JP2021050978A - ガスサンプラ - Google Patents

ガスサンプラ Download PDF

Info

Publication number
JP2021050978A
JP2021050978A JP2019173303A JP2019173303A JP2021050978A JP 2021050978 A JP2021050978 A JP 2021050978A JP 2019173303 A JP2019173303 A JP 2019173303A JP 2019173303 A JP2019173303 A JP 2019173303A JP 2021050978 A JP2021050978 A JP 2021050978A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
sample
gas
pressure
pump
pipe
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2019173303A
Other languages
English (en)
Other versions
JP7226223B2 (ja
JP2021050978A5 (ja
Inventor
繁明 芝本
Shigeaki Shibamoto
繁明 芝本
文剣 盧
Wenjian Lu
文剣 盧
彩夏 佐藤
Ayaka Sato
彩夏 佐藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shimadzu Corp
Original Assignee
Shimadzu Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shimadzu Corp filed Critical Shimadzu Corp
Priority to JP2019173303A priority Critical patent/JP7226223B2/ja
Priority to US16/919,789 priority patent/US11531008B2/en
Priority to CN202010854736.0A priority patent/CN112629954A/zh
Publication of JP2021050978A publication Critical patent/JP2021050978A/ja
Publication of JP2021050978A5 publication Critical patent/JP2021050978A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP7226223B2 publication Critical patent/JP7226223B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N30/00Investigating or analysing materials by separation into components using adsorption, absorption or similar phenomena or using ion-exchange, e.g. chromatography or field flow fractionation
    • G01N30/02Column chromatography
    • G01N30/26Conditioning of the fluid carrier; Flow patterns
    • G01N30/38Flow patterns
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N1/00Sampling; Preparing specimens for investigation
    • G01N1/02Devices for withdrawing samples
    • G01N1/22Devices for withdrawing samples in the gaseous state
    • G01N1/24Suction devices
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N30/00Investigating or analysing materials by separation into components using adsorption, absorption or similar phenomena or using ion-exchange, e.g. chromatography or field flow fractionation
    • G01N30/02Column chromatography
    • G01N30/04Preparation or injection of sample to be analysed
    • G01N30/06Preparation
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N30/00Investigating or analysing materials by separation into components using adsorption, absorption or similar phenomena or using ion-exchange, e.g. chromatography or field flow fractionation
    • G01N30/02Column chromatography
    • G01N30/04Preparation or injection of sample to be analysed
    • G01N30/16Injection
    • G01N30/20Injection using a sampling valve
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N1/00Sampling; Preparing specimens for investigation
    • G01N2001/002Devices for supplying or distributing samples to an analysing apparatus
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N30/00Investigating or analysing materials by separation into components using adsorption, absorption or similar phenomena or using ion-exchange, e.g. chromatography or field flow fractionation
    • G01N30/02Column chromatography
    • G01N2030/022Column chromatography characterised by the kind of separation mechanism
    • G01N2030/025Gas chromatography
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N30/00Investigating or analysing materials by separation into components using adsorption, absorption or similar phenomena or using ion-exchange, e.g. chromatography or field flow fractionation
    • G01N30/02Column chromatography
    • G01N30/26Conditioning of the fluid carrier; Flow patterns
    • G01N30/38Flow patterns
    • G01N2030/382Flow patterns flow switching in a single column
    • G01N2030/385Flow patterns flow switching in a single column by switching valves
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N35/00Automatic analysis not limited to methods or materials provided for in any single one of groups G01N1/00 - G01N33/00; Handling materials therefor
    • G01N35/10Devices for transferring samples or any liquids to, in, or from, the analysis apparatus, e.g. suction devices, injection devices
    • G01N35/1095Devices for transferring samples or any liquids to, in, or from, the analysis apparatus, e.g. suction devices, injection devices for supplying the samples to flow-through analysers
    • G01N35/1097Devices for transferring samples or any liquids to, in, or from, the analysis apparatus, e.g. suction devices, injection devices for supplying the samples to flow-through analysers characterised by the valves

Abstract

【課題】 ニューマチック式の切替バルブを備えるガスサンプラにおいて、専用の圧力コントローラを設けなくても切替バルブの駆動圧を発生可能とする
【解決手段】ガスサンプラ(30)は、サンプルタンク(20)に接続可能な接続部(C1)と、サンプルタンク(20)から接続部(C1)に導入される試料ガスを保持するサンプルループ(PL)と、サンプルループ(PL)に接続される流路を切り替えるニューマチック式の切替バルブ(V1〜V6)と、切替バルブ(V1〜V6)に駆動圧を伝達する制御配管(81)と、サンプルループ(PL)内を吸引するためのポンプ(31)と、ポンプ(31)の作動によって生じた圧力を駆動圧の元圧として蓄圧する蓄圧タンク(80)とを備える
【選択図】図1

