JP2021148474A - 検査装置、検査方法およびワーク搬送装置 - Google Patents

Abstract

【課題】装置のフットプリントを抑制するとともに低コストでワークの表面および裏面を検査する。【解決手段】本発明は、搬入位置でフェースアップ姿勢のワークを受け取って保持する表面ステージ部を下方領域に搬送して反転部に受渡し、反転部によるワークの反転によりワークをフェースアップ姿勢からフェースダウン姿勢に切り替えられたワークを反転部から受け取った裏面ステージ部を下方領域から搬出位置に搬送するワーク搬送部と、下方領域にワークが位置する間に撮像部により取得されるワークの表面および裏面の画像に基づいてワークを検査する検査部と、を備えている。【選択図】図２

Description

この発明は、ワークの表面および裏面を検査する検査装置および検査方法、ならびに上記検査装置においてワークを搬送するワーク搬送装置に関するものである。

自動車の駆動部に用いられるコネクティングロッドやハブなどの立体的な形状を有する検査対象物（以下「ワーク」という）の表面および裏面を検査するために、種々の検査装置が提供されている。例えば特許文献１に記載された検査装置では、ワークの表面を撮像する表面用撮像部と、ワークを反転させる反転部と、ワークの裏面を撮像する裏面用撮像部とがそれぞれ第１撮像位置、反転位置および第２撮像位置に配置されている。この検査装置では、ワークは表面を上方に向けた姿勢（以下「フェースアップ姿勢」という）で第１撮像位置に搬送される。そして、フェースアップ姿勢のワークは第１撮像位置で表面用撮像部により撮像される。これにより、ワークの表面画像が取得される。このワークは反転位置に搬送され、反転部により反転される。これによってワークの姿勢は裏面を上方に向けた姿勢（以下「フェースダウン姿勢」という）に切り替えられる。フェースダウン姿勢のワークは第２撮像位置に搬送され、裏面用撮像部により撮像される。これにより、ワークの裏面画像が取得される。そして、検査装置は上記表面画像および裏面画像に基づいてワークを検査する。

特開２０１８−２０５１９７号公報

従来の検査装置は、表面画像を取得するための専用の撮像部と、裏面画像を取得するための専用の撮像部とを並設している。これは検査装置のフットプリントおよびコストを増大させる主要因のひとつとなっている。

この発明は上記課題に鑑みなされたものであり、装置のフットプリントを抑制するとともに低コストでワークの表面および裏面を検査することができる検査技術、ならびに当該検査技術に好適なワーク搬送装置を提供することを目的とする。

この発明の第１の態様は、ワークの表面および裏面を検査する検査装置であって、ワークを上方から撮像する撮像部と、表面を上方に向けたフェースアップ姿勢でワークを保持可能な表面ステージ部と、裏面を上方に向けたフェースダウン姿勢でワークを保持可能な裏面ステージ部と、撮像部の下方領域でワークを反転させてフェースアップ姿勢からフェースダウン姿勢に切り替える反転部と、搬入位置でフェースアップ姿勢のワークを受け取って保持する表面ステージ部を下方領域に搬送して反転部に受渡し、フェースダウン姿勢のワークを反転部から受け取って保持する裏面ステージ部を下方領域から搬出位置に搬送するワーク搬送部と、下方領域にワークが位置する間に撮像部により取得されるワークの表面および裏面の画像に基づいてワークを検査する検査部と、を備えることを特徴としている。

また、この発明の第２の態様は、ワークの表面および裏面を検査する検査装置であって、撮像位置でワークを上方から撮像する撮像部と、反転位置でワークを反転させる反転部と、表面を上方に向けたフェースアップ姿勢でワークを保持可能な表面ステージ部と、裏面を上方に向けたフェースダウン姿勢でワークを保持可能な裏面ステージ部と、上下方向に平行な回転軸まわりに回転自在に設けられ、回転軸から同一距離離れながら互いに異なる位置に表面ステージ部および裏面ステージ部がそれぞれ取り付けられた回転体と、回転体を回転軸まわりに断続的に回転させるワーク搬送部と、検査部と、を備え、ワーク搬送部は、回転体の回転が停止しているときの状況を、（ａ）表面ステージ部を搬入位置に位置させてフェースアップ姿勢のワークを受け取って保持させる状態と、（ｂ）フェースアップ姿勢のワークを保持する表面ステージ部を撮像位置に位置させて撮像部にワークの表面を撮像させて表面画像を取得する状態と、（ｃ）表面画像が撮像されたワークを保持する表面ステージ部を反転位置に位置させてワークを反転部に受渡してワークの反転を準備させる状態と、（ｄ）裏面ステージ部を反転部に位置させて反転部により反転されたフェースダウン姿勢のワークを裏面ステージ部に受け取らせる状態と、（ｅ）フェースダウン姿勢のワークを保持する裏面ステージ部を撮像位置に位置させて撮像部にワークの裏面を撮像させて裏面画像を取得する状態と、（ｆ）裏面画像が撮像されたワークを保持する裏面ステージ部を搬出位置に位置させてワークを裏面ステージ部から搬出させる状態との間で切り替え、検査部は表面画像および裏面画像に基づいてワークを検査することを特徴としている。

また、この発明の第３の態様は、撮像部が上方から撮像して取得する画像に基づいてワークを検査する検査方法であって、表面を上方に向けたフェースアップ姿勢のワークを撮像部の下方領域に搬送する工程と、下方領域に位置するフェースアップ姿勢のワークを撮像して表面画像を取得する工程と、表面画像が取得されたワークを下方領域で反転させてワークをフェースアップ姿勢からフェースダウン姿勢に切り替える工程と、下方領域に位置するフェースダウン姿勢のワークを撮像して裏面画像を取得する工程と、を備えることを特徴としている。

また、この発明の第４の態様は、撮像位置でワークを上方から撮像する撮像部と、反転位置でワークを反転させる反転部と、表面を上方に向けたフェースアップ姿勢でワークを保持可能な表面ステージ部と、裏面を上方に向けたフェースダウン姿勢でワークを保持可能な裏面ステージ部と、上下方向に平行な回転軸まわりに回転自在に設けられ、回転軸から同一距離離れながら互いに異なる位置に表面ステージ部および裏面ステージ部がそれぞれ取り付けられた回転体とを備える検査装置において撮像部によりフェースアップ姿勢のワークおよびフェースダウン姿勢のワークをそれぞれ撮像して取得される表面画像および裏面画像に基づいてワークを検査する検査方法であって、表面ステージ部が搬入位置に位置するように回転体を回転して位置決めし、フェースアップ姿勢のワークを表面ステージ部で受け取って保持させる工程と、フェースアップ姿勢のワークを保持する表面ステージ部が撮像位置に位置するように回転体を回転して位置決めし、撮像部によりワークの表面画像を取得する工程と、表面画像が撮像されたワークを保持する表面ステージ部が反転位置に位置するように回転体を回転して位置決めし、ワークを反転部に受渡してワークの反転を準備する工程と、裏面ステージ部が反転部に位置するように回転体を回転して位置決めし、反転部により反転させてフェースダウン姿勢となったワークを裏面ステージ部で受け取る工程と、フェースダウン姿勢のワークを保持する裏面ステージ部を撮像位置に位置するように回転体を回転して位置決めし、撮像部によりワークの裏面画像を取得する工程と、裏面画像が撮像されたワークを保持する裏面ステージ部を搬出位置に位置するように回転体を回転して位置決めし、ワークを裏面ステージ部から搬出する工程と、を備えることを特徴としている。

さらに、この発明の第５の態様は、表面を上方に向けたフェースアップ姿勢で撮像部の下方領域に搬送されたワークを表面撮像位置で撮像部により撮像してワークの表面画像を取得し、ワークを反転位置で反転部により反転させてワークの裏面を上方に向けたフェースダウン姿勢に切り替えた後に裏面撮像位置で撮像部により撮像してワークの裏面画像を取得するとともに表面画像および裏面画像に基づいてワークを検査する、検査装置においてワークを表面撮像位置、反転位置および裏面撮像位置に搬送するワーク搬送装置であって、フェースアップ姿勢でワークを支持可能な表面テーブルを着脱自在に保持する表面ステージ部を下方領域に移動させるとともに、フェースダウン姿勢でワークを支持可能な裏面テーブルを着脱自在に保持する裏面ステージ部を下方領域に移動させるステージ移動部と、表面ステージ部に対する表面テーブルの受渡および裏面ステージ部に対する裏面テーブルの受渡が可能なテーブル受渡部を下方領域で上下方向に移動させるテーブル移動部とを備え、テーブル移動部は、フェースアップ姿勢でワークを支持する表面テーブルを表面ステージ部から受け取り、ワークを表面テーブルで支持されたまま表面撮像位置に移動させた後で反転位置に移動させてワークを反転部に受渡して空となった表面テーブルを表面ステージ部に戻し、空の裏面テーブルを裏面ステージ部から受け取り反転位置に移動させてフェースダウン姿勢のワークを反転部から受け取った後にフェースダウン姿勢でワークを支持する裏面テーブルを裏面撮像位置を経由して裏面ステージ部に戻すことを特徴としている。

以上のように、本発明によれば、１つの撮像部によりワークの表面および裏面を撮像可能となっているため、装置のフットプリントを抑制するとともに低コストでワークの表面および裏面を検査することができる。

本発明に係る検査装置の第１実施形態を示す斜視図である。 図１に示す検査装置の側面図である。 図１に示す検査装置の電気的構成を示すブロック図である。 テーブル移動部の構成を示す図である。 反転部の構成を示す斜視図である。 図１に示す検査装置の主要部における動作フローを示す図である。 ワークを表面撮像位置に移動させる動作を模式的に示す図である。 本発明に係る検査装置の第２実施形態を示す図である。 図８に示す検査装置の電気的構成を示すブロック図である。 図８に示す検査装置の主要部における動作フローを示す図である。 本発明に係る検査装置の第３実施形態を示す図である。 図１１に示す検査装置の電気的構成を示すブロック図である。 図１１に示す検査装置の主要部における動作フローを示す図である。 図１１に示す検査装置の主要部における動作フローを示す図である。

