JP2021144999A - エッチング方法および素子チップの製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
樹脂エッチング工程は、堆積工程および除去工程を含む。樹脂エッチング工程において、堆積工程と除去工程とは交互に複数回繰り返される。
本工程では、保護膜および樹脂層の表面に第1の膜を堆積させる。
本工程では、樹脂層の少なくとも一部を、第2のプラズマにより除去する。樹脂層は、第1の膜とともに除去される。このとき、保護膜の表面を被覆する第1の膜も除去され得る。ただし、保護膜上の第1の膜は厚いため、保護膜の損傷は抑制される。
本実施形態において、樹脂層はダイアタッチフィルム(DAF)を含む。電子部品は、DAFに貼着されることにより支持されている。
DAFは、粘着性を有し、ダイシングテープとボンディング材としての機能を併せ持っている。例えばフラッシュメモリ等の多段積層される複数の素子チップを作製する際、基板をDAFに貼り付けた状態で、基板がダイシングされる。
樹脂としては、例えば、フェノール/ホルムアルデヒドノボラック樹脂、クレゾール/ホルムアルデヒドノボラック樹脂、キシレノール/ホルムアルデヒドノボラック樹脂、レゾルシノール/ホルムアルデヒドノボラック樹脂、フェノール−ナフトール/ホルムアルデヒドノボラック樹脂等の感光性を有するフェノール樹脂が挙げられる。
本実施形態において、樹脂層は接着層である。1以上の電子部品は、接着層とともに支持部材により支持されている。電子部品と接着層と支持部材との積層体は、例えば多層基板である。堆積工程および除去工程が複数回繰り返されて、接着層は除去される。
接着層の材料は特に限定されず、基板および支持部材の材料に応じて適宜選択すればよい。接着層の材料としては、例えば、未硬化あるいは半硬化のUV硬化性樹脂、未硬化あるいは半硬化の熱硬化性樹脂、感圧接着剤、熱可塑性樹脂等が挙げられる。UV硬化性樹脂としては、例えば、アクリル樹脂等が挙げられる。熱硬化性樹脂としては、例えば、エポキシ樹脂、ポリイミド、ポリアミドイミド等が挙げられる。熱可塑性樹脂としては、例えば、ポリエステル、ポリスチレン、ポリテトラフルオロエチレン等が挙げられる。感圧接着剤としては、例えば、シリコーン樹脂等が挙げられる。
支持部材は、電子部品を支持する。
支持部材の材質は特に限定されない。支持部材としては、例えば、ガラス基板、樹脂基板、ガラスエポキシ基板、セラミック基板およびシリコン基板等の基板が挙げられる。
A.エッチング方法
本実施形態に係るエッチング方法は、樹脂層と、樹脂層に支持された電子部品と、を準備する準備工程と、樹脂層をエッチングする樹脂エッチング工程と、を備える。電子部品は、保護膜で覆われた第1の面と、第1の面とは反対側の第2の面と、第1の面と第2の面との間にある側壁と、を備える。第2の面は樹脂層に対向している。第1の面側から見たとき、樹脂層は、電子部品よりも大きい。
保護膜で覆われた第1の面と、第1の面とは反対側の第2の面と、第1の面と第2の面との間にある側壁と、を備える少なくとも1つの電子部品と、これを支持する樹脂層と、を準備する。電子部品の第2の面が樹脂層に対向している。電子部品は、例えば、ボッシュプロセスによって、基板をプラズマダイシングすることにより作製される素子チップである。側壁には、スキャロップ、すなわち凹部と凸部とが形成されていてもよい。
半導体層は、例えば、シリコン(Si)、ガリウム砒素(GaAs)、窒化ガリウム(GaN)、炭化ケイ素(SiC)等を含む。電子部品における半導体層の厚みは特に限定されず、例えば、20μm以上1000μm以下であり、50μm以上300μm以下であってもよい。
フレームは、複数の電子部品を囲める程度の開口を有した枠体であり、所定の幅および略一定の薄い厚みを有している。フレームは、保持シートおよび複数の電子部品を保持した状態で搬送できる程度の剛性を有している。フレームの開口の形状は特に限定されないが、例えば、円形や、矩形、六角形など多角形であってもよい。フレームの材質としては、例えば、アルミニウム、ステンレス鋼等の金属や、樹脂等が挙げられる。
