JP2021123726A - 金属箔、その製造方法、およびそれに用いる電着ドラムの加工方法 - Google Patents
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- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 128
- 239000002184 metal Substances 0.000 title claims abstract description 128
- 239000011888 foil Substances 0.000 title claims abstract description 116
- 238000004070 electrodeposition Methods 0.000 title claims abstract description 77
- 238000012545 processing Methods 0.000 title claims abstract description 24
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 15
- 239000008151 electrolyte solution Substances 0.000 claims abstract description 15
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims abstract description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 27
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 claims description 24
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 claims description 13
- 238000003672 processing method Methods 0.000 claims description 5
- HBBGRARXTFLTSG-UHFFFAOYSA-N Lithium ion Chemical compound [Li+] HBBGRARXTFLTSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 2
- 229910001416 lithium ion Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 abstract 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 abstract 1
- 239000002659 electrodeposit Substances 0.000 abstract 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 abstract 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 239000011889 copper foil Substances 0.000 description 13
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 10
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000001000 micrograph Methods 0.000 description 6
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 5
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 4
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 4
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 4
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 3
- 238000009499 grossing Methods 0.000 description 3
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 3
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 3
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 2
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 2
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 description 2
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001878 scanning electron micrograph Methods 0.000 description 2
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000005422 blasting Methods 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000365 copper sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- ARUVKPQLZAKDPS-UHFFFAOYSA-L copper(II) sulfate Chemical compound [Cu+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] ARUVKPQLZAKDPS-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- JZCCFEFSEZPSOG-UHFFFAOYSA-L copper(II) sulfate pentahydrate Chemical compound O.O.O.O.O.[Cu+2].[O-]S([O-])(=O)=O JZCCFEFSEZPSOG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 1
