Ｂ−９００、ＴＩＴＳＴＡＴＩＯＮＫ−９００）、平沼産業社製）によって測定した後、水酸化カリウムの当量に換算した値をいう。

前記アクリル系ブロック共重合体の市販品としては、ビックケミー・ジャパン社製の「Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ（登録商標）−１１２（アミン価３６ｍｇＫＯＨ／ｇ）」、「Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ（登録商標）−２０００（アミン価４ｍｇＫＯＨ／ｇ）」、「Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−２００１（アミン価２９ｍｇＫＯＨ／ｇ）」、「Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ（登録商標）−２０２０（アミン価３８ｍｇＫＯＨ／ｇ）」、「Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ（登録商標）−２０５０（アミン価３０ｍｇＫＯＨ／ｇ）」、「Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ（登録商標）−２０７０（アミン価２０ｍｇＫＯＨ／ｇ）」等を挙げることができる。

前記ウレタン系分散剤としては、ポリイソシアネート化合物のイソシアネート基に、分子内にヒドロキシ基を１個以上有する数平均分子量３００〜１０，０００の化合物及び分子内にイソシアネート基と反応可能な官能基を有する塩基性基含有化合物を反応させて得られたものが利用できる。このようなウレタン系分散剤を得る方法としては、特開昭６０−１６６３１８号公報に記載されている方法等が利用できる。

前記ウレタン系分散剤を構成するポリイソシアネート化合物としては、２つ以上のイソシアネート基を有するイソシアネート化合物を挙げることができ、例えば、２，４−トリレンジイソシアネート、２，４−トリレンジイソシアネートの２量体、２，６−トリレンジイソシアネート、ｐ−キシレンジイソシアネート、ｍ−キシレンジイソシアネート、４，４′−ジフェニルメタンジイソシアネート、１，５−ナフチレンジイソシアネート、３，３′−ジメチルビフェニル−４，４′−ジイソシアネート等の芳香族ジイソシアネート化合物；ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、４，４′−メチレンビス（シクロヘキシルイソシアネート）、メチルシクロヘキサン−２，４（又は２，６）ジイソシアネート、１，３−（イソシアネートメチレン）シクロヘキサン等の脂肪族や脂環式ポリイソシアネート；前記ジイソシアネートをもとにしたイソシアヌル基を有するポリイソシアネート（前記ジイソシアネートが３量化して形成するイソシアヌル基を有するポリイソシアネート等）、ポリオールにジイソアネートを反応させて得られるポリイソシアネート、ジイソシアネート化合物のビウレット反応によって得られるポリイソシアネート等が挙げられる。前記ポリイソシアネート化合物のなかでも、例えば、トリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート等のジイソシアネートをもとにしたイソシアヌル基を有するポリイソシアネートが好ましい。

前記ウレタン系分散剤を構成する分子内にヒドロキシ基を１個以上有する化合物としては、例えば、ポリエーテル化合物、ポリエステル化合物等を挙げることができる。
上記ポリエーテル化合物としては、例えば、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリブチレングリコール、ポリテトラメチレングリコール等のポリアルキレングリコール類；エチレングリコール、プロパンジオール、プロピレングリコール、テトラメチレングリコール、ペンタメチレングリコール、ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、グリセリン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ジグリセリン、ジトリメチロールプロパン、ジペンタエリスリトール等のアルキレングリコール類、メタノール、エタノール等の低分子モノオール類の、エチレンオキシド変性物、プロピレンオキシド変性物、ブチレンオキシド変性物、テトラヒドロフラン変性物等が挙げられる。

上記ポリエステル化合物としては、例えば、エチレングリコール、プロパンジオール、プロピレングリコール、テトラメチレングリコール、ペンタメチレングリコール、ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、グリセリン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ジグリセリン、ジトリメチロールプロパン、ジペンタエリスリトール等のアルキレングリコール類、メタノール、エタノール等の低分子モノオール類の、ε−カプロラクトン変性物、γ−ブチロラクトン変性物、δ−バレロラクトン変性物、メチルバレロラクトン変性物；アジピン酸やダイマー酸等の脂肪族ジカルボン酸と、ネオペンチルグリコールやメチルペンタンジオール等のポリオールとのエステル化物である脂肪族ポリエステルポリオール；テレフタル酸等の芳香族ジカルボン酸と、ネオペンチルグリコール等のポリオールとのエステル化物である芳香族ポリエステルポリオール等のポリエステルポリオール；ポリカーボネートポリオール、アクリルポリオール、ポリテトラメチレンヘキサグリセリルエーテル（ヘキサグリセリンのテトラヒドロフラン変性物）等の多価ヒドロキシ基化合物と、フマル酸、フタル酸、イソフタル酸、イタコン酸、アジピン酸、セバシン酸、マレイン酸等のジカルボン酸とのエステル化物；グリセリン等の多価ヒドロキシ基含有化合物と脂肪酸エステルとのエステル交換反応により得られるモノグリセリド等の多価ヒドロキシ基含有化合物、等が挙げられる。上記分子内にヒドロキシ基を１個以上有する化合物のなかでも、アルコール類のε−カプロラクトン付加物が好ましい。

上記分子内にヒドロキシ基を１個以上有する化合物の数平均分子量は、３００〜１０，０００、好ましくは、３００〜６，０００である。なお、数平均分子量、重量平均分子量はカラムクロマトグラフィー法によって測定することができる。

上記ウレタン系分散剤を構成する分子内にイソシアネート基と反応可能な官能基を有する塩基性基含有化合物としては特に限定されないが、Ｎ，Ｎ−ジ置換アミノ基又は複素環窒素原子を有するポリオール、ポリチオール及びアミン類からなる群から選択される少なくとも一種の化合物であることが好ましい。これらの化合物としては、分散剤の技術分野で公知慣用に用いられている化合物を使用することができる。これらの化合物は、ツェレビチノフの活性水素原子と少なくとも１個の窒素原子含有塩基性基を有するものである。そのような化合物としては、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチル−１，３−プロパンジアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチル−１，４−ブタンジアミン、２−ジメチルアミノエタノール、１−（２−アミノエチル）−ピペラジン、２−（１−ピロリジル）−エチルアミン、４−アミノ−２−メトキシピリミジン、４−（２−アミノエチル）−ピリジン、１−（２−ヒドロキシエチル）−ピペラジン、４−（２−ヒドロキシエチル）−モルフォリン、２−メルカプトピリミジン、２−メルカプトベンゾイミダゾール、２−アミノ−６−メトキシベンゾチアゾール、Ｎ，Ｎ−ジアリル−メラミン、３−アミノ−１，２，４−トリアゾール、１−（２−ヒドロキシエチル）−イミダゾール、３−メルカプト−１，２，４−トリアゾール、等が挙げられる。なかでも、複素環窒素原子を有するアミン類が好ましい。

上記ウレタン系分散剤の合成における反応としては特に限定されず、従来公知の方法により行うことができる。また、上記ウレタン系分散剤のアミン価も０〜５５ｍｇＫＯＨ／ｇであり、好ましくは５〜４０ｍｇＫＯＨ／ｇである。

また、前記ウレタン系分散剤の市販品としては、Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−１６１（アミン価１１ｍｇＫＯＨ／ｇ、ビックケミー社製）、Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−１６２（アミン価１３ｍｇＫＯＨ／ｇビックケミー社製）、Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−１６７（アミン価１３ｍｇＫＯＨ／ｇ、ビックケミー社製）、Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−１８２（アミン価１３ｍｇＫＯＨ／ｇ、ビックケミー社製）等を挙げることができる。

分散剤として、前記アクリル系分散剤が好ましい。

本発明のネガ型レジスト組成物は、さらに重合性化合物（Ｅ）及び重合開始剤（Ｆ）を含むことが好ましい。これにより露光時等における硬化性が発揮される。

＜重合性化合物（Ｅ）＞
重合性化合物（Ｅ）は、後述する重合開始剤（Ｆ）から発生した活性ラジカル及び酸等によって重合しうる化合物であって、例えば、重合性のエチレン性不飽和結合を有する化合物等が挙げられ、好ましくは（メタ）アクリル酸エステル化合物が挙げられる。

中でも、重合性化合物（Ｅ）としては、エチレン性不飽和結合を３つ以上（好ましくは４〜１０、さらに好ましくは５〜８）有する重合性化合物が好ましく、さらには３つ以上（好ましくは４〜１０、さらに好ましくは５〜８）のＯＨ基を有するアルコール（例えば、ペンタエリスリトール、その縮合物、又はそれらの変性物）と（メタ）アクリル酸とのエステルが好ましい。このような重合性化合物としては、例えば、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールオクタ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールヘプタ（メタ）アクリレート、テトラペンタエリスリトールデカ（メタ）アクリレート、テトラペンタエリスリトールノナ（メタ）アクリレート、トリス（２−（メタ）アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、エチレングリコール変性ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、エチレングリコール変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、プロピレングリコール変性ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、プロピレングリコール変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等が挙げられる。中でも、好ましくは、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等が挙げられる。

