JP2021099436A - 光学積層体の製造方法 - Google Patents

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Abstract

【課題】光学フィルムと重合性液晶化合物の硬化物層を含む位相差層とを備える光学積層体であって、小さな曲率半径で湾曲させても皺欠陥を生じにくい光学積層体を製造するための方法を提供する。【解決手段】光学積層体の製造方法であって、該光学積層体は、光学フィルムと活性エネルギー線硬化性接着剤の硬化物層である硬化接着剤層と重合性液晶化合物の硬化物層を含む位相差層とをこの順に備え、該製造方法は、光学フィルムと活性エネルギー線硬化性接着剤層と位相差層とを、活性エネルギー線硬化性接着剤層と位相差層とが接するように積層する工程と、（１）３０℃以上の温度で２時間以上保持する、（２）振動条件下で２時間以上保持する、（３）４８時間以上保持する、のいずれか１以上を満たす条件下で保持する工程と、活性エネルギー線硬化性接着剤層を硬化させて硬化接着剤層を形成する工程とをこの順に含む製造方法が提供される。【選択図】図２

Description

本発明は、光学積層体の製造方法に関し、光学積層体にも関する。
有機ＥＬ表示装置等の画像表示装置では、金属電極による外光反射の防止等を目的として、偏光子（直線偏光子）と位相差層とを組み合わせた光学積層体（楕円偏光板）が用いられることがある。例えば特開２０１８−０１７９９６号公報（特許文献１）には、紫外線硬化性接着剤層を介して偏光子と重合性液晶化合物から形成される位相差層とを積層し、紫外線照射によって該接着剤層を硬化させて、楕円偏光板を製造することが記載されている。
特開２０１８−０１７９９６号公報
偏光子を含む光学フィルム等と重合性液晶化合物から形成される位相差層とを活性エネルギー線硬化性接着剤又は粘着剤を用いて接着することにより作製した従来の光学積層体は、曲率半径が徐々に小さくなるように湾曲させていくと、比較的大きな曲率半径の段階であっても、上記位相差層に微細な皺（以下、「皺欠陥」ともいう。）を生じやすい傾向にあった。湾曲可能、さらには折り曲げ可能な画像表示装置などへの適用を考慮した場合、上記光学積層体には、小さな曲率半径で湾曲させても皺欠陥を生じにくいことが求められる。
本発明は、光学フィルムと重合性液晶化合物の硬化物層を含む位相差層とを備える光学積層体であって、小さな曲率半径で湾曲させても皺欠陥を生じにくい光学積層体及びその製造方法を提供することにある。
本発明は、以下に示す光学積層体の製造方法及び光学積層体を提供する。
〔１〕 光学積層体の製造方法であって、
前記光学積層体は、光学フィルムと、活性エネルギー線硬化性接着剤の硬化物層である硬化接着剤層と、重合性液晶化合物の硬化物層を含む位相差層とをこの順に備え、
前記製造方法は、
前記光学フィルムと、活性エネルギー線硬化性接着剤層と、前記位相差層とを、前記活性エネルギー線硬化性接着剤層と前記位相差層とが接するように積層する工程と、
下記（１）〜（３）：
（１）３０℃以上の温度で２時間以上保持する、
（２）振動条件下で２時間以上保持する、
（３）４８時間以上保持する
のいずれか１以上を満たす条件下で保持する工程と、
前記活性エネルギー線硬化性接着剤層を硬化させて前記硬化接着剤層を形成する工程と、
をこの順に含む、光学積層体の製造方法。
〔２〕 光学積層体の製造方法であって、
前記光学積層体は、光学フィルムと、活性エネルギー線硬化性接着剤の硬化物層である硬化接着剤層と、重合性液晶化合物の硬化物層を含む位相差層とをこの順に備え、
前記製造方法は、
基材フィルムと、これに接して積層される前記位相差層とを含む積層体を用意する工程と、
５０ｍ／分以上の剥離速度で前記位相差層から前記基材フィルムを剥離する工程と、
前記基材フィルムを剥離した後の前記位相差層の剥離面に、活性エネルギー線硬化性接着剤層を介して光学フィルムを積層する工程と、
前記活性エネルギー線硬化性接着剤層を硬化させて前記硬化接着剤層を形成する工程と、
をこの順に含む、光学積層体の製造方法。
〔３〕 前記光学フィルムが直線偏光子を含む、〔１〕又は〔２〕に記載の光学積層体の製造方法。
〔４〕 前記積層工程において、前記光学フィルムと、活性エネルギー線硬化性接着剤層と、前記位相差層とを、前記直線偏光子と前記活性エネルギー線硬化性接着剤層とが接するように積層する、〔３〕に記載の光学積層体の製造方法。
〔５〕 光学フィルムと、活性エネルギー線硬化性接着剤の硬化物層である硬化接着剤層と、重合性液晶化合物の硬化物層を含む位相差層とをこの順に備え、
前記硬化接着剤層と前記位相差層とは接しており、
前記位相差層における前記硬化接着剤層側の表面は、下記（ａ）〜（ｄ）：
（ａ）算術平均粗さＳａが０．０６５μｍ以上である、
（ｂ）二乗平均平方根高さＳｑが０．０８５μｍ以上である、
（ｃ）界面の展開面積比Ｓｄｒが０．２％以上である、
（ｄ）二法平均平方根傾斜Ｓｄｑが０．０６５以上である
のいずれか１以上を満たす、光学積層体。
〔６〕 前記光学フィルムが直線偏光子を含む、〔５〕に記載の光学積層体。
〔７〕 前記直線偏光子と前記硬化接着剤層とが接している、〔６〕に記載の光学積層体。
光学フィルムと重合性液晶化合物の硬化物層を含む位相差層とを備える光学積層体であって、小さな曲率半径で湾曲させても皺欠陥を生じにくい光学積層体及びその製造方法を提供することができる。
実施形態１における積層工程によって得られる積層体の層構成の一例を示す概略断面図である。 光学積層体の層構成の一例を示す概略断面図である。 実施形態２における準備工程で用意される積層体の層構成の一例を示す概略断面図である。 直線偏光板の層構成の一例を示す概略断面図である。 位相差積層体の層構成の一例を示す概略断面図である。 光学積層体の層構成の他の例を示す概略断面図である。 光学積層体の層構成のさらに他の例を示す概略断面図である。 皺欠陥の評価方法を説明する模式図である。 光学積層体における吸収軸及び遅相軸の方向を説明する模式図である。
＜光学積層体の製造方法＞
本発明に係る製造方法によって製造される光学積層体は、光学フィルムと、活性エネルギー線硬化性接着剤の硬化物層である硬化接着剤層（以下、単に「硬化接着剤層」ともいう。）と、重合性液晶化合物の硬化物層を含む位相差層（以下、単に「位相差層」ともいう。）とをこの順に備えるものである。
本発明に係る製造方法によって製造される光学積層体は、有機ＥＬ表示装置等の画像表示装置に好適に適用することができる。
以下、図面を参照して本発明に係る光学積層体の製造方法の実施形態について説明する。以下に示す各実施形態は任意に組み合わされてもよい。図面はいずれも概略図であり、実際の寸法を表していないことがある。
以下に示す各実施形態において、各工程に用いるフィルム又は層として長尺物を用い、各工程を連続的に行ってもよいし、各工程に用いるフィルム又は層として枚葉物を用い、各工程を非連続的に行ってもよい。枚葉物は、長尺物から裁断したものであってよい。
［実施形態１］
本実施形態に係る光学積層体の製造方法は、下記の工程を記載順に含む。
光学フィルムと、活性エネルギー線硬化性接着剤層と、重合性液晶化合物の硬化物層を含む位相差層とを、活性エネルギー線硬化性接着剤層と位相差層とが接するように積層する工程〔積層工程〕、
下記（１）〜（３）：
（１）３０℃以上の温度で２時間以上保持する、
（２）振動条件下で２時間以上保持する、
（３）４８時間以上保持する
のいずれか１以上を満たす条件下で保持する工程〔保持工程〕、及び
活性エネルギー線硬化性接着剤層を硬化させて硬化接着剤層を形成する工程〔硬化工程〕。
〔１〕積層工程
