JP4222117B2 - カラーフィルタアレイ及びその製造方法、表示装置、投射型表示装置 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、干渉型のカラーフィルタ及びその製造方法と、このカラーフィルタを備えた直視型又は投射型の表示装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
従来、液晶等に用いられるカラーフィルタとしては、所定の色の光のみ透過して他の色の光を吸収する吸収型フィルタと、所定の色の光のみを透過して他の光を反射する反射型フィルタとが知られている(例えば、特許文献1参照)。この反射型フィルタの1つに、誘電体多層膜を用いた干渉型フィルタがある。
上述の干渉型フィルタでは、誘電体多層膜の層構造によって透過光の波長が変わり、透過波長が例えばR(赤色),G(緑色),B(青色)となる3種類のフィルタを複数並置することで、カラーフィルタアレイを形成することができる。
【0003】
この干渉型フィルタは次のような特徴を有する。
(1) 色純度が極めて高い。
(2)無機材料から構成されるため、光や熱等による劣化がない。
(3)不要な光は反射されるため、光学系の工夫によりこの反射光を再利用することが可能である。
【0004】
【特許文献1】
特開平9−325312号公報
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、このような干渉型フィルタでは、例えば赤と緑等、異なる色の間で膜材料に大きな差異がないため、実際のパターニングにおいてはエッチング選択比が確保できない。このため、従来はリフトオフ法やマスク蒸着法等を用いてパターニングするしか手段がなかった。
【0006】
しかし、リフトオフ法やマスク蒸着法のいずれの場合も、数十ミクロンピッチでのパターン形成は困難であり、例えば20μm以下のピッチが必要なプロジェクタ用のライトバルブ向け、或いは、携帯電話やPDA用等の高精細パネル向けには製造が困難であった。
本発明は、上記の課題を解決するためになされたものであって、微細化が可能な干渉型カラーフィルタアレイの製造方法及びこの方法で製造されたカラーフィルタアレイと、このカラーフィルタアレイを備えた直視型又は投射型の表示装置を提供することを目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】
上述のように、従来、干渉型フィルタのパターニングにエッチングが用いられなかったのは、透過波長の異なる複数種類のフィルタ層の間でエッチング選択比が十分にとれず、あるフィルタ層をパターニングする際に、パターニング済みの他のフィルタ層までエッチングされてしまうためである。しかし逆にいえば、各フィルタ層を他に影響を与えることなく別々に形成できれば、通常のエッチングにより微細なカラーフィルタアレイを製造可能ということにもなる。
このため本発明者は、従来同一層内に並置されていた複数種類のフィルタ層を層間膜を介して積層させることで、このような製造上の不具合を解消する構想に想い到った。
【0008】
すなわち、上記の目的を達成するために、本発明のカラーフィルタアレイは、互いに異なる色表示を行うための複数の画素電極が配列されてなる装置に適用されるカラーフィルタアレイであって、前記複数の画素電極の各々に対応する領域に設けられた複数色の干渉型フィルタ層と、互いに透過する色の異なる干渉型フィルタ層同士の間に設けられた層間膜と、を備え、各色の干渉型フィルタ層は、前記複数色の干渉型フィルタ層の積層方向から見たときに、対応する色表示を行うための画素電極と重なるように配置されており、前記層間膜は前記干渉型フィルタ層を覆うと共に表面が平坦化処理されており、前記複数色の干渉型フィルタ層は、互いに異なる色光を透過する干渉型フィルタ層同士が前記層間膜を介して積層されていることを特徴とする。
【0009】
このカラーフィルタアレイは例えば以下の方法により製造することができる。