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 1
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 238000005459 micromachining Methods 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007781 pre-processing Methods 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011135 tin Substances 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D1/00—Electroforming
- C25D1/04—Wires; Strips; Foils
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D1/00—Electroforming
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01M—PROCESSES OR MEANS, e.g. BATTERIES, FOR THE DIRECT CONVERSION OF CHEMICAL ENERGY INTO ELECTRICAL ENERGY
- H01M10/00—Secondary cells; Manufacture thereof
- H01M10/05—Accumulators with non-aqueous electrolyte
- H01M10/052—Li-accumulators
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- H01M—PROCESSES OR MEANS, e.g. BATTERIES, FOR THE DIRECT CONVERSION OF CHEMICAL ENERGY INTO ELECTRICAL ENERGY
- H01M4/00—Electrodes
- H01M4/02—Electrodes composed of, or comprising, active material
- H01M4/64—Carriers or collectors
- H01M4/66—Selection of materials
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01M—PROCESSES OR MEANS, e.g. BATTERIES, FOR THE DIRECT CONVERSION OF CHEMICAL ENERGY INTO ELECTRICAL ENERGY
- H01M4/00—Electrodes
- H01M4/02—Electrodes composed of, or comprising, active material
- H01M4/64—Carriers or collectors
- H01M4/70—Carriers or collectors characterised by shape or form
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K1/00—Printed circuits
- H05K1/02—Details
- H05K1/0296—Conductive pattern lay-out details not covered by sub groups H05K1/02 - H05K1/0295
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- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/02—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which the conductive material is applied to the surface of the insulating support and is thereafter removed from such areas of the surface which are not intended for current conducting or shielding
- H05K3/06—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which the conductive material is applied to the surface of the insulating support and is thereafter removed from such areas of the surface which are not intended for current conducting or shielding the conductive material being removed chemically or electrolytically, e.g. by photo-etch process
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
- C25D3/38—Electroplating: Baths therefor from solutions of copper
