JP2021118487A5

JP2021118487A5 -

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Publication number: JP2021118487A5
Application number: JP2020011988A
Authority: JP
Filing date: 2020-01-28
Publication date: 2023-01-30
Anticipated expiration: 2040-01-28

Description

一実施形態に係る電子機器は、
入射光制御領域を有する光シャッタパネルと、レンズを含み、前記入射光制御領域に対向した光学部材と、前記光シャッタパネルの前記入射光制御領域及び前記光学部材を透過した光を画像データに変換するように構成された撮像素子と、を備え、前記入射光制御領域は、第１環状遮光領域と、前記第１環状遮光領域で囲まれた円形入射光制御領域と、前記第１環状遮光領域と前記円形入射光制御領域との間に位置し多重になった複数の環状入射光制御領域と、を有し、前記光シャッタパネルは、液晶パネルであり、表示領域を有し、前記入射光制御領域の外周は、前記表示領域に接している。

また、一実施形態に係る電子機器は、
第１入射光制御領域を有する光シャッタパネルと、前記第１入射光制御領域に対向し、前記光シャッタパネルの前記第１入射光制御領域を透過した光を画像データに変換するように構成された第１撮像素子と、を備え、前記第１入射光制御領域は、第１環状遮光領域と、前記第１環状遮光領域で囲まれた円形入射光制御領域と、前記第１環状遮光領域と前記円形入射光制御領域との間に位置し多重になった複数の環状入射光制御領域と、を有し、前記光シャッタパネルは、液晶パネルであり、表示領域を有し、前記第１入射光制御領域の外周は、前記表示領域に接している。

