TW202126489A - 光學積層體的製造方法 - Google Patents

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加藤慎也
出崎光
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Abstract

本發明提供一種用以製造光學積層體的方法，該光學積層體具備光學膜與包含聚合性液晶化合物之硬化物層的相位差層，即使以小的曲率半徑使該光學積層體彎曲，亦不易產生皺褶缺陷。
本發明之光學積層體的製造方法中，該光學積層體依序具備光學膜、屬於活性能量線硬化性接著劑之硬化物層的硬化接著劑層、以及包含聚合性液晶化合物之硬化物層的相位差層，而該製造方法依序具備下列步驟：
以活性能量線硬化性接著劑層與相位差層相接的方式，將光學膜、活性能量線硬化性接著劑層及相位差層積層的步驟；
在滿足下述任一項以上的條件下進行保持的步驟：
(1)於30℃以上的溫度保持2小時以上；
(2)於振動條件下保持2小時以上；
(3)保持48小時以上；及
使活性能量線硬化性接著劑層硬化而形成硬化接著劑層的步驟。

Description

光學積層體的製造方法
本發明係關於一種光學積層體的製造方法，亦關於光學積層體。
有機EL顯示裝置等的影像顯示裝置中，以防止金屬電極所造成的外部光線反射等為目的，有時會使用將偏光元件(直線偏光片)與相位差層組合而成的光學積層體(橢圓偏光板)。例如，日本特開2018-017996號公報(專利文獻1)中記載下述內容：隔著紫外線硬化性接著劑層將偏光元件與由聚合性液晶化合物形成的相位差層積層，藉由照射紫外線使該接著劑層硬化，以製造橢圓偏光板。
[先前技術文獻]
[專利文獻]
[專利文獻1]日本特開2018-017996號公報
藉由使用活性能量線硬化性接著劑或黏著劑(pressure-sensitive adhesive agent，亦稱為感壓性接著劑)將包含偏光元件的光學膜等與由聚合性液晶化合物所形成之相位差層接著所製作的以往的光學積層體，若以曲率半徑逐漸變小的方式使其彎曲，即使在曲率半徑較大的階段，仍會有容易在上述相位差層中產生微細皺褶(以下亦稱為「皺褶缺陷」)的傾向。考量到應用於可彎曲、甚至可彎折的影像顯示裝置等情況，要求上述光學積層體即使以小的曲率半徑使其彎曲亦不易產生皺褶缺陷。
本發明提供一種光學積層體，其具備光學膜與包含聚合性液晶化合物之硬化物層的相位差層，即使以小的曲率半徑使該光學積層體彎曲，亦不易產生皺褶缺陷，並提供該光學積層體的製造方法。
本發明提供下列所示的光學積層體的製造方法及光學積層體。
[1]一種光學積層體的製造方法，其中，
前述光學積層體依序具備光學膜、屬於活性能量線硬化性接著劑之硬化物層的硬化接著劑層、及包含聚合性液晶化合物之硬化物層的相位差層；
其中，前述製造方法依序包含下列步驟：
以前述活性能量線硬化性接著劑層與前述相位差層相接的方式，將前述光學膜、活性能量線硬化性接著劑層及前述相位差層積層的步驟；
在滿足下述(1)至(3)中任一項以上的條件下進行保持的步驟：
(1)於30℃以上的溫度保持2小時以上；
(2)於振動條件下保持2小時以上；
(3)保持48小時以上；及
使前述活性能量線硬化性接著劑層硬化而形成前述硬化接著劑層的步驟。
[2]一種光學積層體的製造方法，其中，
前述光學積層體依序具備光學膜、屬於活性能量線硬化性接著劑之硬化物層的硬化接著劑層、及包含聚合性液晶化合物之硬化物層的相位差層；
其中，前述製造方法依序包含下列步驟：
準備包含基材膜及與其相接而積層之前述相位差層的積層體的步驟；
以50m/分鐘以上的剝離速度從前述相位差層將前述基材膜剝離的步驟；
在將前述基材膜剝離後的前述相位差層之剝離面上隔著活性能量線硬化性接著劑層積層光學膜的步驟；及
使前述活性能量線硬化性接著劑層硬化而形成前述硬化接著劑層的步驟。
[3]如[1]或[2]所述之光學積層體的製造方法，其中前述光學膜包含直線偏光片。
[4]如[3]所述之光學積層體的製造方法，其中在前述積層步驟中，係以前述直線偏光片與前述活性能量線硬化性接著劑層相接的方式將前述光學膜、活性能量線硬化性接著劑層及前述相位差層積層。
[5]一種光學積層體，依序具備光學膜、屬於活性能量線硬化性接著劑之硬化物層的硬化接著劑層、包含聚合性液晶化合物之硬化物層的相位差層；
其中，前述硬化接著劑層與前述相位差層相接；
前述相位差層中的前述硬化接著劑層側的表面滿足下述(a)至(d)中任一項以上：
(a)算術平均粗糙度Sa在0.065μm以上；
(b)均方根高度Sq在0.085μm以上；
(c)界面的展開面積比Sdr在0.2%以上；
(d)均方根斜率Sdq在0.065以上。
[6]如[5]所述之光學積層體，其中前述光學膜包含直線偏光片。
[7]如[6]所述之光學積層體，其中前述直線偏光片與前述硬化接著劑層相接。
本發明可提供一種光學積層體以及該光學積層體的製造方法，其中，該光學積層體具備光學膜與包含聚合性液晶化合物之硬化物層的相位差層，即使以小的曲率半徑使該光學積層體彎曲，亦不易產生皺褶缺陷。
10:光學膜
20:活性能量線硬化性接著劑層(接著劑層)
20a:硬化接著劑層
30:相位差層
31:相位差呈現層
32:配向層
41,42:基材膜
50:直線偏光片
51,61:接著層
52:熱塑性樹脂膜
71:相位差呈現層
72:配向層
80:黏著劑層
X,Xa:表面
C:彎曲部
G:玻璃板
R:曲率直徑
S:試片
S1:短邊
PL:吸收軸
SL1,SL2:快軸
圖1係顯示由實施型態1中的積層步驟所得之積層體的層構成之一例的剖面示意圖。
圖2係顯示光學積層體的層構成之一例的剖面示意圖。
圖3係顯示由實施型態2中的準備步驟所準備之積層體的層構成之一例的剖面示意圖。
圖4係顯示直線偏光板的層構成之一例的剖面示意圖。
圖5係顯示相位差積層體的層構成之一例的剖面示意圖。
圖6係顯示光學積層體的層構成之其他例的剖面示意圖。
圖7係顯示光學積層體的層構成的又其他例的剖面示意圖。
圖8係說明皺褶缺陷之評估方法的示意圖。
圖9係說明光學積層體中的吸收軸及慢軸之方向的示意圖。
<光學積層體的製造方法>
根據本發明之製造方法所製造的光學積層體，依序具備光學膜、屬於活性能量線硬化性接著劑之硬化物層的硬化接著劑層(以下亦僅稱為「硬化接著劑層」)及包含聚合性液晶化合物之硬化物層的相位差層(以下亦僅稱為「相位差層」)。
根據本發明之製造方法所製造的光學積層體可適當地應用於有機EL顯示裝置等的影像顯示裝置。