図１は本発明に係る検査装置の第１実施形態を示す斜視図である。図２は図１に示す検査装置の側面図である。図３は図１に示す検査装置の電気的構成を示すブロック図である。検査装置１００は、ワークＷの表面Ｗｆおよび裏面Ｗｂをそれぞれ撮像して表面画像および裏面画像を取得するとともにこれらの画像に基づいて表面Ｗｆおよび裏面Ｗｂを検査するものである。なお、図１および図２では、装置の主要構成とワークＷの搬送経路などを明示するために検査装置１００の上方パネルの図示が省略されている。また、装置各部の配置関係および移動方向などを明確にするためにＸＹＺ直角座標軸が示されている。各図には、ワークＷの搬入位置ＰＡ（図２の左端位置）から搬出位置ＰＣ（図２の右端位置）に向かうワーク搬送方向に平行な水平方向Ｘと、当該水平方向Ｘに垂直な水平方向Ｙと、上下方向Ｚとが示されている。なお、水平方向Ｘの矢印Ｘ１はワーク搬送方向の上流側を向いており、水平方向Ｘの矢印Ｘ２はワーク搬送方向の下流側を向いている。水平方向Ｙの矢印Ｙ１は装置の正面側を向いており、水平方向Ｙの矢印Ｙ２は装置の背面側を向いている。上下方向Ｚの矢印Ｚ１は上方向を向いており、上下方向Ｚの矢印Ｚ２は下方向を向いている。

検査装置１００では、Ｘ方向に延設された２枚のベース板１０１、１０１が図示を省略する基台上でＹ方向に互いに離間して設けられている。各ベース板１０１上にレール１０２がＸ方向に敷設されている。そして、レール１０２のＸ１方向側で表面ステージ部１ＦがＸ方向に往復自在に設けられる一方、レール１０２のＸ２方向側で裏面ステージ部１ＢがＸ方向に往復自在に設けられている。より詳しくは、表面ステージ部１Ｆは、各レール１０２に対してＸ方向に移動自在に取り付けられたスライダー１１と、各スライダー１１の上面に固定された支持ブロック１２と、２つの支持ブロック１２の間に架け渡されたステージ１３とを有している。また、表面ステージ部１Ｆはワーク搬送部２のステージ移動部２１（図３）と接続されている。このため、装置全体を制御する制御部９の駆動制御部９３（図３）からの動作指令に応じてステージ移動部２１は表面ステージ部１Ｆをレール１０２のＸ１方向側位置と中央位置との間で往復移動させる。本実施形態では、表面ステージ部１ＦがＸ１方向側位置、つまり搬入位置ＰＡに位置決めされた状態で後述するように検査前のワークＷの搬入が行われる、一方、中央位置に位置決めされた表面ステージ部１Ｆは撮像直下位置ＰＢに位置して上方よりワークＷを撮像する撮像部３の下方領域３１（図２）に位置する。また、下方領域３１では、ワーク搬送部２のテーブル移動部２２および反転部４が配置されている。本実施形態では、水平面内において反転部４によりワークＷが反転される反転位置ＰＤは撮像直下位置ＰＢと一致している。

図１に示すように、ステージ１３の中央部には、テーブル移動部２２の上端部（＝アライメント部２２５＋テーブル受渡部２２６）を遊挿可能とする開口部１３１が設けられている。また、開口部１３１の周辺においてステージ１３の上面から２つの保持ピン１３２が立設されている。これらの保持ピン１３２は表面テーブル１４Ｆに設けられた２つの位置決め用の貫通孔１４１に対応して設けられている。このため、保持ピン１３２のＺ１方向に貫通孔１４１を位置させながら表面テーブル１４ＦをＺ２方向に移動させることで表面ステージ部１Ｆに対して表面テーブル１４Ｆを装着可能となっている。また、表面テーブル１４Ｆが装着された表面ステージ部１Ｆに対してテーブル移動部２２の上端部が開口部１３１を超えて上昇すると、表面テーブル１４Ｆが表面ステージ部１Ｆから取り外されて上方に持ち上げられる。逆に、テーブル移動部２２の上端部が開口部１３１を介してステージ１３の下方に退避すると、表面テーブル１４Ｆが表面ステージ部１Ｆに戻される。

表面テーブル１４Ｆの上面は、図１に示すように、ワークＷの裏面Ｗｂに対応した形状に仕上げられており、表面Ｗｆを上面に向けた姿勢、つまりフェースアップ姿勢のワークＷを支持して保持可能となっている。つまり、表面テーブル１４Ｆはフェースアップ姿勢のワークＷをそのまま支持可能となっている。したがって、表面テーブル１４ＦはワークＷを支持していない空の状態およびワークＷを支持した状態のいずれにおいても、上記したようにテーブル移動部２２の上端部の昇降に応じて表面テーブル１４Ｆに対して着脱される。なお、図２に示すように、空の表面テーブル１４Ｆを装着している表面ステージ部１Ｆがレール１０２のＸ１方向側の端部、つまり搬入位置ＰＡに位置しているときに検査前のワークＷを表面ステージ部１Ｆに搬入することが可能となっている。また、ワークＷの表面Ｗｆを上面に向けた姿勢で支持して保持可能なチャック機構を表面テーブル１４Ｆに装備させてもよい。すなわち、ワークＷの受渡しを行う際にチャック機構によるワークＷの保持を解除する一方、それ以外においてチャック機構によるワークＷの保持を継続させるように構成してもよい。これにより、ワーク保持を安定化させることができる。この点については、次に説明する裏面テーブル１４Ｂにおいても同様である。

一方、裏面ステージ部１Ｂは、裏面テーブル１４Ｂの構成を除き、基本的に表面ステージ部１Ｆと同一構成を有している。したがって、同一構成については同一符号を付して説明を省略する。裏面ステージ部１Ｂに対して裏面テーブル１４Ｂは着脱可能となっている。しかも、裏面テーブル１４Ｂの上面はワークＷの表面Ｗｆに対応した形状に仕上げられており、裏面Ｗｂを上方に向けた姿勢、つまりフェースダウン姿勢のワークＷを支持して保持可能となっている。したがって、裏面テーブル１４Ｂは、ワークＷを支持していない空の状態およびフェースダウン姿勢のワークＷを支持した状態のいずれにおいても、テーブル移動部２２の上端部の昇降に応じて裏面ステージ部１Ｂに対して着脱される。なお、図２に示すように、フェースダウン姿勢のワークＷを支持している裏面テーブル１４Ｂを装着している裏面ステージ部１Ｂがレール１０２のＸ２方向側の端部、つまり搬出位置ＰＣに位置しているときに検査後のワークＷを裏面ステージ部１Ｂから搬出可能となっている。

このように本実施形態では、ワークＷを表面テーブル１４Ｆや裏面テーブル１４Ｂなどの専用のテーブルを介して保持する表面ステージ部１Ｆや裏面ステージ部１Ｂがステージ移動部２１によりＸ方向に移動される。これによって、ワークＷはＸ方向に水平搬送される。また、撮像直下位置ＰＢに固定配置されたテーブル移動部２２によって撮像部３の下方領域３１においてワークＷは表面テーブル１４Ｆや裏面テーブル１４Ｂで保持されたまま撮像部３に近接搬送されてワーク撮像を実行する高さ位置（図２中の表面撮像位置ＰＢｆおよび裏面撮像位置ＰＢｂ）に位置決めされる。また、テーブル移動部２２は反転部４によるワークＷの反転を行う反転位置ＰＤにも位置決めする機能を有している。このようにステージ移動部２１とテーブル移動部２２とで構成されるワーク搬送部２はワークＷを搬入位置ＰＡから下方領域３１の各部（表面撮像位置ＰＢｆ、裏面撮像位置ＰＢｂおよび反転位置ＰＤ）を経由して搬出位置ＰＣに搬送する。そして、ワーク搬送部２によりワークＷが下方領域３１に位置している間に撮像部３によるワークＷの撮像が行われて表面画像および裏面画像が取得される。

図４はテーブル移動部の構成を示す図である。テーブル移動部２２は撮像部３の下方領域３１に搬送されて位置決めされた表面ステージ部１Ｆに対する表面テーブル１４Ｆの受渡および裏面ステージ部１Ｂに対する裏面テーブル１４Ｂの受渡を行う。テーブル移動部２２は、撮像部３の下方領域３１において基台（図示省略）に固定されたベース部２２１を有している。このベース部２２１に対してエアシリンダなどのアクチュエータ２２２がピストン２２３を上方に向けた状態で取り付けられている。ピストン２２３の先端には支持プレート２２４が固定されている。さらに、支持プレート２２４上にアライメント部２２５およびテーブル受渡部２２６が積層して設けられている。このため、制御部９の駆動制御部９３からの昇降指令に応じてピストン２２３が進退することでアライメント部２２５およびテーブル受渡部２２６が一体的にＺ方向に昇降する。このように本実施形態では、アクチュエータ２２２が本発明の「アライメント昇降部」の一例に相当している。なお、上記昇降動作を安定して円滑に実行するためにピストン２２３を取り囲むように複数のブッシュ２２７がベース部２２１の上端部に固定されるとともに各ブッシュ２２７にガイドロッド２２８が摺動自在に介挿されている。また、各ガイドロッド２２８の上端は支持プレート２２４の下面に連結されている。

テーブル受渡部２２６は、円環状の支持部材２２６ａと、支持部材２２６ａで囲まれた内部空間に配置されるテーブル保持部材２２６ｂとを有している。支持部材２２６ａの外径は、図４中の拡大断面図に示すように、表面ステージ部１Ｆや裏面ステージ部１Ｂのステージ１３に設けられた開口部１３１の内径よりも小さい。このため、ピストン２２３が上方に伸張してテーブル受渡部２２６が上方（Ｚ１方向）に移動していたとしても、表面ステージ部１Ｆや裏面ステージ部１Ｂとの干渉が回避される。また、テーブル受渡部２２６の上昇途中に支持部材２２６ａの上端部が表面ステージ部１Ｆに支持された表面テーブル１４Ｆの下面や裏面ステージ部１Ｂに支持された裏面テーブル１４Ｂの下面に当接して支持する。なお、本実施形態では、支持部材２２６ａを円環形状に仕上げているが、支持部材２２６ａの形状はこれに限定されるものではなく、開口部１３１の中に入り込んでテーブル支持可能である限り形状は任意である。