まず、基板上に屈折率の異なる複数の誘電体層を積層し、前記複数の誘電体層をパターニングすることにより、前記基板上に所定の色光を反射しそれ以外の色光を透過する干渉型フィルタ層を形成する(フィルタ層形成工程)。次に、前記基板上に前記干渉型フィルタ層を覆う層間膜を形成し(層間膜形成工程)、前記層間膜の表面を平坦化処理する(平坦化処理工程)。そして、前記フィルタ層形成工程、前記層間膜形成工程及び前記平坦化処理工程を繰り返すことにより、前記複数の画素電極の各々に対応する領域に互いに異なる色光を透過する複数色の干渉型フィルタ層を形成する。この際、フィルタ層形成工程では、これら複数種類の干渉型フィルタ層が平面視で互いに隣接して(具体的には、透過色の異なるフィルタ層がマトリクス状に配列して)配置されるように、各フィルタ層のパターニングを行なう。すなわち、前記複数色の干渉型フィルタ層は前記層間膜を介して前記基板上に積層されると共に、各色の干渉型フィルタ層は、前記複数色の干渉型フィルタ層の積層方向から見たときに、対応する色表示を行うための画素電極と重なるように配置されるようにする。
【0010】
このように本発明によれば、複数種類の干渉型フィルタ層が層間膜を介してそれぞれ別々の層に配置されているため、各フィルタ層をパターニングする際に、下地の層間膜がエッチングストッパ若しくはエッチングバッファとして機能し、下層側のフィルタ層への影響が防止される。このため、フィルタ層のパターニング工程にドライエッチングを用いることができ、カラーフィルタの微細化が可能となる。
【0011】
また、本発明では、種類の異なるフィルタ層が厚み方向に積層配置されているため、これらを一部平面的に重ねることにより容易に遮光領域(ブラックマトリクス)を形成することができる。つまり、前記複数色の干渉型フィルタ層のうちの少なくとも2種類の干渉型フィルタ層において、各々が対応する前記画素電極同士の間であって当該画素電極の周囲の領域である非画素領域に対応する部分が前記干渉型フィルタ層の積層方向から見て互いに重なるように配置された場合、一の干渉型フィルタ層を透過した色光は他の干渉型フィルタ層によって反射されるため、これらの干渉型フィルタ層が平面的に重なる位置は黒表示となる。具体的には、前記複数の画素電極には、赤色表示を行うための赤色用画素電極と、緑色表示を行うための緑色用画素電極と、青色表示を行うための青色用画素電極と、が含まれ、前記複数色の干渉型フィルタ層には、赤色光を透過しそれ以外の色光を反射する赤色用フィルタ層と、緑色光を透過しそれ以外の色光を反射する緑色用フィルタ層と、青色光を透過しそれ以外の色光を反射する青色用フィルタ層と、が含まれ、前記赤色用フィルタ層は、前記赤色用画素電極及びその周囲の非画素領域を含む大きさとされ、前記緑色用フィルタ層は、前記緑色用画素電極及びその周囲の非画素領域を含む大きさとされ、前記青色用フィルタ層は、前記青色用画素電極及びその周囲の非画素領域を含む大きさとされている場合がこれに該当する。本構成では、特別な層を追加することなく遮光領域を形成できるため、工程数を少なくして製造コストを低減することが可能となる。
【0012】
なお、各フィルタ層からの透過光の色純度を高めるために、層間膜形成工程では、層間膜を形成した後、CMP(化学的機械研磨法)等によりこの表面を平坦化することが望ましい。
【0013】
このようなカラーフィルタアレイは、直視型又は投射型の表示装置に対して適用可能である。すなわち、本発明の表示装置は、光源と、互いに異なる色表示を行うための複数の画素電極を備え、前記複数の画素電極の形成領域において前記光源から射出された光を変調する光変調装置と、前記光源と前記光変調装置との間又は前記光変調装置の光出射側に配置された上述のカラーフィルタアレイと、を備えたことを特徴とする。或いは、本発明の投射型表示装置は、光源と、互いに異なる色表示を行うための複数の画素電極を備え、前記複数の画素電極の形成領域において前記光源から射出された光を変調する光変調装置と、前記光変調装置によって変調された光を投射する投射レンズと、前記光源と前記光変調装置との間又は前記光変調装置の光出射側に配置された上述のカラーフィルタアレイと、を備えたことを特徴とする。これにより、光利用効率が高く高精細な直視型又は投射型の表示装置を提供することができる。これらの構成においては、前記カラーフィルタアレイに設けられた複数色の干渉型フィルタ層のうちの少なくとも2種類の干渉型フィルタ層は、各々が対応する前記画素電極同士の間であって当該画素電極の周囲の領域である非画素領域に対応する部分が前記干渉型フィルタ層の積層方向から見て互いに重なっており、一の干渉型フィルタ層を透過した色光が他の干渉型フィルタ層によって反射されることによって、前記光変調装置の非画素領域において黒表示が行なわれるようになっていることが望ましい。