以下，參照圖式說明本發明之光學積層體的製造方法的實施型態。以下所示的各實施型態亦可任意組合。圖式皆為示意圖，有時並未顯示出實際的尺寸。
以下所示的各實施型態中，可使用長條物作為各步驟中所使用的膜或層而連續地進行各步驟，亦可使用單片物作為各步驟中所使用的膜或層而非連續地進行各步驟。單片物亦可由長條物裁切而成。
[實施型態1]
本實施型態之光學積層體的製造方法依照下述記載順序包含下列步驟：
以活性能量線硬化性接著劑層與相位差層相接的方式將光學膜、活性能量線硬化性接著劑層、及包含聚合性液晶化合物之硬化物層的相位差層積層的步驟[積層步驟]；
在滿足下述(1)至(3)中任一項以上的條件下進行保持的步驟[保持步驟]：
(1)於30℃以上的溫度保持2小時以上；
(2)於振動條件下保持2小時以上；
(3)保持48小時以上；及
使活性能量線硬化性接著劑層硬化而形成硬化接著劑層的步驟[硬化步驟]。
[1]積層步驟
圖1係顯示由本實施型態中的積層步驟所得之積層體的層構成之一例的剖面示意圖。積層步驟係隔著活性能量線硬化性接著劑層20(以下亦僅稱為「接著劑層」)將光學膜10與相位差層30積層的步驟。於本說明書中，活性能量線硬化性接著劑層係指由活性能量線硬化性接著劑所構成之層。可使用具有將相位差層30及光學膜10接著之能力者作為活性能量線硬化性接著劑。
積層步驟中，光學膜10、接著劑層20與相位差層30係以接著劑層20與相位差層30相接的方式積層。又，光學膜10、接著劑層20與相位差層30較佳係以光學膜10與接著劑層20相接的方式積層。
在選自光學膜10之接著面及相位差層30之接著面中的1個以上的面上形成接著劑層20，隔著接著劑層20將光學膜10與相位差層30積層，藉此可實施積層步驟。藉由習知的塗布方法將活性能量線硬化性接著劑塗布於接著面，藉此可形成接著劑層20。
由積層步驟所得之積層體中，接著劑層20的厚度通常為0.5μm以上50μm以下，從抑制皺褶缺陷的觀點、光學膜10與相位差層30之間的接著性的觀點、及所得之光學積層體薄化的觀點來看，較佳為1μm以上30μm以下，更佳為2μm以上20μm以下。
在選自光學膜10之接著面及相位差層30之接著面中的1個以上的面，於形成接著劑層20之前，亦可預先進行電漿處理、電暈處理、紫外線照射處理、火焰(flame)處理、皂化處理之類的表面活性化處理。藉由此表面活性化處理，可提高光學膜10與相位差層30的接著性。
光學膜10可為單層結構的膜，亦可為多層結構的膜。作為光學膜10，可列舉例如：直線偏光板等。
本說明書中直線偏光板係至少包含直線偏光片的光學元件，亦可包含直線偏光片與貼合於其至少一面上的熱塑性樹脂膜等。
光學膜10為直線偏光板的情況，由積層步驟所得之積層體中，較佳係直線偏光板所包含的直線偏光片與接著劑層20相接。
後述<光學積層體>的項目中會詳細說明光學膜10及活性能量線硬化性接著劑。
相位差層30包含聚合性液晶化合物之硬化物層，顯示出與該層的形成中所使用之液晶化合物的種類相應的光學異向性。以下，亦將此聚合性液晶化合物的硬化物層稱為「相位差呈現層」。
本說明書中，相位差層30可由相位差呈現層所構成，亦可包含相位差呈現層與配向層。
積層步驟中，在隔著接著劑層20而與光學膜10貼合的相位差層30上，亦可在積層步驟之前預先積層其他一層或二層以上的層。例如，亦可預先製作包含相位差層30與其他相位差層的相位差層積層體，再將該相位差層積層體隔著接著劑層20貼合於光學膜10。
後述<光學積層體>的項目中會詳細說明相位差層、相位差呈現層、配向層及相位差層積層體等。
[2]保持步驟
保持步驟，係在特定條件下保持由積層步驟所得之積層體的步驟。
保持時的具體態樣並未特別限制，可列舉：在上述特定條件下將上述積層體靜置。
所謂的在上述特定條件下，係指在滿足下述(1)至(3)中任一項以上的條件下：
(1)於30℃以上的溫度保持2小時以上；
(2)於振動條件下保持2小時以上；
(3)保持48小時以上。
根據包含上述積層步驟及保持步驟的本實施型態之製造方法，可製造出即使以小的曲率半徑使其彎曲亦不易產生皺褶缺陷的光學積層體。其理由推論如下。
藉由積層步驟而成為相位差層30與硬化前的接著劑層20接觸的狀態，在後續的保持步驟中於上述特定條件下保持此狀態。硬化前的活性能量線硬化性接著劑，由於在硬化後對相位差層30發揮接著力，而確認在與相位差層30之間發揮相互作用。咸認在與相位差層30之間發揮相互作用的活性能量線硬化性接著劑若在上述特定條件下持續著與相位差層30接觸的狀態，則相位差層30中與該接著劑接觸的面(圖1所示之表面X)變得粗糙。這種相位差層30表面的粗糙使其與接著劑層20的密合力提升。
若上述密合力有提升，則咸認在使光學積層體彎曲時，硬化接著劑層(硬化後的接著劑層)與相位差層30成為一體而進行變形，因此容易抑制皺褶缺陷的產生。
本實施型態之製造方法，亦有利於在所得之光學積層體中抑制後述的虹斑。
上述條件(1)中的保持溫度為30℃以上，從更有效抑制皺褶缺陷之產生的觀點來看，較佳為35℃以上，更佳為38℃以上，再佳為40℃以上。該保持溫度通常為55℃以下，從結束保持步驟後能夠減少水分含量之變化來看，較佳為50℃以下。
上述條件(1)中的保持時間，雖亦與保持溫度相依，但通常為2小時以上；從更有效抑制皺褶缺陷之產生的觀點來看，較佳為3小時以上，更佳為4小時以上，再佳為5小時以上。該保持時間雖亦與保持溫度相依，但通常未達48小時即足夠。另外，該保持時間亦可為48小時以上，於此情況，保持步驟係變得滿足條件(1)及(3)。
上述條件(2)中對積層體施予振動，例如，可藉由將積層體載置於振動源來進行。作為振動源，只要是能夠以固定周期及固定振幅進行振動者，則未特別限定，可使用振動產生器，亦可使用例如能夠以固定轉數旋轉的電動馬達等旋轉設備，亦可使用可通入交流電流的變壓器等。
從抑制皺褶缺陷之產生的觀點來看，該振動的頻率較佳為5Hz以上，更佳為10Hz以上。從抑制構成積層體的各層彼此發生部分剝離，即所謂的翹起的觀點來看，該振動的頻率較佳為50Hz以下，更佳為40Hz以下。
從抑制皺褶缺陷之產生的觀點來看，該振動的振幅較佳為0.5mm以上，更佳為1mm以上。從抑制構成積層體之各層彼此發生部分剝離，即所謂的翹起的觀點來看，該振動的振幅較佳為30mm以下，更佳為10mm以下。
上述條件(2)中的保持溫度並未特別限制，通常為5℃以上，從更有效抑制皺褶缺陷之產生的觀點來看，較佳為10℃以上，更佳為15℃以上，再佳為20℃以上。該保持溫度亦可為30℃以上，此情況中，保持步驟滿足條件(1) 及(2)。該保持溫度通常在55℃以下，從在結束保持步驟之後可減少水分含量之變化來看，較佳為50℃以下。