また、上記当接時点で制御部９の駆動制御部９３からチャック指令がテーブル保持部材２２６ｂに与えられると、テーブル保持部材２２６ｂに設けられた４本のチャック爪２２６ｃが互いに近接して表面テーブル１４Ｆや裏面テーブル１４Ｂの一部（被把持部位）を把持して機械的に保持する。これにより表面テーブル１４Ｆおよび裏面テーブル１４Ｂの移動が規制される。ここで、テーブル保持部材２２６ｂにおけるチャック爪２２６ｃの本数は４本に限定されるものではなく、被把持部位の把持に適した本数に設定することができる。また、本実施形態では、テーブル保持部材２２６ｂはチャック方式で表面テーブル１４Ｆや裏面テーブル１４Ｂを機械的に保持しているが、別の機械方式、例えばフック方式で保持するように構成してもよい。また、機械方式以外に、吸着方式や磁石方式などで保持するようにテーブル保持部材２２６ｂを構成してもよい。

テーブル受渡部２２６の下方に設けられたアライメント部２２５はＸ方向、Ｙ方向およびピストン２２３の延伸方向と平行な軸を中心とする回転方向θに移動させる。これによって基台に固定された部品群（ベース部２２１およびアクチュエータ２２２）に対するテーブル受渡部２２６の相対位置を調整可能となっている。したがって、当該相対位置の調整により撮像部３や反転部４に対し、表面テーブル１４Ｆに保持されたフェースアップ姿勢のワークＷや裏面テーブル１４Ｂに保持されたフェースダウン姿勢のワークＷが高精度にアライメントされる。その結果、撮像部３によるワークＷの撮像および反転部４によるワークＷの反転を良好に行うことができる。

撮像部３は凹面状の内周面を有するカバー部材３２を有している。カバー部材３２は、その中心軸をピストン２２３の長手軸とほぼ一致させるとともに内周面を下方に向けた状態で撮像支持フレーム３３に固定されている。つまり、カバー部材３２の内周面は表面撮像位置ＰＢｆ（図７）に位置決めされるフェースアップ姿勢のワークＷや裏面撮像位置ＰＢｂ（図７）に位置決めされるフェースダウン姿勢のワークＷに対向し、当該ワークＷを上方から覆うドームとなっている。

また、撮像部３では、カバー部材３２に対して複数の検査カメラ３４および複数の検査照明部３５がそれぞれ異なる位置に取り付けられている。このため、撮像部３では、ワークＷに対して種々の照明方向から照明光が照射されるとともに、ワークＷを多方向から撮像する。なお、撮像部３としては、例えば特開２０１７−１５４２１号公報に記載されたものと同様の配置を採用することができる。

撮像部３により撮像された画像、つまりワークＷの表面画像および裏面画像は制御部９に送られて表面画像および裏面画像に基づいてワークＷの検査が実行される一方、表面が撮像された後のワークＷはテーブル受渡部２２６により反転位置ＰＤに搬送され、反転部４によってワークＷは上下反転される。これによりワークＷの姿勢はフェースアップ姿勢からフェースダウン姿勢に変更される。

図５は反転部の構成を示す斜視図である。反転部４は、撮像部３の下方領域３１において基台から立設された支持部材（図示省略）により支持された反転保持駆動部４３と、反転保持駆動部４３に回転自在に支持される反転保持部４４とを有している。反転保持部４４は、図５に示すように、互いに対向配置された一対のチャック部材４４１、４４１を有している。チャック部材４４１、４４１はテーブル移動部２２により反転位置ＰＤに搬送されてきた表面テーブル１４Ｆに保持されたワークＷを把持可能となっている。つまり、表面テーブル１４Ｆに支持されたまま一体的に反転位置ＰＤに搬送されてきたワークＷを一対のチャック部材４４１、４４１が水平方向Ｘから挟み込むことにより反転位置ＰＤでワークＷを保持する。この状態でテーブル移動部２２のアライメント部２２５およびテーブル受渡部２２６が一体的に下降することでテーブル移動部２２から反転部４へのワークＷの受渡が完了する。また、保持状態のまま反転保持駆動部４３により一対のチャック部材４４１、４４１が１８０゜回転することでワークＷを上下反転させる。この後で裏面テーブル１４Ｂを保持したテーブル受渡部２２６がアライメント部２２５と一体的に反転位置ＰＤに移動してきた後で、反転保持部４４により一対のチャック部材４４１、４４１を互いに離間させる。これによってワークＷの保持が解除され、反転部４から裏面テーブル１４Ｂ上にフェースダウン姿勢のワークＷが受渡される。そして、当該裏面テーブル１４Ｂを保持するテーブル受渡部２２６がアライメント部２２５と一体的に上昇することで裏面撮像位置ＰＢｂに位置決めする。

制御部９は、論理演算を実行する周知のＣＰＵ（Central Processing Unit）、初期設定等を記憶しているＲＯＭ（Read Only Memory）、装置動作中の様々なデータを一時的に記憶するＲＡＭ（Random Access Memory）、画像データや検査プログラムなどを記憶するハードディスク等から構成されている。制御部９は、機能的には、演算処理部９１、記憶部９２、駆動制御部９３、外部入出力部９４、画像処理部９５および照明制御部９６を備えている。

上記駆動制御部９３は、上記したように装置各部に設けられた駆動機構などの駆動を制御する。外部入出力部９４は、装置各部に装備されている各種センサ類からの信号を入力する一方、装置各部に装備されている各種アクチュエータ等に対して信号を出力する。画像処理部９５は、検査カメラ３４から画像データを取り込み、２値化等の画像処理を行う。照明制御部９６は検査照明部３５の点灯および消灯等を制御する。

上記演算処理部９１は、演算機能を有するものであり、上記記憶部９２に記憶されている検査プログラムに従って駆動制御部９３、画像処理部９５、照明制御部９６などを制御することで次に説明する一連の処理を実行する。これによりワークＷの検査が行われる。つまり、演算処理部９１は本発明の「検査部」として機能する検査部９１１を有している。

図６は図１に示す検査装置の主要部における動作フローを示す図である。図７はワークを表面撮像位置に移動させる動作を模式的に示す図である。図６（および後で説明する図１０、図１３および図１４）における括弧内の符号は各部に位置するワークＷを示している。また、下線はワークＷがフェースダウン姿勢であることを示し、下線なしはワークＷがフェースアップ姿勢であることを示している。例えば（Ｗ１）は検査装置１００に最初に搬入されたフェースアップ姿勢のワークであることを意味している。

検査装置１００の表面ステージ部１Ｆ、テーブル移動部２２、撮像部３、反転部４および裏面ステージ部１Ｂの初期状態は、それぞれ「搬入位置ＰＡ」、「退避位置」、「照明消灯」、「ワーク非保持」および「搬出位置」である。これらのうち「退避位置」は、テーブル移動部２２のテーブル受渡部２２６が表面ステージ部１Ｆおよび裏面ステージ部１Ｂの移動経路よりも下方位置に退避していることを意味している。「照明消灯」は検査照明部３５が消灯していることを意味している。

最初のステップＳ０１で未検査の１番目のワークＷ１が搬入位置ＰＡに位置している表面ステージ部１Ｆに搬入され、表面ステージ部１Ｆに位置決め支持されている表面テーブル１４Ｆに保持される。

ステップＳ０２では、駆動制御部９３からの移動指令に基づいてステージ移動部２１が表面ステージ部１Ｆを撮像部３の下方領域３１に移動させる。これにより図７の左欄に示すように、ワークＷ１をフェースアップ姿勢で保持する表面テーブル１４Ｆは退避位置に位置するテーブル受渡部２２６の直上に位置決めされる。このとき、テーブル受渡部２２６では、テーブル保持部材２２６ｂのチャック爪２２６ｃは相互に広がっており、非把持状態となっている。

ステップＳ０３では、テーブル移動部２２がフェースアップ姿勢のワークＷ１を保持したまま表面テーブル１４Ｆを表面ステージ部１Ｆから上方（Ｚ１方向）に持ち上げ、ワークＷ１を表面撮像位置ＰＢｆに位置決めする。より詳しくは、駆動制御部９３からの上昇指令に基づいてアクチュエータ２２２がピストン２２３を上方に伸張して支持部材２２６ａの上端部を表面ステージ部１Ｆに支持された表面テーブル１４Ｆの下面に当接させる。また、当該当接を確認した上で駆動制御部９３からの把持指令に応じてチャック爪２２６ｃが相互に近接して表面テーブル１４Ｆの被把持部位（本実施形態では中央部から下方に突起した部位）を把持する。これにより表面テーブル１４Ｆがテーブル受渡部２２６とドッキングされる（図７の中央欄参照）。当該ドッキング後にピストン２２３がさらに上方に伸張してアライメント部２２５およびテーブル受渡部２２６を一体的に撮像部３に向けて上昇させる。これにより、図７の右欄に示すようにワークＷ１の表面Ｗｆが表面撮像位置ＰＢｆに位置決めされる。

ステップＳ０４では、撮像部３に設けられた検査カメラ３４の１台（本実施形態では表面撮像位置ＰＢｆの直上位置に設けられた検査カメラ３４）がワークＷ１の表面Ｗｆを撮像してアライメント画像を取得する。そして、当該アライメント画像に基づいて撮像部３に対するワークＷ１の位置ずれを検出し、その検出結果に応じてアライメント部２２５がワークＷ１をＸ方向、Ｙ方向およびθ方向に移動させてワーク位置を補正する。

ステップＳ０５では、撮像部３の検査照明部３５が点灯するとともに検査カメラ３４がアライメント補正されたワークＷ１の表面Ｗｆを撮像して表面画像を取得する。そして、演算処理部９１の検査部９１１が表面画像に基づいてワークＷ１の表面検査を行う。