図１は、本実施形態における積層工程によって得られる積層体の層構成の一例を示す概略断面図である。積層工程は、光学フィルム１０と位相差層３０とを、活性エネルギー線硬化性接着剤層２０（以下、単に「接着剤層」ともいう。）を介して積層する工程である。本明細書において活性エネルギー線硬化性接着剤層とは、活性エネルギー線硬化性接着剤で構成される層をいう。活性エネルギー線硬化性接着剤としては、位相差層３０及び光学フィルム１０を接着する能力を有するものが用いられる。
積層工程において、光学フィルム１０と接着剤層２０と位相差層３０とは、接着剤層２０と位相差層３０とが接するように積層される。また、光学フィルム１０と接着剤層２０と位相差層３０とは、好ましくは、光学フィルム１０と接着剤層２０とが接するように積層される。
積層工程は、光学フィルム１０の接着面及び位相差層３０の接着面から選択される１以上の面に接着剤層２０を形成し、接着剤層２０を介して光学フィルム１０と位相差層３０とを積層することによって実施することができる。接着剤層２０は、公知の塗工方法によって接着面に活性エネルギー線硬化性接着剤を塗工することによって形成できる。
積層工程によって得られる積層体において、接着剤層２０の厚みは、通常０．５μｍ以上５０μｍ以下であり、皺欠陥を抑制する観点、光学フィルム１０と位相差層３０との間の接着性の観点、及び得られる光学積層体の薄型化の観点から、好ましくは１μｍ以上３０μｍ以下、より好ましくは２μｍ以上２０μｍ以下である。
光学フィルム１０の接着面及び位相差層３０の接着面から選択される１以上の面には、接着剤層２０を形成する前に、あらかじめプラズマ処理、コロナ処理、紫外線照射処理、フレーム（火炎）処理、ケン化処理のような表面活性化処理を行ってもよい。この表面活性化処理により、光学フィルム１０と位相差層３０との接着性を高め得る。
光学フィルム１０は、単層構造のフィルムであってもよいし、多層構造のフィルムであってもよい。光学フィルム１０としては、例えば、直線偏光板等を挙げることができる。本明細書において直線偏光板とは、少なくとも直線偏光子を含む光学素子であり、直線偏光子とその少なくとも一方の面に貼合される熱可塑性樹脂フィルム等とを含んでいてもよい。
光学フィルム１０が直線偏光板である場合、積層工程によって得られる積層体において、好ましくは、直線偏光板に含まれる直線偏光子と接着剤層２０とが接している。
光学フィルム１０及び活性エネルギー線硬化性接着剤については、後掲の＜光学積層体＞の項でより詳細に説明する。
位相差層３０は、重合性液晶化合物の硬化物層を含み、該層の形成に用いる液晶化合物の種類に応じた光学異方性を示す。以下、この重合性液晶化合物の硬化物層を「位相差発現層」ともいう。
本明細書において位相差層３０は、位相差発現層からなっていてもよいし、位相差発現層と配向層とを含んでいてもよい。
積層工程において、接着剤層２０を介して光学フィルム１０と貼合される位相差層３０には、積層工程の前にあらかじめ他の１又は２以上の層が積層されていてもよい。例えば、位相差層３０と他の位相差層とを含む位相差層積層体をあらかじめ作製しておき、この位相差層積層体を接着剤層２０を介して光学フィルム１０に貼合してもよい。
位相差層、位相差発現層、配向層及び位相差層積層体等については、後掲の＜光学積層体＞の項でより詳細に説明する。
〔２〕保持工程
保持工程は、積層工程によって得られた積層体を特定の条件下に保持する工程である。保持する際の具体的態様は特に制限されないが、上記特定の条件下に上記積層体を静置することが挙げられる。
上記特定の条件下とは、下記（１）〜（３）：
（１）３０℃以上の温度で２時間以上保持する、
（２）振動条件下で２時間以上保持する、
（３）４８時間以上保持する
のいずれか１以上を満たす条件下である。
上記積層工程及び保持工程を含む本実施形態に係る製造方法によれば、小さな曲率半径で湾曲させても皺欠陥を生じにくい光学積層体を製造することが可能となる。これは、次の理由によるものと推定される。
積層工程によって硬化前の接着剤層２０に位相差層３０が接触した状態となり、続く保持工程において上記特定の条件下でこの状態が保持される。硬化前の活性エネルギー線硬化性接着剤は、硬化後は位相差層３０に対して接着力を発揮することから、位相差層３０との間に相互作用が働くと認められる。位相差層３０との間に相互作用が働く活性エネルギー線硬化性接着剤が上記特定の条件下で位相差層３０に接触する状態が続くと、位相差層３０の該接着剤との接触面（図１に示される表面Ｘ）が荒れると考えられる。このような位相差層３０の表面の荒れは、接着剤層２０との密着力を向上させる。
上記密着力が向上すると、硬化接着剤層（硬化後の接着剤層）と位相差層３０とは、光学積層体を湾曲させたときに一体となって変形するため、皺欠陥の発生が抑制されやすくなるものと考えられる。
本実施形態に係る製造方法は、得られる光学積層体において、後述する虹ムラを抑制するうえでも有利である。
上記条件（１）における保持温度は３０℃以上であり、皺欠陥の発生をより効果的に抑制する観点から、好ましくは３５℃以上であり、より好ましくは３８℃以上であり、さらに好ましくは４０℃以上である。該保持温度は、通常５５℃以下であり、保持工程を終了した後に水分の含有量の変化を少なくし得ることから、好ましくは５０℃以下である。
上記条件（１）における保持時間は、保持温度にも依存するが、通常２時間以上であり、皺欠陥の発生をより効果的に抑制する観点から、好ましくは３時間以上であり、より好ましくは４時間以上であり、さらに好ましくは５時間以上である。該保持時間は、保持温度にも依存するが、通常４８時間未満で十分である。なお、該保持時間は４８時間以上であってもよいが、この場合、保持工程は、条件（１）及び（３）を満たすこととなる。
上記条件（２）における積層体に対する振動付与は、例えば、振動源に積層体を載置することにより行うことができる。振動源としては、一定の周期及び一定の振幅で振動することができるものであれば特に限定されるものではなく、振動発生器を用いてもよいし、例えば一定の回転数で回転することができる電動モーター等の回転機器を用いてもよいし、交流電流を通電することができるトランス等を用いてもよい。
該振動の周波数は、皺欠陥の発生を抑制する観点から、好ましくは５Ｈｚ以上であり、より好ましくは１０Ｈｚ以上である。該振動の周波数は、積層体を構成する各層が互いに部分的に剥離する、いわゆる浮きの発生を抑制する観点から、好ましくは５０Ｈｚ以下であり、より好ましくは４０Ｈｚ以下である。
該振動の振幅は、皺欠陥の発生を抑制する観点から、好ましくは０．５ｍｍ以上であり、より好ましくは１ｍｍ以上である。該振動の振幅は、積層体を構成する各層が互いに部分的に剥離する、いわゆる浮きの発生を抑制する観点から、好ましくは３０ｍｍ以下であり、より好ましくは１０ｍｍ以下である。
上記条件（２）における保持温度は特に制限されないが、通常５℃以上であり、皺欠陥の発生をより効果的に抑制する観点から、好ましくは１０℃以上であり、より好ましくは１５℃以上であり、さらに好ましくは２０℃以上である。該保持温度は、３０℃以上であってもよいが、この場合、保持工程は、条件（１）及び（２）を満たすこととなる。該保持温度は、通常５５℃以下であり、保持工程を終了した後にも水分の含有量の変化を少なくし得ることから、好ましくは５０℃以下である。
上記条件（２）における保持時間は、保持温度にも依存するが、通常２時間以上であり、皺欠陥の発生をより効果的に抑制する観点から、好ましくは３時間以上であり、より好ましくは４時間以上であり、さらに好ましくは５時間以上である。該保持時間は、保持温度にも依存するが、通常４８時間未満で十分である。なお、該保持時間は４８時間以上であってもよいが、この場合、保持工程は、条件（２）及び（３）を満たすこととなる。
上記条件（３）における保持温度は特に制限されないが、通常５℃以上であり、皺欠陥の発生をより効果的に抑制する観点から、好ましくは１０℃以上であり、より好ましくは１５℃以上であり、さらに好ましくは２０℃以上である。該保持温度は、３０℃以上であってもよいが、この場合、保持工程は、条件（１）及び（３）を満たすこととなる。該保持温度は、通常５５℃以下であり、保持工程を終了した後にも水分の含有量の変化を少なくし得ること観点から、好ましくは５０℃以下である。
