JP2021109955A - ベースフィルム、複合フィルム、及び複合フィルムを含む製品 - Google Patents
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Abstract
Description
本願は、2019年12月31日に出願された、出願番号が201911425218.0、発明の名称が「放射冷却フィルム、放射冷却複合フィルム、放射冷却製品」である中国特許出願の優先権、及び2020年1月23日に出願された、出願番号が202010076462.7、発明の名称が「放射冷却フィルム」である中国特許出願の優先権を主張しており、その内容全体は引用により本願に組み込まれる。
本実施例のベースフィルムにおいて、第1層の材料はPMMAであり、第1充填材はPSマイクロスフェアであり、溶融混合法によって製造される。第1層の材料の屈折率nは1.49であり、第1充填材の屈折率mは1.58であり、屈折率差xの絶対値は0.09である。ベースフィルムの厚みは50μmであり、ベースフィルムにおける第1充填材は粒径が3μmであり、質量百分率は2%である。
本実施例のベースフィルムにおいて、第1層の材料はPETGであり、第1充填材はPMMAマイクロスフェアであり、溶融混合法によって製造される。第1層の材料の屈折率nは1.54であり、第1充填材の屈折率mは1.48であり、屈折率差xの絶対値は0.06である。ベースフィルムの厚みは50μmであり、ベースフィルムにおける第1充填材は粒径が5μmであり、質量百分率は5%である。
本実施例のベースフィルムにおいて、第1層の材料はPETGであり、第1充填材はポリアクリレートマイクロスフェアであり、溶融混合法によって製造される。第1層の材料の屈折率nは1.54であり、第1充填材の屈折率mは1.43であり、屈折率差xの絶対値は0.11である。ベースフィルムの厚みは50μmであり、ベースフィルムにおける第1充填材は粒径が3μmであり、質量百分率は3%である。
本実施例のベースフィルムにおいて、第1層の材料はPMMAであり、第1充填材はPSマイクロスフェアであり、溶融混合法によって製造される。第1層の材料の屈折率nは1.49であり、第1充填材の屈折率mは1.59であり、屈折率差xの絶対値は0.10である。ベースフィルムの厚みは50μmであり、ベースフィルムにおける第1充填材は粒径が3μmであり、質量百分率は2%である。
本実施例のベースフィルムにおいて、第1層の材料はPETGであり、第1充填材はPMMAマイクロスフェアであり、溶融混合法によって製造される。第1層の材料の屈折率nは1.54であり、第1充填材の屈折率mは1.48であり、屈折率差xの絶対値は0.06である。ベースフィルムの厚みは25μmであり、ベースフィルムにおける第1充填材は粒径が3μmであり、質量百分率は3%である。
本実施例のベースフィルムにおいて、第1層の材料はPETGであり、第1充填材はPMMAマイクロスフェアであり、溶融混合法によって製造される。第1層の材料の屈折率nは1.54であり、第1充填材の屈折率mは1.48であり、屈折率差xの絶対値は0.06である。ベースフィルムの厚みは75μmであり、ベースフィルムにおける第1充填材は粒径が3μmであり、質量百分率は3%である。
本実施例のベースフィルムにおいて、第1層の材料はPETGであり、第1充填材はPMMAマイクロスフェアであり、溶融混合法によって製造される。第1層の材料の屈折率nは1.54であり、第1充填材の屈折率mは1.48であり、屈折率差xの絶対値は0.06である。ベースフィルムの厚みは100μmであり、ベースフィルムにおける第1充填材は粒径が3μmであり、質量百分率は3%である。
