JP2021162508A - 光学測定装置及び光学測定方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】光学測定装置1は、照射光学系10と、検出光学系20と、キャンセル回路60と、を備え、蛍光検出処理では、試料100を照射対象として、試料に照射光を照射し、照射光が照射された試料から生じる蛍光、及び、照射光が照射された試料からの散乱光を含む測定対象光を検出光として検出し、事前処理におけるキャリブレーション処理の実施結果を考慮して、測定対象光に応じた測定信号から散乱光に応じた信号成分を除去し、事前処理では、測定信号における散乱光に対応する信号よりも信号量が大きい、キャリブレーション信号に基づき、測定信号から散乱光に応じた信号成分を除去するためのキャリブレーション処理を実施する。
【選択図】図1
Description
キャリブレーション誤差=キャリブレーション信号の振幅(信号量)×キャリブレーション信号及びスイッチ信号の位相のずれ・・・(1)
図17は、第1の態様における蛍光測定の概要を説明する図である。図17(a)に示されるように、第1の態様における蛍光測定では、最初に、照射光学系10の光源11が、測定対象物である試料500(詳細には、試料500の測定対象部504以外の領域)に照射光を照射し、検出光学系20の光検出素子21が、照射光が照射された試料500からの散乱光を含むキャリブレーション処理用光を検出する。そして、信号処理部であるキャンセル回路60(図1参照)が、キャリブレーション処理用光に応じたキャリブレーション信号に基づきキャリブレーション処理を実施する。以上が、第1の態様における事前処理である。
次に、第2の態様の蛍光測定について説明する。第2の態様では、事前処理において、照射光学系10の光源11が、試料500とは異なるキャリブレーション処理用のリファレンス部材を照射対象として、該リファレンス部材に照射光を照射することにより、キャリブレーション信号の振幅を大きくしている。以下、リファレンス部材の具体的な構成例について説明する。
次に、第3の態様の蛍光測定について説明する。第3の態様では、光学系の配置によって事前処理において検出される散乱光(キャリブレーション処理用光)の光量を大きくすることにより、キャリブレーション信号の振幅を大きくしている。
次に、第4の態様の蛍光測定について説明する。第4の態様では、事前処理において照射光をキャリブレーション処理用光として直接検出することにより、キャリブレーション信号の振幅を大きくしている。すなわち、第4の態様では、事前処理において、照射光学系10の光源11が光検出素子21を照射対象として、光検出素子21に照射光を照射し、光検出素子21が、照射光をキャリブレーション処理用光として直接検出する(試料500等を介さずに直接検出する)。
次に、第5の態様の蛍光測定について説明する。第5の態様では、事前処理において、キャリブレーション処理用光を検出することなく、疑似信号(キャリブレーション信号)を生成することにより、キャリブレーション信号の振幅を大きくしている。
Claims (14)
- 測定対象物の光学特性を測定する光学測定装置であって、
照射対象に照射光を照射する照射光学系と、
前記照射光に起因する検出光を検出する光検出部と、
信号処理部と、を備え、
蛍光検出処理と、該蛍光検出処理に先行して実施される事前処理と、を実施し、
前記蛍光検出処理では、
前記照射光学系が、前記測定対象物を前記照射対象として、前記測定対象物に前記照射光を照射し、
前記光検出部が、前記照射光が照射された前記測定対象物から生じる蛍光、及び、前記照射光が照射された前記測定対象物からの散乱光を含む測定対象光を前記検出光として検出し、
前記信号処理部が、前記測定対象光に応じた測定信号から、前記事前処理におけるキャリブレーション処理における前記散乱光に応じた信号成分を除去し、
前記事前処理では、