ステップＳ０６では、駆動制御部９３からの下降指令に基づいてアクチュエータ２２２がピストン２２３を下方に収縮してテーブル受渡部２２６を反転位置ＰＤに位置決めする。これに続いて、駆動制御部９３からのチャック指令に応じて反転部４の反転保持部４４が一対のチャック部材４４１、４４１を互いに近接させてフェースアップ姿勢のままワークＷ１を保持する。これにより、ワークＷ１はテーブル移動部２２から反転部４に受け渡され、表面テーブル１４ＦはワークＷ１を保持しない空の状態となる。

ステップＳ０７では、反転部４は受け取ったワークＷ１を反転保持駆動部４３により１８０゜回転させてフェースアップ姿勢からフェースダウン姿勢に反転させる。それに続いて、反転部４は反転位置ＰＤから退避し、さらに駆動制御部９３からの下降指令に基づいてアクチュエータ２２２がピストン２２３を下方にさらに収縮してテーブル受渡部２２６を反転位置ＰＤから退避位置に下降させる。これにより、空の表面テーブル１４Ｆが表面ステージ部１Ｆに受渡される。

ステップＳ０８では、駆動制御部９３からの移動指令に基づいてステージ移動部２１が表面ステージ部１Ｆを下方領域３１から搬入位置ＰＡに移動させるとともに裏面ステージ部１Ｂを撮像部３の下方領域３１に移動させる。

ステップＳ０９では、未検査の２番目のワークＷが搬入位置ＰＡに位置している表面ステージ部１Ｆに搬入され、表面ステージ部１Ｆに位置決め支持されている表面テーブル１４Ｆに保持される。これと並行して、テーブル移動部２２が空の裏面テーブル１４Ｂを裏面ステージ部１Ｂから上方（Ｚ１方向）に持ち上げ、反転位置ＰＤに位置決めする。この位置決めに続いて反転部４は一対のチャック部材４４１、４４１を互いに離間させてワークＷ１の保持を解除する。これによって、フェースダウン姿勢のワークＷ１が反転部４から裏面テーブル１４Ｂに受渡される。

ステップＳ１０では、テーブル移動部２２がフェースダウン姿勢のワークＷ１を保持したまま裏面テーブル１４Ｂを上昇させて裏面撮像位置ＰＢｂに位置決めする。

ステップＳ１１では、ステップＳ０４と同様に、撮像部３に設けられた検査カメラ３４の１台がワークＷ１の裏面Ｗｂを撮像してアライメント画像を取得する。そして、当該アライメント画像に基づいて撮像部３に対するワークＷ１の位置ずれを検出し、その検出結果に応じてアライメント部２２５がワークＷ１をＸ方向、Ｙ方向およびθ方向に移動させてワーク位置を補正する。

ステップＳ１２では、撮像部３の検査照明部３５が点灯するとともに検査カメラ３４がアライメント補正されたワークＷ１の裏面Ｗｂを撮像して裏面画像を取得する。そして、演算処理部９１の検査部９１１が裏面画像に基づいてワークＷ１の裏面検査を行う。

ステップＳ１３では、駆動制御部９３からの下降指令に基づいてアクチュエータ２２２がピストン２２３を下方に収縮してテーブル受渡部２２６を退避位置に位置決めする。これにより表面検査および裏面検査を受けたワークＷ１を保持した裏面テーブル１４Ｂが裏面ステージ部１Ｂに受渡される。

ステップＳ１４では、駆動制御部９３からの移動指令に基づいてステージ移動部２１が裏面ステージ部１Ｂを撮像部３の下方領域３１から搬出位置ＰＣに移動させるとともに表面ステージ部１Ｆを下方領域３１から搬入位置ＰＡに移動させる。これによって、検査済のワークＷ１を保持する裏面テーブル１４Ｂが搬出位置ＰＣに位置決めされる一方、２番目の未検査のワークＷ２が撮像部３の下方領域３１に位置決めされる。

ステップＳ１５では、検査済のワークＷ１が搬出位置ＰＣから搬出される一方、ステップＳ０３と同様にしてワークＷ２がフェースアップ姿勢で表面撮像位置ＰＢｆに位置決めされる。

それに続いて、上記ステップＳ０４〜Ｓ１５が繰り返されて複数のワークＷが順次検査される。

以上のように、本実施形態では、１台の撮像部３によりワークＷの表面画像および裏面画像を取得することができる。したがって、従来装置に比べて検査装置１００のフットプリントを抑制するとともに低コストでワークＷの表面および裏面を検査することができる。

また、フェースアップ姿勢およびフェースダウン姿勢のいずれにおいてもアライメント部２２５による位置補正を行った後で、撮像部３による撮像によって取得されたる表面画像および裏面画像に基づいてワークＷの検査を行っている。このため、従来装置に比べ、より高い精度でワークＷを検査することができる。

また、ワークＷを移動させるために表面テーブル１４Ｆおよび裏面テーブル１４Ｂを利用しているため、次の作用効果が得られる。ワーク搬送部２によりワークＷを移動させる際にはワークＷをしっかりと保持しておく必要がある。ここで、例えば次に説明する第２実施形態のようにワーク搬送部２が直接ワークＷの一部を保持するように構成してもよい。この場合、フェースアップ姿勢ではワークＷの裏面Ｗｂの一部を被把持部位として把持し、フェースダウン姿勢ではワークＷの表面Ｗｆの一部を被把持部位として把持する必要がある。ここで、ワークＷの表面Ｗｆおよび裏面Ｗｂの形状などが一致していない場合には、表面Ｗｆおよび裏面Ｗｂにおける被把持部位の大きさや形状などが相違することが一般的である。そのため、表面Ｗｆおよび裏面Ｗｂの被把持部位に応じて保持態様を相違させる必要がある。これに対し、表面テーブル１４Ｆおよび裏面テーブル１４Ｂを用いる場合、ワークＷを保持する上面についてはワークＷ１の外形に対応して相違させるという制約があるが、下面について上記制約はなく、共通形状に仕上げることができる。

また、表面テーブル１４Ｆおよび裏面テーブル１４Ｂの下面に設けるべき被把持部位の形状や大きさなどを例えば図７に示すようにテーブル保持部材２２６ｂの構成に応じたものに設定することができる。つまり、設計自由度を高めることができる。

さらに、ワークＷを移動させるために表面テーブル１４Ｆおよび裏面テーブル１４Ｂを利用しているため、高価で精度が必要となるアライメントステージ（例えば、ＸＹθステージ）、および上下方向Ｚに移動可能とさせるための駆動機構を撮像部３の下方に設けるだけで良く、装置コストの低下を図ることができる。

図８は本発明に係る検査装置の第２実施形態を示す図である。また、図９は図８に示す検査装置の電気的構成を示すブロック図である。第２実施形態が第１実施形態と大きく相違する点は、表面ステージ部１Ｆおよび裏面ステージ部１Ｂがテーブル移動部２２の機能を備え、表面テーブル１４Ｆおよび裏面テーブル１４Ｂを用いることなく、下方領域３１でのワークＷの搬送およびアライメントを行う点である。その他の構成は第１実施形態と基本的に共通している。そこで、以下においては、第１実施形態と相違する構成を中心に説明した後で第２実施形態での検査動作について説明する。

表面ステージ部１Ｆでは、ステージ１３の下面に対してアクチュエータ１５がピストン（図示省略）を上方に向けて取り付けられている。図８には明示されていないが、ピストンの先端部は常時ステージ１３の中央部に形成された貫通孔（図１中の符号１３１）を介してステージ１３の上方側に位置し、アライメント部１６を保持している。また、図８に示すようにアライメント部１６の上面にワーク保持部１７が取り付けられている。このワーク保持部１７は一対のチャック部材１７１、１７１を有しており、制御部９の駆動制御部９３からの指令に応じてチャック部材１７１が互いに近接および離間してワークＷの被把持部位を把持可能となっている。このように第２実施形態では表面ステージ部１Ｆに対してワークＷは直接搬入され、チャック部材１７１、１７１によりワークＷをフェースアップ姿勢で直接保持可能となっている。また、表面ステージ部１Ｆが下方領域３１に位置した状態で駆動制御部９３からの指令に応じてアクチュエータ１５がピストンを伸張させると、ワーク保持部１７がアライメント部１６とともに上昇してワークＷを表面撮像位置ＰＢｆに位置決めする。一方、アクチュエータ１５がピストンを収縮させると、ワーク保持部１７は表面撮像位置ＰＢｆから反転位置ＰＤを経由して元の位置に戻される。

一方、裏面ステージ部１Ｂも基本的に表面ステージ部１Ｆと同様に構成されている。このため、裏面ステージ部１Ｂを搬出位置ＰＣに位置決めさせた状態でチャック部材１７１、１７１によるワークＷの保持を解除することでワークＷの搬出が可能となる。また、裏面ステージ部１Ｂが下方領域３１に位置した状態で駆動制御部９３からの指令に応じてアクチュエータ１５がピストンを伸張させると、ワーク保持部１７がアライメント部１６とともに反転位置ＰＤを経由して上昇してワークＷを裏面撮像位置ＰＢｂに位置決めする。一方、アクチュエータ１５がピストンを収縮させると、ワーク保持部１７は裏面撮像位置ＰＢｂから元の位置に戻される。

図１０は図８に示す検査装置の主要部における動作フローを示す図である。第２実施形態における検査装置１００の表面ステージ部１Ｆ、撮像部３、反転部４および裏面ステージ部１Ｂの初期状態は、それぞれ「搬入位置ＰＡ」、「照明消灯」、「ワーク非保持」および「搬出位置」である。

最初のステップＳ２１で未検査の１番目のワークＷ１が搬入位置ＰＡに位置している表面ステージ部１Ｆに搬入され、ワーク保持部１７によりフェースアップ姿勢で保持される。

ステップＳ２２では、駆動制御部９３からの移動指令に基づいてステージ移動部２１が表面ステージ部１Ｆを撮像部３の下方領域３１に移動させる。

ステップＳ２３では、駆動制御部９３からの移動指令に基づいてアクチュエータ１５がピストンを伸張させる。これによって、フェースアップ姿勢のワークＷ１を保持したままワーク保持部１７とアライメント部１６とが一体的に上昇してワーク保持部１７で保持されたワークＷ１を表面撮像位置ＰＢｆに位置決めする。