本実施例のベースフィルムにおいて、第1層の材料はPETGであり、第1充填材はPMMAマイクロスフェアであり、溶融混合法によって製造される。第1層の材料の屈折率nは1.54であり、第1充填材の屈折率mは1.48であり、屈折率差xの絶対値は0.06である。ベースフィルムの厚みは50μmであり、ベースフィルムにおける第1充填材は粒径が3μmであり、質量百分率は3%であり、ベースフィルムには3μmサイズのセルが含まれる。
本実施例のベースフィルムにおいて、第1層の材料はPETGであり、第1充填材はPMMAマイクロスフェアであり、溶融混合法によって製造される。第1層の材料の屈折率nは1.54であり、第1充填材の屈折率mは1.48であり、屈折率差xの絶対値は0.06である。ベースフィルムの厚みは50μmであり、ベースフィルムにおける第1充填材は粒径が3μmであり、質量百分率は3%であり、第1充填材は中空充填材である。
本実施例のベースフィルムにおいて、第1層の材料はPETGであり、第1充填材はPMMAマイクロスフェアであり、溶融混合法によって製造される。第1層の材料の屈折率nは1.54であり、第1充填材の屈折率mは1.48であり、屈折率差xの絶対値は0.06である。ベースフィルムの厚みは50μmであり、ベースフィルムにおける第1充填材は粒径が3μmであり、質量百分率は3%であり、第1充填材は中空充填材であり、ベースフィルムにはさらに3μmサイズのセルが含まれる。
本実施例のベースフィルムにおいて、第1層の材料はPETGであり、第1充填材はポリアクリレートマイクロスフェアであり、溶融混合法によって製造される。第1層の材料の屈折率nは1.54であり、第1充填材の屈折率mは1.43であり、屈折率差xの絶対値は0.11である。薄膜の厚みは15μmであり、薄膜における第1充填材は粒径が3μmであり、質量百分率は3%である。
本比較例のベースフィルムの材料は100%PETGであり、厚みは50μmである。
本比較例のベースフィルムにおいて、第1層の材料はPCであり、第1充填材はPSマイクロスフェアであり、溶融混合法によって製造される。第1層の材料の屈折率nは1.59であり、第1充填材の屈折率mは1.58であり97、屈折率差xの絶対値は0.0003である。薄膜の厚みは50μmであり、薄膜における第1充填材は粒径が3μmであり、質量百分率は2%である。
本比較例のベースフィルムにおいて、第1層の材料はPETGであり、第1充填材はPSマイクロスフェアであり、溶融混合法によって製造される。第1層の材料の屈折率nは1.54であり、第1充填材の屈折率mは1.5404であり、屈折率差xの絶対値は0.0004である。薄膜の厚みは50μmであり、薄膜における第1充填材は粒径が3μmであり、質量百分率は2%である。
本実施例は、実施例1のベースフィルムと、順に積層して設けられた反射フィルム、第2貼着層及び基材層とを含む複合フィルムであり、反射フィルムは材料が金属銀材料であり、厚みが100nmである。
本実施例は、実施例2のベースフィルムと、順に積層して設けられた反射フィルム、第2貼着層及び基材層とを含む複合フィルムであり、反射フィルムは材料が金属銀材料であり、厚みが100nmである。
本実施例は、実施例3のベースフィルムと、順に積層して設けられた反射フィルム、第2貼着層及び基材層とを含む複合フィルムであり、反射フィルムは材料が金属銀材料であり、厚みが100nmである。
本実施例は、実施例4のベースフィルムと、順に積層して設けられた反射フィルム、第2貼着層及び基材層とを含む複合フィルムであり、反射フィルムは材料が金属銀材料であり、厚みが200nmである。
本実施例は、実施例5のベースフィルムと、順に積層して設けられた反射フィルム、第2貼着層及び基材層とを含む複合フィルムであり、反射フィルムは材料が金属銀材料であり、厚みが100nmである。
本実施例は実施例6のベースフィルムと、順に積層して設けられた反射フィルム、第2貼着層及び基材層とを含む複合フィルムであり、反射フィルムは材料が金属銀材料であり、厚みが150nmである。
本実施例は、実施例7のベースフィルムと、順に積層して設けられた反射フィルム、第2貼着層及び基材層とを含む複合フィルムであり、反射フィルムは材料が金属銀材料であり、厚みが400nmである。