重合性化合物（Ｅ）の重量平均分子量は、好ましくは１５０以上、２，９００以下、より好ましくは２５０以上、１，５００以下である。

重合性化合物（Ｅ）の含有量は、ネガ型レジスト組成物の固形分に対して、７〜６５質量％であることが好ましく、より好ましくは１３〜６０質量％であり、さらに好ましくは１７〜５５質量％である。前記の重合性化合物（Ｅ）の含有量が、前記の範囲内にあると、硬化が十分におこり、現像での残膜率が向上し、着色パターンにアンダーカットが入りにくくなって密着性が良好になる傾向があることから好ましい。

＜重合開始剤（Ｆ）＞
前記重合開始剤（Ｆ）としては、光や熱の作用により活性ラジカル、酸等を発生し、重合を開始しうる化合物であれば特に限定されることなく、公知の重合開始剤を用いることができる。

重合開始剤（Ｆ）としては、光の作用により活性ラジカルを発生する化合物が好ましく、アルキルフェノン化合物、トリアジン化合物、アシルホスフィンオキサイド化合物、オキシム化合物及びビイミダゾール化合物がより好ましい。

前記アルキルフェノン化合物は、式（ｄ２）で表される部分構造又は式（ｄ３）で表される部分構造を有する化合物である。これらの部分構造中、ベンゼン環は置換基を有していてもよい。式中、＊は結合手を表す。

式（ｄ２）で表される部分構造を有する化合物としては、例えば、２−メチル−２−モルホリノ−１−（４−メチルスルファニルフェニル）プロパン−１−オン、２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−２−ベンジルブタン−１−オン、２−（ジメチルアミノ）−２−［（４−メチルフェニル）メチル］−１−［４−（４−モルホリニル）フェニル］ブタン−１−オン等が挙げられる。イルガキュア（登録商標）３６９、９０７及び３７９（以上、ＢＡＳＦ社製）等の市販品を用いてもよい。
式（ｄ３）で表される部分構造を有する化合物としては、例えば、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−〔４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル〕プロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−（４−イソプロペニルフェニル）プロパン−１−オンのオリゴマー、α，α−ジエトキシアセトフェノン、ベンジルジメチルケタール等が挙げられる。
感度の点で、前記アルキルフェノン化合物としては、式（ｄ２）で表される部分構造を有する化合物が好ましく、２−メチル−２−モルホリノ−１−（４−メチルスルファニルフェニル）プロパン−１−オン及び２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−２−ベンジルブタン−１−オンがより好ましい。

前記トリアジン化合物としては、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−（４−メトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−（４−メトキシナフチル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−ピペロニル−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−(４−メトキシスチリル)−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−〔２−（５−メチルフラン−２−イル）エテニル〕−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−〔２−（フラン−２−イル）エテニル〕−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−〔２−（４−ジエチルアミノ−２−メチルフェニル）エテニル〕−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−〔２−（３，４−ジメトキシフェニル）エテニル〕−１，３，５−トリアジン等が挙げられる。

前記アシルホスフィンオキサイド化合物としては、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド等が挙げられる。イルガキュア（登録商標）８１９（ＢＡＳＦ社製）等の市販品を用いてもよい。

前記オキシム化合物は、式（ｄ１）で表される部分構造を有する化合物である。以下、＊は結合手を表す。

前記オキシム化合物としては、Ｎ−ベンゾイルオキシ−１−（４−フェニルスルファニルフェニル）ブタン−１−オン−２−イミン、Ｎ−ベンゾイルオキシ−１−（４−フェニルスルファニルフェニル）オクタン−１−オン−２−イミン、Ｎ−ベンゾイルオキシ−１−（４−フェニルスルファニルフェニル）−３−シクロペンチルプロパン−１−オン−２−イミン、Ｎ−アセトキシ−１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］エタン−１−イミン、Ｎ−アセトキシ−１−［９−エチル−６−｛２−メチル−４−（３，３−ジメチル−２，４−ジオキサシクロペンタニルメチルオキシ）ベンゾイル｝−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］エタン−１−イミン、Ｎ−アセトキシ−１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］−３−シクロペンチルプロパン−１−イミン、Ｎ−ベンゾイルオキシ−１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］−３−シクロペンチルプロパン−１−オン−２−イミン等が挙げられる。イルガキュア（登録商標）ＯＸＥ０１、ＯＸＥ０２（以上、ＢＡＳＦ社製）、Ｎ−１９１９（ＡＤＥＫＡ社製）等の市販品を用いてもよい。中でも、Ｎ−ベンゾイルオキシ−１−（４−フェニルスルファニルフェニル）ブタン−１−オン−２−イミン、Ｎ−ベンゾイルオキシ−１−（４−フェニルスルファニルフェニル）オクタン−１−オン−２−イミン及びＮ−ベンゾイルオキシ−１−（４−フェニルスルファニルフェニル）−３−シクロペンチルプロパン−１−オン−２−イミンが好ましい。これらのオキシム化合物であると、本発明のネガ型レジスト組成物を青色ネガ型レジスト組成物として調製する場合に、得られるカラーフィルタの明度が高くなる傾向がある。

前記ビイミダゾール化合物としては、２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（２，３−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール（例えば、特開平６−７５３７２号公報、特開平６−７５３７３号公報等参照。）、２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ（アルコキシフェニル）ビイミダゾール、２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ（ジアルコキシフェニル）ビイミダゾール、２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ（トリアルコキシフェニル）ビイミダゾール（例えば、特公昭４８−３８４０３号公報、特開昭６２−１７４２０４号公報等参照。）、４，４’５，５’−位のフェニル基がカルボアルコキシ基により置換されているイミダゾール化合物（例えば、特開平７−１０９１３号公報等参照。）等が挙げられる。好ましくは２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（２、３−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（２、４−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾールが挙げられる。

さらに重合開始剤（Ｆ）としては、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル等のベンゾイン化合物；ベンゾフェノン、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチル、４−フェニルベンゾフェノン、４−ベンゾイル−４’−メチルジフェニルサルファイド、３，３’，４，４’−テトラ（ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、２，４，６−トリメチルベンゾフェノン等のベンゾフェノン化合物；９，１０−フェナンスレンキノン、２−エチルアントラキノン、カンファーキノン等のキノン化合物；１０−ブチル−２−クロロアクリドン、ベンジル、フェニルグリオキシル酸メチル、チタノセン化合物等が挙げられる。これらは、後述の重合開始助剤（Ｆ１）（特にアミン類）と組み合わせて用いることが好ましい。

光により酸を発生する酸発生剤としては、例えば、４−ヒドロキシフェニルジメチルスルホニウムｐ−トルエンスルホナート、４−ヒドロキシフェニルジメチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、４−アセトキシフェニルジメチルスルホニウムｐ−トルエンスルホナート、４−アセトキシフェニル・メチル・ベンジルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、トリフェニルスルホニウムｐ−トルエンスルホナート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジフェニルヨードニウムｐ−トルエンスルホナート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート等のオニウム塩類や、ニトロベンジルトシレート類、ベンゾイントシレート類等を挙げることができる。

重合開始剤（Ｆ）の含有量は、本発明のネガ型レジスト組成物中の樹脂（Ｃ）（後述する樹脂（Ｃ’）を含む場合、樹脂（Ｃ’）も含めるものとする。）及び重合性化合物（Ｅ）の合計量１００質量部に対して、好ましくは０．１〜３０質量部であり、より好ましくは１〜２０質量部である。光重合開始剤の含有量が、前記の範囲内にあると、高感度化して露光時間が短縮され生産性が向上する。

本発明のネガ型レジスト組成物は、重合開始助剤（Ｆ１）及びレベリング剤（Ｇ）からなる群から選ばれる少なくとも一種をさらに含んでもよい。

＜重合開始助剤（Ｆ１）＞
本発明のネガ型レジスト組成物は、さらに重合開始助剤（Ｆ１）を含んでいてもよい。重合開始助剤（Ｆ１）は、重合開始剤によって重合が開始された重合性化合物の重合を促進するために用いられる化合物、もしくは増感剤であり、通常、重合開始剤（Ｆ）と組み合わせて用いられる。

重合開始助剤（Ｆ１）としては、アミン化合物、アルコキシアントラセン化合物、チオキサントン化合物、カルボン酸化合物等が挙げられる。

アミン化合物としては、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン、トリイソプロパノールアミン、４−ジメチルアミノ安息香酸メチル、４−ジメチルアミノ安息香酸エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、安息香酸２−ジメチルアミノエチル、４−ジメチルアミノ安息香酸２−エチルヘキシル、Ｎ，Ｎ−ジメチルパラトルイジン、４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン（通称ミヒラーズケトン）、４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４’−ビス（エチルメチルアミノ）ベンゾフェノン等が挙げられ、中でも４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノンが好ましい。ＥＡＢ−Ｆ（保土谷化学工業（株）製）等の市販品を用いてもよい。

前記アルコキシアントラセン化合物としては、９，１０−ジメトキシアントラセン、２−エチル−９，１０−ジメトキシアントラセン、９，１０−ジエトキシアントラセン、２−エチル−９，１０−ジエトキシアントラセン、９，１０−ジブトキシアントラセン、２−エチル−９，１０−ジブトキシアントラセン等が挙げられる。