上記条件（３）における保持時間は、保持温度にも依存するが、通常４８時間以上であり、皺欠陥の発生をより効果的に抑制する観点から、好ましくは５４時間以上であり、より好ましくは６６時間以上であり、さらに好ましくは７２時間以上である。該保持時間は、保持温度にも依存するが、通常１２０時間以下で十分である。
上記（１）〜（３）のいずれの条件においても、積層体が保持される環境の相対湿度は、例えば２０％ＲＨ以上８０％ＲＨ以下であり、好ましくは３０％ＲＨ以上７０％ＲＨ以下である。
〔３〕硬化工程
図２を参照して、本工程において、活性エネルギー線の照射により接着剤層２０を硬化させて硬化接着剤層２０ａを形成することによって光学積層体を得ることができる。照射する活性エネルギー線の種類は、接着剤層２０を構成する活性エネルギー線硬化性接着剤に含まれる硬化性成分の感応波長等に応じて適切に選択される。活性エネルギー線は、好ましくは紫外線である。
［実施形態２］
本実施形態に係る光学積層体の製造方法は、下記の工程を記載順に含む。
基材フィルムと、これに接して積層される位相差層とを含む積層体を用意する工程〔準備工程〕、
５０ｍ／分以上の剥離速度で位相差層から基材フィルムを剥離する工程〔剥離工程〕、
基材フィルムを剥離した後の位相差層の剥離面に、活性エネルギー線硬化性接着剤層を介して光学フィルムを積層する工程〔積層工程〕、
活性エネルギー線硬化性接着剤層を硬化させて硬化接着剤層を形成する工程〔硬化工程〕。
〔１〕準備工程
上述のように、位相差層３０は位相差発現層（重合性液晶化合物の硬化物層）を含むものであり、位相差発現層からなっていてもよいし、位相差発現層と配向層とを含んでいてもよい。したがって、本工程において用意される、基材フィルムと、これに接して積層される位相差層とを含む積層体は、例えば、基材フィルム／配向層／位相差発現層の層構成を有していてもよいし、基材フィルム／位相差発現層の層構成を有していてもよい。
図３は、本実施形態における準備工程で用意される積層体の層構成の一例を示す概略断面図である。図３に示される積層体は、基材フィルム４１／配向層３２／位相差発現層３１の層構成を有しており、位相差層３０が位相差発現層３１と配向層３２とからなる例である。本工程において用意される積層体として、一つの市販品又は複数の市販品の組み合わせが用いられてもよい。
本工程において用意される積層体は、基材フィルムと、これに接して積層される位相差層とを含んでいればよく、図３の例に限定されるものではない。該積層体には、基材フィルム４１及び位相差層３０以外の他の１又は２以上の層が積層されていてもよい。例えば、基材フィルム４１と位相差層３０と他の位相差層とを含む位相差層積層体が本工程で用意されてもよい。
基材フィルム、位相差層、位相差発現層、配向層及び位相差層積層体等については、後掲の＜光学積層体＞の項でより詳細に説明する。
〔２〕剥離工程
本工程は、５０ｍ／分以上の剥離速度で位相差層３０から基材フィルム４１を剥離する工程である。
剥離速度は、皺欠陥の発生をより効果的に抑制する観点から、好ましくは６０ｍ／分以上であり、より好ましくは７０ｍ／分以上であり、さらに好ましくは８０ｍ／分以上であり、特に好ましくは９０ｍ／分以上である。剥離速度は、通常１５０ｍ／分以下であり、基材フィルムの破断防止の観点から、好ましくは１２０ｍ／分以下である。
基材フィルム４１が剥離される積層体に対する基材フィルム４１の剥離角度は、通常９０度より大きく１８０度以下である。基材フィルム４１の剥離をより容易にする観点から、剥離角度は、好ましくは１２０度以上１８０度以下である。
剥離角度とは、基材フィルム４１が剥離されるときの積層体の面方向又は搬送方向と、剥離される基材フィルム４１の面方向又は搬送方向とがなす角度をいう。
準備工程で用意される積層体が基材フィルム４１と配向層３２と位相差発現層３１とを有する場合において、基材フィルム４１の剥離の際、基材フィルム４１とともに配向層３２が剥離される場合は、本工程により、積層体の表面に位相差発現層３１の表面が露出する。配向層３２が剥離されずに積層体側に残存する場合には、積層体の表面に配向層３２の表面が露出する。
準備工程で用意される積層体が基材フィルム４１と位相差発現層３１とを有し、配向層３２を有しない場合においては、本工程により、積層体の表面に位相差発現層３１の表面が露出する。
〔３〕積層工程
本工程は、基材フィルム４１を剥離した後の位相差層３０の剥離面（露出面）に、活性エネルギー線硬化性接着剤層（接着剤層）２０を介して光学フィルム１０を積層する工程である。本工程により、図１に示される層構成と同様の層構成を得る。上記剥離面は、配向層３２の表面又は位相差発現層３１の表面であり得る。活性エネルギー線硬化性接着剤としては、位相差層３０及び光学フィルム１０を接着する能力を有するものが用いられる。
積層工程において、光学フィルム１０と接着剤層２０と位相差層３０とは、接着剤層２０と位相差層３０とが接するように積層される。また、光学フィルム１０と接着剤層２０と位相差層３０とは、好ましくは、光学フィルム１０と接着剤層２０とが接するように積層される。
積層工程は、光学フィルム１０の接着面及び位相差層３０の接着面（剥離面）から選択される１以上の面に接着剤層２０を形成し、接着剤層２０を介して光学フィルム１０と位相差層３０とを積層することによって実施することができる。接着剤層２０は、公知の塗工方法によって接着面に活性エネルギー線硬化性接着剤を塗工することによって形成できる。
積層工程によって得られる積層体において、接着剤層２０の厚みは、通常０．５μｍ以上５０μｍ以下であり、皺欠陥を抑制する観点、光学フィルム１０と位相差層３０との間の接着性の観点、及び得られる光学積層体の薄型化の観点から、好ましくは１μｍ以上３０μｍ以下、より好ましくは２μｍ以上２０μｍ以下である。
光学フィルム１０の接着面及び位相差層３０の接着面（剥離面）から選択される１以上の面には、接着剤層２０を形成する前に、あらかじめプラズマ処理、コロナ処理、紫外線照射処理、フレーム（火炎）処理、ケン化処理のような表面活性化処理を行ってもよい。この表面活性化処理により、光学フィルム１０と位相差層３０との接着性を高め得る。
光学フィルム１０は、単層構造のフィルムであってもよいし、多層構造のフィルムであってもよい。光学フィルム１０としては、例えば、直線偏光板等を挙げることができる。 光学フィルム１０が直線偏光板である場合、積層工程によって得られる積層体において、好ましくは、直線偏光板に含まれる直線偏光子と接着剤層２０とが接している。
光学フィルム１０及び活性エネルギー線硬化性接着剤については、後掲の＜光学積層体＞の項でより詳細に説明する。
上記剥離工程及び積層工程を含む本実施形態に係る製造方法によれば、小さな曲率半径で湾曲させても皺欠陥を生じにくい光学積層体を製造することが可能となる。これは、次の理由によるものと推定される。
剥離工程において５０ｍ／分以上の剥離速度で位相差層３０から基材フィルム４１を剥離すると、剥離後の位相差層３０の表面（剥離面）が荒れる。このような位相差層３０の表面の荒れは、続く積層工程において該表面に接着剤層２０を積層・接触させたときに接着剤層２０との密着力を向上させる。
上記密着力が向上すると、硬化接着剤層（硬化後の接着剤層）と位相差層３０とは、光学積層体を湾曲させたときに一体となって変形するため、皺欠陥の発生が抑制されやすくなるものと考えられる。
本実施形態に係る製造方法は、得られる光学積層体において、後述する虹ムラを抑制するうえでも有利である。
