JP2021141141A - 静電チャック - Google Patents
静電チャック Download PDFInfo
- Publication number
- JP2021141141A JP2021141141A JP2020036020A JP2020036020A JP2021141141A JP 2021141141 A JP2021141141 A JP 2021141141A JP 2020036020 A JP2020036020 A JP 2020036020A JP 2020036020 A JP2020036020 A JP 2020036020A JP 2021141141 A JP2021141141 A JP 2021141141A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electrodes
- insulating layer
- electrostatic chuck
- insulating substrate
- thickness
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 73
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims abstract description 41
- 239000012212 insulator Substances 0.000 claims abstract description 4
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 claims description 26
- 208000028659 discharge Diseases 0.000 abstract description 12
- 239000002585 base Substances 0.000 description 22
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 22
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 18
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 16
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 11
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 9
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 8
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 description 7
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 244000126211 Hericium coralloides Species 0.000 description 3
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000010408 film Substances 0.000 description 3
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 3
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 3
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 3
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 3
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 2
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 2
- 238000007606 doctor blade method Methods 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 2
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 2
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 2
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N Titanium nitride Chemical compound [Ti]#N NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002159 abnormal effect Effects 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 238000005219 brazing Methods 0.000 description 1
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M copper(1+);methylsulfanylmethane;bromide Chemical compound Br[Cu].CSC PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- MTPVUVINMAGMJL-UHFFFAOYSA-N trimethyl(1,1,2,2,2-pentafluoroethyl)silane Chemical compound C[Si](C)(C)C(F)(F)C(F)(F)F MTPVUVINMAGMJL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Abstract
Description
本発明の実施形態に係る静電チャックについて図1および図2を参照して、説明する。図1は、本発明の実施形態に係る静電チャックの一例を示した部分断面図である。また、図2は、本発明の静電チャックの電極パターンの一例を示した模式図である。静電チャック100は、セラミックス基台10と、絶縁層20と、電極30と、を備えている。セラミックス基台10は、アルミナ、窒化アルミニウム等のセラミックス焼結体により略平板状に形成されている。セラミックス基台10は略円板状のほか、多角形板状又は楕円板状などのさまざまな形状であってもよい。
本発明の静電チャックは、従前に知られたセラミック静電チャックの製法(グリーンシート積層法、粉末ホットプレス焼成法等)が適用できるが、とりわけグリーンシート積層法が好適である。以下では、グリーンシート積層法による製造方法を説明する。図3(a)〜(d)は、それぞれ本発明の静電チャックの製造方法の一例を示した模式的な断面図である。なお、図3(a)〜(d)は、それぞれ下面が静電チャックの吸着面である。
純度92.0%、平均粒子径0.5μmのアルミナ粉末に有機バインダー、可塑剤、分散剤、溶剤を混合してスラリーを調製した。次に、ドクターブレード法により厚み0.65mmのグリーンシートを成形した。グリーンシートは適宜裁断後、所定のシートにタングステンペーストを印刷し、その後積層および必要な加工を施した後、還元雰囲気で焼成した。焼成後、絶縁層の厚みを調整し、端子を設けて、実施例および比較例の静電チャックを完成させた。電極パターンは特定のシートに所定のパターンをスクリーン印刷により形成した。電極パターンは図2を参照して、電極幅、電極間隔を各々設定したものを実施例、比較例とした。したがって、実施例および比較例の電極パターンの電極幅、電極間隔、および電極の本数は、図2とは異なる場合がある。
(1)耐電圧評価
真空チャンバ(真空度1Pa以下)内で、実施例および比較例の静電チャックの電極間に5.0kV印加し、放電または絶縁破壊の有無を調べた。
(2)静電吸着力評価