【0014】
なお、カラーフィルタアレイを構成するフィルタ層の数は、表示に用いる原色の数に応じて、3種類或いは4種類以上とすることができる。具体的には、赤色用,緑色用,青色用の3種類のフィルタ層で構成したものを好適に用いることができる。この場合、視感度の高い(即ち、明るさに対して最も寄与率の大きい)緑色光の再帰性を高めるために、光源側から順に配置される3つのフィルタ層の内、緑色光を透過するフィルタ層を前記干渉型フィルタ層の積層方向から見て光源から最も遠い側に配置することが望ましい。すなわち、光源から最も遠い側に配置されたフィルタ層で反射された光は、光源側に配置された2つの層間膜を通って光源に戻されるため、これらの層間膜を透過する段階で光ロスが生じる。したがって、緑色光を反射する2つのフィルタ層を光源に近い側に配置して緑色光のロスを最小限に抑えることで、明るい照明が可能となる。
【0015】
【発明の実施の形態】
以下、図1〜図6を参照しながら本発明の一実施形態に係る投射型表示装置について説明する。本実施形態の投射型表示装置10は、ライトバルブとしての液晶装置16内にカラーフィルタアレイを備えた単板式の投射型カラー液晶表示装置である。図1はこの投射型表示装置の概略構成を示す図であって、図中、符号11は光源、12はロッドインテグレータ、13はコンデンサレンズ系、16は液晶装置、17は投射レンズを示している。
【0016】
本実施の形態の投射型表示装置10は、図1に示すように、白色光を射出する光源11と、光源11から射出された白色光の輝度分布を均一にするロッドインテグレータ12と、輝度分布を均一にされた白色光を平行光に変換するコンデンサレンズ系13と、平行光に変換された白色光をRGBの色光に分光し、分光された各色光を変調する液晶装置16と、変調された各色光をスクリーンSに投射する投射レンズ17とから概略構成されている。
【0017】
光源11には、図1に示すように、白色光を射出するメタルハライド等のランプ21と、射出された白色光を反射するリフレクタ22とが備えられている。
ロッドインテグレータ12としては、透光性の棒状の導光体(例えば、ガラス棒)、もしくは内面が反射面とされた管状の導光体などが用いられている。
コンデンサレンズ系13には、ロッドインテグレータ12から入射した光が液晶装置16に平行光となって入射するように、コンデンサレンズ25aおよびコンデンサレンズ25bが備えられている。
【0018】
図2は、本実施形態の液晶装置16の概略図であり、図3は、その要部を示す拡大断面図である。
本実施形態の液晶装置16は、TFTアレイ基板40と、対向基板30と、基板30,40の間に保持される光変調層としての液晶層43とを備えている。
【0019】
TFTアレイ基板40には、ガラスや石英等からなる基板本体40Aの上に、ITO等からなる透光性の画素電極41がマトリクス状に複数配列形成されている。基板40Aには、それぞれ赤色表示,青色表示,緑色表示を行なうための青色用画素電極41b,赤色用画素電極41r,緑色用画素電極41gが並置されており、3つの画素電極41b,41r,41gによって1つの画素が構成される。そして、これらの画素電極41(41b,41r,41g)を覆うようにポリイミド等からなる配向膜42が設けられている。なお、図2,図3では画素電極の通電制御を行なうためのスイッチング素子や走査線,信号線等の図示を省略している。
【0020】
対向基板30はカラーフィルタアレイ基板として構成されており、基板30には、ガラスやプラスチック等の透光性基板からなる基板本体30A上に、互いに異なる色光を透過する複数(本実施形態では例えば3種類)のフィルタ層31,32,33が設けられている。
各フィルタ層31〜33は誘電体多層膜からなる干渉型フィルタ層であり、例えばフィルタ層31は青色光(B)を透過しそれ以外の色光を反射する青色用フィルタ層、フィルタ層32は赤色光(R)を透過しそれ以外の色光を反射する赤色用フィルタ層、フィルタ層33は緑色光(G)を透過しそれ以外の色光を反射する緑色用フィルタ層である。
【0021】