前記チオキサントン化合物としては、２−イソプロピルチオキサントン、４−イソプロピルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２，４−ジクロロチオキサントン、１−クロロ−４−プロポキシチオキサントン等が挙げられる。

前記カルボン酸化合物としては、フェニルスルファニル酢酸、メチルフェニルスルファニル酢酸、エチルフェニルスルファニル酢酸、メチルエチルフェニルスルファニル酢酸、ジメチルフェニルスルファニル酢酸、メトキシフェニルスルファニル酢酸、ジメトキシフェニルスルファニル酢酸、クロロフェニルスルファニル酢酸、ジクロロフェニルスルファニル酢酸、Ｎ−フェニルグリシン、フェノキシ酢酸、ナフチルチオ酢酸、Ｎ−ナフチルグリシン、ナフトキシ酢酸等が挙げられる。

重合開始助剤（Ｆ１）を用いる場合、その使用量は、本発明のネガ型レジスト組成物中の樹脂（Ｃ）（後述する樹脂（Ｃ’）を含む場合、樹脂（Ｃ’）も含めるものとする。）及び重合性化合物（Ｅ）の合計量１００質量部に対して、好ましくは０．１〜３０質量部、より好ましくは１〜２０質量部である。重合開始助剤（Ｆ１）の量がこの範囲内にあると、さらに高感度でパターンを形成することができ、パターンの生産性が向上する傾向にある。

＜レベリング剤（Ｇ）＞
レベリング剤（Ｇ）としては、シリコーン系界面活性剤、フッ素系界面活性剤及びフッ素原子を有するシリコーン系界面活性剤等が挙げられる。これらは、側鎖に重合性基を有していてもよい。

シリコーン系界面活性剤としては、シロキサン結合を有する界面活性剤等が挙げられる。具体的には、トーレシリコーン（商品名）ＤＣ３ＰＡ、同ＳＨ７ＰＡ、同ＤＣ１１ＰＡ、同ＳＨ２１ＰＡ、同ＳＨ２８ＰＡ、同ＳＨ２９ＰＡ、同ＳＨ３０ＰＡ、同８４００（東レ・ダウコーニング（株）製）、ＫＰ３２１、ＫＰ３２２、ＫＰ３２３、ＫＰ３２４、ＫＰ３２６、ＫＰ３４０、ＫＰ３４１（信越化学工業（株）製）、ＴＳＦ４００、ＴＳＦ４０１、ＴＳＦ４１０、ＴＳＦ４３００、ＴＳＦ４４４０、ＴＳＦ４４４５、ＴＳＦ４４４６、ＴＳＦ４４５２、ＴＳＦ４４６０（モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社製）等が挙げられる。

前記のフッ素系界面活性剤としては、フルオロカーボン鎖を有する界面活性剤等が挙げられる。具体的には、フロラード（登録商標）ＦＣ４３０、同ＦＣ４３１（住友スリーエム（株）製）、メガファック（登録商標）Ｆ１４２Ｄ、同Ｆ１７１、同Ｆ１７２、同Ｆ１７３、同Ｆ１７７、同Ｆ１８３、同Ｆ５５４、同Ｒ３０、同ＲＳ−７１８−Ｋ（ＤＩＣ（株）製）、エフトップ（登録商標）ＥＦ３０１、同ＥＦ３０３、同ＥＦ３５１、同ＥＦ３５２（三菱マテリアル電子化成（株）製）、サーフロン（登録商標）Ｓ３８１、同Ｓ３８２、同ＳＣ１０１、同ＳＣ１０５（旭硝子（株）製）、Ｅ５８４４（（株）ダイキンファインケミカル研究所製）等が挙げられる。

前記のフッ素原子を有するシリコーン系界面活性剤としては、シロキサン結合及びフルオロカーボン鎖を有する界面活性剤等が挙げられる。具体的には、メガファック（登録商標）Ｒ０８、同ＢＬ２０、同Ｆ４７５、同Ｆ４７７、同Ｆ４４３（ＤＩＣ（株）製）等が挙げられる。

レベリング剤（Ｇ）の含有量は、本発明のネガ型レジスト組成物の総量に対して、好ましくは０．００１質量％以上０.２質量％以下であり、好ましくは０.００２質量％以上０．１質量％以下、より好ましくは０．００５質量％以上０．０５質量％以下である。レベリング剤（Ｇ）の含有量が前記の範囲内にあると、カラーフィルタの平坦性を良好にすることができる。

＜その他の成分＞
本発明のネガ型レジスト組成物は、必要に応じて、充填剤、他の高分子化合物、密着促進剤、酸化防止剤、光安定剤、連鎖移動剤等、当該技術分野で公知の種々の添加剤（以下「その他の成分」という）を含んでもよい。

＜ネガ型レジスト組成物の製造方法＞
ネガ型レジスト組成物は、例えば着色剤（Ａ）と樹脂（Ｃ）を分散剤（Ｄ）を含む溶剤（Ｂ）中で分散処理することにより着色剤分散液を得た後、必要に応じて重合性化合物（Ｅ）、重合開始剤（Ｆ）、レベリング剤（Ｇ）等を混合させることによりネガ型レジスト組成物を得ることができる。

分散処理とは、着色剤（Ａ）や樹脂（Ｃ）等の粒子が分散状態になるまで混合することをいう。この分散処理により、粒子は小さく粉砕される。また、分散状態とは、混合液中で、粒子が溶剤（Ｂ）の中に浮かんだ状態のことをいう。

着色剤分散液中の着色剤（Ａ）の含有量は、着色剤分散液の総量に対して、２質量％以上が好ましく、より好ましくは５質量％以上であり、３０質量％以下が好ましく、２０質量％以下がより好ましい。

また、溶剤（Ｂ）の含有量は、着色剤分散液の総量に対して、６０質量％以上が好ましく、より好ましくは７５質量％以上であり、９３質量％以下が好ましく、９０質量％以下がより好ましく、最も好ましくは８５質量％以下である。

着色剤分散液が樹脂（Ｃ）を含む場合、樹脂（Ｃ）の含有量は、着色剤分散液の総量に対して、１質量％以上が好ましく、より好ましくは２質量％以上であり、１５質量％以下が好ましく、より好ましくは７質量％以下である。樹脂（Ｃ）の含有量が、前記の範囲内にあると、分散状態が安定になる傾向がある。

着色剤分散液中の分散剤（Ｄ）の含有量は、着色剤分散液の総量に対して、１質量％以上が好ましく、より好ましくは２質量％以下であり、２０質量％以下が好ましく、より好ましくは１０質量％以下である。分散剤（Ｄ）の含有量が、前記の範囲内にあると、分散状態が安定になる傾向がある。

着色剤（Ａ）を溶剤（Ｂ）に分散させる際、並びに混合物を分散させる際の温度は、１２０℃以下が好ましく、より好ましくは７０℃以下である。分酸させる際の温度の下限は特に限定されないが、通常２０℃である。分散時間は、０．５時間以上が好ましく、より好ましくは２時間以上であり、４８時間以下が好ましく、２０時間以下がより好ましい。分散に用いる装置としては、例えば、ロールミル、高速攪拌装置、ビーズミル、ボールミル、サンドミル、ペイントコンディショナー、超音波分散機、高圧分散機等が挙げられる。得られた着色剤分散液は、孔径１．０〜５．０μｍ程度のフィルタでろ過することが好ましい。

上記着色剤分散液に重合性化合物（Ｅ）、重合開始剤（Ｆ）を添加する場合、さらに樹脂（「樹脂（Ｃ’）」）を加えることが好ましい。樹脂（Ｃ’）としては、樹脂（Ｃ）と同様のものが挙げられる。樹脂（Ｃ’）は樹脂（Ｃ）と同じでもよいが、異なる種類のものでもよい。樹脂（Ｃ’）としては、樹脂［Ｋ１］、樹脂［Ｋ２］、樹脂［Ｋ５］、樹脂［Ｋ６］が好ましく、樹脂［Ｋ５］、樹脂［Ｋ６］がより好ましく、樹脂［Ｋ６］がさらに好ましい。

樹脂（Ｃ）と樹脂（Ｃ’）の合計の含有量は、固形分の総量に対して、好ましくは７〜６５質量％であり、より好ましくは１０〜６０質量％であり、さらに好ましくは１３〜６０質量％であり、特に好ましくは、１３〜５５質量％である。樹脂の含有量が、前記の範囲にあると、着色パターンの解像度及び着色パターンの残膜率が向上する傾向がある。

上記着色剤分散液に重合性化合物（Ｅ）、重合開始剤（Ｆ）を添加する場合、溶剤（Ｂ’）をさらに加えることが好ましい。

溶剤（Ｂ’）としては、溶剤（Ｂ）と同様のものが挙げられる。好ましくは、塗布性、乾燥性の点から、１ａｔｍにおける沸点が１２０℃以上１８０℃以下の有機溶剤であり、より好ましくは、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、乳酸エチル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、３−エトキシプロピオン酸エチル、エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、３−メトキシブチルアセテート、３−メトキシ−１−ブタノール、４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等であり、さらに好ましくは、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、乳酸エチル、４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノン、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、３−メトキシブチルアセテート、３−メトキシ−１−ブタノール、３−エトキシプロピオン酸エチル等である。