本実施形態では、位相差層３０の表面を粗面化するための手段として、基材フィルム４１の剥離速度を制御している。粗面化するための他の手段としては、例えば、あらかじめ少なくとも一方の面が粗面化されている基材フィルムを用い、この粗面化された面に位相差層３０を形成して、準備工程において用意される積層体としてもよい。
基材フィルム４１の表面の粗面化は、該表面を摩擦する方法等により実施できる。
〔４〕硬化工程
本工程において、活性エネルギー線の照射により接着剤層２０を硬化させて硬化接着剤層２０ａを形成することによって、図２と同様の層構成を有する光学積層体を得ることができる。本工程については、実施形態１の硬化工程についての記述が引用される。
＜光学積層体＞
図２を参照して、本発明に係る光学積層体（以下、単に「光学積層体」ともいう。）は、光学フィルム１０と、活性エネルギー線硬化性接着剤の硬化物層である硬化接着剤層２０ａと、位相差発現層（重合性液晶化合物の硬化物層）を含む位相差層３０とをこの順に備える。
光学積層体は、有機ＥＬ表示装置等の画像表示装置に好適に適用することができる。
光学積層体において、硬化接着剤層２０ａと位相差層３０とは接している。光学積層体において、好ましくは、光学フィルム１０と硬化接着剤層２０ａとは接している。
光学積層体は、位相差層３０における硬化接着剤層２０ａ側の表面（図２における表面Ｘａ）が、下記（ａ）〜（ｄ）：
（ａ）算術平均粗さＳａが０．０６５μｍ以上である、
（ｂ）二乗平均平方根高さＳｑが０．０８５μｍ以上である、
（ｃ）界面の展開面積比Ｓｄｒが０．２％以上である、
（ｄ）二法平均平方根傾斜Ｓｄｑが０．０６５以上である
のいずれか１以上を満たす。
算術平均粗さＳａ、二乗平均平方根高さＳｑ、界面の展開面積比Ｓｄｒ及び二法平均平方根傾斜Ｓｄｑはいずれも面の粗さを表す指標であり、ＩＳＯ ２５１７８に準拠して、［実施例］の項に記載の方法によって測定される。
本発明に係る光学積層体は、上記（ａ）〜（ｄ）のいずれか１以上を満たしているため、小さな曲率半径で湾曲させても皺欠陥を生じにくい。これは、位相差層３０における硬化接着剤層２０ａ側の表面の粗さにより硬化接着剤層２０ａと位相差層３０との密着力が向上しており、したがって、硬化接着剤層２０と位相差層３０とは、光学積層体を湾曲させたときに一体となって変形するためであると考えられる。
また、上記（ａ）〜（ｄ）のいずれか１以上を満たす光学積層体は、その光学フィルム１０側の表面からみたときの反射光において虹ムラを抑制できる点で有利である。虹ムラを抑制できることは、光学積層体を有機ＥＬ表示装置等の画像表示装置に適用したときの該装置の視認性を向上させるうえで有利である。
上記（ａ）〜（ｄ）のいずれか１以上を満たす光学積層体が虹ムラを抑制できるのは、光学積層体の内部に入射した光が各層の界面で反射することによって生じる反射光同士の干渉を抑制できるためであると考えられる。
上記（ａ）〜（ｄ）のいずれか１以上を満たす光学積層体は、上記＜光学積層体の製造方法＞の項に記載される本発明に係る製造方法によって好適に製造することができる。
皺欠陥の発生及び虹ムラをより効果的に抑制する観点から、光学積層体は、好ましくは、上記（ａ）〜（ｄ）のいずれか２以上を満たし、より好ましくは、上記（ａ）〜（ｄ）のいずれか３以上を満たし、さらに好ましくは、上記（ａ）〜（ｄ）のすべてを満たす。
上記（ａ）における算術平均粗さＳａは、皺欠陥の発生及び虹ムラをより効果的に抑制する観点から、好ましくは０．０６７μｍ以上であり、より好ましくは０．０７０μｍ以上である。算術平均粗さＳａは、通常０．２００μｍ以下であり、光学積層体の内部ヘイズを小さくして透明性を確保し、光線透過率を保持する観点から、好ましくは０．１５０μｍ以下である。
上記（ｂ）における二乗平均平方根高さＳｑは、皺欠陥の発生及び虹ムラをより効果的に抑制する観点から、好ましくは０．０８７μｍ以上であり、より好ましくは０．０９０μｍ以上である。二乗平均平方根高さＳｑは、通常０．２５０μｍ以下であり、光学積層体の内部ヘイズを小さくして透明性を確保し、光線透過率を保持する観点から、好ましくは０．２００μｍ以下である。
上記（ｃ）における界面の展開面積比Ｓｄｒは、皺欠陥の発生及び虹ムラをより効果的に抑制する観点から、好ましくは０．２５％以上であり、より好ましくは０．３％以上である。界面の展開面積比Ｓｄｒは、通常１．２０％以下であり、光学積層体の内部ヘイズを小さくして透明性を確保し、光線透過率を保持する観点から、好ましくは１．１０％以下である。
上記（ｄ）における二法平均平方根傾斜Ｓｄｑは、皺欠陥の発生及び虹ムラをより効果的に抑制する観点から、好ましくは０．０７０以上であり、より好ましくは０．０７２以上である。二法平均平方根傾斜Ｓｄｑは、通常０．１８０以下であり、光学積層体の内部ヘイズを小さくして透明性を確保し、光線透過率を保持する観点から、好ましくは０．１６０以下である。
以下、光学積層体を構成する又は構成し得る要素について説明する。
〔１〕光学フィルム
上述のように、光学フィルム１０は、単層構造のフィルムであってもよいし、多層構造のフィルムであってもよい。
光学フィルム１０としては、例えば、直線偏光板、直線偏光子等を挙げることができる。
〔２〕直線偏光板
直線偏光板は、少なくとも直線偏光子を含む光学素子であり、直線偏光子の少なくとも一方の面に貼合される熱可塑性樹脂フィルム等をさらに含んでいてもよい。直線偏光子とは、無偏光の光を入射させたとき、吸収軸に直交する振動面をもつ直線偏光を透過させる性質を有する光学素子をいう。
直線偏光子は、例えば、ポリビニルアルコール樹脂フィルムを配向させたものに、ヨウ素等の二色性色素を吸着配向させたものであってよい。直線偏光子は、単層のポリビニルアルコール樹脂フィルム（ポリビニルアルコール樹脂フィルムに含まれるポリビニルアルコール分子が配向したもの）に二色性色素が吸着配向したものであってもよく、基材フィルム上に二色性色素が吸着配向したポリビニルアルコール樹脂層を設けた二層以上の積層フィルムであってもよい。このような直線偏光子は、本技術分野で公知の種々の方法によって製造することができる。
単層のポリビニルアルコール樹脂フィルムに二色性色素が吸着配向してなる直線偏光子の厚みは、好ましくは２０μｍ以下であり、より好ましくは１５μｍ以下であり、さらに好ましくは１０μｍ以下である。
直線偏光子は、重合性液晶化合物に二色性色素を配向させ、重合性液晶化合物を重合させた硬化膜であってもよい。該直線偏光子は、通常、熱可塑性樹脂フィルム等からなる基材フィルム、又はこの上に設けられた配向層上に、重合性液晶化合物及び二色性色素を含む組成物を塗工して乾燥し、紫外線等の活性エネルギー線照射により、塗工膜に含まれる重合性液晶化合物を重合させて硬化させることで得ることができる。このようにして得られた基材フィルムと直線偏光子（硬化膜）との積層体は、直線偏光板として用いることができる。
上記の硬化膜を形成するための基材フィルムの厚みは特に限定されないが、一般には強度や取扱い性等の作業性の観点から、好ましくは１μｍ以上３００μｍ以下であり、より好ましくは１０μｍ以上２００μｍ以下であり、さらに好ましくは３０μｍ以上１２０μｍ以下である。
直線偏光板において、直線偏光子の少なくとも一方の面に貼合される熱可塑性樹脂フィルムとしては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン系樹脂；ノルボルネン系ポリマー等の環状ポリオレフィン系樹脂；ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂；ポリ（メタ）アクリル酸メチル等の（メタ）アクリル酸系樹脂；トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース及びセルロースアセテートプロピオネート等のセルロースエステル系樹脂；ポリビニルアルコール及びポリ酢酸ビニル等のビニルアルコール系樹脂；ポリカーボネート系樹脂；ポリスチレン系樹脂；ポリアリレート系樹脂；ポリスルホン系樹脂；ポリエーテルスルホン系樹脂；ポリアミド系樹脂；ポリイミド系樹脂；ポリエーテルケトン系樹脂；ポリフェニレンスルフィド系樹脂；ポリフェニレンオキシド系樹脂、及びこれらの混合物、共重合物等から構成される樹脂フィルムが挙げられる。