程については後述する。
樹脂エッチング工程は、上記の(a)堆積工程(S021)および(b)除去工程(S022)により実行される。上記樹脂エッチング工程によれば、保護膜を残存させながら、樹脂層を除去することができる。堆積工程と除去工程とは、樹脂層が除去されるまで繰り返される。
本実施形態に係る素子チップの製造方法は、複数の素子領域および素子領域を画定する分割領域を備えるとともに、第1の面および第1の面とは反対側の第2の面を有する基板と、第2の面側に配置された樹脂層と、を備える積層体を準備する準備工程と、第1の面を保護膜で被覆する保護膜形成工程と、記分割領域に対応する少なくとも保護膜を除去して、開口を形成する開口形成工程と、開口から露出する基板を第1の面から第2の面までエッチングする基板エッチング工程と、基板エッチング工程の後、基板のエッチングにより形成された溝の底部に露出する樹脂層をエッチングする樹脂エッチング工程と、を備える。基板に予め保護膜が形成されている場合、保護膜形成工程は省略される。
まず、処理の対象となる積層体を準備する。
接着層は、あらかじめ所定の形状に成形された後、基板の第2の面に貼着されることにより形成されてもよいし、基板の第2の面に接着層の原料(接着剤)を塗布することにより形成されてもよい。
基板は、第1の面および第2の面を備えるとともに、複数の素子領域と素子領域を画定する分割領域とを備える。基板は、上記の半導体層を備える。基板の素子領域は、さらに上記の配線層を備えてよい。基板の分割領域は、さらに絶縁膜とTEG(Test Element Group)等の金属材料とを備えてよい。分割領域における基板をエッチングすることにより、複数の素子チップが得られる。
樹脂層は、有機物を主成分(50質量%以上)として含む。樹脂層としては、例えば上記のようなDAFおよび接着層が挙げられる。
基板の第1の面を被覆する保護膜を形成する。
保護膜は、基板の素子領域をプラズマ等から保護するために設けられる。樹脂エッチング工程後、保護膜は除去される。保護膜の材料、厚みは上記の通りである。
保護膜に開口を形成して、基板の分割領域を露出させる。
基板をプラズマに晒して、開口から露出する分割領域を第2の面までエッチングし、基板から複数の素子チップを形成する。本工程において、樹脂層はエッチングされなくてよい。
分割領域における基板が除去されることにより、積層体には溝が形成される。溝の底部からは樹脂層が露出している。この露出した樹脂層をエッチングして除去する。樹脂エッチング工程は、上記のエッチング方法における樹脂エッチング工程(ii)により実行される。本実施形態に係る樹脂エッチング工程によれば、保護膜を残存させながら、樹脂層を除去することができる。
最後の除去工程の後、保護膜を除去してもよい。保護膜が、電子部品の最表面に配置されている絶縁膜および/または樹脂層である場合、保護膜を除去しなくてもよい。このような保護膜は、製造中に加えて、流通後の電子部品を保護するために形成されているためである。
第3のプラズマを発生させる条件は、例えば以下の通りである。アッシングガスとしてCF4とO2との混合ガス(流量比CF4/O2=0%以上10%以下)を50sccm以上600sccm以下で、真空チャンバに供給する。真空チャンバ内の圧力は1Pa以上30Pa以下であり、第1の電極に印加される高周波電力PA1は、1000W以上4800W以下であり、第2の電極に印加される高周波電力PA2は、0W以上100W以下である。アッシング工程において第2の電極に印加される高周波電力PA2は、エッチング工程における第2の電極への印加電力よりも小さくなるように設定することが望ましい。処理時間は、保護膜の量に応じて適宜設定されるが、例えば、3秒以上、300秒以下である。
素子チップを、例えば、保持シートの非粘着面側から、保持シートとともに突き上げピンで突き上げる。これにより、素子チップの少なくとも一部は、保持シートから浮き上がる。その後、ピックアップ装置により、素子チップは保持シートから取り外される。