本実施例は、実施例8のベースフィルムと、順に積層して設けられた反射フィルム、第2貼着層及び基材層とを含む複合フィルムであり、反射フィルムは材料が金属銀材料であり、厚みが400nmである。
本実施例は、実施例9のベースフィルムと、順に積層して設けられた反射フィルム、第2貼着層及び基材層とを含む複合フィルムであり、反射フィルムは材料が金属銀材料であり、厚みが250nmである。
本実施例は、実施例10のベースフィルムと、順に積層して設けられた反射フィルム、第2貼着層及び基材層とを含む複合フィルムであり、反射フィルムは材料が金属銀材料であり、厚みが250nmである。
本実施例は、実施例11のベースフィルムと、順に積層して設けられた反射フィルム、第2貼着層及び基材層とを含む複合フィルムであり、反射フィルムは材料が金属銀材料であり、厚みが250nmである。
本比較例は、比較例1のベースフィルムと、順に積層して設けられた反射フィルム、第2貼着層及び基材層とを含む複合フィルムであり、反射フィルムは材料が金属銀材料であり、厚みが250nmである。
本比較例は、比較例2のベースフィルムと、順に積層して設けられた反射フィルム、第2貼着層及び基材層とを含む複合フィルムであり、反射フィルムは材料が金属銀材料であり、厚みが250nmである。
本比較例は、比較例3のベースフィルムと、順に積層して設けられた反射フィルム、第2貼着層及び基材層とを含む複合フィルムであり、反射フィルムは材料が金属銀材料であり、厚みが250nmである。
本ベースフィルムは、第1層と、第1層の対向する両側の表面に設けられた第2層及び第3層を含み、第1層、第2層、及び第3層は三層共押出成形される。第1層は、ポリエチレンテレフタレート(PET)層及びポリエチレンテレフタレート(PET)層に分散している平均粒径3μmの炭化ケイ素粒子を含み、第1層における炭化ケイ素粒子の質量百分率は3%であり、第2層及び第3層はいずれもポリエチレンテレフタレート(PET)層であり、第1層の厚みは75μmであり、第2層及び第3層の厚みはいずれも25μmである。
ベースフィルムは、第1層と、第1層の対向する両側の表面に設けられた第2層及び第3層を含み、第1層、第2層、及び第3層は三層共押出成形される。第1層は、ポリメチルメタクリレート(PMMA)層及びポリメチルメタクリレート(PMMA)層に分散している平均粒径5μmの硫酸バリウム粒子を含み、第1層における硫酸バリウム粒子の質量百分率は5%であり、第2層及び第3層はいずれもポリメチルメタクリレート(PMMA)であり、第1層の厚みは75μmであり、第2層及び第3層の厚みはいずれも25μmである。
ベースフィルムは、第1層と、第1層の対向する両側の表面に設けられた第2層及び第3層を含み、第1層、第2層、及び第3層は三層共押出成形される。第1層は、ポリエチレンテレフタレートグリコール(PETG)層及びポリエチレンテレフタレートグリコール(PETG)層に分散している平均粒径6μmのシリカ粒子を含み、第1層におけるシリカ粒子の質量百分率は10%であり、第2層及び第3層はいずれもポリエチレンテレフタレートグリコール(PETG)層であり、第1層の厚みは75μmであり、第2層及び第3層の厚みはいずれも25μmである。
ベースフィルムは、第1層と、第1層の対向する両側の表面に設けられた第2層及び第3層を含み、第1層、第2層、及び第3層は三層共押出成形される。第1層は、ポリプロピレン(PC)層及びポリプロピレン(PC)層に分散している平均粒径0.8μmの二酸化チタン粒子を含み、第1層における二酸化チタン粒子の質量百分率は15%であり、第2層及び第3層はいずれもポリプロピレン(PC)であり、第1層の厚みは75μmであり、第2層及び第3層の厚みはいずれも25μmである。