ネガ型レジスト組成物における溶剤（Ｂ）と溶剤（Ｂ’）の合計の含有量は、ネガ型レジスト組成物の総量に対して、好ましくは４０〜９５質量％であり、より好ましくは４５〜９２質量％である。言い換えると、ネガ型レジスト組成物の固形分は、好ましくは５〜６０質量％、より好ましくは８〜５５質量％である。溶剤の含有量が前記の範囲にあると、塗布時の平坦性が良好になり、またカラーフィルタを形成した際に色濃度が不足しないために表示特性が良好となる傾向がある。

本発明のネガ型レジスト組成物からカラーフィルタの着色パターンを製造する方法としては、フォトリソグラフ法、インクジェット法、印刷法等が挙げられる。中でも、フォトリソグラフ法が好ましい。フォトリソグラフ法は、前記ネガ型レジスト組成物を基板に塗布し、乾燥させて組成物層を形成し、フォトマスクを介して該組成物層を露光して、現像する方法である。フォトリソグラフ法において、露光の際にフォトマスクを用いないこと、及び／又は現像しないことにより、前記組成物層の硬化物である着色塗膜を形成することができる。

カラーフィルタ（硬化膜）の膜厚は、好ましくは２０μｍ以下、より好ましくは６μｍ以下、さらに好ましくは３μｍ以下、さらにより好ましくは１．５μｍ以下、特に好ましくは０．５μｍ以下であり、好ましくは０．１μｍ以上、より好ましくは０．２μｍ以上、さらに好ましくは０．３μｍ以上である。

基板としては、石英ガラス、ホウケイ酸ガラス、アルミナケイ酸塩ガラス、表面をシリカコートしたソーダライムガラスなどのガラス板や、ポリカーボネート、ポリメタクリル酸メチル、ポリエチレンテレフタレートなどの樹脂板、シリコン、前記基板上にアルミニウム、銀、銀／銅／パラジウム合金薄膜などを形成したものが用いられる。これらの基板上には、別のカラーフィルタ層、樹脂層、トランジスタ、回路等が形成されていてもよい。またシリコン基板上にＨＭＤＳ処理を施した基板を使用してもよい。

フォトリソグラフ法による各色画素の形成は、公知又は慣用の装置や条件で行うことができる。例えば、下記のようにして作製することができる。まず、ネガ型レジスト組成物を基板上に塗布し、加熱乾燥（プリベーク）及び／又は減圧乾燥することにより溶剤等の揮発成分を除去して乾燥させ、平滑な組成物層を得る。塗布方法としては、スピンコート法、スリットコート法、スリット アンド スピンコート法等が挙げられる。加熱乾燥を行う場合の温度は、３０〜１２０℃が好ましく、５０〜１１０℃がより好ましい。また加熱時間としては、１０秒間〜６０分間であることが好ましく、３０秒間〜３０分間であることがより好ましい。減圧乾燥を行う場合は、５０〜１５０Ｐａの圧力下、２０〜２５℃の温度範囲で行うことが好ましい。組成物層の膜厚は、特に限定されず、目的とするカラーフィルタの膜厚に応じて適宜選択すればよい。

次に、組成物層は、目的の着色パターンを形成するためのフォトマスクを介して露光される。該フォトマスク上のパターンは特に限定されず、目的とする用途に応じたパターンが用いられる。露光に用いられる光源としては、２５０〜４５０ｎｍの波長の光を発生する光源が好ましい。例えば、３５０ｎｍ未満の光を、この波長域をカットするフィルタを用いてカットしたり、４３６ｎｍ付近、４０８ｎｍ付近、３６５ｎｍ付近の光を、これらの波長域を取り出すバンドパスフィルタを用いて選択的に取り出したりしてもよい。具体的には、水銀灯、発光ダイオード、メタルハライドランプ、ハロゲンランプ等が挙げられる。露光面全体に均一に平行光線を照射したり、フォトマスクと基板との正確な位置合わせを行うことができるため、マスクアライナ及びステッパ等の縮小投影露光装置またはプロキシミティ露光装置を使用することが好ましい。

露光後の組成物層を現像液に接触させて現像することにより、基板上に着色パターンが形成される。現像により、組成物層の未露光部が現像液に溶解して除去される。現像液としては、例えば、水酸化カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウム、水酸化テトラメチルアンモニウム等のアルカリ性化合物の水溶液が好ましい。これらのアルカリ性化合物の水溶液中の濃度は、好ましくは０．０１〜１０質量％であり、より好ましくは０．０３〜５質量％である。さらに、現像液は、界面活性剤を含んでいてもよい。現像方法は、パドル法、ディッピング法及びスプレー法等のいずれでもよい。さらに現像時に基板を任意の角度に傾けてもよい。
現像後は、水洗することが好ましい。

さらに、得られた着色パターンに、ポストベークを行うことが好ましい。ポストベーク温度は、８０〜２５０℃が好ましく、１００〜２４５℃がより好ましい。ポストベーク時間は、１〜１２０分間が好ましく、２〜３０分間がより好ましい。

このようにして得られた着色パターン及び着色塗膜は、カラーフィルタとして有用であり、該カラーフィルタは、表示装置（例えば、液晶表示装置、有機ＥＬ装置等）、電子ペーパー、固体撮像素子等に用いられるカラーフィルタとして有用である。

以下、実施例を挙げて本発明をより具体的に説明するが、本発明は、下記実施例によって限定されるものではなく、前・後記の趣旨に適合しうる範囲で適宜変更して実施することも可能であり、それらはいずれも本発明の技術的範囲に包含される。例中の「％」及び「部」は、特記ない限り、質量％及び質量部である。化合物の構造は質量分析（ＬＣ；Ａｇｉｌｅｎｔ製１２００型、ＭＡＳＳ；Ａｇｉｌｅｎｔ製ＬＣ／ＭＳＤ型）で同定した。

＜染料の合成＞
〔合成例１〕
式（１）で表される太陽ファインケミカル社製Ｐｉｎｋ Ｂａｓｅ５０．０部、Ｎ-メチルピロリドン（ＮＭＰ）（富士フイルム和光純薬工業（株）製）３００部、ヨウ化メチル（東京化成工業（株）製）２４７．０部、炭酸カリウム（富士フイルム和光純薬工業（株）製）１２０．３部を室温で混合し、８０℃に昇温して４時間攪拌した。反応液を室温まで冷却後、減圧下でヨウ化メチルを留去し、得られたスラリーに１規定塩酸３３００部を投入した。得られた析出物を吸引濾過の残渣として取得し、イオン交換水１０００部で洗浄後乾燥し、式（２）で表される化合物５０．６部を得た。収率は９７％であった。

式（２）で表される化合物の同定
（質量分析）イオン化モード＝ＥＳＩ⁺： ｍ／ｚ＝ [Ｍ＋Ｈ]⁺ ６０３．２
Ｅｘａｃｔ Ｍａｓｓ： ６０２．２

〔合成例２〕
式（３）で表される化合物１０．０部、２，４，６−トリメチルアニリン（東京化成工業（株）製）２０．０部、ＮＭＰ（富士フイルム和光純薬工業（株）製）６０部を室温で混合し、１６０℃に昇温して７時間攪拌した。反応液を室温まで冷却後、１規定塩酸１２０部を加え、得られた析出物を吸引濾過の残渣として取得し、イオン交換水１００部で洗浄後乾燥し、式（４）で表される化合物１２．４部を得た。収率は８３％であった。

式（４）で表される化合物の同定

（質量分析）イオン化モード＝ＥＳＩ⁺： ｍ／ｚ＝ [Ｍ＋Ｈ]⁺ ６０３．８
Ｅｘａｃｔ Ｍａｓｓ： ６０２．２

〔合成例３〕
２，４，６−トリメチルアニリンを５−メトキシ−２−メチルアニリンに変更する以外は合成例２と同様の方法で合成し、式（５）で表される化合物を得た。収率は７８％であった。

式（５）で表される化合物の同定

（質量分析）イオン化モード＝ＥＳＩ⁺： ｍ／ｚ＝ [Ｍ＋Ｈ]⁺ ６０７．２
Ｅｘａｃｔ Ｍａｓｓ： ６０６．２

〔合成例４〕
２，４，６−トリメチルアニリンを６−メトキシ−２−メチルアニリンに変更する以外は合成例２と同様の方法で合成し、式（６）で表される化合物を得た。収率は３１％であった。

式（６）で表される化合物の同定

（質量分析）イオン化モード＝ＥＳＩ⁺： ｍ／ｚ＝ [Ｍ＋Ｈ]⁺ ６０７．２
Ｅｘａｃｔ Ｍａｓｓ： ６０６．２

〔合成例５〕
式（７）で表される化合物２．０部、Ｎ-メチルピロリドン（ＮＭＰ）（富士フイルム和光純薬工業（株）製）２０.０部、ヨウ化メチル（東京化成工業（株）製）１６．４部、炭酸カリウム（富士フイルム和光純薬工業（株）製）８．０部を室温で混合し、８０℃に昇温して１６時間攪拌した。反応液を室温まで冷却後、減圧下でヨウ化メチルを留去し、得られたスラリーに１規定塩酸２２０.０部を投入した。得られた析出物を吸引濾過の残渣として取得し、イオン交換水４０部で洗浄後乾燥し、式（８）で表される化合物１.０部を得た。収率は４９％であった。