上述條件(2)中的保持時間雖亦與保持溫度相依，但通常為2小時以上，從更有效抑制皺褶缺陷之產生的觀點來看，較佳為3小時以上，更佳為4小時以上，再佳為5小時以上。該保持時間雖亦與保持溫度相依，但通常未達48小時即為充分。另外，該保持時間亦可為48小時以上，此情況中，保持步驟係變得滿足條件(2)及(3)。
上述條件(3)中的保持溫度並未特別限制，通常為5℃以上，從更有效抑制皺褶缺陷之產生的觀點來看，較佳為10℃以上，更佳為15℃以上，再佳為20℃以上。該保持溫度亦可為30℃以上，此情況中保持步驟滿足條件(1)及(3)。該保持溫度通常為55℃以下，從在結束保持步驟之後可減少水分含量之變化的觀點來看，較佳為50℃以下。
上述條件(3)中的保持時間雖亦與保持溫度相依，但通常為48小時以上，從更有效抑制皺褶缺陷之產生的觀點來看，較佳為54小時以上，更佳為66小時以上，再佳為72小時以上。該保持時間雖亦與保持溫度相依，但通常為120小時以下即為充分。
上述(1)至(3)的任一條件中，保持積層體之環境的相對濕度為例如20%RH以上80%RH以下，較佳為30%RH以上70%RH以下。
[3]硬化步驟
參照圖2，在本步驟中，藉由照射活性能量線使接著劑層20硬化而形成硬化接著劑層20a，藉此可得到光學積層體。照射之活性能量線的種類，可因應構 成接著劑層20的活性能量線硬化性接著劑所包含之硬化性成分的感應波長等而適當選擇。活性能量線較佳為紫外線。
[實施型態2]
本實施型態之光學積層體的製造方法依照下述記載順序包含下述的步驟。
準備基材膜及與其相接而積層之相位差層的積層體的步驟[準備步驟]；
以50m/分鐘以上的剝離速度從相位差層將基材膜剝離的步驟[剝離步驟]；
在將基材膜剝離後的相位差層之剝離面上隔著活性能量線硬化性接著劑層積層光學膜的步驟[積層步驟]；及
使活性能量線硬化性接著劑層硬化而形成硬化接著劑層的步驟[硬化步驟]。
[1]準備步驟
如上所述，相位差層30包含相位差呈現層(聚合性液晶化合物的硬化物層)，可為由相位差呈現層所構成，亦可包含相位差呈現層與配向層。因此，本步驟中所準備的包含基材膜及與其相接而積層之相位差層的積層體，例如，可具有基材膜/配向層/相位差呈現層的層構成，亦可具有基材膜/相位差呈現層的層構成。
圖3係顯示本實施型態中的準備步驟所準備之積層體的層構成之一例的剖面示意圖。圖3所示的積層體，具有基材膜41/配向層32/相位差呈現層31的層構成，其係相位差層30由相位差呈現層31與配向層32所構成的例子。亦可使用一個市售品或多個市售品的組合作為本步驟中所準備之積層體。
本步驟中所準備之積層體，只要包含基材膜及與其相接而積層的相位差層即可，並不限於圖3的例子。該積層體中亦可積層基材膜41及相位差層30以外的其他1或2以上的層。例如，本步驟中亦可準備包含基材膜41、相位差層30與其他相位差層的相位差層積層體。
後述<光學積層體>的項目中會更詳細說明基材膜、相位差層、相位差呈現層、配向層及相位差層積層體等。
[2]剝離步驟
本步驟為以50m/分鐘以上的剝離速度從相位差層30將基材膜41剝離的步驟。
從更有效抑制皺褶缺陷之產生的觀點來看，剝離速度較佳為60m/分鐘以上，更佳為70m/分鐘以上，再佳為80m/分鐘以上，特佳為90m/分鐘以上。剝離速度通常為150m/分鐘以下，從防止基材膜斷裂的觀點來看，較佳為120m/分鐘以下。
基材膜41之相對於欲將基材膜41剝離之積層體的剝離角度通常大於90度且在180度以下。從更輕易剝離基材膜41的觀點來看，剝離角度較佳為120度以上180度以下。
剝離角度係指在將基材膜41剝離時積層體之面方向或運送方向與所剝離之基材膜41的面方向或運送方向所形成之角度。
準備步驟中所準備之積層體具有基材膜41、配向層32與相位差呈現層31的情況中，在剝離基材膜41時，基材膜41與配向層32一起剝離的情況，藉由本步驟，相位差呈現層31的表面露出於積層體的表面。配向層32未剝離而殘留於積層體側的情況，配向層32的表面露出於積層體的表面。
準備步驟中所準備之積層體具有基材膜41與相位差呈現層31而不具有配向層32的情況中，藉由本步驟，相位差呈現層31的表面露出於積層體的表面。
[3]積層步驟
本步驟係在基材膜41剝離後的相位差層30之剝離面(露出面)上隔著活性能量線硬化性接著劑層(接著劑層)20積層光學膜10的步驟。藉由本步驟，得到與 圖1所示之層構成相同的層構成。上述剝離面可為配向層32的表面或相位差呈現層31的表面。活性能量線硬化性接著劑可使用具有將相位差層30及光學膜10接著之能力者。
積層步驟中係以接著劑層20與相位差層30相接的方式將光學膜10、接著劑層20與相位差層30積層。又，較佳係以光學膜10與接著劑層20相接的方式將光學膜10、接著劑層20與相位差層30積層。
積層步驟可藉由下述方法實施：在選自光學膜10之接著面及相位差層30之接著面(剝離面)之中的1個以上的面上形成接著劑層20，並隔著接著劑層20將光學膜10與相位差層30積層。可藉由習知的塗布方法於接著面上塗布活性能量線硬化性接著劑而形成接著劑層20。
由積層步驟所得之積層體中，接著劑層20的厚度通常為0.5μm以上50μm以下，從抑制皺褶缺陷的觀點、光學膜10與相位差層30之間的接著性的觀點、及所得之光學積層體薄化的觀點來看，較佳為1μm以上30μm以下，更佳為2μm以上20μm以下。
在選自光學膜10之接著面及相位差層30之接著面(剝離面)中的1個以上的面上形成接著劑層20之前，亦可預先進行電漿處理、電暈處理、紫外線照射處理、火焰(flame)處理、皂化處理之類的表面活性化處理。
藉由此表面活性化處理，可提高光學膜10與相位差層30的接著性。
光學膜10亦可為單層結構的膜，亦可為多層結構的膜。作為光學膜10，可列舉例如：直線偏光板等。
光學膜10為直線偏光板的情況，由積層步驟所得之積層體中，較佳為係直線偏光板所包含的直線偏光片與接著劑層20相接。
後述<光學積層體>的項目中會詳細說明光學膜10及活性能量線硬化性接著劑。
若根據包含上述剝離步驟及積層步驟的本實施型態之製造方法，可製造即使以小的曲率半徑進行彎曲亦不易產生皺褶缺陷的光學積層體。其理由推論如下。
於剝離步驟中，若以50m/分鐘以上的剝離速度從相位差層30剝離基材膜41，則剝離後的相位差層30的表面(剝離面)會粗糙。這樣的相位差層30的表面粗糙，在後續積層步驟中，使接著劑層20積層於該表面上或與該表面接觸時，會使其與接著劑層20的密合力提升。