ベースフィルムは、第1層と、第1層の対向する両側の表面に設けられた第2層及び第3層を含み、第1層、第2層、及び第3層は三層共押出成形される。第1層は、ポリ(4−メチル−1−ペンテン)(TPX)層及びポリ(4−メチル−1−ペンテン)(TPX)層に分散している平均粒径2μmの炭化カルシウム粒子を含み、第1層における炭化カルシウム粒子の質量百分率は20%であり、第2層及び第3層はいずれもポリ(4−メチル−1−ペンテン)(TPX)層であり、第1層の厚みは75μmであり、第2層及び第3層の厚みはいずれも25μmである。
本実施例の実施例25との違いは、第1層の厚みが25μmであり、第2層の厚みが5μmであり、第3層の厚みが15μmであることにある。
本実施例の実施例25との違いは、第1層の厚みが50μmであり、第2層の厚みが10μmであり、第3層の厚みが20μmであることにある。
本実施例の実施例25との違いは、第1層の厚みが100μmであり、第2層の厚みが5μmであり、第3層の厚みが25μmであることにある。
本比較例は、ポリエチレンナフタレート(PEN)層及びポリエチレンナフタレート(PEN)層に分散している平均粒径3μmの窒化チタン粒子を含む通常の単層ベースフィルムであり、窒化チタン粒子は質量百分率が1%であり、厚みが75μmである。
本比較例の実施例25との違いは、第1層における平均粒径6μmのシリカ粒子の質量百分率が1%であることにある。
本比較例の実施例25との違いは、第1層の厚みが75μmであり、第2層及び第3層の厚みがいずれも3μmであることにある。
本実施例の実施例25との違いは、第2層及び第3層がいずれもポリエチレンテレフタレートグリコール(PETG)層及びポリエチレンテレフタレートグリコール(PETG)層に分散している平均粒径100nmのシート状の水酸化カルシウム粒子を含み、水酸化カルシウム粒子の質量百分率がいずれも0.5%であることにある。
本実施例の実施例25との違いは、第2層及び第3層がいずれもポリエチレンテレフタレートグリコール(PETG)層及びポリエチレンテレフタレートグリコール(PETG)層に分散している平均粒径200nmのシート状のアルミナ粒子を含み、アルミナ粒子の質量百分率がいずれも0.5%であり、第2層にはさらにUV−P紫外線吸収剤、酸化防止剤1010、及び酸化防止剤168が含まれ、UV−P紫外線吸収剤、酸化防止剤1010、及び酸化防止剤168の質量百分率の合計が2%であることにある。
本実施例の実施例25との違いは、第2層及び第3層がいずれもポリエチレンテレフタレートグリコール(PETG)層及びポリエチレンテレフタレートグリコール(PETG)層に分散している平均粒径300nmのシート状の酸化セリウム粒子を含み、酸化セリウム粒子の質量百分率がいずれも1%であり、第2層にはさらにUV531紫外線吸収剤、酸化防止剤1010、及び酸化防止剤168が含まれ、UV531紫外線吸収剤、酸化防止剤1010、及び酸化防止剤168の質量百分率の合計が1.5%であることにある。
本実施例の実施例25との違いは、第2層がポリエチレンテレフタレートグリコール(PETG)層、ポリエチレンテレフタレートグリコール(PETG)層に分散している平均粒径300nmのシート状の水酸化アルミニウム、UV531紫外線吸収剤、酸化防止剤1010、及び酸化防止剤168を含み、水酸化アルミニウムの質量百分率が1%であり、UV531紫外線吸収剤、酸化防止剤1010、及び酸化防止剤168の質量百分率の合計が1%であり、第3層にはポリエチレンテレフタレートグリコール(PETG)層及びポリエチレンテレフタレートグリコール(PETG)層に分散している平均粒径300nmのシート状の酸化ジルコニウムが含まれ、酸化ジルコニウムの質量百分率が2%であることにある。