式（７）で表される化合物の同定

（質量分析）イオン化モード＝ＥＳＩ⁺： ｍ／ｚ＝ [Ｍ＋Ｈ]⁺ ５１９．１
Ｅｘａｃｔ Ｍａｓｓ： ５１８．１

式（８）で表される化合物の同定

（質量分析）イオン化モード＝ＥＳＩ⁺： ｍ／ｚ＝ [Ｍ＋Ｈ]⁺ ５４７．２
Ｅｘａｃｔ Ｍａｓｓ： ５４６．２

〔合成例６〕
式（３）で表される化合物４０．６部と、ジエチルアミン（東京化成工業（株）製）８部とを１−メチル−２−ピロリドン５０部の存在下、遮光条件下混合し、３０℃で３時間攪拌した。得られた反応液を室温まで冷却後、水４００部、３５％塩酸２０部の混合液中に添加し室温で１時間攪拌したところ、結晶が析出した。析出した結晶を吸引濾過の残渣として取得後乾燥し、式（Ｉ−１−Ａ）で表される化合物４４部を得た。

次いで、式（Ｉ−１−Ａ）で表される化合物４４部とトリメトキシ［３-（メチルアミノ）プロピル］シラン（東京化成工業（株）製）２１．４部とを１−メチル−２−ピロリドン５０部の存在下、１００℃で、５時間加熱した。得られた反応液を室温まで冷却後、ろ過し、水１００部で洗浄し、得られた結晶を乾燥し、式（Ｉ−１）で表される化合物５２部を得た。

式（Ｉ−１）で表される化合物の同定

（質量分析）イオン化モード＝ＥＳＩ^＋： ｍ／ｚ＝ [Ｍ＋Ｈ]⁺５９９．２
Ｅｘａｃｔ Ｍａｓｓ： ５９８．２

〔合成例７〕
式（１）で表される太陽ファインケミカル社製Ｐｉｎｋ Ｂａｓｅを１部、Ｎ-メチルピロリドン７部、炭酸カリウム１．０部及び４−ブロモ酪酸エチル２．０部を加えて１００℃で７時間半撹拌した。放冷後、得られた反応液に２Ｎ塩酸２０部を加え、クロロホルム４５部で２回抽出し、クロロホルム層を合わせて飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、６０℃で減圧乾燥して、式（Ａ−６−ＩＭ１）で表される化合物粗体４．１部を得た。

式（Ａ−６−ＩＭ１）で表される化合物の同定

（質量分析）イオン化モード＝ＥＳＩ^＋： ｍ／ｚ＝ [Ｍ＋Ｈ]^＋ ８０３．５
Ｅｘａｃｔ Ｍａｓｓ： ８０２．３

冷却管及び撹拌装置を備えたフラスコに、式（Ａ−６−ＩＭ１）で表される化合物４．１部、メタノール９．８部及び８％水酸化ナトリウム水溶液３．５部を加えて、室温で６時間撹拌した。得られた反応液を２Ｎ塩酸３０部に添加して室温で３０分撹拌したところ、結晶が析出した。析出した結晶を濾別し、イオン交換水でよく洗浄し、６０℃で減圧乾燥して、化合物（Ａ−６−ＩＭ２）１．０部を得た。

式（Ａ−６−ＩＭ２）で表される化合物の同定

（質量分析）イオン化モード＝ＥＳＩ^＋： ｍ／ｚ＝ [Ｍ＋Ｈ]^＋ ７４７．５
Ｅｘａｃｔ Ｍａｓｓ： ７４６．３

〔合成例８〕
冷却管及び攪拌装置を備えたフラスコに、式Ａ０−３で示される色素（太陽ファインケミカル社製）を１５部、クロロホルム１５０部及びＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド８．９部を投入し、攪拌下２０℃以下を維持しながら、塩化チオニル１０．９部を滴下して加えた。滴下終了後、５０℃に昇温し、同温度で５時間維持して反応させ、その後２０℃に冷却した。冷却後の反応溶液を、攪拌下２０℃以下に維持しながら、２−エチルヘキシルアミン１２．５部及びトリエチルアミン２２．１部の混合液を滴下して加えた。その後、同温度で５時間攪拌して反応させた。次いで得られた反応混合物をロータリーエバポレーターで溶媒留去した後、メタノールを少量加えて激しく攪拌した。この混合物を、イオン交換水３７５部の混合液中に攪拌しながら加えて、結晶を析出させた。析出した結晶を濾別し、イオン交換水でよく洗浄し、６０℃で減圧乾燥して、染料Ａ３（染料Ａ３−１〜染料Ａ３−８の混合染料）１１．３部を得た。

（式（Ａ３）中、Ｒ^g、Ｒ^h及びＲⁱは、それぞれ独立に、水素原子、−ＳＯ₃ ^-、−ＳＯ₃Ｈ又は−ＳＯ₂ＮＨＲａを表す。Ｒａは、２−エチルヘキシルを表す。）

〔合成例９〕
２，４，６−トリメチルアニリンをＯ−トルイジンに変更する以外は合成例２と同様の方法で合成し、式（９）で表される化合物を得た。収率は９０％であった。

式（９）で表される化合物の同定

（質量分析）イオン化モード＝ＥＳＩ⁺： ｍ／ｚ＝ [Ｍ＋Ｈ]⁺ ５７５．２
Ｅｘａｃｔ Ｍａｓｓ： ５７４．２

〔合成例１０〕
式（３）で表される化合物４．００部、２−アミノビフェニル（東京化成工業（株）製）１０．０部、及びＮ−メチルピロリドン（富士フイルム和光純薬工業（株）製）２４．０部を室温で混合し、１７０℃に昇温して９時間攪拌した。反応液を室温まで冷却後、１規定塩酸４８．０部を投入し、得られた析出物を吸引濾過の残渣として取得し、さらに１規定塩酸９６．０部で洗浄した。得られた残渣に、アセトン２６７部とメタノール２６７部加えて５０℃に昇温して１時間攪拌し、析出物を吸引濾過の残渣として取得した。得られた残渣を乾燥し、式（１１）で表される化合物４．６７部を得た。収率は７１％であった。

式（１１）で表される化合物の同定

（質量分析）イオン化モード＝ＭＡＬＤＩ−ＴＯＦ^＋： ｍ／ｚ＝ [Ｍ＋Ｈ]^＋ ６７１．１
Ｅｘａｃｔ Ｍａｓｓ： ６７０．２

〔合成例１１〕
式（３）で表される化合物４．００部、３−アミノビフェニル（東京化成工業（株）製）１０．０部、及びＮ−メチルピロリドン（富士フイルム和光純薬工業（株）製）２４．０部を室温で混合し、１７０℃に昇温して９時間攪拌した。反応液を室温まで冷却後、１規定塩酸４８．０部を投入し、得られた析出物を吸引濾過の残渣として取得し、さらに１規定塩酸９６．０部で洗浄した。得られた残渣に、アセトン３００部とメタノール３００部を加え、５０℃に昇温して１時間攪拌し、析出物を吸引濾過の残渣として取得した。得られた残渣を乾燥し、式（１２）で表される化合物５．１３部を得た。収率は７８％であった。

式（１２）で表される化合物の同定

（質量分析）イオン化モード＝ＭＡＬＤＩ−ＴＯＦ^＋： ｍ／ｚ＝ [Ｍ＋Ｈ]^＋ ６７１．１
Ｅｘａｃｔ Ｍａｓｓ： ６７０．２

〔合成例１２〕
式（３）で表される化合物４．００部、４−ｔｅｒｔ−ブチルアニリン（東京化成工業（株）製）８．８４部、及びＮ−メチルピロリドン（富士フイルム和光純薬工業（株）製）２４．０部を室温で混合し、１７０℃に昇温して９時間攪拌した。反応液を室温まで冷却後、１規定塩酸４８．０部を投入し、得られた析出物を吸引濾過の残渣として取得し、さらに１規定塩酸９６．０部で洗浄した。得られた残渣に、アセトン３５７部とメタノール３５７部を加え、５０℃に昇温して１時間攪拌し、析出物を吸引濾過の残渣として取得した。得られた残渣を乾燥し、式（１３）で表される化合物５．５９部を得た。収率は９０％であった。

式（１３）で表される化合物の同定

（質量分析）イオン化モード＝ＥＳＩ^＋： ｍ／ｚ＝ ［Ｍ＋Ｈ］^＋ ６３１．２
Ｅｘａｃｔ Ｍａｓｓ： ６３０．３

〔合成例１３〕
式（３）で表される化合物４．００部、３，５−ｄｉ−ｔｅｒｔ−ブチルアニリン（東京化成工業（株）製）１０．０部、及びＮ−メチルピロリドン（富士フイルム和光純薬工業（株）製）２４．０部を室温で混合し、１７０℃に昇温して９時間攪拌した。反応液を室温まで冷却後、１規定塩酸４８．０部を投入し、得られた析出物を吸引濾過の残渣として取得し、さらに１規定塩酸９６．０部で洗浄した。得られた残渣に、アセトン２６４部とメタノール２６４部を加え、５０℃に昇温して１時間攪拌し、析出物を吸引濾過の残渣として取得した。得られた残渣を乾燥し、式（１４）で表される化合物４．７０部を得た。収率は６４％であった。