若上述密合力有提升，則咸認硬化接著劑層(硬化後的接著劑層)與相位差層30，在使光學積層體彎曲時成為一體而變形，因此認為容易抑制皺褶缺陷的產生。
本實施型態之製造方法，亦有利於在所得之光學積層體中抑制後述虹斑。
本實施型態係控制基材膜41的剝離速度以作為用以將相位差層30的表面粗糙化的手段。作為用以進行粗糙化的其他手段，例如，亦可使用至少一面預先經過粗糙化的基材膜，在該經粗糙化之面上形成相位差層30，以作為準備步驟中所準備的積層體。
可藉由摩擦基材膜41表面的方法等來實施基材膜41之表面的粗糙化。
[4]硬化步驟
本步驟中，藉由照射活性能量線來使接著劑層20硬化而形成硬化接著劑層20a，可得到具有與圖2相同之層構成的光學積層體。關於本步驟，係引用與實施型態1之硬化步驟相關的敘述。
<光學積層體>
參照圖2，本發明之光學積層體(以下亦僅稱為「光學積層體」)，依序具備光學膜10、作為活性能量線硬化性接著劑之硬化物層的硬化接著劑層20a、包含相位差呈現層(聚合性液晶化合物之硬化物層)的相位差層30。
光學積層體可適當地應用於有機EL顯示裝置等影像顯示裝置。
於光學積層體中，硬化接著劑層20a與相位差層30相接。光學積層體中，較佳係光學膜10與硬化接著劑層20a相接。
光學積層體中，相位差層30中的硬化接著劑層20a側之表面(圖2中的表面Xa)滿足下述(a)至(d)中任一項以上：
(a)算術平均粗糙度Sa在0.065μm以上；
(b)均方根高度Sq在0.085μm以上；
(c)界面的展開面積比Sdr在0.2%以上；
(d)均方根斜率Sdq在0.065以上。
算術平均粗糙度Sa、均方根高度Sq、界面的展開面積比Sdr及均方根斜率Sdq皆為表示面之粗糙度的指標，可依據ISO 25178，藉由[實施例]的項目中所述之方法來測量。
本發明之光學積層體因為滿足上述(a)至(d)中任一項以上，因此即使以小的曲率半徑使其彎曲亦不易產生皺褶缺陷。咸認這是因為藉由相位差層30中的硬化接著劑層20a側之表面的粗糙度而提升了硬化接著劑層20a與相位差層30的密合力，因此在使光學積層體彎曲時硬化接著劑層20與相位差層30成為一體而變形。
又，滿足上述(a)至(d)中任一項以上的光學積層體，在可在從其光學膜10側的表面觀看時的反射光中抑制虹斑此點上有利。能夠抑制虹斑，係有利於在將光學積層體應用於有機EL顯示裝置等影像顯示裝置時提升該裝置的觀賞性。
滿足上述(a)至(d)中任一項以上之條件的光學積層體之所以可抑制虹斑，咸認為是能夠抑制因為入射光學積層體內部之光線在各層的界面反射而產生的反射光彼此干涉所致。
滿足上述(a)至(d)中任一項以上之條件的光學積層體，可藉由上述<光學積層體的製造方法>的項目中所記載之本發明的製造方法，適當地製造。
從更有效抑制皺褶缺陷之產生及虹斑的觀點來看，光學積層體較佳係滿足上述(a)至(d)中任兩項以上之條件，更佳係滿足上述(a)至(d)中任三項以上之條件，再佳係滿足上述(a)至(d)中的所有條件。
從更有效抑制皺褶缺陷之產生及虹斑的觀點來看，上述(a)中的算術平均粗糙度Sa較佳為0.067μm以上，更佳為0.070μm以上。算術平均粗糙度Sa通常為0.200μm以下，從減少光學積層體的內部霧度而確保透明性以保持透光率的觀點來看，較佳為0.150μm以下。
從更有效抑制皺褶缺陷之產生及虹斑的觀點來看，上述(b)中的均方根高度Sq較佳為0.087μm以上，更佳為0.090μm以上。均方根高度Sq通常為0.250μm以下，從減少光學積層體的內部霧度而確保透明性以保持透光率的觀點來看，較佳為0.200μm以下。
從更有效抑制皺褶缺陷之產生及虹斑的觀點來看，上述(c)中的界面的展開面積比Sdr較佳為0.25%以上，更佳為0.3%以上。界面的展開面積比 Sdr通常為1.20%以下，從減少光學積層體的內部霧度而確保透明性以保持透光率的觀點來看，較佳為1.10%以下。
從更有效抑制皺褶缺陷之產生及虹斑的觀點來看，上述(d)中的均方根斜率Sdq較佳為0.070以上，更佳為0.072以上。均方根斜率Sdq通常為0.180以下，從減少光學積層體的內部霧度而確保透明性以保持透光率的觀點來看，較佳為0.160以下。
以下說明構成或可構成光學積層體的要件。
[1]光學膜
如上所述，光學膜10可為單層結構的膜，亦可為多層結構的膜。
作為光學膜10，可列舉例如：直線偏光板、直線偏光片等。
[2]直線偏光板
直線偏光板為至少含有直線偏光片的光學元件，可更包含貼合於直線偏光片的至少一面的熱塑性樹脂膜等。直線偏光片係指具有在使無偏光的光線入射時，使具有與吸收軸正交之振動面的直線偏光穿透之性質的光學元件。
直線偏光片，例如，可為在使聚乙烯醇樹脂膜配向而成者中使碘等雙色性色素吸附配向者。直線偏光片可為雙色性色素吸附配向於單層的聚乙烯醇樹脂膜(聚乙烯醇樹脂膜所包含的聚乙烯醇分子經過配向者)者，亦可為在基材膜上設置經雙色性色素吸附配向之聚乙烯醇樹脂層的兩層以上的積層膜。這樣的直線偏光片，可藉由本技術領域中習知的各種方法製造。
雙色性色素吸附配向於單層的聚乙烯醇樹脂膜而成的直線偏光片之厚度較佳為20μm以下，更佳為15μm以下，再佳為10μm以下。
直線偏光片，亦可為使雙色性色素配向於聚合性液晶化合物，再使聚合性液晶化合物聚合而成的硬化膜。該直線偏光片通常係由下述方式獲得：在由熱塑性樹脂膜等所構成之基材膜或是設於其上之配向層上塗布包含聚合性液晶化合物及雙色性色素之組成物並進行乾燥，再照射紫外線等活性能量線，藉此使塗布膜所包含的聚合性液晶化合物聚合而使其硬化，而得。如此所得之基材膜與直線偏光片(硬化膜)的積層體，可作為直線偏光板使用。
用以形成上述硬化膜的基材膜之厚度並未特別限定，一般而言，從強度及操作性等作業性之觀點來看，較佳為1μm以上300μm以下，更佳為10μm以上200μm以下，再佳為30μm以上120μm以下。
作為在直線偏光板中貼合於直線偏光片之至少一面的熱塑性樹脂膜，可列舉例如：聚乙烯、聚丙烯等聚烯烴系樹脂；降莰烯系聚合物等環狀聚烯烴系樹脂；聚對苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯等聚酯系樹脂；聚(甲基)丙烯酸甲酯等(甲基)丙烯酸系樹脂；三乙醯基纖維素、二乙醯基纖維素及乙酸丙酸纖維素等纖維素酯系樹脂；聚乙烯醇及聚乙酸乙烯酯等乙烯醇系樹脂；聚碳酸酯系樹脂；聚苯乙烯系樹脂；聚芳酯系樹脂；聚碸系樹脂；聚醚碸系樹脂；聚醯胺系樹脂；聚醯亞胺系樹脂；聚醚酮系樹脂；聚苯硫醚系樹脂；聚伸苯醚(polyphenylene oxide)系樹脂及此等的混合物、共聚物等所構成的樹脂膜。