本実施例の実施例25との違いは、第2層がポリエチレンテレフタレートグリコール(PETG)層、ポリエチレンテレフタレートグリコール(PETG)層に分散している平均粒径600nmのシート状の水酸化カルシウム粒子、UV−P紫外線吸収剤、酸化防止剤1010、及び酸化防止剤168を含み、水酸化カルシウム粒子の質量百分率が1%であり、UV−P紫外線吸収剤、酸化防止剤1010、及び酸化防止剤168の質量百分率の合計が0.5%であり、第3層にはポリエチレンテレフタレートグリコール(PETG)層及びポリエチレンテレフタレートグリコール(PETG)層に分散している平均粒径750nmのシート状のアルミナ粒子が含まれ、アルミナ粒子の質量百分率が1%であることにある。
本実施例は、実施例25のベースフィルムと、順に積層して設けられた反射フィルム、第2貼着層及び基材層とを含む複合フィルムを提供し、反射フィルムは材料が金属銀材料であり、厚みが100nmである。
本実施例は、実施例32のベースフィルムと、順に積層して設けられた反射フィルム、第2貼着層及び基材層とを含む複合フィルムを提供し、反射フィルムは材料がZrO2であり、厚みが200nmである。
本実施例は、実施例32のベースフィルムと、順に積層して設けられた反射フィルム、第2貼着層及び基材層とを含む複合フィルムを提供し、反射フィルムは材料が銀合金であり、厚みが50nmである。
本実施例のベースフィルムにおいて、第1層の材料はPMMAであり、第1充填材はPSマイクロスフェアと炭化ケイ素粒子の混合物であり、溶融混合法によって製造される。第1層の材料の屈折率nは1.49であり、PSマイクロスフェアの屈折率mは1.58であり、屈折率差xの絶対値は0.09である。ベースフィルムの厚みは50μmであり、ベースフィルムにおける第1充填材の粒径は3μmであり、第1充填材におけるPSマイクロスフェアの質量百分率は2%であり、炭化ケイ素粒子の質量百分率は1%である。
本実施例のベースフィルムにおいて、第1層の材料はPMMAであり、第1充填材はPSマイクロスフェアと炭化ケイ素粒子の混合物であり、溶融混合法によって製造される。第1層の材料の屈折率nは1.49であり、PSマイクロスフェアの屈折率mは1.58であり、屈折率差xの絶対値は0.09である。ベースフィルムの厚みは50μmであり、ベースフィルムにおける第1充填材の粒径は3μmであり、第1充填材におけるPSマイクロスフェアの質量百分率は1%であり、炭化ケイ素粒子の質量百分率は1%である。
本実施例のベースフィルムにおいて、第1層の材料はPMMAであり、第1充填材はPSマイクロスフェアと炭化ケイ素粒子の混合物であり、溶融混合法によって製造される。第1層の材料の屈折率nは1.49であり、PSマイクロスフェアの屈折率mは1.58であり、屈折率差xの絶対値は0.09である。本ベースフィルムの厚みは50μmであり、ベースフィルムにおける第1充填材の粒径は3μmであり、第1充填材におけるPSマイクロスフェアの質量百分率は2%であり、炭化ケイ素粒子の質量百分率は2%である。
ベースフィルムは、第1層と、第1層の対向する両側の表面に設けられた第2層及び第3層を含み、第1層、第2層、及び第3層は三層共押出成形される。第1層は、ポリエチレンテレフタレート(PET)層、及びポリエチレンテレフタレート(PET)層に分散している平均粒径3μmのPSマイクロスフェア及び炭化ケイ素粒子を含み、第1層における炭化ケイ素粒子の質量百分率は3%であり、PSマイクロスフェアの質量百分率は2%であり、第2層及び第3層はいずれもポリエチレンテレフタレート(PET)層であり、第1層の厚みは75μmであり、第2層及び第3層の厚みはいずれも25μmである。
ベースフィルムは、第1層と、第1層の対向する両側の表面に設けられた第2層及び第3層を含み、第1層、第2層、及び第3層は三層共押出成形される。第1層は、ポリエチレンテレフタレート(PET)層、及びポリエチレンテレフタレート(PET)層に分散している平均粒径3μmのPSマイクロスフェア及び炭化ケイ素粒子を含み、第1層における炭化ケイ素粒子の質量百分率は5%であり、PSマイクロスフェアの質量百分率は2%であり、第2層及び第3層はいずれもポリエチレンテレフタレート(PET)層であり、第1層の厚みは75μmであり、第2層及び第3層の厚みはいずれも25μmである。