このように特定の波長領域の光を反射する誘電体多層膜は、高屈折率の誘電体材料と低屈折率の誘電体材料とを、屈折率と層厚とにより決まる光学的厚さが目的とする波長領域の中心波長で1/4波長となるように層厚を調節して、蒸着等の方法により交互に数層〜数十層積層して造ることができる。層の中間等に反射防止層,1/2波長層等のスペーサ層,調整層を設けて反射透過特性でのリップルの抑制を図る等の公知の手法を併用してもよい。なお、上記誘電体材料としては、高屈折率のものではZnS,TiO2等、低屈折率のものではMgF2,SiO2,Na3AlF6等が公知の材料として知られている。また、目的とする波長を変えるには誘電体層の層厚を調節すればよく、誘電体材料を変えることは必ずしも必要ではない。
【0022】
本実施形態において、これらの干渉型フィルタ層31〜33は、層間膜を介して基板30上に積層されている。すなわち、基板30上には青色用フィルタ層31がパターン形成され、このフィルタ層31を覆うように透光性の第1の層間膜35が積層されている。そして、この第1の層間膜35上には赤色用フィルタ層32がパターン形成され、このフィルタ層32を覆うように透光性の第2の層間膜36が積層されている。さらに、この第2の層間膜36上には緑色用フィルタ層33がパターン形成され、このフィルタ層33を覆うように透光性の第3の層間膜37が積層されている。
【0023】
これらのフィルタ層31,32,33はそれぞれTFTアレイ基板40の青色用画素電極43b,赤色用画素電極43r、緑色用画素電極43gに対応して設けられており、平面視したときにこれらのフィルタ層31〜33がマトリクス状に隣接配置されるように、島状にパターニングされている。
そして、基板30A上にはITO等からなる透光性の共通電極38が層間膜37を覆うように全面に形成されており、この共通電極38を覆うようにポリイミド等からなる配向膜39が設けられている。
【0024】
この基板30は、以下のような方法により製造される。
まず、図4(a)に示すように、ガラス等からなる透光性の基板本体30Aの上に屈折率の異なる複数の誘電体層を15〜25層積層し、透過色が青色となる青色用フィルタ層310を形成する(フィルタ層形成工程)。
【0025】
次に、図4(b),図4(c)に示すように、このフィルタ層310上にレジスト50を形成し、ドライエッチングによりフィルタ層310を所定形状にパターニングする(パターニング工程)。図4(c)では、パターニングにより得られた個々の青色用フィルタ層を符号31で示している。このパターニング工程では、各青色用フィルタ層31がTFTアレイ基板40の各青色用画素電極41bに対向配置されるようにし、各フィルタ層31の大きさを、対応する青色用画素電極41b及びその周囲の非画素領域Sを含む大きさとする。
【0026】
次に、図4(d)に示すように、フィルタ層31を覆うように基板30A上にSiO2等からなる透光性の第1の層間膜35を形成する(層間膜形成工程)。この層間膜35は後述の赤色用フィルタ層のパターニング工程におけるエッチングストッパ若しくはエッチングバッファとして機能するものである。このため、層間膜35の層厚は、赤色用フィルタ層のパターニングにおいてエッチングマージンを十分に確保できる厚さとする。
この後、必要に応じてCMP(化学的機械研磨法)等により層間膜35の表面を平坦化する。このように層間膜35に平坦化処理を施すことで、フィルタ層31を透過する光の色純度を高めることができる。
【0027】
次に、図5(a)に示すように、層間膜35の上に上記青色用フィルタ層と同様の誘電体材料を層厚を変えて15〜25層積層し、透過色が赤色となる赤色用フィルタ層320を形成する。そして、このフィルタ層320上にレジスト51を形成し(図5(b)参照)、ドライエッチングによりフィルタ層320を所定形状にパターニングする(図5(c)参照)。このときのエッチング条件は上記青色用フィルタ層のパターニング工程と同様である。図5(c)では、パターニングにより得られた個々の赤色用フィルタ層を符号32で示している。このパターニング工程では、各赤色用フィルタ層32がTFTアレイ基板40の各赤色用画素電極41rに対向配置されるようにし、各フィルタ層32の大きさを、対応する赤色用画素電極41r及びその周囲の非画素領域Sを含む大きさとする。
【0028】
また、赤色用フィルタ層320のパターニング工程では、第1の層間膜35がエッチングストッパ若しくはエッチングバッファとして機能し、下層側の青色用フィルタ層31がこのパターニング工程によって影響を受けることはない。