例えば、電子機器１００は、液晶パネルＰＮＬの替わりに、液晶パネルＰＮＬ以外の光シャッタパネルを備えてもよい。光シャッタパネルは、光（可視光）の透過及び非透過を制御可能に構成されていればよい。
カラーフィルタＣＦの着色層は、入射光制御領域ＰＣＡに設けられてもよい。その場合、各々の入射光制御領域ＴＡに位置する電極の個数、形状、及びサイズを調整し、各々の入射光制御領域ＴＡを細分化し、各々の入射光制御領域ＴＡのうち独立して駆動可能な領域を複数に分けてもよい。
カメラ１において、光学系２と撮像素子３とは一体となっている。しかし、電子機器１００は、物理的に独立した光学系２と撮像素子３とを個別に備えてもよい。
以下に、本願出願の当初の特許請求の範囲に記載された発明を付記する。
［１］入射光制御領域を有する光シャッタパネルと、
レンズを含み、前記入射光制御領域に対向した光学部材と、
前記光シャッタパネルの前記入射光制御領域及び前記光学部材を透過した光を画像データに変換するように構成された撮像素子と、を備え、
前記入射光制御領域は、
第１環状遮光領域と、
前記第１環状遮光領域で囲まれた円形入射光制御領域と、
前記第１環状遮光領域と前記円形入射光制御領域との間に位置し多重になった複数の環状入射光制御領域と、を有する、
電子機器。
［２］前記円形入射光制御領域及び前記複数の環状入射光制御領域は、同心多重円状に位置している、
［１］に記載の電子機器。
［３］前記光シャッタパネルは、
前記円形入射光制御領域及び前記複数の環状入射光制御領域において、複数種類の光透過パターンを時分割的に形成し、各々の前記光透過パターンにて外部からの光の強度を変調する、
［１］に記載の電子機器。
［４］前記円形入射光制御領域及び前記複数の環状入射光制御領域での透過領域及び非透過領域の組み合わせは、前記光透過パターンの種類毎に異なり、
前記複数種類の光透過パターンによる光の強度の変調は、互いに異なる、
［３］に記載の電子機器。
［５］前記光シャッタパネルは、液晶パネルであり、表示領域をさらに有し、
前記入射光制御領域の外周は、前記表示領域に接している、
［１］に記載の電子機器。
［６］前記光シャッタパネルは、第１基板と、第２基板と、前記第１基板と前記第２基板との間に保持され前記表示領域及び前記入射光制御領域に位置した液晶層と、を備え、
前記第１基板は、各々の前記円形入射光制御領域及び前記環状入射光制御領域に位置した第１電極及び第２電極を有し、
前記液晶層は、前記円形入射光制御領域及び前記複数の環状入射光制御領域に一対一で設けられ、互いに独立して駆動される複数の制御液晶層を有する、
［５］に記載の電子機器。
［７］前記第１電極及び前記第２電極は、前記円形入射光制御領域及び前記複数の環状入射光制御領域毎に物理的に独立し、電気的に独立して駆動される、
［６］に記載の電子機器。
［８］前記光シャッタパネルは、前記円形入射光制御領域を透過状態に設定し、全ての前記環状入射光制御領域を非透過状態に設定する、
［１］に記載の電子機器。
［９］前記入射光制御領域は、
それぞれ、円形入射光制御領域と最内周側の前記環状入射光制御領域との間、及び互いに隣合う一対の前記環状入射光制御領域の間に位置した複数の第２環状遮光領域をさらに有する、
［１］に記載の電子機器。
［１０］第１入射光制御領域を有する光シャッタパネルと、
前記第１入射光制御領域に対向し、前記光シャッタパネルの前記第１入射光制御領域を透過した光を画像データに変換するように構成された第１撮像素子と、を備え、
前記第１入射光制御領域は、
第１環状遮光領域と、
前記第１環状遮光領域で囲まれた円形入射光制御領域と、
前記第１環状遮光領域と前記円形入射光制御領域との間に位置し多重になった複数の環状入射光制御領域と、を有する、
電子機器。
［１１］前記円形入射光制御領域及び前記複数の環状入射光制御領域は、同心多重円状に位置している、
［１０］に記載の電子機器。
［１２］第２撮像素子をさらに備え、
前記光シャッタパネルは、第２入射光制御領域をさらに有し、
前記第２撮像素子は、前記第２入射光制御領域に対向し、前記光シャッタパネルの前記第２入射光制御領域を透過した光を画像データに変換するように構成され、
前記第２入射光制御領域は、
第１環状遮光領域と、
前記第１環状遮光領域で囲まれた円形入射光制御領域と、
前記第１環状遮光領域と前記円形入射光制御領域との間に位置し多重になった複数の環状入射光制御領域と、を有する、
［１０］に記載の電子機器。
［１３］前記光シャッタパネルは、
前記第１入射光制御領域の前記円形入射光制御領域及び前記複数の環状入射光制御領域において、複数種類の光透過パターンを時分割的に形成し、各々の前記光透過パターンにて外部からの光の強度を変調し、
前記第２入射光制御領域において、前記円形入射光制御領域を透過状態に設定し、全ての前記環状入射光制御領域を非透過状態に設定する、
［１２］に記載の電子機器。
［１４］前記光シャッタパネルは、液晶パネルであり、表示領域をさらに有し、
前記第１入射光制御領域の外周は、前記表示領域に接している、
［１０］に記載の電子機器。