上記樹脂のうち、環状ポリオレフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、セルロースエステル系樹脂及び（メタ）アクリル酸系樹脂のいずれか又はこれらの混合物を用いることが好ましい。
なお、「（メタ）アクリル酸」とは、「アクリル酸及びメタクリル酸の少なくとも１種」を意味する。
熱可塑性樹脂フィルムは、樹脂材料を１種又は２種以上を混合した単層であってもよく、２層以上の多層構造を有していてもよい。多層構造を有する場合、各層を構成する樹脂は互いに同じであってもよく異なっていてもよい。
熱可塑性樹脂フィルムには、任意の添加剤が添加されていてもよい。添加剤としては、例えば、紫外線吸収剤、酸化防止剤、滑剤、可塑剤、離型剤、着色防止剤、難燃剤、核剤、帯電防止剤、顔料、及び着色剤等が挙げられる。
熱可塑性樹脂フィルムの厚みは、光学積層体の薄型化及びフレキシブル性の観点及び光学積層体の耐久性の観点から、好ましくは２μｍ以上３００μｍ以下であり、より好ましくは５μｍ以上２００μｍ以下であり、さらに好ましくは５μｍ以上１００μｍ以下であり、なおさらに好ましくは５μｍ以上５０μｍ以下であり、特に好ましくは５μｍ以上３０μｍ以下である。
熱可塑性樹脂フィルムは、接着層を介して直線偏光子に積層することができる。
接着層を形成する接着剤としては、例えば、水系接着剤、活性エネルギー線硬化性接着剤等が挙げられる。
水系接着剤としては、例えばポリビニルアルコール系樹脂水溶液、水系二液型ウレタン系エマルジョン接着剤等を挙げることができる。
活性エネルギー線硬化性接着剤は、紫外線等の活性エネルギー線を照射することによって硬化する接着剤であり、例えば重合性化合物及び光重合性開始剤を含むもの、光反応性樹脂を含むもの、バインダー樹脂及び光反応性架橋剤を含むもの等を挙げることができる。上記重合性化合物としては、光硬化性エポキシ系モノマー、光硬化性（メタ）アクリル系モノマー、光硬化性ウレタン系モノマー等の光重合性モノマーや、これらモノマーに由来するオリゴマー等を挙げることができる。上記光重合開始剤としては、紫外線等の活性エネルギー線を照射して中性ラジカル、アニオンラジカル、カチオンラジカルといった活性種を発生する物質を含むものを挙げることができる。
直線偏光板は、上記以外の他のフィルム又は層をさらに含むことができる。他のフィルム又は層としては、直線偏光板の表面に積層されるプロテクトフィルム；直線偏光板の適宜の位置に配置される反射フィルム、半透過型反射フィルム、光学補償フィルム、防眩機能付きフィルム、位相差フィルム等が挙げられる。
直線偏光板は、好ましくは、図４に示されるような、直線偏光子の一方の面のみに熱可塑性樹脂フィルムを貼合した片保護偏光板である。直線偏光板が片保護偏光板であると、その厚みは薄いものであるので、結果として、光学積層体の厚みを薄くできる。そのため、例えば、本発明の光学積層体を備えた有機ＥＬ表示装置は、屈曲や折曲げ、巻回し等が可能なフレキシブル有機ＥＬ表示装置として適用しやすくなる。
光学フィルム１０が片保護偏光板である場合、光学積層体において直線偏光子は、硬化接着剤層２０ａと接していることが好ましい。
〔３〕硬化接着剤層
硬化接着剤層２０ａは、活性エネルギー線硬化性接着剤の硬化物層である。硬化接着剤層２０ａは、上述の積層工程において形成される活性エネルギー線硬化性接着剤層（接着剤層）２０を硬化工程において硬化させることによって形成することができる。
該活性エネルギー線硬化性接着剤としては、上記〔２〕で述べた活性エネルギー線硬化性接着剤と同様のものを用いることができる。
光学積層体において、硬化接着剤層２０ａの厚みは、通常０．５μｍ以上５０μｍ以下であり、皺欠陥を抑制する観点、光学フィルム１０と位相差層３０との間の接着性の観点、及び得られる光学積層体の薄型化の観点から、好ましくは１μｍ以上３０μｍ以下、より好ましくは２μｍ以上２０μｍ以下である。
〔４〕位相差層
位相差層３０は、重合性液晶化合物の硬化物層である位相差発現層３１を含み、配向層３２をさらに含んでいてもよい。
位相差発現層３１は、重合性液晶化合物を用いて形成したものであり、この重合性液晶化合物としては公知のものを使用できる。重合性液晶化合物の種類は特に限定されず、棒状液晶化合物、円盤状液晶化合物、及びこれらの混合物を用いることができる。逆波長分散性の１／４波長板を形成するための重合性液晶化合物は棒状液晶化合物、例えば、特開２０１１−２０７７６５号公報に記載の重合性液晶化合物であることが好ましい。
重合性液晶化合物及び溶剤、並びに必要に応じて各種添加剤を含む位相差発現層形成用組成物を、配向層３２上に塗布して塗膜を形成し、この塗膜を硬化させることによって、重合性液晶化合物の硬化物層である位相差発現層３１を形成することができる。あるいは、基材フィルム上に位相差発現層形成用組成物を直接塗布して塗膜を形成し、この塗膜を基材フィルムとともに延伸することによって位相差発現層３１を形成してもよい。
位相差発現層３１の厚みは、通常０．１μｍ以上１０μｍ以下であり、好ましくは０．２μｍ以上５μｍ以下である。
位相差発現層形成用組成物は、上記した重合性液晶化合物及び溶剤の他に、重合開始剤、反応性添加剤、レベリング剤、重合禁止剤等を含んでいてもよい。重合性液晶化合物、溶剤、重合開始剤、反応性添加剤、レベリング剤、重合禁止剤等は、公知のものを適宜用いることができる。
位相差発現層形成用組成物及び位相差発現層に含まれていてもよいレベリング剤としては、例えば、有機変性シリコーンオイルを主成分とするレベリング剤、ポリアクリレート化合物を主成分とするレベリング剤、パーフルオロアルキル等のフッ素原子含有化合物を主成分とするレベリング剤等を挙げることができる。主成分とは、レベリング剤に含まれる全成分のうち、最も配合量が多い成分をいう。位相差発現層形成用組成物におけるレベリング剤の含有量は、重合性液晶化合物１００質量部に対して、好ましくは０．０１質量部以上５質量部以下であり、より好ましくは０．１質量部以上３質量部以下である。
位相差層３０に含まれていてもよい配向層３２は、その上に形成される液晶層に含まれる重合性液晶化合物を所望の方向に液晶配向させる配向規制力を有する層である。配向層３２としては、配向性ポリマーで形成された配向性ポリマー層、光配向ポリマーで形成された光配向性ポリマー層、層表面に凹凸パターンや複数のグルブ（溝）を有するグルブ配向層を挙げることができる。
配向層３２の厚みは、通常１０ｎｍ以上５００ｎｍ以下であり、好ましくは１０ｎｍ以上２００ｎｍ以下である。
配向性ポリマー層は、配向性ポリマーを溶剤に溶解した組成物を基材フィルム４１に塗布して溶剤を除去し、必要に応じてラビング処理を施して形成することができる。この場合、配向規制力は、配向性ポリマーの表面状態やラビング条件によって任意に調整することが可能である。
光配向性ポリマー層は、光反応性基を有するポリマー又はモノマーと溶剤とを含む組成物を基材フィルム４１に塗布し、偏光を照射することによって形成することができる。この場合、配向規制力は、光配向性ポリマー層では、光配向性ポリマーに対する偏光照射条件等によって任意に調整することが可能である。
グルブ配向層は、例えば感光性ポリイミド膜表面にパターン形状のスリットを有する露光用マスクを介して露光、現像等を行って凹凸パターンを形成する方法、表面に溝を有する板状の原盤に、活性エネルギー線硬化性樹脂の未硬化の層を形成し、この層を基材フィルム４１に転写して硬化する方法、基材フィルム４１に活性エネルギー線硬化性樹脂の未硬化の層を形成し、この層に、凹凸を有するロール状の原盤を押し当てる等により凹凸を形成して硬化させる方法等によって形成することができる。
