CN116300189A - 一种在显示基板上制作遮光环的方法和屏内摄像装置 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种在显示基板上制作遮光环的方法,包括如下步骤:步骤100:提供一大片玻璃基板,所述大片玻璃基板中预设有多个基板区域,各个基板区域的预定位置处设置有镜头区域;步骤200:在所述大片玻璃基板上制作一遮光材料层,所述遮光材料层覆盖所述大片玻璃基上的各个镜头区域;步骤300:对所述遮光材料层进行刻蚀,使所述遮光材料层形成多个遮光环,一个遮光环对应于一个镜头区域,各个遮光环围绕在对应的镜头区域外围上;步骤400:将各个基板区域从所述大片玻璃基板上切割下来,形成多个显示基板。该方法可在显示基板上制作与摄像头对应的遮光环,效率高、同批次无色差,且良率容易管控。本发明还提供一种屏内摄像装置,采用上述方法制作有遮光环。
Description
技术领域
本发明涉及屏内摄像技术,尤其涉及一种在显示基板上制作遮光环的方法和屏内摄像装置。
背景技术
随着手机越做越窄,对屏占比的要求也更高,为解决前置摄像头的位置问题,有些厂家已经通过在背光中开孔,将摄像头藏在背光的开孔区里面,进而将前置摄像头做在屏幕的显示区内,这样屏幕四周都可以做到窄边框。而为了避免背光的光源从开孔区中漏出,常用的方案是在屏幕的背面对应于背光开孔区的位置上丝印一圈遮光环,以及背光的开孔区侧边点热熔胶。
如专利号为CN201920867302.7的中国专利中公开了一种显示屏,所述显示屏包括液晶面板和背光板;所述液晶面板具有可显示面,所述背光板位于所述液晶面板的背向所述可显示面的一侧;所述背光板能够向所述液晶面板投射光线;所述液晶面板具有光导通状态和光关闭状态,以调制所述背光板所投射的光线;所述背光板开设有第一通孔,所述液晶面板设有与所述第一通孔相对的透光部,以使得外界光线能够依次穿过所述透光部和所述第一通孔;所述第一通孔的侧壁覆设有第一遮光层,所述液晶面板的背向所述可显示面的一侧覆设有第一遮光环,所述第一遮光环的外圈与所述第一遮光层接合,所述第一遮光环的内圈形成连通所述透光部与所述第一通孔的通光孔。该显示屏利用第一遮光层和第一遮光环对背光板的第一通孔的侧壁进行遮挡,以在第一通孔处对应设置摄像头组件来实现较高屏占比下的拍摄时,背光板不会对摄像头组件产生漏光干扰,进而有效提高摄像头组件的拍摄效果。
但是,目前在屏幕的背面上制作遮光环只能采用单片移印工艺,每次只能在一块屏幕上制作遮光环,效率低,且个体遮光油墨的效果差异性较大,导致不同屏幕间的遮光环色差大,另外,手机的屏幕玻璃较薄,该加工方式无疑添加了很多的不良风险,导致良率无法管控。
发明内容
为了解决上述现有技术的不足,本发明提供一种在显示基板上制作遮光环的方法,可在显示基板上制作与摄像头对应的遮光环,效率高、同批次无色差,且良率容易管控。
本发明还提供一种屏内摄像装置,采用上述方法制作有遮光环。
本发明所要解决的技术问题通过以下技术方案予以实现:
一种在显示基板上制作遮光环的方法,包括如下步骤:
步骤100:提供一大片玻璃基板,所述大片玻璃基板中预设有多个基板区域,各个基板区域的预定位置处设置有镜头区域;
步骤200:在所述大片玻璃基板上制作一遮光材料层,所述遮光材料层覆盖所述大片玻璃基上的各个镜头区域;
步骤300:对所述遮光材料层进行刻蚀,使所述遮光材料层形成多个遮光环,一个遮光环对应于一个镜头区域,各个遮光环围绕在对应的镜头区域外围上;
步骤400:将各个基板区域从所述大片玻璃基板上切割下来,形成多个显示基板。
进一步地,所述大片玻璃基板上的基板区域至少有两个,各个基板区域在所述大片玻璃基板内可沿横向方向依次排列,也可以沿纵向方向依次排列,又或者各个基板区域在所述大片玻璃基板内同时沿横向方向和纵向方向呈M*N的矩阵排列,M、N≥2。
进一步地,所述基板区域包括长度方向和宽度方向,长度方向大于宽度方向,其中横向方向与所述基板区域的宽度方向同向,纵向方向与所述基板区域的长度方向同向。
进一步地,所述基板区域又包括显示区域和非显示区域,所述非显示区域围绕在所述显示区域外,所述镜头区域位于所述显示区域内。
进一步地,横向排列的同一排基板区域上的各个镜头区域位于同一直线上,所述遮光材料层包括多条遮光材料带,一条遮光材料带对应于一排基板区域上的各个镜头区域,各条遮光材料带同时覆盖在对应一排基板区域的各个镜头区域上。