Claims

入射光制御領域を有する光シャッタパネルと、
レンズを含み、前記入射光制御領域に対向した光学部材と、
前記光シャッタパネルの前記入射光制御領域及び前記光学部材を透過した光を画像データに変換するように構成された撮像素子と、を備え、
前記入射光制御領域は、
第１環状遮光領域と、
前記第１環状遮光領域で囲まれた円形入射光制御領域と、
前記第１環状遮光領域と前記円形入射光制御領域との間に位置し多重になった複数の環状入射光制御領域と、を有し、
前記光シャッタパネルは、液晶パネルであり、表示領域を有し、
前記入射光制御領域の外周は、前記表示領域に接している、
電子機器。
前記円形入射光制御領域及び前記複数の環状入射光制御領域は、同心多重円状に位置している、
請求項１に記載の電子機器。
前記光シャッタパネルは、
前記円形入射光制御領域及び前記複数の環状入射光制御領域において、複数種類の光透過パターンを時分割的に形成し、各々の前記光透過パターンにて外部からの光の強度を変調する、
請求項１に記載の電子機器。
前記円形入射光制御領域及び前記複数の環状入射光制御領域での透過領域及び非透過領域の組み合わせは、前記光透過パターンの種類毎に異なり、
前記複数種類の光透過パターンによる光の強度の変調は、互いに異なる、
請求項３に記載の電子機器。
前記光シャッタパネルは、第１基板と、第２基板と、前記第１基板と前記第２基板との間に保持され前記表示領域及び前記入射光制御領域に位置した液晶層と、を備え、
前記第１基板は、各々の前記円形入射光制御領域及び前記環状入射光制御領域に位置した第１電極及び第２電極を有し、
前記液晶層は、前記円形入射光制御領域及び前記複数の環状入射光制御領域に一対一で設けられ、互いに独立して駆動される複数の制御液晶層を有する、
請求項１に記載の電子機器。
前記第１電極及び前記第２電極は、前記円形入射光制御領域及び前記複数の環状入射光制御領域毎に物理的に独立し、電気的に独立して駆動される、
請求項５に記載の電子機器。
前記光シャッタパネルは、前記円形入射光制御領域を透過状態に設定し、全ての前記環状入射光制御領域を非透過状態に設定する、
請求項１に記載の電子機器。
入射光制御領域を有する光シャッタパネルと、
レンズを含み、前記入射光制御領域に対向した光学部材と、
前記光シャッタパネルの前記入射光制御領域及び前記光学部材を透過した光を画像データに変換するように構成された撮像素子と、を備え、
前記入射光制御領域は、
第１環状遮光領域と、
前記第１環状遮光領域で囲まれた円形入射光制御領域と、
前記第１環状遮光領域と前記円形入射光制御領域との間に位置し多重になった複数の環状入射光制御領域と、を有し、
前記入射光制御領域は、
それぞれ、円形入射光制御領域と最内周側の前記環状入射光制御領域との間、及び互いに隣合う一対の前記環状入射光制御領域の間に位置した複数の第２環状遮光領域を有する、
電子機器。
第１入射光制御領域を有する光シャッタパネルと、
前記第１入射光制御領域に対向し、前記光シャッタパネルの前記第１入射光制御領域を透過した光を画像データに変換するように構成された第１撮像素子と、を備え、
前記第１入射光制御領域は、
第１環状遮光領域と、
前記第１環状遮光領域で囲まれた円形入射光制御領域と、
前記第１環状遮光領域と前記円形入射光制御領域との間に位置し多重になった複数の環状入射光制御領域と、を有し、
前記光シャッタパネルは、液晶パネルであり、表示領域を有し、
前記第１入射光制御領域の外周は、前記表示領域に接している、
電子機器。
前記円形入射光制御領域及び前記複数の環状入射光制御領域は、同心多重円状に位置している、
請求項９に記載の電子機器。
第２撮像素子をさらに備え、
前記光シャッタパネルは、第２入射光制御領域をさらに有し、
前記第２撮像素子は、前記第２入射光制御領域に対向し、前記光シャッタパネルの前記第２入射光制御領域を透過した光を画像データに変換するように構成され、
前記第２入射光制御領域は、
第１環状遮光領域と、
前記第１環状遮光領域で囲まれた円形入射光制御領域と、
前記第１環状遮光領域と前記円形入射光制御領域との間に位置し多重になった複数の環状入射光制御領域と、を有する、
請求項９に記載の電子機器。
前記光シャッタパネルは、
前記第１入射光制御領域の前記円形入射光制御領域及び前記複数の環状入射光制御領域において、複数種類の光透過パターンを時分割的に形成し、各々の前記光透過パターンにて外部からの光の強度を変調し、
前記第２入射光制御領域において、前記円形入射光制御領域を透過状態に設定し、全ての前記環状入射光制御領域を非透過状態に設定する、
請求項１１に記載の電子機器。