基材フィルム４１としては、上述の熱可塑性樹脂フィルムと同様の構成を有する樹脂フィルムを用いることができる。
基材フィルム４１の厚みは特に限定されないが、一般には強度や取扱い性等の作業性の観点から、好ましくは１μｍ以上３００μｍ以下であり、より好ましくは１０μｍ以上２００μｍ以下であり、さらに好ましくは３０μｍ以上１２０μｍ以下である。
基材フィルム４１には、任意の添加剤が添加されていてもよい。添加剤としては、例えば、紫外線吸収剤、酸化防止剤、滑剤、可塑剤、離型剤、着色防止剤、難燃剤、核剤、帯電防止剤、顔料、及び着色剤等が挙げられる。
〔５〕位相差層積層体
上述のように、光学積層体の製造方法に係る第１実施形態の積層工程及び第２実施形態の準備工程では、位相差層３０として、位相差層３０と他の位相差層とを含む位相差層積層体とを含む位相差層積層体を用いてもよい。
図５は、位相差積層体の層構成の一例を示す概略断面図である。図５に示される位相差積層体は、基材フィルム４１、配向層３２、位相差発現層３１、接着層６１、位相差発現層７１、配向層７２、基材フィルム４２をこの順に含む。図５に示される位相差積層体において、位相差発現層３１及び配向層３２が、光学積層体において光学フィルム１０と硬化接着剤層２０ａを介して貼合される位相差層３０となり得る。
図５に示される位相差積層体において、配向層３２及び配向層７２の少なくともいずれか一方を有していなくてもよい。
図５に示される位相差積層体において、位相差発現層３１と位相差発現層７１との組み合わせは、例えば、１／２波長板と１／４波長板との組み合わせ、又は、逆波長分散性の１／４波長板とポジティブＣプレートとの組み合わせである。
１／２波長板と１／４波長板との組み合わせである場合において、光学積層体において光学フィルム１０により近い側に配置される位相差発現層３１が１／２波長板であることが好ましい。
光学積層体の製造方法に係る第１実施形態又は第２実施形態の積層工程において図５に示される位相差積層体が使用される場合、該位相差積層体は、基材フィルム４１が剥離された後に、接着剤層２０を介して光学フィルム１０に積層される。
図６は、光学積層体の製造方法に係る第１実施形態又は第２実施形態の積層工程において図５に示される位相差積層体を使用したときに製造される光学積層体の層構成の一例を示す概略断面図である。図６に示される光学積層体において、配向層３２及び配向層７２の少なくともいずれか一方を有していなくてもよい。
図５に示される位相差積層体は、例えば、基材フィルム４１／配向層３２／位相差発現層３１の層構成を有する積層体と、基材フィルム４２／配向層７２／位相差発現層７１の層構成を有する積層体とを作製又は用意し、これらの積層体を接着層６１を介して貼合することによって製造することができる。
接着層６１を形成する接着剤としては、例えば、水系接着剤、活性エネルギー線硬化性接着剤等が挙げられる。これらの接着剤としては、直線偏光子と熱可塑性樹脂フィルムとの貼合に用いることができる上述の接着剤と同様のものを用いることができる。
接着層６１として、粘着剤層を用いることもできる。粘着剤層を形成する粘着剤組成物としては、（メタ）アクリル系樹脂、スチレン系樹脂、シリコーン系樹脂等をベースポリマーとし、イソシアネート化合物、エポキシ化合物、アジリジン化合物等の架橋剤を加えた組成物を挙げることができる。
接着層６１は、皺欠陥の発生をより効果的に抑制する観点から、好ましくは、紫外線硬化性接着剤等の活性エネルギー線硬化型接着剤の硬化物層である。
〔６〕粘着剤層
光学積層体は、粘着剤層をさらに含むことができる。図７は、粘着剤層８０を有する光学積層体の層構成の一例を示す概略断面図である。
図７に示される光学積層体は、例えば、図６に示される光学積層体から基材フィルム４２を剥離し、その剥離面に粘着剤層を積層することによって製造することができる。粘着剤層の外側の面にセパレートフィルムを積層してもよい。
以下、実施例及び比較例を示して本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらの例によって限定されるものではない。
＜実施例１＞
（１）直線偏光板の作製
ポリビニルアルコール系樹脂フィルムにヨウ素を吸着・配向させてなる一軸延伸フィルムである直線偏光子〔厚み：８μｍ〕を準備した。
上記直線偏光子の一方の面にポリビニルアルコール系接着剤を介して第１熱可塑性樹脂フィルムを積層するとともに、上記直線偏光子の他方の面に第２熱可塑性樹脂フィルムを積層し、一対の貼合ロール間に通して、第１熱可塑性樹脂フィルム／ポリビニルアルコール系接着剤層／直線偏光子／第２熱可塑性樹脂フィルムの層構成を有する積層体を得た。直線偏光子と第２熱可塑性樹脂フィルムとの間には接着剤は介在しておらず、第２熱可塑性樹脂フィルムは、剥離可能に直線偏光子に積層されている。
第１熱可塑性樹脂フィルム及び第２熱可塑性樹脂フィルムとしては下記のものを用いた。
・第１熱可塑性樹脂フィルム：日本製紙（株）製のクリアハードコートフィルムである商品名「ＣＯＰ２０ＳＴ−ＨＣ」（環状ポリオレフィン系樹脂フィルム上にクリアハードコート層が形成されているフィルム、厚み：２５μｍ）
・第２熱可塑性樹脂フィルム：富士フイルム（株）製のトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルムである商品名「フジタック」（厚み：８０μｍ）
得られた積層体に対して、熱風乾燥機を用いて８０℃、３００秒間の加熱処理を行うことによりポリビニルアルコール系接着剤層を乾燥させて直線偏光板を得た。
（２）位相差層積層体の作製
下記に示す位相差フィルム１及び２、並びに、活性エネルギー線硬化性接着剤１を用意した。
・１／２波長板である位相差フィルム１：富士フイルム（株）製の商品名「ＱＬ ＦＩＬＭ ＱＬ ＡＡ ３１８」（厚み８０μｍのＴＡＣフィルムである基材フィルム１と、その上に形成される配向層１と、その上に形成される重合性液晶化合物の硬化物層（単層）である位相差発現層１（面内位相差値２３５ｎｍ）とから構成される総厚み２μｍの位相差フィルム）
・１／４波長板である位相差フィルム２：富士フイルム（株）製の商品名「ＱＬ ＦＩＬＭ ＱＬ ＡＢ ３１８」（厚み８０μｍのＴＡＣフィルムである基材フィルム２と、その上に形成される配向層２と、その上に形成される重合性液晶化合物の硬化物層（単層）である位相差発現層２（面内位相差値１２０ｎｍ）とから構成される総厚み１μｍの位相差フィルム）
・活性エネルギー線硬化性接着剤１：カチオン重合性の紫外線硬化性高屈折率接着剤
位相差フィルム１が有する位相差発現層１の表面及び位相差フィルム２が有する位相差発現層２の表面にコロナ処理を施した。これらの位相差フィルムのそれぞれのコロナ処理面に上記活性エネルギー線硬化性接着剤１をバーコータを用いて、接着剤層の硬化後の総厚みが１．５μｍとなるように塗布した後、位相差フィルム１及び位相差フィルム２を重ね合わせ、一対の貼合ロール間に通して、基材フィルム１／配向層１／位相差発現層１／活性エネルギー線硬化性接着剤１の層／位相差発現層２／配向層２／基材フィルム２の層構成を有する積層体を得た。
得られた積層体に対し、紫外線照射装置（ランプはフュージョンＵＶシステムズ社製の「Ｄバルブ」を使用〕を用いて積算光量が２５０ｍＪ／ｃｍ２（ＵＶＢ））となるように紫外線を照射することによって活性エネルギー線硬化性接着剤１の層を硬化させて、位相差層積層体を得た。
（３）光学積層体１の作製
上記（１）で得られた直線偏光板が有する第２熱可塑性樹脂フィルムを剥離するとともに、上記（２）で得られた位相差層積層体が有する基材フィルム１を配向層１とともに２５ｍ／分の剥離速度で剥離した。基材フィルム１が剥離される位相差層積層体に対する基材フィルム１の剥離角度は１８０度とした。