上述樹脂之中，較佳係使用環狀聚烯烴系樹脂、聚酯系樹脂、纖維素酯系樹脂及(甲基)丙烯酸系樹脂任一者或此等混合物。
另外，「(甲基)丙烯酸」係指「丙烯酸及甲基丙烯酸的至少1種」。
熱塑性樹脂膜，可為1種樹脂材料或將2種以上的樹脂材料混合而成的單層，亦可具有2層以上的多層結構。具有多層結構的情況，構成各層的樹脂可彼此相同亦可不同。
熱塑性樹脂膜中亦可添加任意的添加劑。作為添加劑，可列舉例如：紫外線吸收劑、抗氧化劑、滑劑、塑化劑、脫模劑、抗著色劑、阻燃劑、核劑、抗靜電劑、顏料及著色劑等。
熱塑性樹脂膜的厚度，從光學積層體的薄化及可撓性的觀點及光學積層體的耐久性的觀點來看，較佳為2μm以上300μm以下，更佳為5μm以上200μm以下，再佳為5μm以上100μm以下，再更佳為5μm以上50μm以下，特佳為5μm以上30μm以下。
熱塑性樹脂膜可隔著接著層而積層於直線偏光片。
作為形成接著層的接著劑，可列舉例如：水系接著劑、活性能量線硬化性接著劑等。
作為水系接著劑，可列舉例如：聚乙烯醇系樹脂水溶液、水系雙液型胺基甲酸酯系乳膠接著劑等。
活性能量線硬化性接著劑，係藉由照射紫外線等活性能量線而硬化的接著劑，可列舉例如：包含聚合性化合物及光聚合性起始劑者、包含光反應性樹脂者、包含黏結劑樹脂(binder resin)及光反應性交聯劑者等。作為上述聚合性化合物，可列舉：光硬化性環氧系單體、光硬化性(甲基)丙烯酸系單體、光硬化性胺基甲酸酯系單體等光聚合性單體以及源自此等單體的寡聚物等。作為上述光聚合起始劑，可列舉：包含照射紫外線等活性能量線而產生稱為中性自由基、陰離子自由基、陽離子自由基的活性種的物質者。
直線偏光板可更包含上述以外的其他膜或層。作為其他膜或層，可列舉：積層於直線偏光板表面的保護膜；配置於直線偏光板之適當位置的反射膜、半穿透型反射膜、光學補償膜、附防眩功能的膜、相位差膜等。
直線偏光板較佳為如圖4所示的僅在直線偏光片之一面貼合熱塑性樹脂膜而成的單面保護偏光板。若直線偏光板為單面保護偏光板，則其厚度較薄，結果可使光學積層體的厚度更薄。因此，例如，具備本發明之光學積層體的有機EL顯示裝置，容易應用為可彎曲、彎折或捲繞等的可撓性有機EL顯示裝置。
光學膜10為單面保護偏光板的情況，在光學積層體中，直線偏光片較佳係與硬化接著劑層20a相接。
[3]硬化接著劑層
硬化接著劑層20a為活性能量線硬化性接著劑的硬化物層。藉由在硬化步驟中使上述積層步驟中所形成之活性能量線硬化性接著劑層(接著劑層)20硬化，可形成硬化接著劑層20a。
可使用與上述[2]中所述之活性能量線硬化性接著劑相同者作為該活性能量線硬化性接著劑。
光學積層體中，硬化接著劑層20a的厚度通常為0.5μm以上50μm以下，從抑制皺褶缺陷的觀點、光學膜10與相位差層30之間的接著性的觀點、及所得之光學積層體薄化的觀點來看，較佳為1μm以上30μm以下，更佳為2μm以上20μm以下。
[4]相位差層
相位差層30包含屬於聚合性液晶化合物之硬化物層的相位差呈現層31，亦可更包含配向層32。
相位差呈現層31係使用聚合性液晶化合物而形成者，可使用習知者作為該聚合性液晶化合物。聚合性液晶化合物的種類並未特別限定，可使用棒狀液晶化合物、圓盤狀液晶化合物、及此等的混合物。用以形成逆波長分散性之1/4波長板的聚合性液晶化合物，較佳為棒狀液晶化合物，例如日本特開2011-207765號公報所述之聚合性液晶化合物。
將包含聚合性液晶化合物及溶劑、以及因應需求的各種添加劑的相位差呈現層形成用組成物塗布於配向層32上而形成塗膜，並使該塗膜硬化，藉此可形成作為聚合性液晶化合物之硬化物層的相位差呈現層31。或是在基材膜上直接塗布相位差呈現層形成用組成物而形成塗膜，使該塗膜與基材膜一起延伸，藉此亦可形成相位差呈現層31。
相位差呈現層31的厚度通常為0.1μm以上10μm以下，較佳為0.2μm以上5μm以下。
相位差呈現層形成用組成物，除了上述聚合性液晶化合物及溶劑以外，亦可包含聚合起始劑、反應性添加劑、整平劑(leveling agent)、聚合抑制劑等。聚合性液晶化合物、溶劑、聚合起始劑、反應性添加劑、整平劑、聚合抑制劑等可適當使用習知者。
作為相位差呈現層形成用組成物及相位差呈現層中亦可包含的整平劑，可列舉例如：以有機改質聚矽氧油作為主成分的整平劑、以聚丙烯酸酯化合物作為主成分的整平劑、以全氟烷基等含氟原子之化合物作為主成分的整平劑等。主成分係指整平劑所包含的所有成分之中摻合量最多的成分。相對於100質量份的 聚合性液晶化合物，相位差呈現層形成用組成物中的整平劑的含量較佳為0.01質量份以上5質量份以下，更佳為0.1質量份以上3質量份以下。
亦可包含於相位差層30中的配向層32係具有配向規制力的層，該配向規制力係使形成於其上之液晶層所包含的聚合性液晶化合物在預期的方向上進行液晶配向。作為配向層32，可列舉：以配向性聚合物所形成之配向性聚合物層、以光配向聚合物所形成之光配向性聚合物層、在層表面上具有凹凸圖案及複數溝槽(groove)的溝槽配向層。
配向層32的厚度通常為10nm以上500nm以下，較佳為10nm以上200nm以下。
在基材膜41上塗布將配向性聚合物溶解於溶劑而成的組成物並去除溶劑，再因應需求實施摩擦處理，而可形成配向性聚合物層。此情況中，可藉由配向性聚合物的表面狀態及摩擦條件任意調整配向規制力。
在基材膜41上塗布包含具有光反應性基之聚合物或單體與溶劑的組成物並照射偏光，藉此可形成光配向性聚合物層。此情況中，根據對光配向性聚合物照射偏光的條件等，可在光配向性聚合物層中任意調整配向規制力。
溝槽配向層可藉由例如下述方法而形成：在感光性聚醯亞胺膜表面上隔著具有圖案形狀之縫隙的曝光用遮罩進行曝光、顯影等而形成凹凸圖案的方法、在表面上具有溝的板狀原盤形成活性能量線硬化性樹脂的未硬化之層，再將該層轉貼至基材膜41並進行硬化的方法、在基材膜41上形成活性能量線硬化性樹脂的未硬化之層，再將具有凹凸的滾筒狀原盤按壓於該層等藉此形成凹凸並使其硬化的方法等。
作為基材膜41，可使用具有與上述熱塑性樹脂膜相同之構成的樹脂膜。
基材膜41的厚度並未特別限定，一般而言，從強度及操作性等作業性的觀點來看，較佳為1μm以上300μm以下，更佳為10μm以上200μm以下，再佳為30μm以上120μm以下。