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01M—PROCESSES OR MEANS, e.g. BATTERIES, FOR THE DIRECT CONVERSION OF CHEMICAL ENERGY INTO ELECTRICAL ENERGY
- H01M10/00—Secondary cells; Manufacture thereof
- H01M10/05—Accumulators with non-aqueous electrolyte
- H01M10/052—Li-accumulators
- H01M10/0525—Rocking-chair batteries, i.e. batteries with lithium insertion or intercalation in both electrodes; Lithium-ion batteries
-
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01M—PROCESSES OR MEANS, e.g. BATTERIES, FOR THE DIRECT CONVERSION OF CHEMICAL ENERGY INTO ELECTRICAL ENERGY
- H01M4/00—Electrodes
- H01M4/02—Electrodes composed of, or comprising, active material
- H01M2004/026—Electrodes composed of, or comprising, active material characterised by the polarity
- H01M2004/028—Positive electrodes
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01M—PROCESSES OR MEANS, e.g. BATTERIES, FOR THE DIRECT CONVERSION OF CHEMICAL ENERGY INTO ELECTRICAL ENERGY
- H01M4/00—Electrodes
- H01M4/02—Electrodes composed of, or comprising, active material
- H01M4/64—Carriers or collectors
- H01M4/66—Selection of materials
- H01M4/661—Metal or alloys, e.g. alloy coatings
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- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K1/00—Printed circuits
- H05K1/02—Details
- H05K1/09—Use of materials for the conductive, e.g. metallic pattern
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2201/00—Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
- H05K2201/03—Conductive materials
- H05K2201/0332—Structure of the conductor
- H05K2201/0335—Layered conductors or foils
- H05K2201/0355—Metal foils
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- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2203/00—Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
- H05K2203/10—Using electric, magnetic and electromagnetic fields; Using laser light
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
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- Cell Electrode Carriers And Collectors (AREA)
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Abstract
【課題】 微視的に見ても直線状の凹凸が存在しない陰極面を有する金属箔、その製造方法、およびそれに用いる電着ドラムの加工方法を提供する。
【解決手段】 金属箔製造用の電着ドラム３の表面にレーザーを照射して、その表面に、複数のドット状の凹部等の曲線を有する形状が繰り返されるパターンの加工をする。これにより、電着ドラムの表面に、曲線を有する形状が繰り返されるパターンが形成される。このように加工した電着ドラムを陰極として用い、電解液５に浸漬している電着ドラム３と陽極板２との間に通電し、電解反応によりドラムの表面に金属を電析した後、電着ドラムから剥離して金属箔８を得る。このようにして得られた金属箔８は、その陰極面に複数のドット状の凸部等の前記曲線を有する形状が繰り返されるパターンに対応するパターンを有する。
【選択図】 図１
【解決手段】 金属箔製造用の電着ドラム３の表面にレーザーを照射して、その表面に、複数のドット状の凹部等の曲線を有する形状が繰り返されるパターンの加工をする。これにより、電着ドラムの表面に、曲線を有する形状が繰り返されるパターンが形成される。このように加工した電着ドラムを陰極として用い、電解液５に浸漬している電着ドラム３と陽極板２との間に通電し、電解反応によりドラムの表面に金属を電析した後、電着ドラムから剥離して金属箔８を得る。このようにして得られた金属箔８は、その陰極面に複数のドット状の凸部等の前記曲線を有する形状が繰り返されるパターンに対応するパターンを有する。
【選択図】 図１
Description
本発明は、金属箔、その製造方法、およびそれに用いる電着ドラムの加工方法に関する。