第２熱可塑性樹脂フィルムの剥離によって露出した直線偏光子の表面及び基材フィルム１の剥離によって露出した位相差発現層１の表面にコロナ処理を施した。
なお、配向層１は、基材フィルム１とともに剥離除去された。
直線偏光板及び位相差層積層体のそれぞれのコロナ処理面に活性エネルギー線硬化性接着剤２をバーコータを用いて、接着剤層の硬化後の総厚みが２μｍとなるように塗布した後、直線偏光板及び位相差層積層体を重ね合わせ、一対の貼合ロール間に通して、第１熱可塑性樹脂フィルム／ポリビニルアルコール系接着剤層／直線偏光子／活性エネルギー線硬化性接着剤２の層／位相差発現層１／活性エネルギー線硬化性接着剤１の硬化物層／位相差発現層２／配向層２／基材フィルム２の層構成を有する積層体を得た。
活性エネルギー線硬化性接着剤２としては下記のものを用いた。
・活性エネルギー線硬化性接着剤２：カチオン重合性の紫外線硬化性接着剤
得られた積層体を恒温恒湿槽に入れ、温度４０℃の環境下で５時間保持（静置）した（保持工程）。保持工程における相対湿度は５５％ＲＨであった（他の実施例及び比較例も同じ）。
その後、積層体に対し、紫外線照射装置（ランプはフュージョンＵＶシステムズ社製の「Ｈバルブ」を使用〕を用いて積算光量が４００ｍＪ／ｃｍ２（ＵＶＢ））となるように紫外線を照射することによって活性エネルギー線硬化性接着剤２の層を硬化させて、光学積層体１を得た。紫外線照射時の環境は、温度２３℃相対湿度５５％ＲＨとした（他の実施例及び比較例も同じ）。
得られた光学積層体１は、直線偏光子の吸収軸ＰＬに対する位相差発現層１（１／２波長板）の進相軸ＳＬ１の角度が７５°であり、位相差発現層２（１／４波長板）の進相軸ＳＬ２の角度が１５°であった。この光学積層体１は、円偏光板として機能するものであった。
（４）光学積層体２の作製（光学積層体１への粘着剤層の積層）
下記に示すシート状粘着剤１を用意した。
・シート状粘着剤１：転写型ノンキャリアフィルム（（メタ）アクリル系粘着剤層〔厚み：１５μｍ〕と、その一方の面に積層される軽剥離性フィルムと、その他方の面に積層される重剥離性フィルムとを有する積層フィルム）
上記（３）で得られた光学積層体１が有する基材フィルム２を配向層２とともに剥離するとともに、シート状粘着剤１が有する軽剥離性フィルムを剥離した。基材フィルム２の剥離によって露出した位相差発現層２の表面及び軽剥離性フィルムの剥離によって露出した粘着剤層の表面にコロナ処理を施した。
なお、配向層２は、基材フィルム２とともに剥離除去された。
光学積層体１及びシート状粘着剤１を重ね合わせ、一対の貼合ロール間に通して、第１熱可塑性樹脂フィルム／ポリビニルアルコール系接着剤層／直線偏光子／活性エネルギー線硬化性接着剤２の硬化物層／位相差発現層１／活性エネルギー線硬化性接着剤１の硬化物層／位相差発現層２／粘着剤層／重剥離性フィルムの層構成を有する光学積層体２を得た。
＜実施例２＞
保持工程において、積層体を恒温恒湿槽を内壁に貼付し、周波数１０Ｈｚ、振幅１ｍｍの振動環境下で５時間保持（静置）したこと以外は実施例１と同様にして光学積層体１を作製した。保持工程における温度環境は２３℃であった。また、この光学積層体１を用いたこと以外は実施例１と同様にして光学積層体２を作製した。
＜実施例３＞
保持工程において、積層体を恒温恒湿槽に入れ、温度２３℃の環境下で３日間保持（静置）したこと以外は実施例１と同様にして光学積層体１を作製した。保持工程における相対湿度は５５％ＲＨであった。また、この光学積層体１を用いたこと以外は実施例１と同様にして光学積層体２を作製した。
＜実施例４＞
（１）直線偏光板の作製
実施例１と同様にして直線偏光板を作製した。
（２）位相差層積層体の作製
実施例１と同様にして位相差層積層体を作製した。
（３）光学積層体１の作製
上記（１）で得られた直線偏光板が有する第２熱可塑性樹脂フィルムを配向層１とともに剥離するとともに、上記（２）で得られた位相差層積層体が有する基材フィルム１を９０ｍ／分の剥離速度で剥離した。基材フィルム１が剥離される位相差層積層体に対する基材フィルム１の剥離角度は１８０度とした。
これ以降は、保持工程を実施しなかったこと以外は実施例１と同様にして光学積層体１を作製した。
（４）光学積層体２の作製（光学積層体１への粘着剤層の積層）
上記（３）で得られた光学積層体１を用いたこと以外は実施例１と同様にして光学積層体２を作製した。
＜比較例１＞
保持工程において、積層体を恒温恒湿槽に入れ、温度２３℃の環境下で５時間保持（静置）したこと以外は実施例１と同様にして光学積層体１を作製した。保持工程における相対湿度は５５％ＲＨであった。また、この光学積層体１を用いたこと以外は実施例１と同様にして光学積層体２を作製した。
＜比較例２＞
保持工程を実施することになく、第１熱可塑性樹脂フィルム／ポリビニルアルコール系接着剤層／直線偏光子／活性エネルギー線硬化性接着剤２の層／位相差発現層１／活性エネルギー線硬化性接着剤１の硬化物層／位相差発現層２／基材フィルム２の層構成を有する積層体を得た後、すぐさま紫外線を照射することによって活性エネルギー線硬化性接着剤２の層を硬化させたこと以外は実施例１と同様にして光学積層体１を作製した。また、この光学積層体１を用いたこと以外は実施例１と同様にして光学積層体２を作製した。
＜比較例３＞
（１）粘着剤層付直線偏光板の作製
実施例１と同様にして直線偏光板を作製した。
また、下記に示すシート状粘着剤２を用意した。
・シート状粘着剤２：転写型ノンキャリアフィルム（（メタ）アクリル系粘着剤層〔厚み：５μｍ〕と、その一方の面に積層される軽剥離性フィルムと、その他方の面に積層される重剥離性フィルムとを有する積層フィルム）
直線偏光板が有する第２熱可塑性樹脂フィルムを剥離するとともに、シート状粘着剤２が有する軽剥離性フィルムを剥離した。第２熱可塑性樹脂フィルムの剥離によって露出した直線偏光子の表面及び軽剥離性フィルムの剥離によって露出した粘着剤層の表面にコロナ処理を施した。
その後、直線偏光子の表面（コロナ処理面）に軽剥離性フィルムが剥離されたシート状粘着剤２をそのコロナ処理面側で積層して、第１熱可塑性樹脂フィルム／ポリビニルアルコール系接着剤層／直線偏光子／粘着剤層／重剥離性フィルムの層構成を有する粘着剤層付直線偏光板を得た。
（２）位相差層積層体の作製
実施例１と同様にして位相差層積層体を作製した。
（３）光学積層体１の作製
上記（１）で得られた粘着剤層付直線偏光板が有する重剥離性フィルムを剥離するとともに、上記（２）で得られた位相差層積層体が有する基材フィルム１を配向層１とともに２５ｍ／分の剥離速度で剥離した。基材フィルム１が剥離される位相差層積層体に対する基材フィルム１の剥離角度は１８０度とした。
重剥離性フィルムの剥離によって露出した粘着剤層の表面及び基材フィルム１の剥離によって露出した位相差発現層１の表面にコロナ処理を施した。
なお、配向層１は、基材フィルム１とともに剥離除去された。
その後、粘着剤層付直線偏光板のコロナ処理面に位相差層積層体をそのコロナ処理面側で積層して、第１熱可塑性樹脂フィルム／ポリビニルアルコール系接着剤層／直線偏光子／粘着剤層／位相差発現層１／活性エネルギー線硬化性接着剤１の硬化物層／位相差発現層２／基材フィルム２の層構成を有する光学積層体１を得た。
（４）光学積層体２の作製（光学積層体１への粘着剤層の積層）
上記（３）で得られた光学積層体１を用いたこと以外は実施例１と同様にして光学積層体２を作製した。
［測定・評価］
（１）面粗さの測定