大気中で無アルカリガラス基板(φ300mm、厚み0.7mm)を、実施例または比較例の静電チャックの表面に載置し、電極間に±2.0kVを印加した。20秒経過後にガラス基板側面にプッシュプルゲージを押し当て、ガラス基板が動き出したときのゲージの値を吸着力とした。評価は、1.0kgf以上で良好とし、3.0kgfでも動き出さなかったものを特に良好とした。
20 絶縁層
22 吸着面
30、30a、30b 電極
32 電極層
100 静電チャック
Claims (3)
- 少なくとも被吸着面が絶縁体で形成された絶縁性基板を吸着する絶縁性基板吸着用静電チャックであって、
セラミックス基台と、
前記セラミックス基台の一方の主面に形成され、前記絶縁性基板を吸着する吸着面を有する絶縁層と、
前記セラミックス基台と前記絶縁層との間に形成される一対の電極と、を備え、
前記絶縁層は、前記セラミックス基台と同一のセラミックス焼結体であり、
前記絶縁層の厚みDは、0.001mm以上0.1mm以下であり、
前記一対の電極の電極間の距離Gは、0.3mm以上2.5mm以下であることを特徴とする絶縁性基板吸着用静電チャック。 - 前記一対の電極の電極幅Wは、0.1mm以上2.0mm以下であることを特徴とする請求項1に記載の絶縁性基板吸着用静電チャック。
- 前記絶縁層の吸着面の最大寸法が290mm以上であることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の絶縁性基板吸着用静電チャック。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2020036020A JP2021141141A (ja) | 2020-03-03 | 2020-03-03 | 静電チャック |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2020036020A JP2021141141A (ja) | 2020-03-03 | 2020-03-03 | 静電チャック |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2021141141A true JP2021141141A (ja) | 2021-09-16 |
Family
ID=77669007
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2020036020A Pending JP2021141141A (ja) | 2020-03-03 | 2020-03-03 | 静電チャック |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2021141141A (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2021183220A (ja) * | 2017-08-25 | 2021-12-02 | 株式会社三洋物産 | 遊技機 |
JP2021183221A (ja) * | 2017-08-25 | 2021-12-02 | 株式会社三洋物産 | 遊技機 |
JP2021184841A (ja) * | 2017-08-25 | 2021-12-09 | 株式会社三洋物産 | 遊技機 |
JP2022103375A (ja) * | 2017-11-10 | 2022-07-07 | 株式会社三洋物産 | 遊技機 |
JP2022103374A (ja) * | 2017-11-10 | 2022-07-07 | 株式会社三洋物産 | 遊技機 |
JP2022107040A (ja) * | 2017-11-10 | 2022-07-20 | 株式会社三洋物産 | 遊技機 |
-
2020
- 2020-03-03 JP JP2020036020A patent/JP2021141141A/ja active Pending
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2021183220A (ja) * | 2017-08-25 | 2021-12-02 | 株式会社三洋物産 | 遊技機 |
JP2021183221A (ja) * | 2017-08-25 | 2021-12-02 | 株式会社三洋物産 | 遊技機 |
JP2021184841A (ja) * | 2017-08-25 | 2021-12-09 | 株式会社三洋物産 | 遊技機 |
JP2022103375A (ja) * | 2017-11-10 | 2022-07-07 | 株式会社三洋物産 | 遊技機 |
JP2022103374A (ja) * | 2017-11-10 | 2022-07-07 | 株式会社三洋物産 | 遊技機 |
JP2022107040A (ja) * | 2017-11-10 | 2022-07-20 | 株式会社三洋物産 | 遊技機 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2021141141A (ja) | 静電チャック | |
US6215643B1 (en) | Electrostatic chuck and production method therefor | |
JP2865472B2 (ja) | 静電チャック | |
TW442888B (en) | Electrostatic holding apparatus and method of producing the same | |
TW392277B (en) | Electrostatic holding apparatus | |
US20070212567A1 (en) | Aluminum Nitride Junction Body And Method Of Producing The Same | |
KR20110030364A (ko) | 정전 척 및 그 제조 방법 | |
US6122159A (en) | Electrostatic holding apparatus | |
JPH07297265A (ja) | 静電チャック | |
JP3847198B2 (ja) | 静電チャック | |
JP2006332068A (ja) | セラミックスヒータおよびそれを搭載した半導体あるいは液晶製造装置 | |
US20050028739A1 (en) | Semiconductor Manufacturing Apparatus | |
JP4043219B2 (ja) | 静電チャック | |
JP4241571B2 (ja) | 双極型静電チャックの製造方法 | |
JP3853960B2 (ja) | 静電チャック | |
JP3899379B2 (ja) | 静電チャックおよびその製造方法 | |
JP4439102B2 (ja) | 静電チャック | |
JPH10107132A (ja) | 静電チャック | |
JPH09293774A (ja) | 静電チャック | |
JP4111013B2 (ja) | 半導体製造装置用ウェハ保持体およびそれを搭載した半導体製造装置 | |
JP2005116686A (ja) | 双極型静電チャック | |
JP3652862B2 (ja) | 静電チャック及びプラズマ発生装置 | |
JP7316181B2 (ja) | 静電チャック | |
JP2012178415A (ja) | 静電チャック | |
JPH11121599A (ja) | 静電チャック基盤とその製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20230119 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20231120 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20231128 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20240126 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20240402 |