JPH0860391A - 不溶性金属陽極 - Google Patents
不溶性金属陽極Info
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Abstract
タンタルの複合酸化物を被覆した陽極であって、基体の
表面に機械加工、ブラスト処理、エッチングから選ばれ
る少なくともいずれ1種の手段によって凹凸が形成され
た陽極基体に電極被覆を形成し、陽極被覆の表面には凹
部と凸部の差が100μm以上で、その山の数が1cm
当たり5〜20個である凹凸を設けた不溶性金属陽極。 【効果】 陽極表面への二酸化鉛の析出効率が高い。
Description
属銅箔を製造するために使用する不溶性金属電極に関す
るものであり、とくに電解液中の不純物を除去しながら
安定に電解を続けることができる不溶性金属電極に関す
るものである。
による製造は、チタン製、表面処理したステンレススチ
ール製ドラム表面に銅を析出させ、それを連続的に剥離
しながら巻き取ることによって行われており、対極であ
る陽極は、このドラムにそって半円筒状にドラムとの電
極間隔を5〜30mmに保持して設置されており、ドラ
ムと陽極との電極間に十分な銅イオンの供給が可能なよ
うに、電解液を流している。電極とドラムとの間隔は小
さいほど電解液によるオーム損が少ないため、槽電圧は
低くなり消費電力量も少ないという特徴を有している
が、電極間隔が小さくなるほど電極間距離の精度が製品
銅箔の精度に影響するようになり、電極面の高精度の仕
上げが必要となり、また、電極の表面形状の問題ととも
に、電極活性のわずかな差が製品に大きな影響を与え
る。一方、電極間隔を大きくすればドラム面の全面に均
一な電流密度で通電することが可能となり、精度の高い
銅箔を得ることができるが、電解液によるオーム損が極
めて大きくなり、槽電圧の上昇、電力原単位の悪化とい
う問題点が生じることとなる。
きな影響を与えている。古くから使われている鉛合金電
極では、不溶性とはいわれているものの、電極は通電時
間当たり数g/kA時で消耗するので、これに代えてチ
タン等の薄膜形成性金属上に、白金族の金属、またはそ
れらの金属酸化物を被覆した不溶性金属電極が用いられ
るようになっている。このような電極では極めて精度の
高い電極を作ることができるとともに、その消耗量は多
くても数mg/kA時であり、寸法変化の問題は全く考
慮しなくても良く、更に酸素過電圧が小さく低電圧での
電解が可能であるという特徴がある。
して電線くず等のスクラップ銅を使用する場合が多く、
電解液中にはそれらに含まれる鉛等の不純分が混入する
ことが避けられない。これらの不純物が電解液中に混入
する量はわずかではあるが、電解の継続とともに電解液
中に残留し、鉛、その他の成分の濃度が増加することと
なる。
に、電解液中には、主としてゼラチン質からなる添加剤
を加えているが、これが不溶性金属電極の電極被覆に使
用されている白金族金属や、それらの酸化物から白金、
イリジウム等の白金族金属成分の溶解を促進し、電極寿
命を短くするという問題がある。
電極は、酸素発生電位が約1.6V(pH0における対
標準水素参照電極)であり、白金や鉛合金に比較して極
めて低い電位を有しており、消耗が小さいことと併せて
その経済効果は極めて高い。不純分として電解液中に存
在する2価の鉛あるいは鉛イオンはその溶解度が10p
pm以下であるので、通常の酸化イリジウム含有被覆電
極では陽極酸化による陽極表面への二酸化鉛の形成が起
こらないことがあり、電解液中の鉛成分の濃度は減少し
ないこととなる。電解液中の鉛の成分が増加すると、液
中に鉛成分が硫酸鉛として析出し、その結果、銅箔中に
硫酸鉛が懸濁めっきを行ったような状態で析出し製品の
品質が劣化することがある。そこで、析出した鉛成分を
フィルターによって除去することが必要となるが、析出
した鉛成分は極めて小さな粒子であるので、除去が困難
であるという問題を有している。
子の授受を行い酸化されて以下のように二酸化鉛として
安定化する。 Pb2++2H2O → PbO2+4H++2e- PbSO4 +2H2O→PbO2+4H++SO4 2-+2e- 二酸化鉛は、事実上、対標準水素電極を基準にして約
1.6V以上で安定であり、この電位と同等もしくはそ
れよりも高い電位の陽極表面に安定に存在する。ところ
が、通常の酸化イリジウム被覆を有する陽極の場合は、
酸素発生電位が二酸化鉛が安定する電位とほぼ同じであ
り、このような電解液では、Pb2+イオンを主とする鉛
成分の濃度は10ppm以下と極めて低く、さらにPb
2+イオンは陽イオンであり、陽極には電気泳動をせず、
陽極表面に液中のPb2+イオンが二酸化鉛として形成さ
れる確率は低かった。また、たとえ生成しても、その分
布が電極表面全面に均一に付着することは小さく、析出
してもむらとなってしまい、製品である銅箔の品質に悪