ステップＳ２４では、撮像部３に設けられた検査カメラ３４の１台（本実施形態では表面撮像位置ＰＢｆの直上位置に設けられた検査カメラ３４）がワークＷ１の表面Ｗｆを撮像してアライメント画像を取得する。そして、当該アライメント画像に基づいて撮像部３に対するワークＷ１の位置ずれを検出し、その検出結果に応じてアライメント部１６がワークＷ１をＸ方向、Ｙ方向およびθ方向に移動させてワーク位置を補正する。

ステップＳ２５では、撮像部３の検査照明部３５が点灯するとともに検査カメラ３４がアライメント補正されたワークＷ１の表面Ｗｆを撮像して表面画像を取得する。そして、演算処理部９１の検査部９１１が表面画像に基づいてワークＷ１の表面検査を行う。

ステップＳ２６では、駆動制御部９３からの下降指令に基づいてアクチュエータ１５がピストン（図示省略）を下方に収縮してワーク保持部１７に保持されたワークＷ１を反転位置ＰＤに位置決めする。これに続いて、駆動制御部９３からのチャック解除指令に応じてワーク保持部１７のチャック部材１７１、１７１が互いに離間してワークＷ１の保持を解除する。その一方、反転部４の反転保持部４４が一対のチャック部材４４１、４４１を互いに近接させてフェースアップ姿勢のままワークＷ１を保持する。これにより、ワークＷ１は表面ステージ部１Ｆから反転部４に受け渡され、表面ステージ部１ＦはワークＷ１を保持しない空の状態となる。

ステップＳ２７では、反転部４は受け取ったワークＷ１を反転保持駆動部４３により１８０゜回転させてフェースアップ姿勢からフェースダウン姿勢に反転させる。これに続けて、駆動制御部９３からの下降指令に基づいてアクチュエータ１５がピストン（図示省略）を下方にさらに収縮して元の位置（搬入位置ＰＡと同一高さ位置）に下降させる。

ステップＳ２８では、駆動制御部９３からの移動指令に基づいてステージ移動部２１が表面ステージ部１Ｆを下方領域３１から搬入位置ＰＡに移動させるとともに空の裏面ステージ部１Ｂを撮像部３の下方領域３１に移動させる。

ステップＳ２９では、未検査の２番目のワークＷが搬入位置ＰＡに位置している表面ステージ部１Ｆに搬入され、ワーク保持部１７によりフェースアップ姿勢で保持される。これと並行して、空の裏面ステージ部１Ｂが反転位置ＰＤに位置決めされる。すなわち、駆動制御部９３からの移動指令に基づいてアクチュエータ１５がピストンを伸張させ、空のワーク保持部１７とアライメント部１６とを一体的に上昇させて反転位置ＰＤに位置決めする。この位置決めに続いて反転部４は一対のチャック部材４４１、４４１を互いに離間させてワークＷ１の保持を解除する。これによって、フェースダウン姿勢のワークＷ１が反転部４から裏面ステージ部１Ｂのワーク保持部１７に受渡される。それに続いて、ワーク保持部１７のチャック部材１７１、１７１が互いに近接してワークＷ１を保持する。

ステップＳ３０では、フェースダウン姿勢のワークＷ１を保持したままワーク保持部１７とアライメント部１６とが一体的に上昇してワーク保持部１７に保持されるワークＷ１が裏面撮像位置ＰＢｂに位置決めされる。

ステップＳ３１では、ステップＳ２４と同様に、撮像部３に設けられた検査カメラ３４の１台がワークＷ１の裏面Ｗｂを撮像してアライメント画像を取得する。そして、当該アライメント画像に基づいて撮像部３に対するワークＷ１の位置ずれを検出し、その検出結果に応じてアライメント部１６がワークＷ１をＸ方向、Ｙ方向およびθ方向に移動させてワーク位置を補正する。

ステップＳ３２では、撮像部３の検査照明部３５が点灯するとともに検査カメラ３４がアライメント補正されたワークＷ１の裏面Ｗｂを撮像して裏面画像を取得する。そして、演算処理部９１の検査部９１１が裏面画像に基づいてワークＷ１の裏面検査を行う。

ステップＳ３３では、駆動制御部９３からの下降指令に基づいてアクチュエータ１５がピストン（図示省略）を下方に収縮して元の位置（搬入位置ＰＡと同一高さ位置）に下降させる。

ステップＳ３４では、駆動制御部９３からの移動指令に基づいてステージ移動部２１が裏面ステージ部１Ｂを撮像部３の下方領域３１から搬出位置ＰＣに移動させるとともに表面ステージ部１Ｆを下方領域３１から搬入位置ＰＡに移動させる。これによって、検査済のワークＷ１を保持する裏面ステージ部１Ｂが搬出位置ＰＣに位置決めされる一方、２番目の未検査のワークＷ２が撮像部３の下方領域３１に位置決めされる。

ステップＳ３５では、検査済のワークＷ１が搬出位置ＰＣから搬出される一方、ステップＳ２３と同様にしてフェースアップ姿勢のワークＷ２を保持するワーク保持部１７が表面撮像位置ＰＢｆに位置決めされる。

それに続いて、上記ステップＳ２４〜Ｓ３５が繰り返されて複数のワークＷが順次検査される。

以上のように、第２実施形態においても、第１実施形態と同様の作用効果が得られる。すなわち、１台の撮像部３によりワークＷの表面画像および裏面画像を取得することができ、その結果、フットプリントおよび装置コストを低減させることができる。

また、フェースアップ姿勢およびフェースダウン姿勢のいずれにおいてもアライメント部１６による位置補正を行った後で、撮像部３による撮像によって取得されたる表面画像および裏面画像に基づいてワークＷの検査を行っている。このため、従来装置に比べ、より高い精度でワークＷを検査することができる。

図１１は本発明に係る検査装置の第３実施形態を示す図である。また、図１２は図１１に示す検査装置の電気的構成を示すブロック図である。第３実施形態では、円盤状の回転体５が上下方向Ｚと平行に延びる回転軸ＡＸまわりに回転方向θに回転自在に設けられている。回転体５には、表面ステージ部１Ｆａ、裏面ステージ部１Ｂａ、表面ステージ部１Ｆｂ、裏面ステージ部１Ｂｂが回転軸ＡＸから同一距離離れながら回転軸ＡＸを中心に９０゜間隔離れて取り付けられている。これらの表面ステージ部１Ｆａ、裏面ステージ部１Ｂａ、表面ステージ部１Ｆｂ、裏面ステージ部１Ｂｂはいずれの第２実施形態で採用されている表面ステージ部１Ｆおよび裏面ステージ部１Ｂと同一構成を有している。このため、各部のワーク保持部１７でワークＷを保持可能となっており、最大４個のワークＷを同時に回転軸ＡＸまわりに回転方向θに移動させることが可能となっている。

回転体５には回転移動部２３がワーク搬送部２として接続され、制御部９の駆動制御部９３から回転指令が与えられる毎に回転移動部２３を回転軸ＡＸまわりに９０゜回転させる。これによりワーク保持部１７に保持されている全ワークＷが回転軸ＡＸまわりに等角度間隔（９０゜間隔）で回転方向θに搬送される。また、本実施形態では、搬入位置ＰＡ、撮像直下位置ＰＢ、搬出位置ＰＣおよび反転部４の直下位置（図１１中の符号ＰＤａ）は回転軸ＡＸまわりに等角度間隔（９０゜間隔）で設けられている。これにより、ワークＷが互いに９０゜間隔で設けられた搬入位置ＰＡ、撮像直下位置ＰＢ、搬出位置ＰＣおよび反転部４の直下位置（図１１中の符号ＰＤａ）に順次搬送されて位置決めされる。

これらのうち位置ＰＢ、ＰＤａの上方には撮像部３および反転部４がそれぞれ配置されている。撮像部３は第２実施形態で採用しているものと同一である。表面ステージ部１Ｆａ、１Ｆｂによりフェースアップ姿勢のワークＷを保持したワーク保持部１７が上昇することでワークＷの表面Ｗｆを表面撮像位置ＰＢｆに位置決めした状態で撮像部３はワークＷの表面Ｗｆを撮像して表面画像を取得する。また、裏面ステージ部１Ｂａ、１Ｂｂによりフェースダウン姿勢のワークＷを保持したワーク保持部１７が上昇することでワークＷの裏面Ｗｂを裏面撮像位置ＰＢｂに位置決めした状態で撮像部３はワークＷの裏面Ｗｂを撮像して裏面画像を取得する。

また、反転部４は、表面ステージ部１Ｆａ、１Ｆｂのワーク保持部１７が反転位置ＰＤに位置決めた状態でフェースアップ姿勢のワークＷを受け取り、当該ワークＷを反転し、裏面ステージ部１Ｂａ、１Ｂｂのワーク保持部１７が反転位置ＰＤに位置決めた状態で反転後のワークＷを当該ワーク保持部１７に受け渡す。

図１３および図１４は図１１に示す検査装置の主要部における動作フローを示す図である。これらの図では、「回転体」において回転体５が回転移動部２３により９０゜回転されるタイミングが示されるとともに当該回転後に表面ステージ部１Ｆａ、裏面ステージ部１Ｂａ、表面ステージ部１Ｆｂ、裏面ステージ部１Ｂｂの位置が「位置ＰＡ」、「位置ＰＢ」、「位置ＰＣ」、「位置ＰＤａ」に示されている。また、「位置ＰＡ」、「位置ＰＢ」、「位置ＰＣ」、「位置ＰＤａ」には、回転体５の回転が停止しているときの状況（本発明の「回転体の一時停止状況」に相当）が示されている。