式（１４）で表される化合物の同定

（質量分析）イオン化モード＝ＭＡＬＤＩ−ＴＯＦ^＋： ｍ／ｚ＝［Ｍ＋Ｈ］^＋ ７４３．５
Ｅｘａｃｔ Ｍａｓｓ： ７４２．４

〔合成例１４〕
文献（Chun Liu, Xiaoxiao Song, Qijian Ni and Jieshan Qiu; ARKIVOC, ２０１２，９, ６２−７５．）を参考にして２，６−ジフェニルアニリンを合成した。次いで、式（３）で表される化合物４．００部、２，６−ジフェニルアニリン９．６９部、塩化亜鉛(富士フイルム和光純薬工業（株）製)２．６９部、及びスルホラン（東京化成工業（株）製）２４．０部を室温で混合し、２５０℃に昇温して４時間攪拌した。反応液を室温まで冷却後、１規定塩酸４８．０部を投入し、得られた析出物を吸引濾過の残渣として取得し、さらにトルエン２４．０部、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１８．０部、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２０．０部で順次洗浄した。得られた残渣を乾燥し、式（１５）で表される化合物５．１８部を得た。収率は６４％であった。

式（１５）で表される化合物の同定

（質量分析）イオン化モード＝ＥＳＩ^＋： ｍ／ｚ＝ ［Ｍ＋Ｈ］^＋ ８２３．３
Ｅｘａｃｔ Ｍａｓｓ： ８２２．３

〔合成例１５〕
式（３）で表される化合物１０．０部、２，６−ジメチルアニリン（東京化成工業（株）製）１６．５部、及びＮ−メチルピロリドン（富士フイルム和光純薬工業（株）製）７０．０部を室温で混合し、８０℃に昇温して２時間攪拌した。反応液を室温まで冷却後、１規定塩酸１４０部を投入し、得られた析出物を吸引濾過の残渣として取得し、さらに１規定塩酸２８０部で洗浄した。得られた残渣を乾燥し、式（１６）で表される化合物９．０６部を得た。収率は７５％であった。

式（１６）で表される化合物の同定

（質量分析）イオン化モード＝ＥＳＩ^＋： ｍ／ｚ＝ ［Ｍ＋Ｈ］^＋ ４９０．２
Ｅｘａｃｔ Ｍａｓｓ： ４８９．１

式（１６）で表される化合物４．００部、アニリン（富士フイルム和光純薬工業（株）製）３．８０部、及びＮ−メチルピロリドン（富士フイルム和光純薬工業（株）製）２４．０部を室温で混合し、１７０℃に昇温して３時間攪拌した。反応液を室温まで冷却後、１規定塩酸４８．０部を投入し、得られた析出物を吸引濾過の残渣として取得し、さらに１規定塩酸９６．０部、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド３６．８部で洗浄した。得られた残渣を乾燥し、式（１７）で表される化合物３．２８部を得た。収率は７４％であった。

式（１７）で表される化合物の同定

（質量分析）イオン化モード＝ＥＳＩ^＋： ｍ／ｚ＝ ［Ｍ＋Ｈ］^＋ ５４７．２
Ｅｘａｃｔ Ｍａｓｓ： ５４６．２

〔合成例１６〕
式（１６）で表される化合物４．００部、２，４−ジメトキシアニリン（東京化成工業（株）製）６．２５部、及びＮ−メチルピロリドン（富士フイルム和光純薬工業（株）製）２４．０部を室温で混合し、１７０℃に昇温して３時間攪拌した。反応液を室温まで冷却後、１規定塩酸４８．０部を投入し、得られた析出物を吸引濾過の残渣として取得し、さらに１規定塩酸９６．０部、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド４２．４部で洗浄した。得られた残渣を乾燥し、式（１８）で表される化合物２．８８部を得た。収率は５８％であった。

式（１８）で表される化合物の同定

（質量分析）イオン化モード＝ＥＳＩ^＋： ｍ／ｚ＝ ［Ｍ＋Ｈ］^＋ ６０７．２
Ｅｘａｃｔ Ｍａｓｓ： ６０６．２

〔合成例１７〕
式（１６）で表される化合物４．００部、４−メトキシアニリン（東京化成工業（株）製）５．０３部、及びＮ−メチルピロリドン（富士フイルム和光純薬工業（株）製）２４．０部を室温で混合し、１７０℃に昇温して３時間攪拌した。反応液を室温まで冷却後、１規定塩酸４８．０部を投入し、得られた析出物を吸引濾過の残渣として取得し、さらに１規定塩酸９６．０部、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド４１．９部で洗浄した。得られた残渣を乾燥し、式（１９）で表される化合物５．００部を得た。収率は６９％であった。

式（１９）で表される化合物の同定

（質量分析）イオン化モード＝ＥＳＩ^＋： ｍ／ｚ＝ ［Ｍ＋Ｈ］^＋ ５７７．３
Ｅｘａｃｔ Ｍａｓｓ： ５７６．２

〔合成例１８〕
式（１６）で表される化合物４．００部、３−アミノビフェニル（東京化成工業（株）製）６．９１部、及びＮ−メチルピロリドン（富士フイルム和光純薬工業（株）製）２４．０部を室温で混合し、１７０℃に昇温して５時間攪拌した。反応液を室温まで冷却後、１規定塩酸４８．０部を投入し、得られた析出物を吸引濾過の残渣として取得し、さらに１規定塩酸９６．０部、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド７５．２部で洗浄した。得られた残渣を乾燥し、式（２０）で表される化合物３．７９部を得た。収率は７５％であった。

式（２０）で表される化合物の同定

（質量分析）イオン化モード＝ＥＳＩ^＋： ｍ／ｚ＝ ［Ｍ＋Ｈ］^＋ ６２３．２
Ｅｘａｃｔ Ｍａｓｓ： ６２２．２

〔合成例１９〕
式（１６）で表される化合物４．００部、２−アミノビフェニル（東京化成工業（株）製）６．９１部、及びＮ−メチルピロリドン（東京化成工業（株）製）２４．０部を室温で混合し、１７０℃に昇温して３時間攪拌した。反応液を室温まで冷却後、１規定塩酸４８．０部を投入し、得られた析出物を吸引濾過の残渣として取得し、さらに１規定塩酸９６．０部、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド４４．８部で洗浄した。得られた残渣を乾燥し、式（２１）で表される化合物３．５５部を得た。収率は７０％であった。

式（２１）で表される化合物の同定

（質量分析）イオン化モード＝ＥＳＩ^＋： ｍ／ｚ＝ [Ｍ＋Ｈ］^＋ ６２３．２
Ｅｘａｃｔ Ｍａｓｓ： ６２２．２

〔合成例２０〕
式（３）で表される化合物１３．０部、２，６−ジフェニルアニリン３９．３部、及びＮ−メチルピロリドン（富士フイルム和光純薬工業（株）製）７８.０部を室温で混合し、８５℃に昇温して５時間攪拌した。反応液を室温まで冷却後、１規定塩酸１５６部を投入し、得られた析出物を吸引濾過の残渣として取得し、さらに１規定塩酸３１２部で洗浄した。得られた残渣を乾燥し、式（２２）で表される化合物１６．２部を得た。収率は８２％であった。

式（２２）で表される化合物の同定

（質量分析）イオン化モード＝ＥＳＩ^＋： ｍ／ｚ＝ ［Ｍ＋Ｈ］^＋ ６１４．５
Ｅｘａｃｔ Ｍａｓｓ： ６１３．１

式（２２）で表される化合物４．００部、２，６−キシリジン（富士フイルム和光純薬工業（株）製）３．９５部、塩化亜鉛（富士フイルム和光純薬工業（株）製）１．７８部、及びスルホラン（東京化成工業（株）製）２４．０部を室温で混合し、２５０℃に昇温して３時間攪拌した。反応液を室温まで冷却後、１規定塩酸４８．０部を投入し、得られた析出物を吸引濾過の残渣として取得し、さらに１規定塩酸９６．０部、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド６９．５部で洗浄した。得られた残渣を乾燥し、式（２３）で表される化合物３．０５部を得た。収率は６７％であった。

（質量分析）イオン化モード＝ＥＳＩ^＋： ｍ／ｚ＝ ［Ｍ＋Ｈ］^＋ ６９９．２
Ｅｘａｃｔ Ｍａｓｓ： ６９８．２

〔合成例２１〕
式（２２）で表される化合物４．００部、３−アミノビフェニル（東京化成工業（株）製）５．５１部、及びＮ−メチルピロリドン（富士フイルム和光純薬工業（株）製）２４．０部を室温で混合し、１７０℃に昇温して６時間攪拌した。反応液を室温まで冷却後、１規定塩酸４８．０部を投入し、得られた析出物を吸引濾過の残渣として取得し、さらに１規定塩酸９６．０部、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２８．５部で洗浄した。得られた残渣を乾燥し、式（２４）で表される化合物２．８５部を得た。収率は５９％であった。