ベースフィルムは、第1層と、第1層の対向する両側の表面に設けられた第2層及び第3層を含み、第1層、第2層、及び第3層は三層共押出成形される。第1層は、ポリエチレンテレフタレート(PET)層、及びポリエチレンテレフタレート(PET)層に分散している平均粒径3μmのPSマイクロスフェア及び炭化ケイ素粒子であり、第1層における炭化ケイ素粒子の質量百分率は8%であり、PSマイクロスフェアの質量百分率は1%であり、第2層及び第3層はいずれもポリエチレンテレフタレート(PET)層であり、第1層の厚みは75μmであり、第2層及び第3層の厚みはいずれも25μmである。
本実施例の実施例12との違いは、ベースフィルムが実施例39のベースフィルムであることにある。
本実施例の実施例12との違いは、ベースフィルムが実施例40のベースフィルムであることにある。
本実施例の実施例12との違いは、ベースフィルムが実施例41のベースフィルムであることにある。
本実施例の実施例12との違いは、ベースフィルムが実施例42のベースフィルムであることにある。
本実施例の実施例12との違いは、ベースフィルムが実施例43のベースフィルムであることにある。
本実施例の実施例12との違いは、ベースフィルムが実施例44のベースフィルムであることにある。
太陽光反射フィルムが建物に適用される場合の建物内部に対する温度低下効果をシミュレーションするために、図9に示すようなD、Eの2つのモデルハウスを提供した。モデルハウスは占用面積4m×3m、屋根の高さ2m、屋根の棟の高さ2.5mであり、主な建材は主に鋼材及びプラスチック板材を含む。モデルハウスDの外面が実施例38の複合フィルムで完全に被覆され、モデルハウスEの外面に対しては何も処理しなかった。
Claims (21)
- ベースフィルムであって、第1層及び第1充填材を含み、前記第1充填材は前記第1層に分散し、前記第1層の材料の屈折率をn(1.3−1.7)とし、前記第1充填材の屈折率をmとし、nとmの差をxとすると、xの絶対値は0.0005以上であり、前記ベースフィルムは7μm−14μmの大気の窓での放射率が80%以上であり、300nm−2500のnm波長域での熱反射率が10%以上であり、光沢度が20GU以下であることを特徴とするベースフィルム。
- 前記第1層の対向する両側の表面に設けられた第2層及び第3層をさらに含み、前記第1層、前記第2層、及び前記第3層は共押出成形され、前記第2層と前記第1層の厚みの比は1:1−1:20であり、前記第3層と前記第1層の厚みの比は1:1−1:20であることを特徴とする請求項1に記載のベースフィルム。
- 前記第1層の材料はポリエステル類、ポリアクリレート類、ポリアミド類、ポリウレタン類、ポリオレフィン類、フッ素樹脂のうちの少なくとも1種を含むことを特徴とする請求項1又は2に記載のベースフィルム。
- 前記ポリエステル類はポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリエチレンテレフタレートグリコール、ポリエチレンテレフタレート-1,4-シクロヘキサンジメタノールエステルのうちの少なくとも1種を含み、前記ポリアクリレート類はアクリロニトリル−ブタジエン−スチレンプラスチック、ポリメチルメタクリレートのうちの少なくとも1種を含み、前記ポリアミド類はナイロン6、ナイロン66、ナイロン12、ナイロン1010のうちの少なくとも1種を含み、前記ポリオレフィン類はポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ(4−メチル−1−ペンテン)のうちの少なくとも1種を含み、前記フッ素樹脂はテトラフルオロエチレン−ヘキサフルオロプロピレン共重合体、ポリフッ化ビニリデン、エチレン−クロロトリフルオロエチレン共重合体のうちの少なくとも1種を含むことを特徴とする請求項3に記載のベースフィルム。