【0029】
次に、図5(d)に示すように、フィルタ層32を覆うように基板30A上にSiO2等からなる透光性の第2の層間膜36を形成する。この層間膜36は、後述の緑色用フィルタ層のパターニング工程におけるエッチングストッパ若しくはエッチングバッファとして機能するものである。このため、層間膜36の層厚は、緑色用フィルタ層のパターニングにおいてエッチングマージンを十分に確保できる厚さとする。この後、必要に応じてCMP等により層間膜36の表面を平坦化する。
【0030】
次に、図6(a)に示すように、層間膜36の上に上記青色用フィルタ層,赤色用フィルタ層と同様の誘電体材料を層厚を変えて27〜40層積層し、透過色が緑色となる緑色用フィルタ層330を形成する。そして、このフィルタ層330上にレジスト52を形成し(図6(b)参照)、ドライエッチングによりフィルタ層330を所定形状にパターニングする(図6(c)参照)。このときのエッチング条件は上記青色用フィルタ層及び赤色用フィルタ層のパターニング工程と同様である。図6(c)では、パターニングにより得られた個々の緑色用フィルタ層を符号33で示している。このパターニング工程では、各緑色用フィルタ層33がTFTアレイ基板40の各緑色用画素電極41gに対向配置されるようにし、各フィルタ層33の大きさを、対応する緑色用画素電極41gb及びその周囲の非画素領域Sを含む大きさとする。
【0031】
また、緑色用フィルタ層330のパターニング工程では、第2の層間膜36がエッチングストッパ若しくはエッチングバッファとして機能し、下層側の赤色用フィルタ層32がこのパターニング工程によって影響を受けることはない。
【0032】
次に、図6(d)に示すように、フィルタ層33を覆うように基板30A上にSiO2等からなる透光性の第3の層間膜37を形成し、必要に応じてCMP法等により層間膜37の表面を平坦化する。そして、この層間膜37を覆うように、基板30Aの全面にITO等からなる透光性の共通電極を形成し、これを覆うようにポリイミド等からなる配向膜を形成する。なお、層間膜37は共通電極38の密着性及び信頼性を確保するためのものであり、必ずしも形成する必要はない。また、層間膜37を形成する前に共通電極38を形成することも可能であり、この場合、層間膜37は共通電極38に対する保護膜として機能する。
【0033】
そして、上述のように構成された基板30,40は、スペーサ(図示略)によって互いに一定に離間された状態で保持されるとともに、基板周辺部に枠状に塗布されたシール材(図示略)によって接着されている。そして、基板30,40及びシール材によって密閉された空間に液晶が封入されて液晶層(光変調層)43が形成されている。
【0034】
このように本実施形態によれば、複数種類の干渉型フィルタ層が層間膜を介してそれぞれ別々の層に配置されているため、各フィルタ層をパターニングする際に、下地の層間膜がエッチングストッパ若しくはエッチングバッファとして機能し、下層側のフィルタ層への影響が防止される。このため、フィルタ層のパターニング工程にドライエッチングを用いることができ、例えばライトバルブの画素ピッチである20μm以下の微細なパターンにも対応することが可能となる。
【0035】
また、本実施形態では、フィルタ層31〜33が厚み方向に積層配置されているため、これらを一部平面的に重ねることにより容易に遮光領域(ブラックマトリクス)を形成することができる。例えば本実施形態では、各フィルタ層は、平面視で、対応する画素電極41及びこの周囲の非画素領域Sを含む大きさとされているため、隣接するフィルタ層(フィルタ層31とフィルタ層32、フィルタ層32とフィルタ層33、フィルタ層33とフィルタ層31)はその非画素領域Sに対応する部分が平面的に重なるように配置されている。このように透過色の異なるフィルタ層を積層した場合、一方のフィルタ層を透過した色光は他方のフィルタ層によって反射されるため、結局2種類のフィルタ層が平面的に重なる位置(非画素領域S)は黒表示となる。このように本実施形態では、特別な層を追加することなく遮光領域を形成できるため、工程数を少なくして製造コストを低減することが可能となる。
【0036】