影響を与える可能性があった。
は陽極成分である酸化イリジウムの溶出を加速する作用
がある。二酸化鉛が酸化イリジウム表面に形成された電
極では、二酸化鉛の酸化力により、ゼラチンを分解する
ものと思われ、ゼラチンによる酸化イリジウムの消耗の
加速が緩和される。この作用を利用することによって陽
極の長寿命化とともに、電解液中からの鉛成分を除去す
ることが期待できるが、従来の電極では、安定な二酸化
鉛の形成ができないので、電解液中のPb2+イオンの除
去が不十分であるとともに、電極寿命が短くなるという
問題点があった。さらに、二酸化鉛が形成されても陽極
面で不均一に起こるために、製品である銅箔の厚みを不
均一にするという問題があった。また、均一な二酸化鉛
の形成がないために、電極の延命効果の点でも不十分で
あるという問題があった。
製造の安定な操業を行うことができる長寿命の不溶性金
属陽極を提供することを課題とするものである。
箔の製造に使用する不溶性金属陽極において、薄膜形成
性金属の基体の表面にイリジウムとタンタルの複合酸化
物を被覆した陽極であって、陽極被覆の表面には凹部と
凸部の差が100μm以上で、その山の数が1cm当た
り5〜20個である凹凸を設けた不溶性金属陽極であ
る。凹凸が、基体の表面に機械加工、ブラスト処理、エ
ッチングから選ばれる少なくともいずれか1種の手段に
よって凹凸が形成された陽極基体に電極被覆を形成する
ことによって得られたものである前記の不溶性金属陽極
である。また、イリジウムとタンタルの複合酸化物の組
成が、イリジウム:タンタル=90:10〜60:40
(モル比)である前記の不溶性金属陽極である。
転ドラム状の陰極と対向する曲面状の陽極との間の電極
間隙に電解液を供給するとともに、陽極で発生する気泡
を速い速度で除去している。電極に均一に銅イオンを供
給すると共に、気泡による電流分布の偏りを防いでい
る。一般には、電解液の流速は5〜30cm/秒であ
り、このような流れを、幅1.5m、直径3m程度の大
型の陰極ドラム面に均一に与えるために、電解液を出来
るだけ層流となるように流す工夫がなされている。また
気泡も出来るだけ小さな気泡のままで層流の状態で、開
放されるようになっている。
その近傍が層流であるため陽極表面へのイオンの供給
は、電極面に形成される100μm程度の電気二重層内
を拡散によって行われるのみであり、気泡発生による乱
流効果でわずかに加速されるものの鉛イオンは、陽イオ
ンであるので陽極には電気泳動しないので、十分に供給
されることはない。硫酸鉛粒子が含まれる程度に鉛濃度
が高くなれば、中性であるから、陽極面への供給チャン
スが増加する。しかし、これはイオンではなく粒子であ
るから平滑な表面上には沈積しにくく従って反応が遅い
固→液→固反応(PbSO4 からPbO2 への反応)は
起こりにくいことになる。この改良のためには全体の液
流、特に銅箔生成に係る陰極表面での液の流れを全く変
えずに陽極表面上での液を強制的に撹拌すると共に、陽
極面に硫酸鉛を沈積させ電極表面に生成した酸化鉛を強
く保持出来るように、陽極を粗面化することによって得
られることがわかった。
さとほぼ同等の凹凸を与えることによって、達成出来る
ことがわかった。表面の凹部と凸部の差を100μm以
上とする凹凸を1cm当たり5〜20個形成することに
より陽極表面付近のみを乱流としPb2+イオンの陽極表
面への供給を充分とし、また硫酸鉛の電極表面の保持が
できることがわかった。凹凸すなわち山と谷との間の高
さが小さいと陽極表面への二酸化鉛の生成はある程度は
起こるが、その生成は不十分であり、またPbSO4 の
沈積、保持が不十分であった。
20個以上では、液の流れはあたかも表面が平滑である
かののように見かけ上は凸部から構成される平坦な表面
を流れてしまい、液流れの乱れの少ない結果、二酸化鉛
を安定に保持するための液よどみが形成されなかった。
凹凸の数が1cm当たり5個より少ないと凹凸の深さに
よるが、山と谷から構成される凹凸面を液が滑らかに流
れることとなり、液のよどみおよび生成酸化鉛の保持が
不十分となる。凹凸の山と谷が極めて大きい場合、すな
わち500μmよりも大きい場合は、電極間の距離にも
よるが電流分布が不均一になる場合があり、生成した銅
箔の厚さが均一にならない可能性がある。電極間距離が
5mm程度であれば、山と谷が最大500μm程度が好
ましく、10〜25mm程度では最大1000μm程度
まで好ましい。それ以上では銅箔が不均一となる可能性
がある。このような表面粗度を有すれば、凹凸の形状は
とくに限定されず、表面をブラスト、化学エッチングに
よって形成しても、またロール掛け、溝掘り等の機械的
な加工によって行っても良い。
ムを主とする被覆を形成すると、陽極電位は被覆の組成
によって差を生じるが、最も適当なものは、イリジウム
とタンタルとの複合酸化物であり、その組成は80:2
