JP2021076853A - 光学系及び光学系を用いてマスク欠陥を補正する方法 - Google Patents
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Abstract
Description
・上述の請求内容のいずれか1つに記載の光学系を与える段階と、
・集束ユニットを用いてフォトリソグラフィマスク内の光学系の光軸に沿った第1の焦点位置を集束させる段階と、
・RMS波面誤差が100mλよりも小さい、好ましくは20mλよりも小さいように波面マニピュレータを用いて波面を設定する段階と、
・フォトリソグラフィマスク内の第1の焦点位置に第1の不可逆的変化(irreversible change)を導入することによってマスクの第1の不良を補正する段階と、
を含む。
・光学系の光軸に沿って集束ユニットを用いてフォトリソグラフィマスク内に第2の焦点位置を集束させる段階と、
・RMS波面誤差が100mλよりも小さい、好ましくは20mλよりも小さいように波面マニピュレータを用いて波面を設定する段階と、
・フォトリソグラフィマスク内の第2の焦点位置に第2の不可逆的変化を導入することによってマスクの第2の不良を補正する段階と、
を必要とする。
・基準波面と比較する段階と、
・比較からRMS波面誤差が低減されるような補正波面を計算する段階と、
・補正波面から波面マニピュレータに対する新しい制御信号を設定する段階と、
・制御信号を波面マニピュレータに送信する段階と、
を用いて更に処理する。
Claims (18)
- 光学系(1;101;201;301;401;501;601;701)であって、
少なくとも第1のレンズ要素を含む第1のレンズ要素群(9;109;209;309;409;509;609;709)と、
ビームをフォーカス(35;135;235;335;435;535;635;735)上に集束させるように設計された集束ユニット(13;113;213;313;413;513;613;713)であって、
前記集束ユニット(13;113;213;313;413;513;613;713)は、焦点位置を前記光学系の光軸に沿って変えることができるように該光学系の該光軸に沿って動くことができるように配置され、
前記集束ユニットは、少なくとも第2のレンズ要素を含む第2のレンズ要素群(11;111;211;311;411;511;611;711)、及び結像レンズ(15;115;215;315;415;515;615;715)を含み、
前記結像レンズ(15;115;215;315;415;515;615;715)は、瞳平面(21;121;221;321;421;521;621;721)を更に含む、
集束ユニット(13;113;213;313;413;513;613;713)と、
前記フォーカスを前記光軸に対して横方向に変位させることができるように設計された走査ユニット(7;107;307;407;507;607;707)と、
前記集束ユニット(13;113;213;313;413;513;613;713)の互いに異なる少なくとも2つの焦点位置でRMS波面誤差が100mλよりも小さい、好ましくは20mλよりも小さいように設計された波面マニピュレータ(5;105;205;305;405;505;605;705)であって、
前記波面マニピュレータ(5;105;205;305;405;505;605;705)は、前記結像レンズの前記瞳平面(21;121;221;321;421;521;621;721)に若しくは該結像レンズの該瞳平面に対して共役である平面に配置され、
又は、前記走査ユニットは、前記結像レンズの前記瞳平面に対して共役である平面に配置され、前記波面マニピュレータは、光方向に該走査ユニットの上流に配置される、
波面マニピュレータ(5;105;205;305;405;505;605;705)と、を含み、
前記第2のレンズ要素群(11;111;211;311;411;511;611;711)の前記フォーカスは、前記集束ユニットの両方の焦点位置で前記結像レンズ(15;115;215;315;415;515;615;715)の前記瞳平面(21;121;221;321;421;521;621;721)に位置する、
ことを特徴とする光学系(1;101;201;301;401;501;601;701)。 - 500よりも大きいレイリー長さ、好ましくは1000よりも大きいレイリー長さ、特に好ましくは2200よりも大きいレイリー長さの集束範囲を含む、請求項1に記載の光学系。