基材膜41中亦可添加任意的添加劑。作為添加劑，可列舉例如：紫外線吸收劑、抗氧化劑、滑劑、塑化劑、脫模劑、抗著色劑、阻燃劑、核劑、抗靜電劑、顏料及著色劑等。
[5]相位差層積層體
如上所述，在光學積層體的製造方法之第1實施型態的積層步驟及第2實施型態的準備步驟中，亦可使用相位差層積層體作為相位差層30，該相位差層積層體包含相位差層30與含有其他相位差層的相位差層積層體。
圖5係顯示相位差積層體的層構成之一例的剖面示意圖。圖5所示的相位差積層體，依序包含基材膜41、配向層32、相位差呈現層31、接著層61、相位差呈現層71、配向層72及基材膜42。圖5所示之相位差積層體中，相位差呈現層31及配向層32在光學積層體中可成為隔著硬化接著劑層20a而與光學膜10貼合的相位差層30。
圖5所示之相位差積層體中，亦可不具有配向層32及配向層72中的至少任一者。
圖5所示之相位差積層體中，相位差呈現層31與相位差呈現層71的組合，例如為1/2波長板與1/4波長板的組合，或是逆波長分散性的1/4波長板與正C板的組合。
為1/2波長板與1/4波長板之組合的情況中，在光學積層體中配置於較靠近光學膜10之一側的相位差呈現層31較佳為1/2波長板。
光學積層體的製造方法之第1實施型態或第2實施型態的積層步驟中，使用圖5所示之相位差積層體的情況，該相位差積層體，在基材膜41剝離之後，隔著接著劑層20而積層於光學膜10。
圖6係顯示光學積層體的製造方法之第1實施型態或第2實施型態的積層步驟中，使用圖5所示之相位差積層體時所製造的光學積層體的層構成之一例的剖面示意圖。圖6所示之光學積層體中，亦可不具有配向層32及配向層72的至少任一者。
例如，製作或準備具有基材膜41/配向層32/相位差呈現層31之層構成的積層體與具有基材膜42/配向層72/相位差呈現層71之層構成的積層體，隔著接著層61將此等積層體貼合，藉此可製造圖5所示之相位差積層體。
作為形成接著層61的接著劑，可列舉例如：水系接著劑、活性能量線硬化性接著劑等。可使用與在將直線偏光片與熱塑性樹脂膜的貼合中所能夠使用的上述接著劑相同者作為此等接著劑。
亦可使用黏著劑層作為接著層61。作為形成黏著劑層之黏著劑組成物，可列舉：以(甲基)丙烯酸系樹脂、苯乙烯系樹脂、聚矽氧系樹脂等作為基質聚合物再加入異氰酸酯化合物、環氧化物、氮環丙烷(aziridine)化合物等交聯劑的組成物。
從更有效抑制皺褶缺陷之產生的觀點來看，接著層61較佳為紫外線硬化性接著劑等活性能量線硬化型接著劑之硬化物層。
[6]黏著劑層
光學積層體可更含有黏著劑層。圖7係顯示具有黏著劑層80之光學積層體的層構成之一例的剖面示意圖。
例如，從圖6所示之光學積層體將基材膜42剝離，並於其剝離面上積層黏著劑層，藉此可製造圖7所示之光學積層體。黏著劑層的外側面上亦可積層分隔膜。
[實施例]
以下顯示實施例及比較例以更具體說明本發明，但本發明不因此等例子而有所限定。
<實施例1>
(1)直線偏光板的製作
準備使碘吸附/配向於聚乙烯醇系樹脂膜而成的單軸延伸膜以作為直線偏光片[厚度：8μm]。
在上述直線偏光片的一面隔著聚乙烯醇系接著劑積層第1熱塑性樹脂膜，在上述直線偏光片的另一面積層第2熱塑性樹脂膜，使其通過一對貼合滾輪之間，得到具有下述層構成的積層體：第1熱塑性樹脂膜/聚乙烯醇系接著劑層/直線偏光片/第2熱塑性樹脂膜之層構成的積層體。
直線偏光片與第2熱塑性樹脂膜與之間並未隔著接著劑，第2熱塑性樹脂膜係在可剝離的狀態積層於直線偏光片。
第1熱塑性樹脂膜及第2熱塑性樹脂膜係使用下述樹脂膜。
．第1熱塑性樹脂膜：日本製紙股份有限公司製的透明硬塗膜(clear hard coat film)，其商品名稱為「COP20ST-HC」(在環狀聚烯烴系樹脂膜上形成有透明硬塗層的膜，厚度：25μm)
．第2熱塑性樹脂膜：Fuji Film股份有限公司製的三乙醯基纖維素(TAC)膜，其商品名稱為「FUJITAC」(厚度：80μm)
對所得之積層體，使用熱風乾燥機於80℃進行加熱處理300秒，藉此使聚乙烯醇系接著劑層乾燥而得到直線偏光板。
(2)相位差層積層體的製作
準備下述所示的相位差膜1及2以及活性能量線硬化性接著劑1。
．屬於1/2波長板的相位差膜1：Fuji Film股份有限公司製的商品名稱「QL FILM QL AA 318」(由基材膜1、配向層1與相位差呈現層1(平面相位差值235nm)所構成的總厚度2μm的相位差膜；該基材膜1為厚度80μm的TAC膜；該配向層1形成於該基材膜1上；該相位差呈現層1形成於該配向層1上且為聚合性液晶化合物之硬化物層(單層))
．屬於1/4波長板的相位差膜2：Fuji Film股份有限公司製的商品名稱「QL FILM QL AB 318」(由基材膜2、配向層2與相位差呈現層2(平面相位差值120nm)所構成的總厚度1μm的相位差膜；該基材膜2係厚度80μm的TAC膜；該配向層2形成於該基材膜2上；該相位差呈現層2形成於配向層2上且為聚合性液晶化合物的硬化物層(單層))
．活性能量線硬化性接著劑1：陽離子聚合性的紫外線硬化性高折射率接著劑
對相位差膜1所具有的相位差呈現層1的表面及相位差膜2所具有的相位差呈現層2的表面實施電暈處理。使用棒塗機，以使接著劑層硬化後的總厚度成為1.5μm的方式，在此等相位差膜的各電暈處理面上塗布上述活性能量線硬化性接著劑1後，將相位差膜1及相位差膜2重疊，使其通過一對貼合滾 輪之間，得到具有下述層構成的積層體：基材膜1/配向層1/相位差呈現層1/活性能量線硬化性接著劑1之層/相位差呈現層2/配向層2/基材膜2。
使用紫外線照射裝置(燈泡係使用fusion UV systems公司製的「D bulb」)，以累積光量成為250mJ/cm2(UVB))的方式對所得之積層體照射紫外線，使活性能量線硬化性接著劑1之層硬化，得到相位差層積層體。
(3)光學積層體1的製作
將上述(1)中所得之直線偏光板所具有的第2熱塑性樹脂膜剝離，並且以25m/分鐘的剝離速度將上述(2)中所得之相位差層積層體所具有的基材膜1與配向層1一起剝離。相對於欲將基材膜1剝離之相位差層積層體，使基材膜1的剝離角度為180度。
對因為第2熱塑性樹脂膜剝離而露出的直線偏光片表面及因為基材膜1剝離而露出的相位差呈現層1表面實施電暈處理。
另外，配向層1係與基材膜1一起被剝離去除。
使用棒塗機，以接著劑層硬化後的總厚度成為2μm的方式，將活性能量線硬化性接著劑2塗布於直線偏光板及相位差層積層體的各電暈處理面後，將直線偏光板及相位差層積層體重疊，使其通過一對貼合滾輪之間，得到具有下述層構成的積層體：第1熱塑性樹脂膜/聚乙烯醇系接著劑層/直線偏光片/活性能量線硬化性接著劑2之層/相位差呈現層1/活性能量線硬化性接著劑1之硬化物層/相位差呈現層2/配向層2/基材膜2。
