JP2021124634A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2021124634A5
JP2021124634A5 JP2020018861A JP2020018861A JP2021124634A5 JP 2021124634 A5 JP2021124634 A5 JP 2021124634A5 JP 2020018861 A JP2020018861 A JP 2020018861A JP 2020018861 A JP2020018861 A JP 2020018861A JP 2021124634 A5 JP2021124634 A5 JP 2021124634A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
exposure
lens barrel
exposure apparatus
traveling direction
gas
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2020018861A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP2021124634A (ja
JP7427461B2 (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority claimed from JP2020018861A external-priority patent/JP7427461B2/ja
Priority to JP2020018861A priority Critical patent/JP7427461B2/ja
Priority to TW113113085A priority patent/TWI874179B/zh
Priority to TW109146782A priority patent/TWI840643B/zh
Priority to KR1020210000641A priority patent/KR102818067B1/ko
Priority to CN202110140250.5A priority patent/CN113238459B/zh
Publication of JP2021124634A publication Critical patent/JP2021124634A/ja
Publication of JP2021124634A5 publication Critical patent/JP2021124634A5/ja
Publication of JP7427461B2 publication Critical patent/JP7427461B2/ja
Application granted granted Critical
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

JP2020018861A 2020-02-06 2020-02-06 露光装置、及び物品の製造方法 Active JP7427461B2 (ja)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2020018861A JP7427461B2 (ja) 2020-02-06 2020-02-06 露光装置、及び物品の製造方法
TW113113085A TWI874179B (zh) 2020-02-06 2020-12-30 光學裝置、曝光裝置、及物品之製造方法
TW109146782A TWI840643B (zh) 2020-02-06 2020-12-30 光學裝置、曝光裝置、及物品之製造方法
KR1020210000641A KR102818067B1 (ko) 2020-02-06 2021-01-05 광학장치, 노광장치, 및 물품의 제조방법
CN202110140250.5A CN113238459B (zh) 2020-02-06 2021-02-02 光学装置、曝光装置以及物品制造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2020018861A JP7427461B2 (ja) 2020-02-06 2020-02-06 露光装置、及び物品の製造方法

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2021124634A JP2021124634A (ja) 2021-08-30
JP2021124634A5 true JP2021124634A5 (enrdf_load_stackoverflow) 2023-02-02
JP7427461B2 JP7427461B2 (ja) 2024-02-05

Family

ID=77130109

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2020018861A Active JP7427461B2 (ja) 2020-02-06 2020-02-06 露光装置、及び物品の製造方法

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP7427461B2 (enrdf_load_stackoverflow)
KR (1) KR102818067B1 (enrdf_load_stackoverflow)
CN (1) CN113238459B (enrdf_load_stackoverflow)
TW (2) TWI840643B (enrdf_load_stackoverflow)

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1092735A (ja) * 1996-09-13 1998-04-10 Nikon Corp 露光装置
KR20010031972A (ko) * 1997-11-12 2001-04-16 오노 시게오 노광 장치, 디바이스 제조 장치 및 노광 장치의 제조 방법
JPWO2003030229A1 (ja) * 2001-09-27 2005-01-20 株式会社ニコン 露光装置及びデバイス製造方法
JP2003124092A (ja) * 2001-10-09 2003-04-25 Canon Inc 露光装置及びその制御方法、デバイス製造方法
TW200509205A (en) * 2003-05-23 2005-03-01 Nippon Kogaku Kk Exposure method and device-manufacturing method
US7136142B2 (en) * 2004-05-25 2006-11-14 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus having a gas flushing device
JP2008292761A (ja) 2007-05-24 2008-12-04 Canon Inc 露光装置及びデバイス製造方法
JP5517847B2 (ja) * 2010-09-08 2014-06-11 キヤノン株式会社 露光装置、及びそれを用いたデバイスの製造方法
JP2015079074A (ja) 2013-10-16 2015-04-23 キヤノン株式会社 露光装置
JP6463087B2 (ja) 2014-11-14 2019-01-30 キヤノン株式会社 露光装置、および物品の製造方法
JP6896404B2 (ja) * 2016-11-30 2021-06-30 キヤノン株式会社 露光装置及び物品の製造方法
JP7016661B2 (ja) * 2017-10-06 2022-02-07 キヤノン株式会社 露光装置および物品の製造方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5071385B2 (ja) 可変スリット装置、照明装置、露光装置、露光方法及びデバイス製造方法
US7573052B2 (en) Exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method
TWI443471B (zh) 投影光學系統、曝光裝置、及元件製造方法
US8467032B2 (en) Exposure apparatus and electronic device manufacturing method
KR20100016315A (ko) 노광 장치, 노광 방법 및 전자 디바이스 제조 방법
JP2002099097A (ja) 走査露光方法および走査型露光装置
JP2018091919A (ja) 露光装置及び物品の製造方法
JP2007052214A (ja) 走査型露光装置及びマイクロデバイスの製造方法
KR20130112753A (ko) 광학계, 노광 장치 및 디바이스 제조 방법
JP2008292761A (ja) 露光装置及びデバイス製造方法
JP2002229215A (ja) 露光方法及び露光装置
JP7427461B2 (ja) 露光装置、及び物品の製造方法
JP2021124634A5 (enrdf_load_stackoverflow)
JP6238580B2 (ja) 露光装置、露光方法、それらを用いたデバイスの製造方法
JP2007101592A (ja) 走査型露光装置及びマイクロデバイスの製造方法
CN116482946A (zh) 曝光方法、曝光装置以及物品的制造方法
JPH0922860A (ja) 投影露光装置
CN112305872B (zh) 光学装置、投影光学系统、曝光装置以及物品的制造方法
JP2002110511A (ja) 露光方法及び露光装置
JP7385421B2 (ja) 露光装置、および物品製造方法
JP7695327B2 (ja) 露光装置、物品の製造方法、及び露光方法
JPWO2006101086A1 (ja) 露光装置、露光方法及びマイクロデバイスの製造方法
JP2025072046A (ja) 露光装置、物品の製造方法、及び露光方法
JP2007132981A (ja) 対物光学系、収差測定装置、および露光装置
JP5007538B2 (ja) 露光装置、デバイスの製造方法及び露光方法