第３実施形態における検査装置１００の初期状態では、「位置ＰＡ」、「位置ＰＢ」、「位置ＰＣ」および「位置ＰＤａ」に表面ステージ部１Ｆａ、裏面ステージ部１Ｂａ、表面ステージ部１Ｆｂおよび裏面ステージ部１Ｂｂがそれぞれ位置決めされている。

最初のステップＳ４１で未検査の１番目のワークＷ１が搬入位置ＰＡに位置している表面ステージ部１Ｆａに搬入され、ワーク保持部１７によりフェースアップ姿勢で保持される。

ステップＳ４２では、駆動制御部９３からの移動指令に基づいて回転移動部２３が回転体５を回転方向θの９０゜回転移動させる。これにより、表面ステージ部１Ｆａ、裏面ステージ部１Ｂａ、表面ステージ部１Ｆｂおよび裏面ステージ部１Ｂｂは、それぞれ「位置ＰＢ」、「位置ＰＣ」、「位置ＰＤａ」および「位置ＰＡ」に移動して位置決めされる。これにより表面ステージ部１Ｆａのワーク保持部１７によりフェースアップ姿勢で保持されているワークＷ１は撮像部３の下方領域３１に位置する。

ステップＳ４３〜Ｓ４５では、第２実施形態のステップＳ２３〜Ｓ２５と同様の工程を実行してワークＷ１の表面を撮像して表面検査を行う。

ステップＳ４６では、駆動制御部９３からの下降指令に基づいてアクチュエータ１５がピストン（図示省略）を下方に収縮してワークＷ１をフェースアップ姿勢で保持するワーク保持部１７を元の位置ＰＢに戻す。

ステップＳ４７では、駆動制御部９３からの移動指令に基づいて回転移動部２３が回転体５を回転方向θの９０゜回転移動させる。これにより、表面ステージ部１Ｆａ、裏面ステージ部１Ｂａ、表面ステージ部１Ｆｂおよび裏面ステージ部１Ｂｂは、それぞれ「位置ＰＣ」、「位置ＰＤａ」、「位置ＰＡ」および「位置ＰＢ」に移動して位置決めされる。

ステップＳ４８では、未検査の２番目のワークＷ２が搬入位置ＰＡに位置している表面ステージ部１Ｆｂに搬入され、ワーク保持部１７によりフェースアップ姿勢で保持される。

ステップＳ４９では、駆動制御部９３からの移動指令に基づいて回転移動部２３が回転体５を回転方向θの９０゜回転移動させる。これにより、表面ステージ部１Ｆａ、裏面ステージ部１Ｂａ、表面ステージ部１Ｆｂおよび裏面ステージ部１Ｂｂは、それぞれ「位置ＰＤａ」、「位置ＰＡ」、「位置ＰＢ」および「位置ＰＣ」に移動して位置決めされる。これにより表面ステージ部１Ｆａのワーク保持部１７によりフェースアップ姿勢で保持されているワークＷ１、Ｗ２はそれぞれ反転部４および撮像部３の下方に位置する。そして、次の回転体５の回転まで回転体５は一時停止状況にあるが、表面ステージ部１Ｆａ、１Ｆｂは次のように動作して反転部４へのワークＷ１の受渡とワークＷ２の表面検査とを並行して行う。

ステップＳ５０では、駆動制御部９３からの上昇指令に基づいて表面ステージ部１Ｆａのアクチュエータ１５がピストン（図示省略）を上方に伸張してワークＷ１をフェースアップ姿勢で保持するワーク保持部１７を反転位置ＰＤに移動させて位置決めする。これに続いて、駆動制御部９３からのチャック指令に応じて反転部４の反転保持部４４が一対のチャック部材４４１、４４１を互いに近接させてフェースアップ姿勢のままワークＷ１を保持する。これにより、ワークＷ１は表面ステージ部１Ｆａから反転部４に受け渡され、表面ステージ部１ＦａはワークＷ１を保持しない空の状態となる。

一方、表面ステージ部１Ｆｂでは、駆動制御部９３からの上昇指令に基づいてアクチュエータ１５がピストン（図示省略）を上方に伸張してワークＷ２をフェースアップ姿勢で保持するワーク保持部１７を表面撮像位置ＰＢｆに移動させて位置決めする。

ステップＳ５１〜Ｓ５２では、第２実施形態のステップＳ２３〜Ｓ２４と同様の工程を実行してワークＷ１の表面を撮像して表面検査を行う。

ステップＳ５３では、駆動制御部９３からの下降指令に基づいて表面ステージ部１Ｆａのアクチュエータ１５がピストン（図示省略）を下方に収縮して空状態となったワーク保持部１７を元の位置ＰＤａに戻す。一方、表面ステージ部１Ｆｂにおいては、アクチュエータ１５がピストン（図示省略）を下方に収縮してワークＷ１をフェースアップ姿勢で保持するワーク保持部１７を元の位置ＰＢに戻す。

ステップＳ５４では、駆動制御部９３からの移動指令に基づいて回転移動部２３が回転体５を回転方向θの９０゜回転移動させる。これにより、表面ステージ部１Ｆａ、裏面ステージ部１Ｂａ、表面ステージ部１Ｆｂおよび裏面ステージ部１Ｂｂは、それぞれ「位置ＰＡ」、「位置ＰＢ」、「位置ＰＣ」および「位置ＰＤａ」に移動して位置決めされる。そして、次の回転体５の回転まで回転体５は一時停止状況にあるが、表面ステージ部１Ｆａ、裏面ステージ部１Ｂｂおよび反転部４は次のように動作して未検査のワークＷ３の搬入、ワークＷ１の反転および反転ワークＷ１の裏面ステージ部１Ｂｂへの受渡が並行して行われる。

ステップＳ５５では、未検査の３番目のワークＷ３が搬入位置ＰＡに位置している表面ステージ部１Ｆａに搬入され、ワーク保持部１７によりフェースアップ姿勢で保持される。また同時に、反転部４は受け取ったワークＷ１を反転保持駆動部４３により１８０゜回転させてフェースアップ姿勢からフェースダウン姿勢に反転させる。

ステップＳ５６では、駆動制御部９３からの移動指令に基づいて裏面ステージ部１Ｂｂのアクチュエータ１５がピストン（図示省略）を伸張させ、ワーク保持部１７とアライメント部１６とを一体的に上昇させて反転位置ＰＤに位置決めする。この位置決めに続いて反転部４は一対のチャック部材４４１、４４１を互いに離間させてワークＷ１の保持を解除する。これによって、フェースダウン姿勢のワークＷ１が反転部４から裏面ステージ部１Ｂｂのワーク保持部１７に受渡される。それに続いて、ワーク保持部１７のチャック部材１７１、１７１が互いに近接してワークＷ１を保持する。

ステップＳ５７では、裏面ステージ部１Ｂｂのアクチュエータ１５がピストン（図示省略）を下方に収縮してワークＷ１をフェースアップ姿勢で保持するワーク保持部１７を元の位置ＰＤａに戻す。

ステップＳ５８では、駆動制御部９３からの移動指令に基づいて回転移動部２３が回転体５を回転方向θの９０゜回転移動させる。これにより、表面ステージ部１Ｆａ、裏面ステージ部１Ｂａ、表面ステージ部１Ｆｂおよび裏面ステージ部１Ｂｂは、それぞれ「位置ＰＢ」、「位置ＰＣ」、「位置ＰＤａ」および「位置ＰＡ」に移動して位置決めされる。そして、次の回転体５の回転まで回転体５は一時停止状況にあるが、表面ステージ部１Ｆａ、１Ｆｂおよび反転部４は次のように動作して未検査のワークＷ３の表面検査およびワークＷ２の反転部４への受渡が並行して行われる。

ステップＳ５９〜Ｓ６２では、未検査のワークＷ２の表面検査およびワークＷ１の反転部４への受渡で実行された処理（ステップＳ５０〜Ｓ５３）と同様の処理が実行される。なお、フェースダウン姿勢のワークＷ１を保持している裏面ステージ部１Ｂｂは位置ＰＡで待機している。

ステップＳ６３では、駆動制御部９３からの移動指令に基づいて回転移動部２３が回転体５を回転方向θの９０゜回転移動させる。これにより、表面ステージ部１Ｆａ、裏面ステージ部１Ｂａ、表面ステージ部１Ｆｂおよび裏面ステージ部１Ｂｂは、それぞれ「位置ＰＣ」、「位置ＰＤａ」、「位置ＰＡ」および「位置ＰＢ」に移動して位置決めされる。そして、次の回転体５の回転まで回転体５は一時停止状況にあるが、表面ステージ部１Ｆｂ、裏面ステージ部１Ｂａ、１Ｂｂおよび反転部４は次のように動作して未検査のワークＷ４の搬入、ワークＷ１の裏面検査、ワークＷ２の反転および反転ワークＷ２の裏面ステージ部１Ｂａへの受渡が並行して行われる。なお、ワークＷ１の裏面検査以外の処理については、未検査のワークＷ３の搬入、ワークＷ１の反転および反転ワークＷ１の裏面ステージ部１Ｂｂへの受渡で実行された処理（ステップＳ５５〜Ｓ５７）と同様である。したがって、ワークＷ１の裏面検査に絞って説明する。

ステップＳ６４では、駆動制御部９３からの移動指令に基づいて裏面ステージ部１Ｂｂのアクチュエータ１５がピストン（図示省略）を伸張させる。これによって、フェースダウン姿勢のワークＷ１を保持したままワーク保持部１７とアライメント部１６とが一体的に上昇してワークＷ１を保持するワーク保持部１７が裏面撮像位置ＰＢｂに位置決めされる。

ステップＳ６５では、撮像部３に設けられた検査カメラ３４の１台（本実施形態では表面撮像位置ＰＢｆの直上位置に設けられた検査カメラ３４）がワークＷ１の裏面Ｗｆを撮像してアライメント画像を取得する。そして、当該アライメント画像に基づいて撮像部３に対するワークＷ１の位置ずれを検出し、その検出結果に応じてアライメント部１６がワークＷ１をＸ方向、Ｙ方向およびθ方向に移動させてワーク位置を補正する。