銅や、クロム、ニッケル、錫、亜鉛などの金属箔、またはこれら金属の合金箔（以下、単に「金属箔」ともいう）は、特許文献１に記載されているように、一般に、電解液を収容する電解槽に配置される陰極である電着ドラムと、それに間隙を介して対向して配置される陽極である極板との間で電解反応を行うことによって、電着ドラムの表面に金属を電析させた後、これを剥離して製造されている。
このようにして電着ドラムから剥離された金属箔は、電着ドラムと接していた側の光沢を有する陰極面と、その反対側のめっきにより形成された析出面とを有する。金属箔の陰極面が光沢を有するのは、電着ドラムの表面が平滑に研磨されており、この平滑に研磨された表面状態が金属箔の陰極面に忠実に反映されるためである。電着ドラムの表面研磨としては、従来、砥石が使われており、平滑な研磨が行われている。しかしながら、砥石を使った研磨のため、微視的に見れば、一定方向に直線状の凹凸が存在する。よって、このような一定方向に直線状の凹凸が表面にある電着ドラムを用いて製造された金属箔の陰極面には、光沢を有するものの、ドラム表面の状態が反映されて、微視的には直線状の凹凸が存在している。一般的には、このような直線状の凹凸が金属箔の表面に存在していても、その凹凸の高さ又は深さは数μｍ以内であり、特に問題はないが、金属箔の用途によってはこのような直線状の凹凸が問題になることもある。
そこで本発明は、上記の問題点に鑑み、微視的に見ても直線状の凹凸が存在しない陰極面を有する金属箔、その製造方法、およびそれに用いる電着ドラムの加工方法を提供することを目的とする。
上記の目的を達成するために、本発明は、その一態様として、金属箔製造用の電着ドラムの表面を加工する方法であって、前記電着ドラムの表面にレーザーを照射して、前記電着ドラムの表面に、曲線を有する形状が繰り返されるパターンの加工をする工程を含む。
この金属箔製造用の電着ドラムの表面加工方法では、前記レーザーを照射することによって、前記電着ドラムの表面に複数のドット状の凹部が形成されることが好ましい。
本発明は、また別の態様として、金属箔を製造する方法であって、電解液に浸漬している陰極の電着ドラムと、陽極との間に通電し、電解反応により前記電着ドラムの表面に金属を電析した後、前記電着ドラムから前記金属を剥離して金属箔を得る工程を含み、前記電着ドラムは、レーザーの照射により、曲線を有する形状が繰り返されるパターンの加工がされた表面を有する。
この金属箔の製造方法では、前記曲線を有する形状が、ドット状の凹部であることが好ましい。
前記電着ドラムの曲線を有する形状が繰り返されるパターンの加工がされた表面によって、前記金属箔の前記電着ドラムと接していた陰極面に、前記曲線を有する形状が繰り返されるパターンに対応するパターンを形成することが好ましい。
前記電着ドラムの曲線を有する形状が繰り返されるパターンの加工がされた表面によって、前記金属箔の前記陰極面とは反対側の析出面に形成される表面形状をコントロールすることが好ましい。
本発明は、更に別の態様として、電解金属箔であって、前記電解金属箔の陰極面に、曲線を有する形状が繰り返されるパターンを有する。
この電解金属箔において、前記曲線を有する形状は、ドット状の凸部であることが好ましい。前記ドット状の凸部は、平均直径が１００μｍ以下であることが好ましい。また、前記電解金属箔の陰極面の表面粗さＲｚは、１０μｍ以下であることが好ましい。
前記電解金属箔の陰極面の表面性状のアスペクト比Ｓｔｒが０．６〜１．０であることが好ましい。また、前記電解金属箔の陰極面の表面粗さＲｚは、前記電解金属箔の陰極面の前記ドット状の凸部の平均直径の１／１００〜１／１０であることが好ましい。
本発明は、更に別の態様として、リチウムイオン電池またはプリント配線板であって、上述した電解金属箔を備えるものである。
このように本発明によれば、金属箔製造用の電着ドラムの表面にレーザーを照射して、電着ドラムの表面に、曲線を有する形状が繰り返されるパターンの加工をしていることから、従来の砥石による研磨で発生するような直線状の凹凸がドラム表面に形成されるのを防ぐことができる。従来、レーザー加工は、一定の狭い領域に、微細な形状を形成するために用いられているが、金属箔製造用の電着ドラムは、通常、数ｍの直径で、数ｍの長さを有しており、このような非常に広い領域の表面に、複数のドット状の凹凸等の曲線を有する形状が繰り返されるパターンの加工をするために使用することは、本願発明者らによって初めてなされたものである。このようにレーザーによって曲線を有する形状が繰り返されるパターンの加工をされた電着ドラムによって製造された金属箔の陰極面は、光沢を有するとともに、微視的に見ても直線状の凹凸が存在せず、優れた表面を形成することができる。特に、従来の砥石による研磨では、得られる金属箔の陰極面に研磨由来のバリや突起が発生するものの、本発明のレーザー照射による加工によって、このようなバリや突起を防ぐことができる。
以下、添付図面を参照して、本発明に係る金属箔の製造方法の一実施の形態について説明する。
図１に示すように、金属箔を製造する装置において、電解槽１の中には、陰極として、電解槽１中にほぼ半分が収容される状態で回転する電着ドラム３と、電着ドラム３の電解槽１側のほぼ半分を取り囲むように湾曲した形状の陽極板２とが配置されている。電着ドラム３の表面は、例えば、チタンや、ニッケル、クロム、又はステンレス鋼等それらの合金などにより形成されている。電着ドラム３の大きさは、一般的には、直径１〜３ｍ、長さ１〜３ｍを有しており、例えば、直径２ｍ、長さ２ｍを有している。陽極板２は、例えば、鉛、白金被覆チタン、イリジウム被覆チタンなどにより形成されている。陽極板２と電着ドラム３とは、所定間隔の間隙４を置いて対向して配置されている。
電解槽１の中には、製造する金属箔に応じて、当該金属を主成分とする電解液５が収容されている。例えば、金属箔として銅箔を製造する場合、電解液５としては、例えば、硫酸銅を主成分とする硫酸系銅電解液を用いることが好ましい。硫酸系銅電解液としては、銅濃度が６０〜９０ｇ／Ｌ、硫酸濃度が５０〜２００ｇ／Ｌのものが好ましい。また、陽極板２には、電解液５が流通可能な開口６が設けられている。