（質量分析）イオン化モード＝ＥＳＩ^＋： ｍ／ｚ＝ ［Ｍ＋Ｈ］^＋ ７４７．２
Ｅｘａｃｔ Ｍａｓｓ： ７４６．２

〔合成例２２〕
式（２２）で表される化合物４．００部、２−アミノビフェニル（東京化成工業（株）製）５．５１部、Ｎ−メチルピロリドン（富士フイルム和光純薬工業（株）製）２４．０部を室温で混合し、１７０℃に昇温して６時間攪拌した。反応液を室温まで冷却後、１規定塩酸４８．０部を投入し、得られた析出物を吸引濾過の残渣として取得し、さらに１規定塩酸９６．０部、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド４９．２部で洗浄した。得られた残渣を乾燥し、式（２５）で表される化合物２．８８部を得た。収率は５９％であった。

（質量分析）イオン化モード＝ＥＳＩ^＋： ｍ／ｚ＝ ［Ｍ＋Ｈ］^＋ ７４７．２
Ｅｘａｃｔ Ｍａｓｓ： ７４６．２

＜樹脂の合成＞
〔合成例２３ 樹脂Ｃ−１〕
撹拌装置、滴下ロート、コンデンサー、温度計、ガス導入管を備えたフラスコにプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート２７６．８ｇを取り、窒素置換しながら撹拌し１２０℃に昇温した。次いで、２−エチルヘキシルアクリレート９２．４ｇ、グリシジルメタクリレート１８４．９ｇ及びジシクロペンタニルメタクリレート１２．３ｇからなるモノマー混合物に、３５．３ｇのｔ-ブチルパーオキシ−２−エチルヘキサノエート（重合開始剤）を添加したものを、を滴下ロートから２時間にわたって前記フラスコ中に滴下した。滴下終了後、１２０℃でさらに３０分間撹拌して共重合反応を行い、付加共重合体を生成させた。その後、フラスコ内を空気に置換し、アクリル酸９３．７ｇ、トリフェニルホスフィン（触媒）１．５ｇおよびメトキノン（重合禁止剤）０．８ｇを上記の付加共重合体溶液中に投入し、１１０℃で１０時間にわたり反応を続け、グリシジルメタクリレート由来のエポキシ基とアクリル酸の反応によりエポキシ基を開裂すると同時にポリマーの側鎖に重合性不飽和結合を導入した。次いで、反応系に無水コハク酸２４．２ｇを加え、１１０℃で１時間にわたり反応を続け、エポキシ基の開裂により生じたヒドロキシ基と無水コハク酸を反応させて側鎖にカルボキシル基を導入し、ポリマーを得た。最後に反応溶液に、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート３８３．３ｇを加え、ポリマー固形分４０％のポリマー（樹脂（Ｃ−１））溶液を得た。生成した共重合体（ポリマー；樹脂（Ｃ−１））の重量平均分子量Ｍｗは６．３×１０³、固形分換算の酸価は３４ｍｇ−ＫＯＨ／ｇであった。

〔合成例２４ 樹脂Ｃ−２〕
還流冷却器、滴下ロート及び撹拌機を備えたフラスコ内に窒素を適量流して窒素雰囲気とし、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート２８０部を入れ、撹拌しながら８０℃まで加熱した。次いで、該フラスコ内に、アクリル酸３８部、３，４−エポキシトリシクロ［５．２．１．０^2,6］デカン−８−イルアクリレート及び３，４−エポキシトリシクロ［５．２．１．０^2,6］デカン−９−イルアクリレートの混合物（含有率は１：１）２８９部をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１２５部に溶解した溶液を滴下ポンプを用いて約５時間かけて滴下した。一方、重合開始剤２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）３３部をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート２３５部に溶解した溶液を別の滴下ポンプを用いて約６時間かけてフラスコ内に滴下した。滴下終了後、４時間同温度で保持した後、室温まで冷却して、ポリマー固形分３５．１％のポリマー（樹脂（Ｃ−２））溶液を得た。生成した共重合体（ポリマー；樹脂（Ｃ−２））の重量平均分子量Ｍｗは９２００、分散度２．０８、固形分換算の酸価は７７ｍｇ−ＫＯＨ／ｇであった。生成した共重合体は下記構造単位を有する。

（分散液１の作製）
Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１２２を８部、分散剤（ＢＹＫ社製 ＢＹＫＬＰＮ−６９１９）を３．０部、上記樹脂（Ｃ−２）（固形分換算）を３．０部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート８１部、ジアセトンアルコール５部を混合し、０．４ｍｍのジルコニアビーズ３００部を加え、ペイントコンディショナー（ＬＡＵ社製）を使用して１時間振盪した。その後、ジルコニアビーズをろ過により除去して分散液１を得た。

（分散液２の作製）
Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット１９をＣ．Ｉ．ピグメントレッド１２２の代わりに用いること以外は分散液１と同様にして分散液２を得た。

（分散液３の作製）
太陽ファインケミカル社製Ｐｉｎｋ ＢａｓｅをＣ．Ｉ．ピグメントレッド１２２の代わりに用いること以外は分散液１と同様にして分散液３を得た。

（分散液４の作製）
合成例１で得られた化合物をＣ．Ｉ．ピグメントレッド１２２の代わりに用いること以外は分散液１と同様にして分散液４を得た。

（分散液５の作製）
合成例２で得られた化合物をＣ．Ｉ．ピグメントレッド１２２の代わりに用いること以外は分散液１と同様にして分散液５を得た。

（分散液６の作製）
合成例３で得られた化合物をＣ．Ｉ．ピグメントレッド１２２の代わりに用いること以外は分散液１と同様にして分散液６を得た。

（分散液７の作製）
合成例４で得られた化合物をＣ．Ｉ．ピグメントレッド１２２の代わりに用いること以外は分散液１と同様にして分散液７を得た。

（分散液８の作製）
合成例５で得られた化合物をＣ．Ｉ．ピグメントレッド１２２の代わりに用いること以外は分散液１と同様にして分散液８を得た。

（分散液９の作製）
合成例９で得られた化合物をＣ．Ｉ．ピグメントレッド１２２の代わりに用いること以外は分散液１と同様にして分散液９を得た。

（分散液１０の作製）
合成例１０で得られた化合物をＣ．Ｉ．ピグメントレッド１２２の代わりに用いること以外は分散液１と同様にして分散液１０を得た。

（分散液１１の作製）
合成例１１で得られた化合物をＣ．Ｉ．ピグメントレッド１２２の代わりに用いること以外は分散液１と同様にして分散液１１を得た。

（分散液１２の作製）
合成例１２で得られた化合物をＣ．Ｉ．ピグメントレッド１２２の代わりに用いること以外は分散液１と同様にして分散液１２を得た。

（分散液１３の作製）
合成例１３で得られた化合物をＣ．Ｉ．ピグメントレッド１２２の代わりに用いること以外は分散液１と同様にして分散液１３を得た。

（分散液１４の作製）
合成例１４で得られた化合物をＣ．Ｉ．ピグメントレッド１２２の代わりに用いること以外は分散液１と同様にして分散液１４を得た。

（分散液１５の作製）
合成例１５で得られた化合物をＣ．Ｉ．ピグメントレッド１２２の代わりに用いること以外は分散液１と同様にして分散液１５を得た。

（分散液１６の作製）
合成例１６で得られた化合物をＣ．Ｉ．ピグメントレッド１２２の代わりに用いること以外は分散液１と同様にして分散液１６を得た。

（分散液１７の作製）
合成例１７で得られた化合物をＣ．Ｉ．ピグメントレッド１２２の代わりに用いること以外は分散液１と同様にして分散液１７を得た。

（分散液１８の作製）
合成例１８で得られた化合物をＣ．Ｉ．ピグメントレッド１２２の代わりに用いること以外は分散液１と同様にして分散液１８を得た。

（分散液１９の作製）
合成例１９で得られた化合物をＣ．Ｉ．ピグメントレッド１２２の代わりに用いること以外は分散液１と同様にして分散液１９を得た。

（分散液２０の作製）
合成例２０で得られた化合物をＣ．Ｉ．ピグメントレッド１２２の代わりに用いること以外は分散液１と同様にして分散液２０を得た。

（分散液２１の作製）
合成例２１で得られた化合物をＣ．Ｉ．ピグメントレッド１２２の代わりに用いること以外は分散液１と同様にして分散液２１を得た。

（分散液２２の作製）
合成例２２で得られた化合物をＣ．Ｉ．ピグメントレッド１２２の代わりに用いること以外は分散液１と同様にして分散液２２を得た。

［実施例１〜２７、比較例１、２］
最終的に下記表３、４に示す組成となるように分散液１〜２２、合成例６〜８の化合物（Ａ−９）〜（Ａ−１１）、樹脂、重合性化合物、重合開始剤、レベリング剤、溶剤を混合して、実施例１〜２７、比較例１、２のネガ型レジスト組成物を得た。