ステップＳ６６では、撮像部３の検査照明部３５が点灯するとともに検査カメラ３４がアライメント補正されたワークＷ１の裏面Ｗｂを撮像して裏面画像を取得する。そして、演算処理部９１の検査部９１１が裏面画像に基づいてワークＷ１の裏面検査を行う。

ステップＳ６７では、駆動制御部９３からの下降指令に基づいて裏面ステージ部１Ｂｂのアクチュエータ１５がピストン（図示省略）を下方に収縮してワークＷ１をフェースダウン姿勢で保持するワーク保持部１７を元の位置ＰＢに戻す。

ステップＳ６８では、駆動制御部９３からの移動指令に基づいて回転移動部２３が回転体５を回転方向θの９０゜回転移動させる。これにより、表面ステージ部１Ｆａ、裏面ステージ部１Ｂａ、表面ステージ部１Ｆｂおよび裏面ステージ部１Ｂｂは、それぞれ「位置ＰＤａ」、「位置ＰＡ」、「位置ＰＢ」および「位置ＰＣ」に移動して位置決めされる。そして、次の回転体５の回転まで回転体５は一時停止状況にあるが、表面ステージ部１Ｆｂ、裏面ステージ部１Ｂａ、１Ｂｂおよび反転部４は次のように動作して未検査のワークＷ４の表面検査、ワークＷ２の反転部４への受渡とともに検査済のワークＷ１の搬出が並行して行われる。

ステップＳ６９では、検査済の１番目のワークＷ１が搬出位置ＰＣに位置している裏面ステージ部１Ｂｂから搬出される。これで１番目のワークＷ１に対する一連の検査が完了する。また、ステップＳ６９〜Ｓ７２により未検査のワークＷ４の表面検査およびワークＷ２の反転部４への受渡が実行されるが、未検査のワークＷ３の表面検査およびワークＷ１の反転部４への受渡（ステップＳ５５〜Ｓ５７）と同様にして行われる。

それに続いて、上記ステップＳ６３〜Ｓ７２が繰り返されて複数のワークＷが順次検査される。

以上のように、第３実施形態においても、第１実施形態と同様の作用効果が得られる。すなわち、１台の撮像部３によりワークＷの表面画像および裏面画像を取得してワーク検査を行うことができる。その結果、フットプリントおよび装置コストを低減させることができる。

また、フェースアップ姿勢およびフェースダウン姿勢のいずれにおいてもアライメント部１６による位置補正を行った後で、撮像部３による撮像によって取得されたる表面画像および裏面画像に基づいてワークＷの検査を行っている。このため、従来装置に比べ、より高い精度でワークＷを検査することができる。

また、第３実施形態では、回転体５を９０゜単位で断続的に回転させ、一時停止中に複数の処理を並行して行っている。例えばステップＳ６４〜Ｓ６７の間に未検査のワークＷ４の搬入（本発明の状態（ａ）の一例に相当）、ワークＷ１の裏面検査（本発明の状態（ｅ）の一例に相当）、ワークＷ２の反転および反転ワークＷ２の裏面ステージ部１Ｂａへの受渡（本発明の状態（ｄ）の一例に相当）を並存させている。また、ステップＳ６９〜Ｓ７２の間に未検査のワークＷ４の表面検査（本発明の状態（ｂ）の一例に相当）、ワークＷ２の反転部４への受渡（本発明の状態（ｃ）の一例に相当）とともに検査済のワークＷ１の搬出（本発明の状態（ｆ）の一例に相当）を並存させている。第３実施形態では、３つのワークＷに対する処理を並行して行っているため、第１実施形態および第２実施形態よりもスループットを向上させることができる。

上記したように第１実施形態および第２実施形態における支持部材２２６ａおよびテーブル保持部材２２６ｂがそれぞれ本発明の「テーブル支持部」および「規制部」の一例に相当している。また、第２実施形態において表面ステージ部１Ｆに設けられるステージ１３、アクチュエータ１５、アライメント部１６およびワーク保持部１７がそれぞれ本発明の「表面ベース部」、「表面昇降部」、「表面アライメント部」および「表面ワーク保持部」の一例であり、裏面ステージ部１Ｂに設けられるステージ１３、アクチュエータ１５、アライメント部１６およびワーク保持部１７がそれぞれ本発明の「裏面ベース部」、「裏面昇降部」、「裏面アライメント部」および「裏面ワーク保持部」の一例である。

なお、本発明は上記した実施形態に限定されるものではなく、その趣旨を逸脱しない限りにおいて上述したもの以外に種々の変更を行うことが可能である。例えば、上記実施形態では、表面撮像位置ＰＢｆと裏面撮像位置ＰＢｂとを一致させているが、ワークＷの形状や大きさなどに応じて互いに相違させてもよい。

また、上記第２実施形態および第３実施形態では、表面ステージ部１Ｆ、１Ｆａ、１Ｆｂおよび裏面ステージ部１Ｂａ、１Ｂｂにアクチュエータ１５を設けているが、撮像部３や反転部４が上下方向Ｚに移動可能である場合には、アクチュエータ１５を省略してもよい。つまり、アクチュエータ１５によりワークＷを昇降させることで上下方向ＺにおいてワークＷを搬入位置および搬出位置と同じ高さ位置、表面撮像位置、裏面撮像位置および反転位置の間で移動させる代わりに、撮像部３や反転部４が上下方向Ｚに移動してもよい。

また、上記第３実施形態では、回転体５に対して２個の表面ステージ部１Ｆａ、１Ｆｂを取り付けているが、１個または３個以上取り付けてもよい。また、裏面ステージ部についても同様である。

この発明は、ワークの表面および裏面を検査する検査技術全般に適用することができる。

１Ｂ、１Ｂａ、１Ｂｂ…裏面ステージ部
１Ｆ、１Ｆａ、１Ｆｂ…表面ステージ部
２…ワーク搬送部
３…撮像部
４…反転部
５…回転体
１３…ステージ
１４Ｂ…裏面テーブル
１４Ｆ…表面テーブル
１５，２２２…アクチュエータ
１６，２２５…アライメント部
１７…ワーク保持部
２１…ステージ移動部
２２…テーブル移動部
２３…回転移動部
３１…下方領域
９１…演算処理部
１００…検査装置
２２６ａ…支持部材
２２６ｂ…テーブル保持部材
９１１…検査部
ＡＸ…回転軸
ＰＡ…搬入位置
ＰＢ…撮像直下位置
ＰＢｂ…裏面撮像位置
ＰＢｆ…表面撮像位置
ＰＣ…搬出位置
ＰＤ…反転位置
θ…回転方向
Ｗ，Ｗ１，Ｗ２，Ｗ３，Ｗ４…ワーク
Ｗｂ…（ワークの）裏面
Ｗｆ…（ワークの）表面

Claims (14)