また、本実施形態では、光源11側から順に配置される3つのフィルタ層の内、緑色光を透過するフィルタ層33を光源11から最も遠い層として緑色光の再帰性を高めているため、視感度の高い(即ち、明るさに対して最も寄与率の大きい)緑色光のロスを小さくすることができる。すなわち、光源から最も遠い側に配置されたフィルタ層で反射された光は、光源側に配置された2つの層間膜を通って光源に戻されるため、これらの層間膜を透過する段階で光ロスが生じる。したがって、緑色光を反射する2つのフィルタ層を光源に近い側に配置して緑色光のロスを最小限に抑えることで、明るい照明が可能となる。
【0037】
なお、本発明の技術範囲は上記実施の形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において種々の変更を加えることが可能である。
例えば上記実施形態では、フィルタ層の数を3種類としたが、この数は表示に用いる原色の数に応じて4種類以上とすることも可能である。この場合、1画素はこれに応じて4つ以上の画素電極によって構成される。
【0038】
また、上記実施形態では、投射型表示装置として透過型の液晶装置を光変調装置として用いたものを例示した。しかし、本発明の技術範囲はこのような透過型のものに限定されず、例えばLCOS等の反射型の投射型表示装置、或いは、MEMS技術に基づくミラー方式の空間光変調器を用いた投射型表示装置に対して、本発明のカラーフィルタアレイを適用することも可能である。
さらに、上記実施形態では本発明のカラーフィルタアレイを投射型表示装置のライトバルブ(液晶装置)に適用した例を示したが、本カラーフィルタアレイは投射型だけでなく直視型の表示装置に対しても適用可能である。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の一実施形態の投射型表示装置を示す概略図である。
【図2】 同、投射型表示装置に備えられるカラーフィルタアレイ及び液晶装置を示す概略図である。
【図3】 同、カラーフィルタアレイ及び液晶装置の拡大断面図である。
【図4】 同、カラーフィルタアレイの製造方法を説明するための工程図。
【図5】 図4に続く工程図。
【図6】 図5に続く工程図。
【符号の説明】
10・・・投射型表示装置、11・・・光源、16・・・液晶装置(光変調装置)、17・・・投射レンズ、31・・・青色用フィルタ層、32・・・赤色用フィルタ層、33・・・緑色用フィルタ層、35,36,37・・・層間膜
Claims (11)
- 互いに異なる色表示を行うための複数の画素電極が配列されてなる装置に適用されるカラーフィルタアレイであって、
前記複数の画素電極の各々に対応する領域に設けられた複数色の干渉型フィルタ層と、
互いに透過する色の異なる干渉型フィルタ層同士の間に設けられた層間膜と、を備え、
各色の干渉型フィルタ層は、前記複数色の干渉型フィルタ層の積層方向から見たときに、対応する色表示を行うための画素電極と重なるように配置されており、
前記層間膜は前記干渉型フィルタ層を覆うと共に表面が平坦化処理されており、
前記複数色の干渉型フィルタ層は、互いに異なる色光を透過する干渉型フィルタ層同士が前記層間膜を介して積層されていることを特徴とするカラーフィルタアレイ。 - 前記複数色の干渉型フィルタ層のうちの少なくとも2種類の干渉型フィルタ層は、各々が対応する前記画素電極同士の間であって当該画素電極の周囲の領域である非画素領域に対応する部分が前記干渉型フィルタ層の積層方向から見て互いに重なっていることを特徴とする請求項1に記載のカラーフィルタアレイ。
- 前記複数の画素電極には、赤色表示を行うための赤色用画素電極と、緑色表示を行うための緑色用画素電極と、青色表示を行うための青色用画素電極と、が含まれ、
前記複数色の干渉型フィルタ層には、赤色光を透過しそれ以外の色光を反射する赤色用フィルタ層と、緑色光を透過しそれ以外の色光を反射する緑色用フィルタ層と、青色光を透過しそれ以外の色光を反射する青色用フィルタ層と、が含まれ、
前記赤色用フィルタ層は、前記赤色用画素電極及びその周囲の非画素領域を含む大きさとされ、前記緑色用フィルタ層は、前記緑色用画素電極及びその周囲の非画素領域を含む大きさとされ、前記青色用フィルタ層は、前記青色用画素電極及びその周囲の非画素領域を含む大きさとされていることを特徴とする請求項2に記載のカラーフィルタアレイ。 - 互いに異なる色表示を行うための複数の画素電極が配列されてなる装置に適用されるカラーフィルタアレイの製造方法であって、