このような装置によれば、電解液５を陽極板２の開口６から陽極板２と電着ドラム３の間の間隙４に供給しつつ、電着ドラム３を図１中の矢印の方向に回転させながら、陽極板２と電着ドラム３の間に所定の電流密度で通電して、電解液５の電解反応を行う。これにより、電着ドラム３の表面には金属が電析し、電着ドラム３が回転するにつれ、電解液から電析した金属の厚みは増大する。そして、金属が所定の厚みになったところで、ガイドローラ（図示省略）によって電着ドラム３から剥離して、金属箔８を得る。剥離された金属箔８は、巻取ロール７で連続的に巻き取ることで、長尺の金属箔８を連続的に製造することができる。このようにして製造された金属箔８は、電着ドラム３側の光沢を有する陰極面、その反対側である電解液５側は、金属箔８の結晶の成長方向となるために析出面と呼ばれている。
金属箔８の陰極面が光沢を有するのは、電着ドラム３のドラム表面が平滑に研磨されており、この平滑に研磨された表面状態が金属箔８の表面に忠実に反映されるためである。電着ドラム３の表面研磨として、従来、砥石が使われており、鏡面研磨または鏡面に近い平滑な研磨が行われている。しかしながら、砥石を使った研磨のため、微視的に見れば、一定方向に直線状の凹凸が存在している。よって、このような一定方向に直線状の凹凸が表面に存在する電着ドラムを用いて製造された金属箔の陰極面は、光沢を有するものの、微視的には直線状の凹凸が発生してしまう。一般的には、このような直線状の凹凸が金属箔に存在していても、その凹凸の高さ又は深さは数μｍ以内であり、特に問題はないが、金属箔の用途によってはこのような直線状の凹凸が問題になることもある。
本実施の形態における金属箔の製造方法では、電着ドラム３のドラム表面３ｓとして、鏡面または鏡面に近い平滑な表面に加工されたものを使用するが、図２に示すように、微視的に見れば、電着ドラム３の軸方向および半径方向にそれぞれ、円形などの複数のドット状の凹部１０が存在する。このような電着ドラム３によって得られる金属箔８の陰極面は、電着ドラム３のドラム表面が反映されて、光沢を有し、且つ微視的にはドット状の凸部が存在するものである。よって、金属箔の表面に直線状の凹凸が存在すると問題になるような用途に対しては、本実施の形態の金属箔の製造方法によって製造した金属箔８を提供する。
図２に示すようなドラム表面とする加工方法としては、例えば、レーザーを用いて電着ドラム３の表面を平滑に加工する方法がある。より具体的には、例えば、電着ドラム３のドラム表面３ｓにレーザーを一定の間隔で間欠的に照射する等を行う。これによって、レーザーの照射を受けた部分の金属が溶融または蒸発し、微視的には、円形などの複数のドット状の凹部１０が隣接して発生するものの、鏡面または鏡面に近い平滑な表面に加工することができる。
本実施の形態で用いるレーザーの種類としては、金属加工用のレーザーであれば特に限定されないが、例えば、ＣＯ２レーザー、ＹＡＧレーザー、ＹＶＯ４レーザー、ファイバーレーザーなどを単独で又はこれらを組み合わせて用いることができる。なお、金属箔製造用の電着ドラムのような非常に大型のドラムの全表面にわたって微細加工できるレーザー加工機は市販されていないことから、例えば、所定の加工面積の性能を有するレーザー発振器を移動可能に配置させ、電着ドラムも回転可能に配置させた加工設備を新たに設けたり、このような設備においてドラム表面をレーザー照射により平滑化するためのプログラムを作成したりする等によって、ハードウェアおよびソフトウェアの構築を行う。
電着ドラム３の表面におけるドット状の凹部１０の大きさは、電着ドラム３の表面が平坦に加工できる範囲であれば特に限定されるものではないが、例えば、直径は１００μｍ以下となるようにすることが好ましく、５０μｍ以下がより好ましく、１０μｍ以下が更に好ましい。直径の下限は、特に限定されないが、例えば、１μｍ以上が好ましい。また、ドット状の凹部１０同士の間隔は、上限は、未加工部分の影響を避けるため、ドットの直径より小さい事が望ましい。例えば、５０μｍ以下が好ましく、１０μｍ以下がより好ましい。また、下限は、ドットが完全に重ならないため、例えば、１μｍ以上が好ましく、２μｍ以上がより好ましい。
電着ドラム３のドラム表面３ｓの表面粗さは、ＪＩＳ Ｂ ０６０１に準拠して、Ｒｚで１０μｍ以下とすることが好ましく、５μｍ以下とすることがより好ましい。このような表面粗さにすることで、電着ドラム３のドラム表面３ｓを鏡面または平坦化することができる。Ｒｚの下限値は、特に限定されないが、例えば、０．１μｍ以上とすることが好ましい。
なお、レーザー照射前に、電着ドラム３の表面に対して、ドラム表面をある程度まで平滑化する予備加工をしておいてもよい。このような予備加工としては、例えば、上述した砥石による研磨の他、ショットブラストによる研磨や、放電加工による平滑化などを単独で又はこれらを組み合わせて行ってもよい。レーザー照射前の電着ドラム３のドラム表面の表面粗さは、ＪＩＳ Ｂ ０６０１に準拠して、Ｒｚで１０μｍ以下にしておくことが好ましく、５μｍ以下にしておくことがより好ましい。レーザー照射前のＲｚの下限値は、特に限定されないが、例えば、０．１μｍ以上が好ましい。
このようにして本実施の形態の金属箔の製造方法によって得られる金属箔８は、その陰極面に、電着ドラム３の表面状態が反映されるため、電着ドラム３の表面のパターンに対応するパターンとして、複数のドット状の凸部が形成される。金属箔８の陰極面に形成される円形などのドット状の凸部の平均直径は、例えば、１００μｍ以下が好ましく、５０μｍ以下がより好ましく、１０μｍが更に好ましい。平均直径の下限は、特に限定されないが、例えば、１μｍ以上が好ましい。なお、平均直径とは、金属箔８の表面を走査電子顕微鏡で観察し、１０００μｍ×１０００μｍ四方の領域中にある全てのドット状の凸部の直径を測定し、その平均の直径を算出したものである。なお、ドット状の凸部が厳密に円形ではない場合、ドット状の凸部の外形を内接する仮想円を設定して、この仮想円の直径を測定する。
また、金属箔８の陰極面の表面粗さは、ＪＩＳ Ｂ ０６０１に準拠して、Ｒｚで１０μｍ以下とすることが好ましく、５μｍ以下とすることがより好ましい。陰極面のＲｚの下限値は、特に限定されないが、例えば、０．１μｍ以上とすることが好ましい。