本実施形態において、樹脂層はDAFである。積層体の準備工程は、基板を、DAFを介して、フレームに固定された保持シートに貼着する工程(S111)を含む。本実施形態は、これ以外、上記の工程により実行される。図12は、本実施形態に係る製造方法を示すフローチャートである。
本実施形態において、樹脂層は接着層である。積層体の準備工程は、基板を、接着層を介して支持部材に接着する工程(S112)を含む。本実施形態は、これ以外、第I実施形態と同様である。図20は、本実施形態に係る製造方法を示すフローチャートである。
プラズマ処理装置100は、ステージ111を備えている。複数の電子部品200を保持する搬送キャリア20は、保持シート22の電子部品200を保持している面が上方を向くように、ステージ111に搭載される。ステージ111は、搬送キャリア20の全体を載置できる程度の大きさを備える。ステージ111の上方には、少なくとも1つの電子部品200を露出させるための窓部124Wを有するカバー124が配置されている。カバー124には、フレーム21がステージ111に載置されている状態のとき、フレーム21を押圧するための押さえ部材107が配置されている。押さえ部材107は、フレーム21と点接触できる部材(例えば、コイルバネや弾力性を有する樹脂)であることが好ましい。これにより、フレーム21およびカバー124の熱が互いに影響し合うことを抑制しながら、フレーム21の歪みを矯正することができる。
搬送キャリア20の搬入の際、真空チャンバ103内では、昇降ロッド121の駆動により、カバー124が所定の位置まで上昇している。図示しないゲートバルブが開いて搬送キャリア20が搬入される。複数の支持部122は、上昇した状態で待機している。搬送キャリア20がステージ111上方の所定の位置に到達すると、支持部122に搬送キャリア20が受け渡される。搬送キャリア20は、保持シート22の粘着面が上方を向くように、支持部122の上端面に受け渡される。
200X:第1の面
200Y:第2の面
200Z:側壁
10:基板
10X:第1の面
10Y:第2の面
101:素子領域
102:分割領域
11:半導体層
12:配線層
14:絶縁膜
20:搬送キャリア
21:フレーム
21a:ノッチ
21b:コーナーカット
22:保持シート
22X:粘着面
22Y:非粘着面
30A:ダイアタッチフィルム(DAF)
30B:樹脂層
40:保護膜
50:第1の膜
70:支持部材
100:プラズマ処理装置
103:真空チャンバ
103a:ガス導入口
103b:排気口
108:誘電体部材
109:第1の電極
110A:第1の高周波電源
110B:第2の高周波電源
111:ステージ
112:プロセスガス源
113:アッシングガス源
114:減圧機構
115:電極層
116:金属層
117:基台
118:外周部
119:ESC電極
120:第2の電極
121:昇降ロッド
122:支持部
123A:第1の昇降機構
123B:第2の昇降機構
124:カバー
124W:窓部
125:冷媒循環装置
126:直流電源
127:冷媒流路
128:制御装置
129:外周リング
Claims (12)
- 樹脂層と、前記樹脂層に支持された電子部品と、を準備する準備工程と、
前記樹脂層をエッチングする樹脂エッチング工程と、を備え、
前記電子部品は、保護膜で覆われた第1の面と、前記第1の面とは反対側の第2の面と、前記第1の面と前記第2の面との間にある側壁と、を備えるとともに、前記第2の面が前記樹脂層に対向しており、
前記第1の面側から見たとき、前記樹脂層は、前記電子部品よりも大きく、
前記樹脂エッチング工程は、
第1のプラズマを用いて、前記保護膜および前記樹脂層の表面に第1の膜を堆積させる堆積工程と、
第2のプラズマを用いて、前記樹脂層に堆積する前記第1の膜とともに、前記樹脂層の少なくとも一部を除去する除去工程と、を備え、