基板上に屈折率の異なる複数の誘電体層を積層し、前記複数の誘電体層をパターニングすることにより、前記基板上に所定の色光を反射しそれ以外の色光を透過する干渉型フィルタ層を形成するフィルタ層形成工程と、
前記基板上に前記干渉型フィルタ層を覆う層間膜を形成する層間膜形成工程と、
前記層間膜の表面を平坦化処理する平坦化処理工程と、を備え、
前記フィルタ層形成工程、前記層間膜形成工程及び前記平坦化処理工程を繰り返すことにより、前記複数の画素電極の各々に対応する領域に互いに異なる色光を透過する複数色の干渉型フィルタ層を形成し、
前記複数色の干渉型フィルタ層は前記層間膜を介して前記基板上に積層されると共に、各色の干渉型フィルタ層は、前記複数色の干渉型フィルタ層の積層方向から見たときに、対応する色表示を行うための画素電極と重なるように配置されることを特徴とするカラーフィルタアレイの製造方法。 - 前記複数色の干渉型フィルタ層のうちの少なくとも2種類の干渉型フィルタ層は、各々が対応する前記画素電極同士の間であって当該画素電極の周囲の領域である非画素領域に対応する部分が前記干渉型フィルタ層の積層方向から見て互いに重なるようにパターニングされることを特徴とする請求項4に記載のカラーフィルタアレイの製造方法。
- 光源と、
互いに異なる色表示を行うための複数の画素電極を備え、前記複数の画素電極の形成領域において前記光源から射出された光を変調する光変調装置と、
前記光源と前記光変調装置との間又は前記光変調装置の光出射側に配置された請求項1〜3のいずれか1項に記載のカラーフィルタアレイと、を備えたことを特徴とする表示装置。 - 前記カラーフィルタアレイに設けられた複数色の干渉型フィルタ層のうちの少なくとも2種類の干渉型フィルタ層は、各々が対応する前記画素電極同士の間であって当該画素電極の周囲の領域である非画素領域に対応する部分が前記干渉型フィルタ層の積層方向から見て互いに重なっており、一の干渉型フィルタ層を透過した色光が他の干渉型フィルタ層によって反射されることによって、前記光変調装置の非画素領域において黒表示が行なわれるようになっていることを特徴とする請求項6に記載の表示装置。
- 前記複数色の干渉型フィルタ層には、赤色光を透過しそれ以外の色光を反射する赤色用フィルタ層と、緑色光を透過しそれ以外の色光を反射する緑色用フィル タ層と、青色光を透過しそれ以外の色光を反射する青色用フィルタ層と、が含まれ、
前記赤色用フィルタ層、前記緑色フィルタ層及び前記青色用フィルタ層のうち前記緑色用フィルタ層は、前記干渉型フィルタ層の積層方向から見て前記光源から最も遠い側に配置されていることを特徴とする請求項6又は7に記載の表示装置。 - 光源と、
互いに異なる色表示を行うための複数の画素電極を備え、前記複数の画素電極の形成領域において前記光源から射出された光を変調する光変調装置と、
前記光変調装置によって変調された光を投射する投射レンズと、
前記光源と前記光変調装置との間又は前記光変調装置の光出射側に配置された請求項1〜3のいずれか1項に記載のカラーフィルタアレイと、を備えたことを特徴とする投射型表示装置。 - 前記カラーフィルタアレイに設けられた複数色の干渉型フィルタ層のうちの少なくとも2種類の干渉型フィルタ層は、各々が対応する前記画素電極同士の間であって当該画素電極の周囲の領域である非画素領域に対応する部分が前記干渉型フィルタ層の積層方向から見て互いに重なっており、一の干渉型フィルタ層を透過した色光が他の干渉型フィルタ層によって反射されることによって、前記光変調装置の非画素領域において黒表示が行なわれるようになっていることを特徴とする請求項9に記載の投射型表示装置。
- 前記複数色の干渉型フィルタ層には、赤色光を透過しそれ以外の色光を反射する赤色用フィルタ層と、緑色光を透過しそれ以外の色光を反射する緑色用フィルタ層と、青色光を透過しそれ以外の色光を反射する青色用フィルタ層と、が含まれ、
前記赤色用フィルタ層、前記緑色フィルタ層及び前記青色用フィルタ層のうち前記緑色用フィルタ層は、前記干渉型フィルタ層の積層方向から見て前記光源から最も遠い側に配置されていることを特徴とする9又は10に記載の投射型表示装置。
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