光学積層体２から直線偏光子の吸収軸を長さ方向とする長さ５０ｍｍ（長辺）、幅１５ｍｍの矩形状の積層体片を切り出し、重剥離性フィルムを剥離して粘着剤層を露出させ、露出した粘着剤層でアクリル板（黒色）に貼り付けて試験片〔第１熱可塑性樹脂フィルム／ポリビニルアルコール系接着剤層／直線偏光子／活性エネルギー線硬化性接着剤２の硬化物層／位相差発現層１／活性エネルギー線硬化性接着剤１の硬化物層／位相差発現層２／粘着剤層／アクリル板（黒色）の層構成を有する。〕とした。この試験片に第１熱可塑性樹脂フィルム側から光を当てて、ＩＳＯ ２５１７８に準拠し、走査型白色干渉顕微鏡「ＶｅｒｔＳｃａｎ」（日立はテクサイエンス社製）により層断面解析モードで、光学積層体１が有する位相差層（位相差発現層１）における直線偏光子側の表面の算術平均粗さＳａ、二乗平均平方根高さＳｑ、界面の展開面積比Ｓｄｒ、及び、二法平均平方根傾斜Ｓｄｑを測定した。結果を表１に示す。測定条件は以下のとおりであった。
カメラ ：ソニー社製「ＸＣＬ−３２」
対物レンズ ：５ＣＴＩ
鏡胴 ：１．０Ｘ
ズームレンズ：１Ｘ
光源 ：５３０Ｗｈｉｔｅ
測定デバイス：ピエゾ
測定モード ：Ｗａｖｅ
（２）皺欠陥の評価
光学積層体１から、直線偏光子の吸収軸を長さ方向とする長さ５０ｍｍ（長辺）、幅１５ｍｍ（短辺）の試験片（矩形）を切り出した。
図８に示すように、この試験片（Ｓ）を２つの短辺（Ｓ１）同士が互いに向き合うように湾曲させて長辺方向中央部に湾曲部（Ｃ）を形成し、この状態を保ちながら互いに平行に配置された２枚のガラス板（平板状）（Ｇ）の間に保持しながら、２枚のガラス板（Ｇ）の間隔を縮小することにより試験片の湾曲部の曲率直径（Ｒ）が１０ｍｍとなるまで狭める縮小工程と、次いで湾曲状態が解消するまで２枚のガラス板の間隔を拡げる拡張工程とを１０回繰り返す１０ｍｍ屈曲試験を行った。なお、試験片（Ｓ）の２つの短辺（Ｓ１）はそれぞれガラス板（Ｇ）に固定した。
１０ｍｍ屈曲試験後に試験片に皺欠陥が生じなかった場合は、同じ試験片について更に屈曲部の曲率直径Ｒを５ｍｍとすること以外は上記と同様に縮小工程と拡張工程とを１０回繰り返す５ｍｍ屈曲試験を行った。
５ｍｍ屈曲試験後に試験片に皺欠陥が生じなかった場合は、同じ試験片について更に屈曲部の曲率直径Ｒを４ｍｍとすること以外は上記と同様に縮小工程と拡張工程とを１０回繰り返す４ｍｍ屈曲試験を行った。
４ｍｍ屈曲試験後に試験片に皺欠陥が生じなかった場合は、同じ試験片について更に屈曲部の曲率直径Ｒを３ｍｍとすること以外は上記と同様に縮小工程と拡張工程とを１０回繰り返す３ｍｍ屈曲試験を行った。
３ｍｍ屈曲試験後に試験片に皺欠陥が生じなかった場合は、同じ試験片について更に屈曲部の曲率直径Ｒを２ｍｍとすること以外は上記と同様に縮小工程と拡張工程とを１０回繰り返す２ｍｍ屈曲試験を行った。
試験片における心棒への巻き掛け部分を目視にて観察し、皺欠陥の生じにくさを下記の基準に従って評価した。結果を表１に示す。
Ａ：１０ｍｍ屈曲試験からスタートし、２ｍｍ屈曲試験を終えても皺欠陥が認められない。
Ｂ：１０ｍｍ屈曲試験からスタートし、３ｍｍ屈曲試験を終えても皺欠陥は認められなかったが、引き続き２ｍｍ屈曲試験を行うと、皺欠陥が発生した。
Ｃ：１０ｍｍ屈曲試験からスタートし、４ｍｍ屈曲試験を終えても皺欠陥は認められなかったが、引き続き３ｍｍ屈曲試験を行うと、皺欠陥が発生した。
なお、各試験片における直線偏光子の吸収軸（ＰＬ）、位相差発現層１の進相軸（ＳＬ１）及び位相差発現層２の進相軸（ＳＬ２）は、直線偏光子側から見て図９に示すとおりであった。すなわち、第１熱可塑性樹脂フィルム側（直線偏光子側）から見て左回りを正（＋）として、吸収軸（ＰＬ）は短辺に対して＋１３５°、進相軸（ＳＬ１）は短辺に対して＋６０°、進相軸（ＳＬ２）は短辺に対して＋１２０°であった。各試験片は円偏光板として機能するものである。
（３）虹ムラの評価
光学積層体２から、縦１００ｍｍ×横１００ｍｍのサイズの試験片（矩形）を切り出した。この試験片から重剥離性フィルムを剥離し、露出した粘着剤層を用いて平坦な黒色アクリル板に貼合した。また、光学積層体２の最上層である第１熱可塑性樹脂フィルム上に水膜を介してガラス板〔コーニング社製の無アルカリガラス「イーグルＸＧ」、厚み０．７ｍｍ〕を積層し、評価用積層体とした。
得られた評価用積層体を蛍光灯の点いた室内に置いた。蛍光灯の位置は、黒色アクリル板から２５０ｍｍの高さとした。この状態で、蛍光灯からの光の反射光を評価用積層体の表面（ガラス板側の表面）側から目視で観察し、虹ムラの生じにくさを下記の基準に従って評価した。結果を表１に示す。蛍光灯からの光の反射光とは、光学積層体２の内部に入射した蛍光灯からの光が各層の界面で反射することによってガラス板側から出射する光を意味している。
Ａ：反射光に虹ムラが認められない。
Ｂ：反射光にごくわずかに虹ムラが認められる。
Ｃ：反射光に虹ムラが認められる（Ｂよりも明確に虹ムラが認められる）。
Figure 2021099436
１０ 光学フィルム、２０ 活性エネルギー線硬化性接着剤層（接着剤層）、２０ａ 硬化接着剤層、３０ 位相差層、３１，７１ 位相差発現層、３２，７２ 配向層、４１，４２ 基材フィルム、５０ 直線偏光子、５１，６１ 接着層、５２ 熱可塑性樹脂フィルム、８０ 粘着剤層。

Claims (7)

  1. 光学積層体の製造方法であって、
    前記光学積層体は、光学フィルムと、活性エネルギー線硬化性接着剤の硬化物層である硬化接着剤層と、重合性液晶化合物の硬化物層を含む位相差層とをこの順に備え、
    前記製造方法は、
    前記光学フィルムと、活性エネルギー線硬化性接着剤層と、前記位相差層とを、前記活性エネルギー線硬化性接着剤層と前記位相差層とが接するように積層する工程と、
    下記（１）〜（３）：
    （１）３０℃以上の温度で２時間以上保持する、
    （２）振動条件下で２時間以上保持する、
    （３）４８時間以上保持する
    のいずれか１以上を満たす条件下で保持する工程と、
    前記活性エネルギー線硬化性接着剤層を硬化させて前記硬化接着剤層を形成する工程と、
    をこの順に含む、光学積層体の製造方法。
  2. 光学積層体の製造方法であって、
    前記光学積層体は、光学フィルムと、活性エネルギー線硬化性接着剤の硬化物層である硬化接着剤層と、重合性液晶化合物の硬化物層を含む位相差層とをこの順に備え、
    前記製造方法は、
    基材フィルムと、これに接して積層される前記位相差層とを含む積層体を用意する工程と、
    ５０ｍ／分以上の剥離速度で前記位相差層から前記基材フィルムを剥離する工程と、
    前記基材フィルムを剥離した後の前記位相差層の剥離面に、活性エネルギー線硬化性接着剤層を介して光学フィルムを積層する工程と、
    前記活性エネルギー線硬化性接着剤層を硬化させて前記硬化接着剤層を形成する工程と、
    をこの順に含む、光学積層体の製造方法。
  3. 前記光学フィルムが直線偏光子を含む、請求項１又は２に記載の光学積層体の製造方法。
  4. 前記積層工程において、前記光学フィルムと、活性エネルギー線硬化性接着剤層と、前記位相差層とを、前記直線偏光子と前記活性エネルギー線硬化性接着剤層とが接するように積層する、請求項３に記載の光学積層体の製造方法。
  5. 光学フィルムと、活性エネルギー線硬化性接着剤の硬化物層である硬化接着剤層と、重合性液晶化合物の硬化物層を含む位相差層とをこの順に備え、
    前記硬化接着剤層と前記位相差層とは接しており、
    前記位相差層における前記硬化接着剤層側の表面は、下記（ａ）〜（ｄ）：
    （ａ）算術平均粗さＳａが０．０６５μｍ以上である、
    （ｂ）二乗平均平方根高さＳｑが０．０８５μｍ以上である、
    （ｃ）界面の展開面積比Ｓｄｒが０．２％以上である、
    （ｄ）二法平均平方根傾斜Ｓｄｑが０．０６５以上である
    のいずれか１以上を満たす、光学積層体。
  6. 前記光学フィルムが直線偏光子を含む、請求項５に記載の光学積層体。
  7. 前記直線偏光子と前記硬化接着剤層とが接している、請求項６に記載の光学積層体。
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