使用下述接著劑作為活性能量線硬化性接著劑2。
．活性能量線硬化性接著劑2：陽離子聚合性的紫外線硬化性接著劑
將所得之積層體放入恆溫恆濕槽，於溫度40℃的環境保持(靜置)5小時(保持步驟)。保持步驟中的相對濕度為55%RH(其他實施例及比較例亦相同)。
之後，使用紫外線照射裝置(燈泡係使用Fusion UV Systems公司製的「H bulb」)，以累積光量成為400mJ/cm2(UVB))的方式，對積層體照射紫外線，使活性能量線硬化性接著劑2之層硬化，藉此得到光學積層體1。照射紫外線時的環境為溫度23℃、相對濕度55%RH(其他實施例及比較例亦相同)。
所得之光學積層體1中，相位差呈現層1(1/2波長板)的快軸SL1相對於直線偏光片之吸收軸PL的角度為75°，相位差呈現層2(1/4波長板)的快軸SL2的角度為15°。此光學積層體1發揮作為圓偏光板的功能。
(4)光學積層體2的製作(將黏著劑層積層於光學積層體1)
準備下示的片狀黏著劑1。
．片狀黏著劑1：轉印型非承載膜(具有(甲基)丙烯酸系黏著劑層[厚度：15μm]、其一面上所積層之輕剝離性膜以及其另一面上所積層之重剝離性膜的積層膜)
將上述(3)中所得之光學積層體1所具有的基材膜2與配向層2一起剝離，並且將片狀黏著劑1所具有的輕剝離性膜剝離。對因為基材膜2剝離而露出的相位差呈現層2表面及因為輕剝離性膜的剝離而露出的黏著劑層表面實施電暈處理。
另外，配向層2係與基材膜2一起被剝離去除。
將光學積層體1及片狀黏著劑1重疊，使其通過一對貼合滾輪之間，得到具有下述層構成的光學積層體2：第1熱塑性樹脂膜/聚乙烯醇系接著 劑層/直線偏光片/活性能量線硬化性接著劑2的硬化物層/相位差呈現層1/活性能量線硬化性接著劑1的硬化物層/相位差呈現層2/黏著劑層/重剝離性膜。
<實施例2>
在保持步驟中，於恆溫恆濕槽中將積層體貼附於內壁，在頻率10Hz、振幅1mm的振動環境下保持(靜置)5小時，除此之外，與實施例1相同地製作光學積層體1。保持步驟中的溫度環境為23℃。又，除了使用此光學積層體1以外，與實施例1相同地製作光學積層體2。
<實施例3>
在保持步驟中，將積層體放入恆溫恆濕槽，於溫度23℃的環境下保持(靜置)3天，除此之外，與實施例1相同地製作光學積層體1。保持步驟中的相對濕度為55%RH。又，除了使用此光學積層體1以外，與實施例1相同地製作光學積層體2。
<實施例4>
(1)直線偏光板的製作
與實施例1相同地製作直線偏光板。
(2)相位差層積層體的製作
與實施例1相同地製作相位差層積層體。
(3)光學積層體1的製作
將上述(1)中所得之直線偏光板所具有的第2熱塑性樹脂膜與配向層1一起剝離，並且以90m/分鐘的剝離速度將上述(2)中所得之相位差層積層體所具有的基材膜1剝離。相對於欲將基材膜1剝離之相位差層積層體，使基材膜1的剝離角度為180度。
以下除了未實施保持步驟以外，皆與實施例1相同地製作光學積層體1。
(4)光學積層體2的製作(黏著劑層對光學積層體1之積層)
使用上述(3)中所得之光學積層體1，除此之外，與實施例1相同地製作光學積層體2。
<比較例1>
在保持步驟中，將積層體放入恆溫恆濕槽，於溫度23℃的環境下保持(靜置)5小時，除此之外，與實施例1相同地製作光學積層體1。保持步驟中的相對濕度為55%RH。又，除了使用此光學積層體1以外，與實施例1相同地製作光學積層體2。
<比較例2>
不實施保持步驟，得到具有第1熱塑性樹脂膜/聚乙烯醇系接著劑層/直線偏光片/活性能量線硬化性接著劑2的層/相位差呈現層1/活性能量線硬化性接著劑1的硬化物層/相位差呈現層2/基材膜2之層構成的積層體後，立即照射紫外線，藉此使活性能量線硬化性接著劑2之層硬化，除此之外，與實施例1相同地製作光學積層體1。又，除了使用此光學積層體1以外，與實施例1相同地製作光學積層體2。
<比較例3>
(1)附黏著劑層之直線偏光板的製作
與實施例1相同地製作直線偏光板。
又，準備下示的片狀黏著劑2。
．片狀黏著劑2：轉印型非承載膜(具有(甲基)丙烯酸系黏著劑層[厚度：5μm]、積層於其一面上的輕剝離性膜以及積層於其另一面上的重剝離性膜的積層膜)
將直線偏光板所具有的第2熱塑性樹脂膜剝離，並且將片狀黏著劑2所具有的輕剝離性膜剝離。對因為第2熱塑性樹脂膜剝離而露出的直線偏光片表面及因為輕剝離性膜的剝離而露出的黏著劑層表面實施電暈處理。
之後，將輕剝離性膜經剝離的片狀黏著劑2以其電暈處理面側積層於直線偏光片的表面(電暈處理面)，得到具有下述層構成的附黏著劑層之直線偏光板：第1熱塑性樹脂膜/聚乙烯醇系接著劑層/直線偏光片/黏著劑層/重剝離性膜。
(2)相位差層積層體的製作
與實施例1相同地製作相位差層積層體。
(3)光學積層體1的製作
將上述(1)中所得之附黏著劑層的直線偏光板所具有的重剝離性膜剝離，並且以25m/分鐘的剝離速度將上述(2)中所得之相位差層積層體所具有的基材膜1與配向層1一起剝離。相對於欲剝離基材膜1的相位差層積層體，使基材膜1的剝離角度為180度。
對因為重剝離性膜剝離而露出的黏著劑層表面及因為基材膜1剝離而露出的相位差呈現層1表面實施電暈處理。
另外，配向層1係與基材膜1一起被剝離去除。
之後，將相位差層積層體以其電暈處理面側積層於附黏著劑層的直線偏光板之電暈處理面，得到具有下述層構成的光學積層體1：第1熱塑性樹脂膜/聚乙烯醇系接著劑層/直線偏光片/黏著劑層/相位差呈現層1/活性能量線硬化性接著劑1的硬化物層/相位差呈現層2/基材膜2。
(4)光學積層體2的製作(黏著劑層對光學積層體1的積層)
使用上述(3)中所得之光學積層體1，除此之外，與實施例1相同地製作光學積層體2。
[測量/評估]
(1)面粗糙度的測量
以直線偏光片的吸收軸為長度方向，從光學積層體2裁切出長度50mm(長邊)、寬度15mm的矩形積層體片，將重剝離性膜剝離而使黏著劑層露出，以露出之黏著劑層貼附於壓克力板(黑色)，而作為試片[具有下述層構成：第1熱塑性樹脂膜/聚乙烯醇系接著劑層/直線偏光片/活性能量線硬化性接著劑2的硬化物層/相位差呈現層1/活性能量線硬化性接著劑1的硬化物層/相位差呈現層2/黏著劑層/壓克力板(黑色)]。從第1熱塑性樹脂膜側對此試片照光，依據ISO 25178，藉由掃描式白色干涉顯微鏡「VertScan」(Hitachi high-tech science公司製)，在層剖面解析模式，測量光學積層體1所具有的相位差層(相位差呈現層1)中的直線偏光片側表面的算術平均粗糙度Sa、均方根高度Sq、界面的展開面積比Sdr及均方根斜率Sdq。結果顯示於表1。測量條件如下。