0〜50:50である。その酸素発生電位は、銅箔製造
条件において、1.6〜1.8V(対NHE)であり、
酸化鉛の形成が可能な最低の電位であり、これによって
槽電圧を低く保持するとともに電極寿命が極めて長く、
安定に運転することができる。なお、このような電極に
おける二酸化鉛形成後の陽極電位は酸化鉛が100μm
以上の厚さとなっても、酸化鉛、酸化イリジウム含有被
覆の混成電位を示し、たとえば、酸化イリジウム含有被
覆電極の電位が1.6V(対NHE)で、約100μm
の酸化物を形成した後でも、二酸化鉛単独の場合は約
2.0V(対NHE)の電位を示すのに対して、約1.
8Vの電位を示す。このため、表面に二酸化鉛を形成し
ながら電解が行われても、なおかつその電位は鉛や酸化
鉛電極の電位よりも低く保持することができる。そし
て、電解液中の不純物である鉛は除去され、さらに二酸
化鉛の形成により陽極はより安定化する。
低い、酸化イリジウムを含有する被覆を形成した陽極の
表面に特定の大きさの凹凸を形成したので、陽極表面へ
の電解液中からの二酸化鉛の析出を促進することができ
るので、電解液中の鉛の蓄積を防止するとともに、長期
間にわたり陽極を低い電位で安定して使用することがで
きる。
作成し、下方より層流で電解液を流すようにした。この
電解槽を45°の角度に傾けて電解を行った。陰極には
鏡面加工をしたチタン板を設け、陽極には表面を粗面化
したチタン板を基材としてその表面に陽極物質として、
Ir:Ta=2:1(モル比)からなる電極形成成分を
含有する溶液を塗布して酸素含有雰囲気において加熱す
る熱分解法によってIr−Ta複合酸化物被覆を形成し
た。陽極のチタン基材の表面の粗面化は、スチールグリ
ットによるブラスト処理で行い、使用するグリットの大
きさを平均粒度20〜200μmまで変化をさせ、その
他の条件を同じとして、調整した。ブラスト処理後、基
材中に残留しているグリット片の除去と表面活性化のた
めに20%の沸騰塩酸中で15分間酸洗した。
粗度計で計測した。作製した電極を電解槽に取り付けて
電解に供した。電解液は200g/lの硫酸銅と100
g/lの硫酸からなる水溶液とした。これに、ゼラチン
を液量に対して5ppmになるように加えた。この液を
電解槽下方の電解槽入口で10cm/秒の速さとなるよ
うに流しながら電流密度100A/dm2 で電解を行っ
た。温度は60℃であった。50時間の電解後の陽極表
面での二酸化鉛の形成状態を目視により調べた。その結
果を第1表に示す。試料番号に記載の(比)は、比較試
料であることを示す。
以上では全体に二酸化鉛の形成が見られたが、それより
小さいと液入口に近い、より層流に近い部分は二酸化鉛
の形成が少なく、気泡等により液が乱流になっている部
分で形成しやすいことがわかった。なお、凹凸差105
μm以上の凹凸のものでは、全体に二酸化鉛の形成する
ことがわかった。
除き実施例1と同一の条件で、試料番号2および試料番
号3の電極を用いて電解を行い、その結果を表2に示
す。
れ以上では、均一な二酸化鉛が形成できることがわか
る。なお、二酸化鉛が表面に100μm以上析出した電
極では酸化イリジウムの消耗速度が0.1mg/kAh
以下の消耗速度であったが、二酸化鉛の形成のない部分
では、0.4〜0.6mg/kAhとなり、電極の消耗
が大きく、また二酸化鉛の形成によって電極寿命が長く
なり安定に電解可能であることがわかった。
に、700℃で1〜10時間の真空熱処理をして粒成長
を起こさせた試料を、50g/lのシュウ酸水溶液中に
おいて、90℃で10時間のエッチングを行って表面の
粗化を行った。次いで、実施例1と同様にして酸化イリ
ジウム−酸化タンタル複合酸化物被覆を形成した後、実
施例1と同様の条件で、流速を30cm/秒として電解
を行い、その結果を表3に示す。
いて、イリジウムとタンタルの組成を変えた電極を作成
した。得られた電極の酸素発生電位を、水銀/硫酸第一
水銀参照電極に対して、60℃の150g/l硫酸中に
おいて、50A/dm2 の条件で測定し、さらに実施例
1と同様の条件で電解を行い、得られた結果を表4に示
す。試料番号に記載の(比)は比較例であることを示
す。
0よりもイリジウムが少なくなると、電位が低下し、ま
た、85:15よりも多いと同様に電位が低下し、二酸
化鉛の形成が不十分となった。
電極において、陽極の電位を低い電位に保持した状態
で、電解液中の不純物を陽極表面に二酸化鉛の形態で析
出することによって電解液を清浄に保つとともに、電解
液に添加するゼラチンによる悪影響を減少させることが
でき、長期間にわたり安定にな電解を可能とする。
Claims (3)
- 【請求項1】 電解による銅箔の製造に使用する不溶性
金属陽極において、薄膜形成性金属の基体の表面にイリ
ジウムとタンタルの複合酸化物を被覆した陽極であっ
て、陽極被覆の表面には凹部と凸部の差が100μm以