进一步地,纵向排列的同一列基板区域上的各个镜头区域位于同一直线上,所述遮光材料层包括多条遮光材料带,一条遮光材料带对应于一列基板区域上的各个镜头区域,各条遮光材料带同时覆盖在对应一列基板区域的各个镜头区域上。
进一步地,所述遮光材料层为感光材料,在步骤300中,对所述遮光材料层进行刻蚀的步骤如下:
步骤310:采用掩膜板对所述遮光材料层进行曝光;
步骤320:采用显影液对所述遮光材料层进行显影刻蚀。
进一步地,所述遮光材料层为非感光材料,在步骤300中,对所述遮光材料层进行刻蚀的步骤如下:
步骤310:在所述遮光材料层上覆盖一层感光材料层;
步骤320:采用掩膜板对所述感光材料层进行曝光;
步骤330:采用显影液对所述感光材料层进行显影刻蚀,以将所述遮光材料层从所述感光材料层的显影区域中露出;
步骤340:采用刻蚀液对从所述感光材料层的显影区域中露出的遮光材料层进行刻蚀;
步骤350:将剩余的感光材料层剥离。
一种屏内摄像装置,包括背光源、显示面板和摄像头,所述显示面板设置于所述背光源的出光面上,所述背光区域在所述显示面板的显示区域内形成有开孔结构,所述显示面板的显示区域内设有与所述开孔结构相对应的镜头区域;所述摄像头的光学镜头容纳于所述背光源的开孔结构内且可透过所述显示面板的镜头区域采集图像;所述显示面板包括相对设置的阵列基板和彩膜基板,所述阵列基板的镜头区域朝向所述背光源的一面上通过上的方法制作有遮光环。
进一步地,还包括光阑,所述光阑与所述遮光环同轴设置,且所述光阑的内径大于所述遮光环的内径。
本发明具有如下有益效果:本专利采用刻蚀工艺在包含多个基板区域的大片玻璃基板上同时制作对应的遮光环,然后再对所述大片玻璃基板进行切割,形成多个显示基板,效率高、同批次无色差,且良率容易管控。
附图说明
图1为本发明提供的在显示基板上制作遮光环的方法的步骤框图。
图2为图1所示的方法中步骤300的步骤框图。
图3为图1所示的方法中另一步骤300的步骤框图。
图4为本发明提供的大片玻璃基板的结构示意图。
图5为本发明提供的另一大片玻璃基板的结构示意图。
图6为本发明提供的又一大片玻璃基板的结构示意图。
图7为本发明提供的大片玻璃基板中单个基板区域的结构示意图。
图8为本发明提供的大片玻璃基板上制作的遮光材料层的结构示意图。
图9为本发明提供的大片玻璃基板上制作的另一遮光材料层的结构示意图。
图10为本发明提供的大片玻璃基板上形成多个遮光环的结构示意图。
图11为本发明提供的形成有遮光环的显示基板的结构示意图。
图12为本发明提供的屏内摄像装置的结构示意图。
具体实施方式
下面结合附图和实施例对本发明进行详细的说明,所述实施例的示例在附图中示出,其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的,旨在用于解释本发明,而不能理解为对本发明的限制。
在本发明的描述中,需要理解的是,术语“长度”、“宽度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本发明和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本发明的限制。
此外,术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此,限定有“第一”、“第二”、“第三”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者多个该特征。在本发明的描述中,“多个”的含义是两个或两个以上,除非另有明确具体的限定。
在本发明中,除非另有明确的规定和限定,术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”、“设置”等术语应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或成一体;可以是机械连接,也可以是电连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,还可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言,可以根据具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
实施例一
如图1所示,一种在显示基板上制作遮光环的方法,包括如下步骤:
步骤100:提供一大片玻璃基板100,所述大片玻璃基板100中预设有多个基板区域120,各个基板区域120的预定位置处设置有镜头区域123。