- 前記第2層の材料及び前記第3層の材料はいずれも前記第1層の材料と同じであることを特徴とする請求項3に記載のベースフィルム。
- 前記第1充填材は有機充填材、無機充填材のうちの少なくとも1種を含み、前記第1層における前記第1充填材の質量百分率は2%−20%であることを特徴とする請求項1又は2に記載のベースフィルム。
- 前記第1充填材は有機充填材であり、xの絶対値は0.05以上であり、前記第1層における前記第1充填材の質量百分率は2%−5%であり、前記有機充填材はポリアクリレート粒子、ポリスチレン粒子、ポリウレタン粒子、ポリメチルメタクリレート粒子、エポキシ樹脂粒子のうちの少なくとも1種を含むことを特徴とする請求項6に記載のベースフィルム。
- 前記有機充填材の融点は前記第1層の材料の融点より高いことを特徴とする請求項7に記載のベースフィルム。
- 前記有機充填材は中空充填材であることを特徴とする請求項7に記載のベースフィルム。
- 前記第1充填材は無機充填材であり、前記第1層における前記第1充填材の質量百分率は3%以上であり、前記無機充填材は窒化チタン粒子、二酸化チタン粒子、炭化ケイ素粒子、シリカ粒子、硫酸バリウム粒子、硫酸カルシウム粒子、炭酸カルシウム粒子のうちの少なくとも1種を含むことを特徴とする請求項6に記載のベースフィルム。
- 前記第1層はセルを含むことを特徴とする請求項1又は2に記載のベースフィルム。
- 前記第1充填材の粒径は0.1μm−20μmであることを特徴とする請求項1又は2に記載のベースフィルム。
- 前記第1層の厚みは25μm以上であり、前記第2層の厚み及び前記第3層の厚みはいずれも5μm以上であることを特徴とする請求項2に記載のベースフィルム。
- 前記第2層に第2充填材がさらに分散し、前記第2層における前記第2充填材の質量百分率は0.5%−2%であり、
及び/又は、前記第3層に第3充填材がさらに分散し、前記第3層における前記第3充填材の質量百分率は0.5%−2%であることを特徴とする請求項2に記載のベースフィルム。 - 前記第2層の光透過率は82%以上であり、前記第2層の水蒸気透過率は10g/(m2・24h)以下であり、
及び/又は、前記第3層の光透過率は82%以上であり、前記第3層の水蒸気透過率は10g/(m2・24h)以下であることを特徴とする請求項2に記載のベースフィルム。 - 前記第2層は紫外線吸収剤をさらに含み、前記第2層の紫外線遮断率は80%以上であり、
及び、前記第2層は酸化防止剤をさらに含み、前記第2層における前記酸化防止剤と前記紫外線吸収剤の質量百分率の合計が0.5%−4%であることを特徴とする請求項2に記載のベースフィルム。 - 前記ベースフィルムの光透過率は82%以上であることを特徴とする請求項1に記載のベースフィルム。
- 複合フィルムであって、請求項1−17のいずれか1項に記載のベースフィルムと、前記ベースフィルムに順に積層して設けられた反射フィルム、第2貼着層、及び基材層を含み、前記複合フィルムは光沢度が70GU以下であり、7μm−14μmの大気の窓での放射率が80%以上であり、300nm−2500のnm波長域での熱反射率が85%以上であることを特徴とする複合フィルム。
- 前記反射フィルムの材料は金属材料及び/又はセラミック材料であることを特徴とする請求項18に記載の複合フィルム。
- 請求項18−19のいずれか1項に記載の複合フィルムを含む製品であって、基体と、前記基体の表面に順に積層して設けられた第1貼着層及び複合フィルムを含み、前記複合フィルムにおける基材層が前記第1貼着層に貼着されることを特徴とする製品。
- 前記基体は金属、プラスチック、ガラス、ゴム、ピッチ、セメント、織物のうちの少なくとも1種を含むことを特徴とする請求項20に記載の複合フィルムを含む製品。
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