上で、その山の数が1cm当たり5〜20個である凹凸
を設けたことを特徴とする不溶性金属陽極。 - 【請求項2】 凹凸が、基体の表面に機械加工、ブラス
ト処理、エッチングから選ばれる少なくともいずれか1
種の手段によって凹凸が形成された陽極基体に電極被覆
を形成することによって得られたものであることを特徴
とする請求項1記載の不溶性金属陽極。 - 【請求項3】 イリジウムとタンタルの複合酸化物の組
成が、イリジウム:タンタル=90:10〜60:40
のモル比であることを特徴とする請求項1記載の不溶性
金属陽極。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19668194A JP3224329B2 (ja) | 1994-08-22 | 1994-08-22 | 不溶性金属陽極 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19668194A JP3224329B2 (ja) | 1994-08-22 | 1994-08-22 | 不溶性金属陽極 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0860391A true JPH0860391A (ja) | 1996-03-05 |
JP3224329B2 JP3224329B2 (ja) | 2001-10-29 |
Family
ID=16361830
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP19668194A Expired - Fee Related JP3224329B2 (ja) | 1994-08-22 | 1994-08-22 | 不溶性金属陽極 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3224329B2 (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06146052A (ja) * | 1992-11-11 | 1994-05-27 | Permelec Electrode Ltd | 金属箔の電解による製造方法 |
JP2003503598A (ja) * | 1999-06-28 | 2003-01-28 | エルテック・システムズ・コーポレーション | 銅箔の製造法 |
JP2007084432A (ja) * | 2006-09-26 | 2007-04-05 | Nikko Kinzoku Kk | 水酸化インジウム又はインジウムの回収方法 |
WO2013031790A1 (ja) * | 2011-08-30 | 2013-03-07 | Dowaメタルマイン株式会社 | 非鉄金属の電解採取方法 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6493404B1 (en) | 1999-03-01 | 2002-12-10 | Sharp Kabushiki Kaisha | Recycling integrator correlator |
-
1994
- 1994-08-22 JP JP19668194A patent/JP3224329B2/ja not_active Expired - Fee Related
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JPH06146052A (ja) * | 1992-11-11 | 1994-05-27 | Permelec Electrode Ltd | 金属箔の電解による製造方法 |
JP2003503598A (ja) * | 1999-06-28 | 2003-01-28 | エルテック・システムズ・コーポレーション | 銅箔の製造法 |
JP2007084432A (ja) * | 2006-09-26 | 2007-04-05 | Nikko Kinzoku Kk | 水酸化インジウム又はインジウムの回収方法 |
WO2013031790A1 (ja) * | 2011-08-30 | 2013-03-07 | Dowaメタルマイン株式会社 | 非鉄金属の電解採取方法 |
JP2013049877A (ja) * | 2011-08-30 | 2013-03-14 | Dowa Metals & Mining Co Ltd | 非鉄金属の電解採取方法 |
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---|---|
JP3224329B2 (ja) | 2001-10-29 |
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