表３、４中、各成分は以下の化合物を表す。
化合物（Ａ−９）：合成例６の化合物
化合物（Ａ−１０）：合成例７の化合物
化合物（Ａ−１１）：合成例８の化合物
樹脂（Ｃ−１）：樹脂（Ｃ−１）（固形分）
重合性化合物（Ｅ−１）：ジペンタエリスリトールポリアクリレート（新中村化学工業（株）製「Ａ９５５０」）
重合開始剤（Ｆ−１）：Ｎ−アセチルオキシ−１−（４−フェニルスルファニルフェニル）−３−シクロヘキシルプロパン−１−オン−２−イミン（ＰＢＧ−３２７；Ｏ−アシルオキシム化合物；常州強力電子新材料（株）製）
レベリング剤（Ｇ−１）：ポリエーテル変性シリコーンオイル（トーレシリコーンＳＨ８４００；東レダウコーニング（株）製）
溶剤（Ｂ−１）：ジアセトンアルコール（ＤＡＡ）
溶剤（Ｂ−２）：乳酸エチル（ＥＬ）
溶剤（Ｂ−３）：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＡ）

＜硬化膜の作製＞
５ｃｍ角のガラス基板（イーグル２０００；コーニング社製）上に、ネガ型レジスト組成物をスピンコート法で塗布したのち、１００℃で３分間プリベークして着色組成物層を形成した。放冷後、露光機（ＴＭＥ−１５０ＲＳＫ；トプコン（株）製）を用いて、大気雰囲気下、６０ｍＪ／ｃｍ²の露光量（３６５ｎｍ基準）で着色組成物層に光照射を行った。その後、オーブン中２３０℃で２０分間ポストベークを行い、硬化膜を得た。なお硬化膜の作製に当たっては、後述する極大吸収波長の透過率が５％となるように膜厚を調整した。

＜膜厚測定＞
得られたガラス基板上の硬化膜について、膜厚測定装置（ＤＥＫＴＡＫ３；日本真空技術（株）製）を用いて膜厚を測定した。結果を表５、６に示す。

＜極大吸収波長、透過率の測定＞
得られたガラス基板上の硬化膜について、測色機（ＯＳＰ−ＳＰ−２００；オリンパス（株）製）を用いて分光を測定した。具体的には、それぞれ波長４００〜７００ｎｍにおける透過率と極大吸収波長を測定した。極大吸収波長、極大吸収波長における透過率（Ｔ（λｍａｘ））、波長４４０ｎｍにおける透過率（Ｔ（４４０ｎｍ））、及び波長６２０ｎｍにおける透過率（Ｔ（６２０ｎｍ））を表５、６に示す。更に、硬化膜に含まれる各色材の比率（質量部）、及び硬化膜に含まれる色材の濃度（質量％）を表５、６に示す。

表５、６に示す通り、実施例１〜２７のネガ型レジスト組成物は上記式（Ｉ）で表される化合物を含むものであり、これより得られた硬化膜は、波長範囲５００ｎｍ〜５８０ｎｍに極大吸収波長を有し、該波長における透過率を５％としたとき、波長４４０ｎｍにおける透過率が８０％以上であり、且つ波長６２０ｎｍにおける透過率が８０％以上であった。一方、比較例１、２のネガ型レジスト組成物は、上記式（Ｉ）で表される化合物を含まないものであり、これより得られた硬化膜は、波長４４０ｎｍにおける透過率が８０％を下回った。

本発明のネガ型レジスト組成物から、波長４４０ｎｍの光の透過率が高いカラーフィルタが得られる。

Claims (10)

1. 着色剤、及び樹脂を含むネガ型レジスト組成物であり、
   前記着色剤がキサンテン染料を含有し、
   前記ネガ型レジスト組成物から形成された硬化膜の分光スペクトルが下記条件１を満たすことを特徴とするネガ型レジスト組成物。
   ［条件１］
   波長範囲５００ｎｍ〜５８０ｎｍに極大吸収波長を有し、該波長における透過率を５％としたとき、波長４４０ｎｍにおける透過率が８０％以上であり、且つ波長６２０ｎｍにおける透過率が８０％以上である。
2. 前記波長６２０ｎｍにおける透過率が９０％以上である請求項１に記載のネガ型レジスト組成物。
3. 前記キサンテン染料は式（Ｉ）で示されるものである請求項１または２に記載のネガ型レジスト組成物。
   

   

   
   ［式（Ｉ）中、Ｒ¹〜Ｒ⁴は、それぞれ独立して、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０の１価の飽和炭化水素基、又は置換基を有していてもよい炭素数６〜２０の１価の芳香族炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる−ＣＨ₂−は、−Ｏ−、−ＣＯ−又は−ＮＲ¹¹−で置き換わっていてもよい。
   Ｒ⁵は、−ＯＨ、−ＳＯ₃ ^-、−ＳＯ₃Ｈ、−ＳＯ₃ ^-Ｚ⁺、−ＣＯ₂Ｈ、−ＣＯ₂ ^-Ｚ⁺、−ＣＯ₂Ｒ⁸、−ＳＯ₃Ｒ⁸、又は−ＳＯ₂ＮＲ⁹Ｒ¹⁰を表す。
   Ｒ⁶及びＲ⁷は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基を表す。
   ｍは、０〜５の整数を表す。ｍが２以上のとき、複数のＲ⁵は同一でも異なってもよい。
   ａは、０又は１の整数を表す。
   Ｘは、ハロゲン原子を表す。
   Ｚ⁺は、⁺Ｎ（Ｒ¹¹）₄、Ｎａ⁺、又はＫ⁺を表し、４つのＲ¹¹は同一でも異なってもよい。
   Ｒ⁸は、炭素数１〜２０の１価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子で置換されていてもよい。
   Ｒ⁹及びＲ¹⁰は、それぞれ独立して、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数１〜２０の１価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる−ＣＨ₂−は、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＮＨ−、又は−ＮＲ⁸−で置き換っていてもよく、Ｒ⁹及びＲ¹⁰が結合して隣接する窒素原子とともに３〜１０員環の複素環を形成していてもよい。
   Ｒ¹¹は、水素原子、炭素数１〜２０の１価の飽和炭化水素基、又は炭素数７〜１０のアラルキル基を表す。］
4. 前記キサンテン染料が式（Ｉａ）及び／又は式（Ｉｂ１）で示されるものである請求項３に記載のネガ型レジスト組成物。
   

   

   
   ［式（Ｉａ）中、
   Ｒ^a1及びＲ^a4は、それぞれ独立して、２個以下の炭素数が１〜４の１価の飽和脂肪族炭化水素基を有していてもよい１価の芳香族炭化水素基である。
   Ｒ^a2及びＲ^a3は、それぞれ独立して、水素原子、メチル基、又はエチル基である。
   Ｒ⁵〜Ｒ⁷、ｍ、ａ、及びＸは上記と同じ意味を表す。］
   

   

   
   
   ［式（Ｉｂ１）中、Ｒ^b1〜Ｒ^b4は、それぞれ独立して、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０の１価の飽和炭化水素基、又は置換基を有していてもよい炭素数６〜２０の１価の芳香族炭化水素基を表し、
   Ｒ^b1〜Ｒ^b4に含まれる少なくとも１つの飽和炭化水素基または芳香族炭化水素基が、ハロゲン原子、−ＯＨ、−ＯＲ⁸、−ＣＯ₂Ｈ、−ＣＯ₂Ｒ⁸、−ＳＯ₃ ^-、−ＳＯ₃Ｈ、−ＳＯ₃ ^-Ｚ⁺、−ＳＲ⁸、−ＳＯ₂Ｒ⁸、−ＳＯ₃Ｒ⁸、−ＳＯ₂ＮＲ⁹Ｒ¹⁰、又は−Ｓｉ（ＯＲ¹²）（ＯＲ¹³）（ＯＲ¹⁴）を置換基として有するか、又はＲ^b1〜Ｒ^b4に含まれる少なくとも１つの芳香族炭化水素基が、３個以上の炭素数が１〜４の１価の飽和脂肪族炭化水素基を置換基として有し、
   Ｒ¹²、Ｒ¹³、及びＲ¹⁴は、それぞれ独立して炭素数１〜４の１価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子で置換されていてもよく、
   Ｒ⁵〜Ｒ¹⁰、ｍ、ａ、及びＸは上記と同じ意味を表す。］
5. 前記キサンテン染料が前記式（Ｉｂ１）で示されるものから選択される２種以上の組み合わせ、または前記式（Ｉｂ１）で示されるものと前記式（Ｉａ）で示されるものとの組み合わせである請求項４に記載のネガ型レジスト組成物。
6. 前記着色剤が、染料のみ、または染料と赤色顔料もしくは紫色顔料との組み合わせである請求項１〜５のいずれかに記載のネガ型レジスト組成物。
7. さらに重合性化合物、及び重合開始剤を含む請求項１〜６のいずれかに記載のネガ型レジスト組成物。
8. 膜厚が１．５μｍ以下である硬化膜を形成することが可能な請求項１〜７のいずれかに記載のネガ型レジスト組成物。
9. 請求項１〜８のいずれかに記載のネガ型レジスト組成物から形成されるカラーフィルタ。
10. 請求項９に記載のカラーフィルタを含む表示装置。