在该步骤100中,所述大片玻璃基板100上的基板区域120至少有两个,如图4所示,各个基板区域120在所述大片玻璃基板100内可沿横向方向依次排列,如图5所示,也可以沿纵向方向依次排列,如图6所示,又或者各个基板区域120在所述大片玻璃基板100内同时沿横向方向和纵向方向呈M*N的矩阵排列,M、N≥2。
所述基板区域120包括长度方向和宽度方向,长度方向大于宽度方向,其中横向方向与所述基板区域120的宽度方向同向,纵向方向与所述基板区域120的长度方向同向。其中,如图7所示,所述基板区域120又包括显示区域121和非显示区域122,所述非显示区域122围绕在所述显示区域121外,所述镜头区域123位于所述显示区域121内。
所述大片玻璃基板100还包括边框区域110,各个基板区域120位于所述边框区域110内,并通过所述边框区域110连接为一整体。
步骤200:在所述大片玻璃基板100上制作一遮光材料层200,所述遮光材料层200覆盖所述大片玻璃基上的各个镜头区域123。
在该步骤200中,如图8所示,横向排列的同一排基板区域120上的各个镜头区域123位于同一直线上,所述遮光材料层200包括多条遮光材料带210,一条遮光材料带210对应于一排基板区域120上的各个镜头区域123,各条遮光材料带210同时覆盖在对应一排基板区域120的各个镜头区域123上;或者,如图9所示,纵向排列的同一列基板区域120上的各个镜头区域123位于同一直线上,所述遮光材料层200包括多条遮光材料带210,一条遮光材料带210对应于一列基板区域120上的各个镜头区域123,各条遮光材料带210同时覆盖在对应一列基板区域120的各个镜头区域123上。
所述遮光材料层200优选为黑色材料层,如黑色油墨、黑色光阻等,但也可以为其他颜色,可视遮光需求以及视觉效果而定。
步骤300:对所述遮光材料层200进行刻蚀,如图10和11所示,使所述遮光材料层200形成多个遮光环220,一个遮光环220对应于一个镜头区域123,各个遮光环220围绕在对应的镜头区域123外围上。
在该步骤300中,通过对所述遮光材料层200进行刻蚀,以将位于各个镜头区域123中心以及位于各个镜头区域123之外的遮光材料去掉,而仅留下围绕各个镜头区域123的遮光材料形成与各个镜头区域123相对应的遮光环220。
步骤400:将各个基板区域120从所述大片玻璃基板100上切割下来,形成多个显示基板。
在该步骤400中,可通过激光切割或CNC切割方式将所述大片玻璃基板100上的各个基板区域120与所述边框区域110之间的连接处进行切割,以使各个基板区域120与所述边框区域110分离而形成显示基板。
所述显示基板为阵列基板,即所述显示基板后续需要在背向所述遮光环220的一侧面上制作TFT阵列电路。
本专利采用刻蚀工艺在包含多个基板区域110的大片玻璃基板100上同时制作对应的遮光环220,然后再对所述大片玻璃基板100进行切割,形成多个显示基板,效率高、同批次无色差,且良率容易管控。
实施例二
作为实施例一的优化方案,在本实施例中,如图2所示,所述遮光材料层200为感光材料,如感光油墨、光阻等,在步骤300中,对所述遮光材料层200进行刻蚀的步骤如下:
步骤310:采用掩膜板对所述遮光材料层200进行曝光。
在该步骤310中,所述掩膜板包括石英基板以及覆盖于所述石英基板上的金属镀层,所述金属镀层形成有透光图案和遮光图案,其中所述透光图案对应于所述遮光材料层200的曝光区域,所述遮光图案对应于所述遮光材料层200的非曝光区域。将所述掩膜板于所述遮光材料层200的上方完成对位,然后采用特定光源(如UV光)透过所述掩膜板上的透光图案对所述遮光材料层200上的局部区域进行曝光,此时由于所述遮光材料层200为感光材料,曝光区域上的遮光材料层200会发生材料变性。
若所述遮光材料层200为正性感光材料,则所述掩膜板上的透光区域与所述遮光材料层200的刻蚀区域相对应,所述掩膜板上的遮光区域与所述遮光材料层200的保留区域(即所述遮光环220)相对应,若所述遮光材料层200为负性感光材料,则所述掩膜板上的透光区域与与所述遮光材料层200的保留区域(即所述遮光环220)相对应,所述掩膜板上的遮光区域与所述遮光材料层200的刻蚀区域相对应。
步骤320:采用显影液对所述遮光材料层200进行显影刻蚀。