1. ワークの表面および裏面を検査する検査装置であって、
   前記ワークを上方から撮像する撮像部と、
   表面を上方に向けたフェースアップ姿勢で前記ワークを保持可能な表面ステージ部と、
   裏面を上方に向けたフェースダウン姿勢で前記ワークを保持可能な裏面ステージ部と、
   前記撮像部の下方領域で前記ワークを反転させて前記フェースアップ姿勢から前記フェースダウン姿勢に切り替える反転部と、
   搬入位置で前記フェースアップ姿勢のワークを受け取って保持する前記表面ステージ部を前記下方領域に搬送して前記反転部に受渡し、前記フェースダウン姿勢の前記ワークを前記反転部から受け取って保持する前記裏面ステージ部を前記下方領域から搬出位置に搬送するワーク搬送部と、
   前記下方領域に前記ワークが位置する間に前記撮像部により取得される前記ワークの表面および裏面の画像に基づいて前記ワークを検査する検査部と、
   を備えることを特徴とする検査装置。
2. 請求項１に記載の検査装置であって、
   前記表面ステージ部は前記フェースアップ姿勢で前記ワークを支持可能な表面テーブルを着脱自在に構成され、
   前記裏面ステージ部は前記フェースダウン姿勢で前記ワークを支持可能な裏面テーブルを着脱自在に構成され、
   前記ワーク搬送部は、
   前記表面ステージ部を前記搬入位置と前記下方領域との間で移動させるとともに前記裏面ステージ部を前記下方領域と前記搬出位置との間で移動させるステージ移動部と、
   前記表面ステージ部に対する前記表面テーブルの受渡および前記裏面ステージ部に対する前記裏面テーブルの受渡が可能なテーブル受渡部を前記下方領域で上下方向に移動させるテーブル移動部とを備え、
   前記テーブル移動部は、
   前記フェースアップ姿勢で前記ワークを支持する前記表面テーブルを前記表面ステージ部から受け取り、前記ワークを前記表面テーブルで支持したまま表面撮像位置に移動させた後に、前記ワークを前記反転部に渡して空となった前記表面テーブルを前記表面ステージ部に戻し、
   空の前記裏面テーブルを前記裏面ステージ部から受け取り、前記フェースダウン姿勢のワークを前記反転部から受け取った後に前記フェースダウン姿勢で前記ワークを支持する前記裏面テーブルを裏面撮像位置を経由して前記裏面ステージ部に戻す検査装置。
3. 請求項２に記載の検査装置であって、
   前記テーブル移動部は、前記テーブル受渡部を保持するアライメント部と、前記アライメント部を昇降させるアライメント昇降部とを有し、前記アライメント昇降部により前記アライメント部および前記テーブル受渡部を一体的に昇降させて前記表面テーブルおよび前記裏面テーブルの受渡を行い、
   前記アライメント部は、前記アライメント昇降部に対して前記テーブル受渡部を移動させることで、前記テーブル受渡部が受け取っている前記表面テーブルおよび前記裏面テーブルの前記撮像部に対する相対位置を調整する検査装置。
4. 請求項２または３に記載の検査装置であって、
   前記テーブル受渡部は、前記表面テーブルおよび前記裏面テーブルを下方から支持するテーブル支持部と、前記テーブル支持部に対する前記表面テーブルおよび前記裏面テーブルの移動を規制する規制部とを有する検査装置。
5. 請求項４に記載の検査装置であって、
   前記規制部は、前記表面テーブルおよび前記裏面テーブルの受渡を行うときには前記規制を解除する検査装置。
6. 請求項１に記載の検査装置であって、
   前記表面ステージ部は、前記搬入位置と前記下方領域との間で移動可能な表面ベース部と、前記表面ベース部に支持される表面アライメント部と、前記フェースアップ姿勢のワークの保持を可能に前記表面アライメント部に設けられる表面ワーク保持部とを有し、
   前記裏面ステージ部は、前記下方領域と前記搬出位置の間で移動可能な裏面ベース部と、前記裏面ベース部に支持される裏面アライメント部と、前記フェースダウン姿勢のワークの保持を可能に前記裏面アライメント部に設けられる裏面ワーク保持部とを有し、
   前記表面アライメント部は前記表面ベース部に対して前記表面ワーク保持部を移動させることで、前記表面ワーク保持部が受け取った前記ワークの前記撮像部に対する相対位置を調整し、
   前記裏面アライメント部は前記裏面ベース部に対して前記裏面ワーク保持部を移動させることで、前記裏面ワーク保持部が受け取った前記ワークの前記撮像部に対する相対位置を調整する検査装置。
7. 請求項６に記載の検査装置であって、
   前記表面ステージ部は前記表面ベース部に固定された状態で前記表面アライメント部を前記表面ベース部に対して昇降可能に支持する表面昇降部を有し、前記表面昇降部により前記表面アライメント部および前記表面ワーク保持部を前記下方領域内で昇降させることで前記表面ワーク保持部に保持される前記ワークを表面撮像位置に移動させた後で前記反転部に渡し、
   前記裏面ステージ部は前記裏面ベース部に固定された状態で前記裏面アライメント部を前記裏面ベース部に対して昇降可能に支持する裏面昇降部を有し、前記裏面昇降部により前記裏面アライメント部および前記裏面ワーク保持部を前記下方領域内で昇降させることで前記反転部から前記フェースダウン姿勢のワークを受け取った後で裏面撮像位置に移動させる検査装置。
8. 請求項２ないし５および７のいずれか一項に記載の検査装置であって、
   前記表面撮像位置および前記裏面撮像位置は上下方向において同一高さである検査装置。
9. ワークの表面および裏面を検査する検査装置であって、
   撮像位置で前記ワークを上方から撮像する撮像部と、
   反転位置で前記ワークを反転させる反転部と、
   表面を上方に向けたフェースアップ姿勢で前記ワークを保持可能な表面ステージ部と、
   裏面を上方に向けたフェースダウン姿勢で前記ワークを保持可能な裏面ステージ部と、
   上下方向に平行な回転軸まわりに回転自在に設けられ、前記回転軸から同一距離離れながら互いに異なる位置に前記表面ステージ部および前記裏面ステージ部がそれぞれ取り付けられた回転体と、
   前記回転体を前記回転軸まわりに断続的に回転させて前記ワークを搬送するワーク搬送部と、
   検査部と、を備え、
   前記ワーク搬送部は、前記回転体の回転が停止しているときの状況を
   （ａ）前記表面ステージ部を搬入位置に位置させて前記フェースアップ姿勢のワークを受け取って保持させる状態と
   （ｂ）前記フェースアップ姿勢のワークを保持する前記表面ステージ部を前記撮像位置に位置させて前記撮像部に前記ワークの表面を撮像させて表面画像を取得する状態と
   （ｃ）前記表面画像が撮像された前記ワークを保持する前記表面ステージ部を前記反転位置に位置させて前記ワークを前記反転部に受渡して前記ワークの反転を準備させる状態と
   （ｄ）前記裏面ステージ部を前記反転部に位置させて前記反転部により反転された前記フェースダウン姿勢のワークを前記裏面ステージ部に受け取らせる状態と
   （ｅ）前記フェースダウン姿勢のワークを保持する前記裏面ステージ部を前記撮像位置に位置させて前記撮像部に前記ワークの裏面を撮像させて裏面画像を取得する状態と
   （ｆ）前記裏面画像が撮像された前記ワークを保持する前記裏面ステージ部を搬出位置に位置させて前記ワークを前記裏面ステージ部から搬出させる状態と
   の間で切り替え、
   前記検査部は前記表面画像および前記裏面画像に基づいて前記ワークを検査する
   ことを特徴とする検査装置。
10. 請求項９に記載の検査装置であって、
    前記搬入位置、前記撮像位置、前記搬出位置および前記反転位置はこれらの順序で前記回転軸を中心に９０゜間隔離れて設けられ、
    前記回転体に対して前記表面ステージ部、前記裏面ステージ部、前記表面ステージ部および前記裏面ステージ部の合計４個がこれらの順序で前記回転軸を中心に９０゜間隔離れて取り付けられ、
    前記ワーク搬送部は前記回転体を前記回転軸まわりに９０゜単位で断続的に１．５周以上回転させている間に、上記状態（ａ）、上記状態（ｄ）および上記状態（ｅ）が並存する一時停止状況と、上記状態（ｂ）、上記状態（ｃ）および上記状態（ｆ）が並存する一時停止状況とを作り出す検査装置。
11. 撮像部が上方から撮像して取得する画像に基づいてワークを検査する検査方法であって、
    表面を上方に向けたフェースアップ姿勢の前記ワークを前記撮像部の下方領域に搬送する工程と、
    前記下方領域に位置する前記フェースアップ姿勢のワークを撮像して表面画像を取得する工程と、
    前記表面画像が取得された前記ワークを前記下方領域で反転させて前記ワークを前記フェースアップ姿勢からフェースダウン姿勢に切り替える工程と、
    前記下方領域に位置する前記フェースダウン姿勢のワークを撮像して裏面画像を取得する工程と、
    を備えることを特徴とする検査方法。
12. 撮像位置でワークを上方から撮像する撮像部と、反転位置で前記ワークを反転させる反転部と、表面を上方に向けたフェースアップ姿勢で前記ワークを保持可能な表面ステージ部と、裏面を上方に向けたフェースダウン姿勢で前記ワークを保持可能な裏面ステージ部と、上下方向に平行な回転軸まわりに回転自在に設けられ、前記回転軸から同一距離離れながら互いに異なる位置に前記表面ステージ部および前記裏面ステージ部がそれぞれ取り付けられた回転体とを備える検査装置において前記撮像部により前記フェースアップ姿勢のワークおよび前記フェースダウン姿勢のワークをそれぞれ撮像して取得される表面画像および裏面画像に基づいて前記ワークを検査する検査方法であって、
    前記表面ステージ部が搬入位置に位置するように前記回転体を回転して位置決めし、前記フェースアップ姿勢のワークを前記表面ステージ部で受け取って保持させる工程と、
    前記フェースアップ姿勢のワークを保持する前記表面ステージ部が前記撮像位置に位置するように前記回転体を回転して位置決めし、前記撮像部により前記ワークの表面画像を取得する工程と、
    前記表面画像が撮像された前記ワークを保持する前記表面ステージ部が前記反転位置に位置するように前記回転体を回転して位置決めし、前記ワークを前記反転部に受渡して前記ワークの反転を準備する工程と、
    前記裏面ステージ部が前記反転部に位置するように前記回転体を回転して位置決めし、前記反転部により反転させて前記フェースダウン姿勢となった前記ワークを前記裏面ステージ部で受け取る工程と、
    前記フェースダウン姿勢のワークを保持する前記裏面ステージ部を前記撮像位置に位置するように前記回転体を回転して位置決めし、前記撮像部により前記ワークの裏面画像を取得する工程と、
    前記裏面画像が撮像された前記ワークを保持する前記裏面ステージ部を搬出位置に位置するように前記回転体を回転して位置決めし、前記ワークを前記裏面ステージ部から搬出する工程と、
    を備えることを特徴とする検査方法。
13. 表面を上方に向けたフェースアップ姿勢で撮像部の下方領域に搬送されたワークを表面撮像位置で前記撮像部により撮像して前記ワークの表面画像を取得し、前記ワークを反転位置で反転部により反転させて前記ワークを裏面を上方に向けたフェースダウン姿勢に切り替えた後に裏面撮像位置で前記撮像部により撮像して前記ワークの裏面画像を取得するとともに前記表面画像および前記裏面画像に基づいて前記ワークを検査する、検査装置において前記ワークを前記表面撮像位置、前記反転位置および前記裏面撮像位置に搬送するワーク搬送装置であって、
    前記フェースアップ姿勢で前記ワークを支持可能な表面テーブルを着脱自在に保持する表面ステージ部を前記下方領域に移動させるとともに、前記フェースダウン姿勢で前記ワークを支持可能な裏面テーブルを着脱自在に保持する裏面ステージ部を前記下方領域に移動させるステージ移動部と、
    前記表面ステージ部に対する前記表面テーブルの受渡および前記裏面ステージ部に対する前記裏面テーブルの受渡が可能なテーブル受渡部を前記下方領域で上下方向に移動させるテーブル移動部とを備え、
    前記テーブル移動部は、
    前記フェースアップ姿勢で前記ワークを支持する前記表面テーブルを前記表面ステージ部から受け取り、前記ワークを前記表面テーブルで支持されたまま前記表面撮像位置に移動させた後で前記反転位置に移動させて前記ワークを前記反転部に受渡して空となった前記表面テーブルを前記表面ステージ部に戻し、
    空の前記裏面テーブルを前記裏面ステージ部から受け取り前記反転位置に移動させて前記フェースダウン姿勢のワークを前記反転部から受け取った後に前記フェースダウン姿勢で前記ワークを支持する前記裏面テーブルを前記裏面撮像位置を経由して前記裏面ステージ部に戻す
    ことを特徴とするワーク搬送装置。
14. 請求項１３に記載のワーク搬送装置であって、
    前記テーブル移動部は、前記テーブル受渡部を保持するアライメント部と、前記アライメント部を昇降させるアライメント昇降部とを有し、
    前記アライメント部は、前記アライメント昇降部に対して前記テーブル受渡部を移動させることで、前記テーブル受渡部が受け取っている前記表面テーブルおよび前記裏面テーブルの前記撮像部に対する相対位置を調整するワーク搬送装置。

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