更に、金属箔８の陰極面の表面性状のアスペクト比をＩＳＯ ２５１７８に準拠するＳｔｒで、０．６〜１．０の範囲内にすることが好ましく、０．７〜０．９の範囲内にすることがより好ましい。なお、このＳｔｒは、表面性状（表面粗さ）の異方性、等方性を表す指標であり、０〜１の範囲の数値を有する。Ｓｔｒが０に近い程、異方性の強い表面であり、Ｓｔｒが１に近い程、等方性の強い表面であることを表す。Ｓｔｒが０．６以上で、金属箔８の陰極面の表面粗さにほとんど方向性が無くなり、Ｓｔｒが０．７以上で、金属箔８の陰極面の表面粗さに方向性が無く、直線状の凹凸が無い均一な表面であることを表す。
また、金属箔８の陰極面の表面粗さＲｚを、金属箔８の陰極面のドット状の凸部の平均直径の１／１００〜１／１０の範囲内とすることが好ましく、１／７０〜１／４０の範囲内にすることがより好ましい。なお、この表面粗さＲｚとドット状の凸部の平均直径との関係は、金属箔８の陰極面の表面が平坦であるとの指標を表すものである。
なお、金属箔８の陰極面に電着ドラム３の表面状態が反映される程度の大きさは、電解条件にも左右される。電解条件は、金属箔８の物性（電気伝導度、引張強度、伸び等）にも影響を与えるため、金属箔８の陰極面の微視的な表面模様および表面粗さと、金属箔８の物性とは、従来、一定の関係に縛られてしまっていたものであるが、本実施の形態の金属箔の製造方法では、電着ドラム３のドラム表面をレーザー加工によって、平滑な表面を維持しつつ円形などのドット状の凹凸を形成することができるので、従来は困難であった微視的な表面模様および表面粗さと物性との関係を有する金属箔８を得ることが可能となる。
陰極面の反対面である金属箔８の析出面は、電解槽１の電解条件や金属箔８の厚さによって大きく影響を受けるため、電着ドラム３の表面状態が反映されて、複数のドット状の凹凸が形成される場合もあれば、より凹凸が大きくなってドット状が判別できない表面になる場合もある。換言すれば、電解槽１の電解条件や金属箔８の厚さを一定にして、電着ドラム３の表面に形成するドット状の凹凸等のパターンを変えることにより、金属箔８の析出面の表面形状をそのパターンに応じて変化させることができる。よって、金属箔８の析出面の微視的な表面模様および表面粗さも、電着ドラム３のドラム表面のレーザー加工により、コントロールすることができる。金属箔８の析出面の表面粗さは、ＪＩＳ Ｂ ０６０１に準拠して、Ｒｚで１０μｍ以下とすることが好ましく、５μｍ以下とすることがより好ましい。析出面のＲｚの下限値は、特に限定されないが、例えば、０．１μｍ以上とすることが好ましい。
本実施の形態の金属箔の製造方法は、電解条件として、例えば、電流密度は１０〜１００Ａ／ｄｍ２が好ましく、２０〜８０Ａ／ｄｍ２がより好ましく、電解液の液温は２０〜８０℃が好ましく、３０〜６０℃がより好ましい。また、金属箔８の厚さは、例えば、１〜１４０μｍが好ましく、３〜１０５μｍがより好ましく、５〜７０μｍが更に好ましく、５〜２０μｍが最も好ましい。
このように本実施の形態では、レーザー照射によって電着ドラム３の表面に複数のドット状の凹部１０を形成する場合について説明してきたが、本発明はこれに限定されるものではなく、レーザー照射によって電着ドラム３の表面に、電着ドラム３の軸方向および半径方向にそれぞれ、複数の鱗状や、波状、鎖状などの曲線を有する形状が繰り返されるパターンの加工をすることによって、同等の効果を得ることができる。
電解銅箔を製造するための電着ドラムの試験用ドラムとして、チタン製の直径４８ｍｍ、長さ１３０ｍｍの円筒型電極を用意し、この表面をレーザー加工により平滑化した。レーザー加工機としては、ＹＶＯ４レーザーとファイバーレーザーのハイブリッドタイプ（キーエンス社製の品番：ＭＤ-Ｘ１５２０）を用いた。レーザーの出力は２５Ｗの２０〜６０％、パルス周波数は６０〜１００ｋＨｚ、スキャン速度は１５００〜２０００ｍｍ／ｓとし、直径５０μｍの円形のドットの凹凸が形成されるようにドラム表面を加工した。このドラム表面を形状解析レーザー顕微鏡（キーエンス社製、品番：ＶＫ−Ｘ１５０／Ｘ１６０）で観察した。その結果の画像を図３に示す。なお、比較として、上記の試験用ドラムの表面を砥石で研磨したものの画像を図４に示す。そして、このレーザー加工した試験用ドラムを陰極とし、デノラ・ペルメレック社製の陽極板とを対向配置させた電解槽中に、硫酸銅（ＩＩ）五水和物濃度２８０ｇ／Ｌ、硫酸濃度が９０ｇ／Ｌの硫酸系銅電解液を供給して、電流密度４５Ａ／ｄｍ２、液温４０〜４３℃、ドラム回転数３００ｒｐｍ、処理時間６０ｓの条件で、電解銅箔を製造した。
得られた電解銅箔の陰極面と析出面の両面をそれぞれ走査電子顕微鏡（ＳＥＭ）（日立社製、品番：ＳＵ１５１０）で観察した。その結果のＳＥＭ画像を図５と図６にそれぞれ示す。また、電解銅箔の厚さは、表面粗さ測定機（東京精密社製、品番：ＳＵＲＦＣＯＭ １４００Ｇ）で測定した結果、１０μｍであった。
一方、比較のため、上記の試験用ドラムの表面を砥石で研磨したものを用いた点を除き、実施例と同様の条件で電解銅箔を製造した。この比較例の電解銅箔の陰極面と析出面のＳＥＭ画像を図７と図８にそれぞれ示す。
図４及び図７に示すように、従来の砥石で研磨した表面のドラムで製造した比較例の電解銅箔の陰極面には、ドラムの表面状態が反映され、直線状の凹凸が形成されていることが確認された。比較例の電解銅箔の析出面も、図８に示すように、方向性が大幅に減少しているものの、直線状の凹凸が部分的に形成されていた。比較例の電解銅箔の表面粗さＲｚ、Ｒａは、ＪＩＳ Ｂ ０６０１に準拠して表面粗さ測定機（東京精密社製、品番：ＳＵＲＦＣＯＭ １４００Ｇ）で測定した結果、陰極面はＲｚが１．８μｍ、Ｒａが０．３１μｍ、析出面はＲｚが１．９μｍ、Ｒａが０．３７μｍであり、どちらも表面粗さＲｚとしては十分に小さい値であった。また、アスペクト比Ｓｔｒは、上記の形状解析レーザー顕微鏡で測定した結果、陰極面が０．１９、析出面が０．６８であり、陰極面の表面形状には方向性が有り、直線状の凹凸が有る表面形状であった。
一方、レーザーによって平滑化した表面のドラムで製造した実施例の電解銅箔の陰極面には、図５に示すように、ドラムの表面状態が反映され、複数のドット状の凸部が形成されたことが確認された。１０００μｍ×１０００μｍ四方の領域中のドット状の凸部の平均直径は、５０μｍであった。この実施例の電解銅箔の析出面は、図６に示すように、陰極面のようなドット状の形状は明確には認められなかった。また、実施例の電解銅箔の表面粗さＲｚは、上記と同様に測定した結果、陰極面はＲｚが１．９μｍ、Ｒａが０．２９μｍ、析出面はＲｚが１．８μｍ、Ｒａが０．３６μｍであり、どちらも表面粗さＲｚとしては十分に小さい値であった。また、アスペクト比Ｓｔｒは、陰極面が０．７９、析出面が０．８２であり、方向性が無く直線状の凹凸の無い均一な表面であった。更に、表面粗さＲｚは、ドット状の凸部の平均直径の１／２６であり、平坦であった。