前記樹脂エッチング工程において、前記保護膜が残存するように、前記堆積工程と前記除去工程とは交互に複数回繰り返される、エッチング方法。 - 前記樹脂エッチング工程は、
前記堆積工程において、前記第1の膜が前記保護膜の表面に堆積する速度RD1に対する前記第1の膜が前記樹脂層の表面に堆積する速度RD2の比:RD2/RD1と、
前記除去工程において、前記保護膜の表面の前記第1の膜が除去される速度RR1に対する前記樹脂層の表面の前記第1の膜が除去される速度RR2の比:RR2/RR1とが、
RR2/RR1>RD2/RD1の関係を満たすように行われる、請求項1に記載のエッチング方法。 - 前記樹脂エッチング工程は、処理室と、処理室内に配置され、かつ、前記電子部品が載置されるステージと、前記ステージに内蔵される第2の電極と、を備えるプラズマ処理装置を用いて行われ、
前記堆積工程における前記処理室の圧力PD1と、
前記除去工程における前記処理室の圧力PR1とは、
PD1>PR1の関係を満たす、請求項2に記載のエッチング方法。 - 前記樹脂エッチング工程は、前記電子部品が載置されるステージと、前記ステージに対向するように配置される第1の電極と、前記ステージに内蔵される第2の電極と、を備えるプラズマ処理装置を用いて行われ、
前記堆積工程において、前記第2の電極に印加される高周波電力PD2と、
前記除去工程において、前記第2の電極に印加される高周波電力PR2とは、
PD2<PR2の関係を満たす、請求項2または3に記載のエッチング方法。 - 前記樹脂エッチング工程では、複数の前記電子部品が処理され、
任意の2つの前記電子部品の対向する前記側壁同士の距離Wと、いずれか一方の前記電子部品の当該側壁の高さHとは、
H≧2×Wの関係を満たす、請求項1〜4のいずれか一項に記載のエッチング方法。 - 前記樹脂層は、ダイアタッチフィルムである、請求項1〜5のいずれか一項に記載のエッチング方法。
- 前記樹脂層は、接着層であり、
前記電子部品は、前記接着層とともに支持部材により支持されている、請求項1〜5のいずれか一項に記載のエッチング方法。 - 前記第1のプラズマは、炭素原子を含むプロセスガスにより発生される、請求項1〜7のいずれか一項に記載のエッチング方法。
- 前記第2のプラズマは、酸素原子を含むプロセスガスにより発生される、請求項1〜8のいずれか一項に記載のエッチング方法。
- 複数の素子領域および前記素子領域を画定する分割領域を備えるとともに、第1の面および前記第1の面とは反対側の第2の面を有する基板と、前記第2の面側に配置された樹脂層と、を備える積層体を準備する準備工程と、
前記第1の面を保護膜で被覆する保護膜形成工程と、
前記分割領域に対応する少なくとも前記保護膜を除去して、開口を形成する開口形成工程と、
前記開口から露出する前記基板を前記第1の面から前記第2の面までエッチングする基板エッチング工程と、
前記基板エッチング工程の後、前記基板のエッチングにより形成された溝の底部に露出する前記樹脂層をエッチングする樹脂エッチング工程と、を備え、
前記樹脂エッチング工程は、
第1のプラズマを用いて、前記保護膜および前記樹脂層の表面に第1の膜を堆積させる堆積工程と、
第2のプラズマを用いて、前記樹脂層に堆積する前記第1の膜とともに、前記樹脂層の少なくとも一部を除去する除去工程と、を備え、
前記樹脂エッチング工程において、前記保護膜が残存するように、前記堆積工程と前記除去工程とは交互に複数回繰り返される、素子チップの製造方法。 - 前記樹脂層は、ダイアタッチフィルムを含み、
前記準備工程は、前記基板を、前記ダイアタッチフィルムを介して、フレームに固定された保持シートに貼着する工程を含む、請求項10に記載の素子チップの製造方法。 - 前記樹脂層は、接着層を含み、
前記準備工程は、前記基板を、前記接着層を介して支持部材に接着する工程を含む、請求項10に記載の素子チップの製造方法。
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