在该步骤320中,依据所述遮光材料层200的感光特性不同,所述遮光材料层200上被所述显影液刻蚀的区域也有所不同,若所述遮光材料层200为正性感光材料,则所述遮光材料层200上的曝光区域会被所述显影液刻蚀掉,所述遮光材料层200上的非曝光区域(即所述遮光环220)会被保留,若所述遮光材料层200为负性感光材料,则所述遮光材料层200上的非曝光区域会被所述显影液刻蚀掉,所述遮光材料层200上的曝光区域(即所述遮光环220)会被保留。
实施例三
作为实施例一的另一优化方案,在本实施例中,如图3所示,所述遮光材料层200为非感光材料,在步骤300中,对所述遮光材料层200进行刻蚀的步骤如下:
步骤310:在所述遮光材料层200上覆盖一层感光材料层。
在该步骤310中,所述感光材料层可以为感光油墨、光阻等。
步骤320:采用掩膜板对所述感光材料层进行曝光。
在该步骤310中,所述掩膜板包括石英基板以及覆盖于所述石英基板上的金属镀层,所述金属镀层形成有透光图案和遮光图案,其中所述透光图案对应于所述感光材料层的曝光区域,所述遮光图案对应于所述感光材料层的非曝光区域。将所述掩膜板于所述感光材料层的上方完成对位,然后采用特定光源(如UV光)透过所述掩膜板上的透光图案对所述感光材料层上的局部区域进行曝光,此时曝光区域上的感光材料层会发生材料变性。
若所述感光材料层为正性感光材料,则所述掩膜板上的透光区域与所述感光材料层的刻蚀区域相对应,所述掩膜板上的遮光区域与所述感光材料层的保留区域相对应,若所述感光材料层为负性感光材料,则所述掩膜板上的透光区域与与所述感光材料层的保留区域相对应,所述掩膜板上的遮光区域与所述感光材料层的刻蚀区域相对应。
步骤330:采用显影液对所述感光材料层进行显影刻蚀,以将所述遮光材料层200从所述感光材料层的显影区域中露出。
在该步骤330中,依据所述感光材料层的感光特性不同,所述感光材料层上被所述显影液刻蚀的区域也有所不同,若所述感光材料层为正性感光材料,则所述感光材料层上的曝光区域会被所述显影液刻蚀掉,所述感光材料层上的非曝光区域会被保留,若所述感光材料层为负性感光材料,则所述感光材料层上的非曝光区域会被所述显影液刻蚀掉,所述感光材料层上的曝光区域会被保留。
步骤340:采用刻蚀液对从所述感光材料层的显影区域中露出的遮光材料层200进行刻蚀。
在该步骤340中,所述遮光材料层200上被所述感光材料层遮挡住的区域则为所述遮光环220,在所述遮光材料层200上从所述感光材料层的显影区域中露出的区域被所述刻蚀液刻蚀后,所述遮光材料层200上的剩余区域则为所述遮光环220。
步骤350:将剩余的感光材料层剥离。
在该步骤350中,可以采用剥离液对剩余的感光材料层进行剥离,可以采用激光方式对剩余的感光材料层进行剥离,以将所述遮光环220露出。
实施例四
如图12所示,一种屏内摄像装置,包括显示面板1、背光源2和摄像头3,所述显示面板1设置于所述背光源2的出光面上,所述背光区域在所述显示面板1的显示区域121内形成有开孔结构21,所述显示面板1的显示区域121内设有与所述开孔结构21相对应的镜头区域123;所述摄像头3的光学镜头31容纳于所述背光源2的开孔结构21内且可透过所述显示面板1的镜头区域123采集图像;所述显示面板1包括相对设置的阵列基板11和彩膜基板12,所述阵列基板11的镜头区域123朝向所述背光源2的一面上通过实施例一、实施例二或实施例三所述的方法制作有遮光环220。
该屏内摄像装置还包括光阑23,所述光阑23与所述遮光环220同轴设置,且所述光阑23的内径大于所述遮光环220的内径,所述光阑23用于限定出所述镜头区域123的孔径大小及视场范围。
所述光阑23的外径等于或大于所述遮光环220的外径。
优选的,所述光阑23设置于所述彩膜基板12朝向所述阵列基板11的一侧表面上;所述彩膜基板12朝向所述阵列基板11的一侧表面上设置有RGB彩膜,所述RGB彩膜包括BM黑矩阵以及于所述BM黑矩阵中点阵分布的R色阻、G色阻和B色阻;所述光阑23集成于所述BM黑矩阵中。
最后需要说明的是,以上实施例仅用以说明本发明实施例的技术方案而非对其进行限制,尽管参照较佳实施例对本发明实施例进行了详细的说明,本领域的普通技术人员应当理解依然可以对本发明实施例的技术方案进行修改或者等同替换,而这些修改或者等同替换亦不能使修改后的技术方案脱离本发明实施例技术方案的范围。
Claims (10)
1.一种在显示基板上制作遮光环的方法,其特征在于,包括如下步骤:
步骤100:提供一大片玻璃基板,所述大片玻璃基板中预设有多个基板区域,各个基板区域的预定位置处设置有镜头区域;
步骤200:在所述大片玻璃基板上制作一遮光材料层,所述遮光材料层覆盖所述大片玻璃基上的各个镜头区域;
步骤300:对所述遮光材料层进行刻蚀,使所述遮光材料层形成多个遮光环,一个遮光环对应于一个镜头区域,各个遮光环围绕在对应的镜头区域外围上;
步骤400:将各个基板区域从所述大片玻璃基板上切割下来,形成多个显示基板。
2.根据权利要求1所述的在显示基板上制作遮光环的方法,其特征在于,所述大片玻璃基板上的基板区域至少有两个,各个基板区域在所述大片玻璃基板内可沿横向方向依次排列,也可以沿纵向方向依次排列,又或者各个基板区域在所述大片玻璃基板内同时沿横向方向和纵向方向呈M*N的矩阵排列,M、N≥2。
3.根据权利要求2所述的在显示基板上制作遮光环的方法,其特征在于,所述基板区域包括长度方向和宽度方向,长度方向大于宽度方向,其中横向方向与所述基板区域的宽度方向同向,纵向方向与所述基板区域的长度方向同向。
4.根据权利要求1所述的在显示基板上制作遮光环的方法,其特征在于,所述基板区域又包括显示区域和非显示区域,所述非显示区域围绕在所述显示区域外,所述镜头区域位于所述显示区域内。
5.根据权利要求1所述的在显示基板上制作遮光环的方法,其特征在于,横向排列的同一排基板区域上的各个镜头区域位于同一直线上,所述遮光材料层包括多条遮光材料带,一条遮光材料带对应于一排基板区域上的各个镜头区域,各条遮光材料带同时覆盖在对应一排基板区域的各个镜头区域上。
6.根据权利要求1所述的在显示基板上制作遮光环的方法,其特征在于,纵向排列的同一列基板区域上的各个镜头区域位于同一直线上,所述遮光材料层包括多条遮光材料带,一条遮光材料带对应于一列基板区域上的各个镜头区域,各条遮光材料带同时覆盖在对应一列基板区域的各个镜头区域上。
7.根据权利要求1所述的在显示基板上制作遮光环的方法,其特征在于,所述遮光材料层为感光材料,在步骤300中,对所述遮光材料层进行刻蚀的步骤如下:
步骤310:采用掩膜板对所述遮光材料层进行曝光;
步骤320:采用显影液对所述遮光材料层进行显影刻蚀。
8.根据权利要求1所述的在显示基板上制作遮光环的方法,其特征在于,所述遮光材料层为非感光材料,在步骤300中,对所述遮光材料层进行刻蚀的步骤如下:
步骤310:在所述遮光材料层上覆盖一层感光材料层;
步骤320:采用掩膜板对所述感光材料层进行曝光;
步骤330:采用显影液对所述感光材料层进行显影刻蚀,以将所述遮光材料层从所述感光材料层的显影区域中露出;
步骤340:采用刻蚀液对从所述感光材料层的显影区域中露出的遮光材料层进行刻蚀;
步骤350:将剩余的感光材料层剥离。
9.一种屏内摄像装置,包括背光源、显示面板和摄像头,所述显示面板设置于所述背光源的出光面上,所述背光区域在所述显示面板的显示区域内形成有开孔结构,所述显示面板的显示区域内设有与所述开孔结构相对应的镜头区域;所述摄像头的光学镜头容纳于所述背光源的开孔结构内且可透过所述显示面板的镜头区域采集图像;所述显示面板包括相对设置的阵列基板和彩膜基板,其特征在于,所述阵列基板的镜头区域朝向所述背光源的一面上通过权利要求1所述的方法制作有遮光环。
10.根据权利要求9所述的屏内摄像装置,其特征在于,还包括光阑,所述光阑与所述遮光环同轴设置,且所述光阑的内径大于所述遮光环的内径。
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CN202310295536.XA CN116300189A (zh) | 2023-03-23 | 2023-03-23 | 一种在显示基板上制作遮光环的方法和屏内摄像装置 |
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CN202310295536.XA CN116300189A (zh) | 2023-03-23 | 2023-03-23 | 一种在显示基板上制作遮光环的方法和屏内摄像装置 |
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2023
- 2023-03-23 CN CN202310295536.XA patent/CN116300189A/zh active Pending
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