- 前記走査ユニット(7;107)は、傾斜可能ミラーとして具現化される、請求項1又は請求項2に記載の光学系。
- 前記走査ユニット(307;407;507;607;707)は、互いに垂直な方向に前記焦点位置を変える2つの音響光学偏向器を含む、請求項1又は請求項2に記載の光学系。
- 前記波面マニピュレータ(5;105;305;405;505;605;705)は、前記第1のレンズ要素群の前記フォーカスに位置決めされる、請求項1から請求項4のいずれか1項に記載の光学系。
- 前記走査ユニット(7;107;307;407;507;607;707)は、前記第1のレンズ要素群の前記フォーカスに位置決めされる、請求項1から請求項4のいずれか1項に記載の光学系。
- 前記波面マニピュレータ(105;305;405;505;605;705)は、変形可能ミラーとして設計される、請求項1から請求項6のいずれか1項に記載の光学系。
- 前記集束ユニット(13;113;213;313;413;513;613;713)は、サンプル(17;117;217;317;417;517;617;717)の点が像平面での像点内に結像されるように設計される、請求項1から請求項7のいずれか1項に記載の光学系。
- 前記光学系(1;101;201;301;401;501;601;701)は、サンプル側でテレセントリックである、請求項1から請求項8のいずれか1項に記載の光学系。
- 光源は、照明光を生成し、ビームスプリッタ(23;323;423;523;623;723)は、該照明光の一部が観察デバイス(25;325;425;525;625;725)に供給されるように前記光学系に配置される、請求項1から請求項9のいずれか1項に記載の光学系。
- 前記観察デバイス(325;425;525;625;725)は、前記波面マニピュレータ(5;105;205;305;405;505;605;705)によって設定された波面を検出するために波面センサ(327;427;527;627;727)として具現化される、請求項10に記載の光学系。
- 前記波面センサ(327;427;527;627;727)によって記録されたデータを基準波面と比較し、かつ該基準波面からの前記測定された波面の偏位から計算された補正を前記波面マニピュレータ(5;105;205;305;405;505;605;705)に伝達する制御ユニットを含む、請求項11に記載の光学系。
- パルス式レーザである光源を含む、請求項1から請求項12のいずれか1項に記載の光学系。
- フォトリソグラフィマスクの欠陥を補正する方法であって、
請求項1から請求項13のいずれか1項に記載の光学系を与える段階と、
前記光学系の光軸に沿って前記集束ユニットを用いて前記フォトリソグラフィマスク内の第1の焦点位置を集束させる段階と、
RMS波面誤差が100mλよりも小さい、好ましくは20mλよりも小さいように波面マニピュレータを用いて波面を設定する段階と、
前記フォトリソグラフィマスク内の前記第1の焦点位置に第1の不可逆的変化を導入することによって該マスクの第1の不良を補正する段階と、
を含む方法。 - 前記系の光軸に沿って前記集束ユニットを用いて前記フォトリソグラフィマスク内の第2の焦点位置を集束させる段階と、
前記RMS波面誤差が100mλよりも小さい、好ましくは20mλよりも小さいように波面マニピュレータを用いて波面を設定する段階と、
前記フォトリソグラフィマスク内の前記第2の焦点位置に第2の不可逆的変化を導入することによって該マスクの第2の不良を補正する段階と、
を含む、請求項14に記載のフォトリソグラフィマスクの欠陥を補正する方法。 - 前記フォトリソグラフィマスクの一部分にわたって前記焦点位置を横方向に走査する段階を更に含む、請求項14又は請求項15に記載のフォトリソグラフィマスクの欠陥を補正する方法。
- 波面センサを用いて波面を測定する段階を含む、請求項15から請求項16のいずれか1項に記載のフォトリソグラフィマスクの欠陥を補正する方法。
- 前記測定された波面を基準波面と比較する段階と、
前記RMS波面誤差が低減されるような補正波面をこの比較から計算する段階と、
前記補正波面から前記波面マニピュレータのための新しい制御信号を設定する段階と、
前記制御信号を前記波面マニピュレータに送信する段階と、
を含む、請求項17に記載のフォトリソグラフィマスクの欠陥を補正する方法。
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