相機：SONY公司製「XCL-32」
物鏡：5CTI
鏡筒：1.0X
變焦透鏡：1X
光源：530White
測量裝置：壓電(piezo)
測量模式：Wave
(2)皺褶缺陷的評估
以直線偏光片的吸收軸作為長度方向，從光學積層體1裁切出長度50mm(長邊)、寬度15mm(短邊)的試片(矩形)。
如圖8所示，進行將縮合步驟與展開步驟重複10次的10mm彎折試驗；該縮合步驟，係以使2個短邊(S1)彼此互相對向的方式將此試片(S)彎曲而在長邊方向中央部形成彎曲部(C)，一方面保持此狀態一方面保持在互相平行配置的2片玻璃板(平板狀)(G)之間，藉由將2片玻璃板(G)之間隔縮小，將試片之彎曲部的曲率直徑(R)縮小至10mm為止；該展開步驟，係在該縮合步驟之後拉開2片玻璃板之間隔直到彎曲狀態解除為止。另外，試片(S)的2個短邊(S1)分別固定於玻璃板(G)。
在10mm彎折試驗後，試片中未產生皺褶缺陷的情況，針對同一試片進一步使彎折部的曲率直徑R為5mm，除此之外，與上述相同地進行將縮合步驟與展開步驟重複10次的5mm彎折試驗。
在5mm彎折試驗後，在試片中未產生皺褶缺陷的情況，針對同一試片進一步使彎折部的曲率直徑R為4mm，除此之外，與上述相同地進行將縮合步驟與展開步驟重複10次的4mm彎折試驗。
在4mm彎折試驗後，在試片中未產生皺褶缺陷的情況，針對同一試片進一步使彎折部的曲率直徑R為3mm，除此之外，與上述相同地進行將縮合步驟與展開步驟重複10次的3mm彎折試驗。
在3mm彎折試驗後，在試片中未產生皺褶缺陷的情況，針對同一試片進一步使彎折部的曲率直徑R為2mm，除此之外，與上述相同地進行將縮合步驟與展開步驟重複10次的2mm彎折試驗。
以目視觀察試片中繞掛在心棒上的部分，以下述基準評估皺褶缺陷產生的難度。結果顯示於表1。
A：從10mm彎折試驗開始到2mm彎折試驗結束為止皆未確認到皺褶缺陷。
B：從10mm彎折試驗開始到3mm彎折試驗結束為止未確認到皺褶缺陷，但若接著進行2mm彎折試驗，則產生皺褶缺陷。
C：從10mm彎折試驗開始到4mm彎折試驗結束為止未確認到皺褶缺陷，但若接著進行3mm彎折試驗，則產生皺褶缺陷。
另外，各試片中的直線偏光片的吸收軸(PL)、相位差呈現層1的快軸(SL1)及相位差呈現層2的快軸(SL2)，從直線偏光片側觀看則如圖9所示。亦即，從第1熱塑性樹脂膜側(直線偏光片側)觀看，將左旋視為正(+)，吸收軸(PL)相對於短邊為+135°，快軸(SL1)相對於短邊為+60°，快軸(SL2)相對於短邊為+120°。各試片發揮作為圓偏光板的功能。
(3)虹斑的評估
從光學積層體2裁切出尺寸為縱向100mm×橫向100mm的試片(矩形)。從此試片將重剝離性膜剝離，使用露出之黏著劑層貼合於平坦的黑色壓克力板上。又，將玻璃板[Corning公司製的無鹼玻璃「EAGLE XG」，厚度0.7mm]隔著水膜積層於作為光學積層體2之最上層的第1熱塑性樹脂膜上，以作為評估用積層體。
將所得之評估用積層體放置於螢光燈點燈的室內。螢光燈的位置係在距離黑色壓克力板250mm的高度。在此狀態，以目視從評估用積層體的表面(玻璃板側的表面)側觀察來自螢光燈之光線的反射光，以下述基準評估虹斑產 生的困難度。結果顯示於表1。來自螢光燈之光的反射光，意指由入射光學積層體2內部的螢光燈而來的光線在各層的界面反射而從玻璃板側射出之光線。
A：反射光中未確認到虹斑。
B：反射光中稍微確認到虹斑。
C：反射光中確認到虹斑(相較於B，更明確地確認到虹斑)。
[表1]
Figure 109141342-A0202-12-0036-1
10:光學膜
20:活性能量線硬化性接著劑層(接著劑層)
30:相位差層
X:表面

Claims (7)

  1. 一種光學積層體的製造方法，
    前述光學積層體依序具備光學膜、屬於活性能量線硬化性接著劑之硬化物層的硬化接著劑層、及包含聚合性液晶化合物之硬化物層的相位差層；
    其中，前述製造方法依序包含下列步驟：
    以前述活性能量線硬化性接著劑層與前述相位差層相接的方式將前述光學膜、活性能量線硬化性接著劑層、及前述相位差層積層的步驟；
    在滿足下述(1)至(3)中任一項以上的條件下進行保持的步驟：
    (1)於30℃以上的溫度保持2小時以上；
    (2)於振動條件下保持2小時以上；
    (3)保持48小時以上；及
    使前述活性能量線硬化性接著劑層硬化而形成前述硬化接著劑層的步驟。
  2. 一種光學積層體的製造方法，
    前述光學積層體依序具備光學膜、屬於活性能量線硬化性接著劑之硬化物層的硬化接著劑層、及包含聚合性液晶化合物之硬化物層的相位差層；
    其中，前述製造方法依序包含下列步驟：
    準備包含基材膜及與該基材膜相接而積層的前述相位差層的積層體的步驟；
    以50m/分鐘以上的剝離速度從前述相位差層將前述基材膜剝離的步驟；
    在將前述基材膜剝離後的前述相位差層之剝離面上隔著活性能量線硬化性接著劑層積層光學膜的步驟；及
    使前述活性能量線硬化性接著劑層硬化而形成前述硬化接著劑層的步驟。
  3. 如請求項1或2所述之光學積層體的製造方法，其中前述光學膜包含直線偏光片。
  4. 如請求項3所述之光學積層體的製造方法，其中在前述積層步驟中，以前述直線偏光片與前述活性能量線硬化性接著劑層相接的方式將前述光學膜、活性能量線硬化性接著劑層及前述相位差層積層。
  5. 一種光學積層體，依序具備光學膜、屬於活性能量線硬化性接著劑之硬化物層的硬化接著劑層、及包含聚合性液晶化合物之硬化物層的相位差層，其中，
    前述硬化接著劑層與前述相位差層相接，
    前述相位差層中的前述硬化接著劑層側的表面滿足下述(a)至(d)中任一項以上：
    (a)算術平均粗糙度Sa在0.065μm以上；
    (b)均方根高度Sq在0.085μm以上；
    (c)界面的展開面積比Sdr在0.2%以上；
    (d)均方根斜率Sdq在0.065以上。
  6. 如請求項5所述之光學積層體，其中前述光學膜包含直線偏光片。
  7. 如請求項6所述之光學積層體，其中前述直線偏光片與前述硬化接著劑層相接。
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