１ 電解槽
２ 陽極板
３ 電着ドラム
４ 間隙
５ 電解液
６ 開口
７ 巻取ドラム
８ 金属箔
１０ ドット状の凹部
２ 陽極板
３ 電着ドラム
４ 間隙
５ 電解液
６ 開口
７ 巻取ドラム
８ 金属箔
１０ ドット状の凹部
Claims (13)
- 金属箔製造用の電着ドラムの表面を加工する方法であって、前記電着ドラムの表面にレーザーを照射して、前記電着ドラムの表面に、曲線を有する形状が繰り返されるパターンの加工をする工程を含む、金属箔製造用の電着ドラムの表面加工方法。
- 前記レーザーを照射することによって、前記電着ドラムの表面に複数のドット状の凹部が形成される、請求項１に記載の加工方法。
- 金属箔を製造する方法であって、電解液に浸漬している陰極の電着ドラムと、陽極の極板との間に通電し、電解反応により前記電着ドラムの表面に金属を電析した後、前記電着ドラムから前記金属を剥離して金属箔を得る工程を含み、前記電着ドラムが、レーザーの照射により、曲線を有する形状が繰り返されるパターンの加工がされた表面を有する、金属箔の製造方法。
- 前記曲線を有する形状が、ドット状の凹部である、請求項３に記載の金属箔の製造方法。
- 前記電着ドラムの曲線を有する形状が繰り返されるパターンの加工がされた表面によって、前記金属箔の前記電着ドラムと接していた陰極面に、前記曲線を有する形状が繰り返されるパターンに対応するパターンを形成する、請求項３または４に記載の金属箔の製造方法。
- 前記電着ドラムの曲線を有する形状が繰り返されるパターンの加工がされた表面によって、前記金属箔の前記陰極面とは反対側の析出面に形成される表面形状をコントロールする、請求項３〜５のいずれか一項に記載の金属箔の製造方法。
- 電解金属箔であって、前記電解金属箔の陰極面に、曲線を有する形状が繰り返されるパターンを有する、電解金属箔。
- 前記曲線を有する形状が、ドット状の凸部である、請求項７に記載の電解金属箔。
- 前記ドット状の凸部は、平均直径が１００μｍ以下である、請求項８に記載の電解金属箔。
- 前記電解金属箔の陰極面の表面粗さＲｚが、１０μｍ以下である、請求項７〜９のいずれか一項に記載の電解金属箔。
- 前記電解金属箔の陰極面の表面粗さＲｚが、前記電解金属箔の陰極面の前記ドット状の凸部の平均直径の１／１００〜１／１０である、請求項８又は９に記載の電解金属箔。
- 前記電解金属箔の陰極面の表面性状のアスペクト比Ｓｔｒが０．６〜１．０である、請求項７〜１１のいずれか一項に記載の電解金属箔。
- 請求項７〜１２のいずれか一項に記載の電解金属箔を備えた、リチウムイオン電池またはプリント配線板。
Priority Applications (7)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2020015131A JP2021123726A (ja) | 2020-01-31 | 2020-01-31 | 金属箔、その製造方法、およびそれに用いる電着ドラムの加工方法 |
| TW110103189A TW202138628A (zh) | 2020-01-31 | 2021-01-28 | 金屬箔、其製造方法、及用於其之電鍍滾筒之加工方法 |
| PCT/JP2021/002957 WO2021153647A1 (ja) | 2020-01-31 | 2021-01-28 | 金属箔、その製造方法、およびそれに用いる電着ドラムの加工方法 |
| EP21748376.7A EP4098776A1 (en) | 2020-01-31 | 2021-01-28 | Metal foil and production method therefor, and method for processing electrodeposition drum to be used for said production method |
| CN202180012032.1A CN115038816A (zh) | 2020-01-31 | 2021-01-28 | 金属箔、金属箔的制造方法及用于其的电沉积滚筒的加工方法 |
| KR1020227025411A KR20220134545A (ko) | 2020-01-31 | 2021-01-28 | 금속박, 그 제조 방법, 및 그것에 사용하는 전착 드럼의 가공 방법 |
| US17/759,501 US20230072579A1 (en) | 2020-01-31 | 2021-01-28 | Metal foil and production method therefor, and method for processing electrodeposition drum to be used for said production method |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2020015131A JP2021123726A (ja) | 2020-01-31 | 2020-01-31 | 金属箔、その製造方法、およびそれに用いる電着ドラムの加工方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2021123726A true JP2021123726A (ja) | 2021-08-30 |
Family
ID=77079893
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2020015131A Withdrawn JP2021123726A (ja) | 2020-01-31 | 2020-01-31 | 金属箔、その製造方法、およびそれに用いる電着ドラムの加工方法 |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20230072579A1 (ja) |