前記信号処理部が、前記光検出部において検出される前記照射光又は前記照射光の散乱光に係る信号であって、前記測定信号における前記散乱光に対応する信号よりも信号量が大きい、キャリブレーション信号に基づき、前記測定信号から前記散乱光に応じた信号成分を除去するための前記キャリブレーション処理を実施する、光学測定装置。 - 前記事前処理では、
前記照射光学系が、前記照射対象に前記照射光を照射し、
前記光検出部が、前記照射光が照射された前記照射対象からの前記照射光の散乱光を含む光であって、前記蛍光検出処理において検出される前記測定対象光に含まれる前記散乱光よりも光量が大きいキャリブレーション処理用光を前記検出光として検出し、
前記信号処理部が、前記キャリブレーション処理用光に応じた前記キャリブレーション信号に基づき前記キャリブレーション処理を実施する、請求項1記載の光学測定装置。 - 前記事前処理では、
前記照射光学系が、前記測定対象物を前記照射対象として、前記測定対象物に前記照射光を照射する、請求項2記載の光学測定装置。 - 前記事前処理では、
前記照射光学系が、前記測定対象物とは異なるキャリブレーション処理用のリファレンス部材を前記照射対象として、前記リファレンス部材に前記照射光を照射する、請求項2記載の光学測定装置。 - 前記リファレンス部材は、前記照射光を反射する反射部材を含む、請求項4記載の光学測定装置。
- 前記反射部材は、前記照射光の照射により蛍光を発生しない、請求項5記載の光学測定装置。
- 前記反射部材は、前記照射光を拡散する反射拡散体を含んでいる、請求項5又は6記載の光学測定装置。
- 前記反射部材は、
前記照射光を反射する反射基材と、
前記反射基材に支持され、前記照射光を拡散する拡散体と、を含んでいる、請求項5又は6記載の光学測定装置。 - 前記反射部材は、ミラーを含んでいる、請求項5又は6記載の光学測定装置。
- 前記光検出部への光路上の位置である第1位置及び前記光路から外れた位置である第2位置間を移動可能に構成されており、光の入射効率を上げる又は下げる機能を有する光学部材を更に備える、請求項2〜9のいずれか一項記載の光学測定装置。
- 前記事前処理では、
前記照射光学系が、前記光検出部を前記照射対象として、前記光検出部に前記照射光を照射し、
前記光検出部が、前記照射光であって前記蛍光検出処理において検出される前記測定対象光に含まれる前記散乱光よりも光量が大きいキャリブレーション処理用光を前記検出光として検出し、
前記信号処理部が、前記キャリブレーション処理用光に応じた前記キャリブレーション信号に基づき前記キャリブレーション処理を実施する、請求項1記載の光学測定装置。 - 前記照射光学系は、前記蛍光検出処理時よりも、前記事前処理時における、照射する前記照射光の光量を大きくする、請求項2〜9のいずれか一項記載の光学測定装置。
- 前記照射光学系は、変調信号に応じた照射光を照射し、
前記事前処理では、
前記信号処理部が、前記照射光学系から照射された前記照射光の散乱光が前記検出光として前記光検出部に検出されるまでに相当する遅延に応じて前記変調信号の位相を変化させて前記キャリブレーション信号を生成する、請求項1記載の光学測定装置。 - 測定対象物の光学特性を測定する光学測定方法であって、
キャリブレーション処理を実施する工程と、
測定対象物に照射光を照射する工程と、
前記照射光が照射された前記測定対象物から生じる蛍光、及び、前記照射光が照射された前記測定対象物からの散乱光を含む測定対象光を検出する工程と、
前記測定対象光に応じた測定信号から、前記キャリブレーション処理における前記散乱光に応じた信号成分を除去する工程と、を含み、
前記キャリブレーション処理を実施する工程では、
検出される前記照射光又は前記照射光の散乱光に係る信号であって、前記測定信号における前記散乱光に対応する信号よりも信号量が大きい、キャリブレーション信号に基づき、前記測定信号から前記散乱光に応じた信号成分を除去するための前記キャリブレーション処理を実施する、光学測定方法。
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