| EP (1) | EP4098776A1 (ja) |
| JP (1) | JP2021123726A (ja) |
| KR (1) | KR20220134545A (ja) |
| CN (1) | CN115038816A (ja) |
| TW (1) | TW202138628A (ja) |
| WO (1) | WO2021153647A1 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN114850246B (zh) * | 2022-04-24 | 2022-11-29 | 广东嘉元科技股份有限公司 | 一种端部型电热的电解铜箔防翘曲设备及其工作方法 |
Family Cites Families (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5329667A (en) * | 1976-08-31 | 1978-03-20 | Mitsubishi Electric Corp | Composite semiconductor device |
| JPH05329667A (ja) * | 1992-05-27 | 1993-12-14 | Nippon Steel Corp | 薄肉鋳片鋳造用冷却ドラムのディンプル加工装置および加工方法 |
| JP4439081B2 (ja) | 2000-05-31 | 2010-03-24 | 日本電解株式会社 | 電解銅箔の製造方法とそれに用いる装置 |
| CN101016634B (zh) * | 2006-12-30 | 2010-12-15 | 苏州大学 | 一种具有表面浮雕微结构金属滚筒的制作方法 |
| KR100822092B1 (ko) * | 2007-02-07 | 2008-04-15 | 엘에스전선 주식회사 | 미세 회로용 동박 제조 방법 및 장치, 이를 이용하여제조된 동박 |
| JP2009158841A (ja) * | 2007-12-27 | 2009-07-16 | Hitachi Chem Co Ltd | めっき用導電性基材、その製造方法及びそれを用いた導体層パターン付き基材の製造方法、導体層パターン付き基材、透光性電磁波遮蔽部材 |
| JP5598884B2 (ja) * | 2012-02-28 | 2014-10-01 | 古河電気工業株式会社 | リチウムイオン二次電池、該二次電池の負極電極を構成する集電体、ならびに該負極電極集電体を構成する電解銅箔 |
| KR20140022189A (ko) * | 2012-08-13 | 2014-02-24 | 주식회사 포스코 | 고체산화물 연료전지용 연료극 금속지지체 및 그 제조방법 |
| JP5692614B2 (ja) * | 2013-09-06 | 2015-04-01 | 日立金属株式会社 | 電解アルミニウム箔製造装置、及び、電解アルミニウム箔製造方法 |
| JP2016108621A (ja) * | 2014-12-08 | 2016-06-20 | 日立化成株式会社 | 金属箔、その金属箔の製造方法及びその金属箔を用いたリチウムイオンキャパシタ |
| CN109715863B (zh) * | 2017-01-25 | 2020-02-11 | 日立金属株式会社 | 金属箔的制造方法以及金属箔制造用阴极 |
| KR102378297B1 (ko) * | 2017-03-29 | 2022-03-23 | 에스케이넥실리스 주식회사 | 리튬 이온 2차전지, 이 2차전지의 음극 전극을 구성하는 집전체 및 이 음극 집전체를 구성하는 전해동박 |
-
2020
- 2020-01-31 JP JP2020015131A patent/JP2021123726A/ja not_active Withdrawn
-
2021
- 2021-01-28 US US17/759,501 patent/US20230072579A1/en not_active Abandoned
- 2021-01-28 KR KR1020227025411A patent/KR20220134545A/ko not_active Withdrawn
- 2021-01-28 WO PCT/JP2021/002957 patent/WO2021153647A1/ja not_active Ceased
- 2021-01-28 TW TW110103189A patent/TW202138628A/zh unknown
- 2021-01-28 CN CN202180012032.1A patent/CN115038816A/zh active Pending
- 2021-01-28 EP EP21748376.7A patent/EP4098776A1/en not_active Withdrawn
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| TW202138628A (zh) | 2021-10-16 |
| KR20220134545A (ko) | 2022-10-05 |
| CN115038816A (zh) | 2022-09-09 |
| WO2021153647A1 (ja) | 2021-08-05 |
| US20230072579A1 (en) | 2023-03-09 |
| EP4098776A1 (en) | 2022-12-07 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
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| A621 | Written request for application examination |
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|
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|
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