Description

本開示は、ガス分析装置のカラムに試料ガスを供給するためのガスサンプラに関する。
一般的に、ガスクロマトグラフなどのガス分析装置には、分析対象である試料ガス(サンプルガス)中の各種成分を分離するカラムが設けられる。カラムには、ガスサンプラを用いて試料ガスが供給される。ガスサンプラには、一定容積のサンプルループ、試料ガスをサンプルループに導入するための流路、キャリアガスをサンプルループに導入するための流路、サンプルループ内の試料ガスをカラムに供給するための流路、およびサンプルループに接続される流路を切り替えるための切替バルブなどが設けられる。サンプルループに接続される流路が切替バルブによって適宜切り替えられることによって、サンプルループ内に試料ガスが一旦充填され、その後にサンプルループ内の試料ガスがキャリアガスによってカラムに供給される。また、試料ガスをサンプルループに充填する方法としては、たとえば、サンプルループに接続されるポンプを設け、このポンプを作動させてサンプルループ内を吸引することでサンプルループ内に試料ガスを充填する方法が採用される。
国際公開第2018/235229号(特許文献1)には、ガスサンプラ内の流路を切り替えるための切替バルブとして、制御用流体の圧力(以下「駆動圧」ともいう)によって開閉されるニューマチック式のバルブを用いる技術が開示されている。
国際公開第2018/235229号
ガスサンプラ内の流路を切り替えるための切替バルブには、キャリアガスが流通し得る。そのため、切替バルブには、キャリアガス圧が作用し得る。切替バルブがニューマチック式のバルブである場合において、キャリアガス圧が切替バルブに作用している状態で切替バルブの状態を切り替えるためには、キャリアガス圧よりも大きい駆動圧を切替バルブに供給する必要がある。そのため、従来においては、キャリアガス圧を発生させるための圧力コントローラとは別に、切替バルブの駆動圧を発生させるための専用の圧力コントローラが設けられており、その影響で装置全体が大型化および複雑化してしまう傾向にあった。
本開示は、上記の問題を解決するためになされたものであり、本開示の目的は、ニューマチック式の切替バルブを備えるガスサンプラにおいて、専用の圧力コントローラを設けなくても切替バルブの駆動圧を発生可能とすることである。
本開示の態様に係るガスサンプラは、ガス分析装置のカラムに試料ガスを供給するためのガスサンプラであって、試料ガスが充填されたサンプルタンクに接続可能な接続部と、サンプルタンクから接続部に導入される試料ガスを保持するサンプル保持部と、サンプル保持部に接続される流路を切り替えるニューマチック式の切替バルブと、切替バルブに駆動圧を伝達する制御配管と、サンプル保持部内を吸引するためのポンプと、ポンプの作動によって生じた圧力を駆動圧の元圧として蓄圧するタンクとを備える。
上記のガスサンプラには、サンプル保持部内を吸引するためのポンプの作動によって生じる圧力を駆動圧の元圧として蓄圧するタンクが備えられる。そのため、切替バルブの制御を行なう前にポンプを作動して駆動圧の元圧をタンクに蓄えておくことができる。そのため、タンクに蓄えられた駆動圧で切替バルブを制御することができる。その結果、駆動圧の元圧を発生させるための専用の圧力コントローラを設けなくても切替バルブの駆動圧を発生可能となるため、ガス分析装置が大型化および複雑化することが抑制される。
本開示の他の態様に係るガスサンプラは、ガス分析装置のカラムに試料ガスを供給するためのガスサンプラであって、試料ガスが充填されたサンプルタンクに接続可能な接続部と、サンプルタンクから接続部に導入される試料ガスを保持するサンプル保持部と、サンプル保持部に接続される流路を切り替えるニューマチック式の切替バルブと、切替バルブに駆動圧を伝達する制御配管と、サンプル保持部内を吸引するためのポンプと、ポンプと制御配管との間に設けられ、ポンプの作動によって生じる圧力を駆動圧の元圧として制御配管に供給するための供給配管とを備える。
上記のガスサンプラには、サンプル保持部内を吸引するためのポンプの作動によって生じる圧力を切替バルブの制御配管に供給するための供給配管が備えられる。そのため、ポンプを作動することで、切替バルブの駆動圧を発生させることができる。その結果、駆動圧の元圧を発生させるための専用の圧力コントローラを設けなくても切替バルブの駆動圧を発生可能となるため、ガス分析装置が大型化および複雑化することが抑制される。
本開示においては、ニューマチック式の切替バルブを備えるガスサンプラにおいて、専用の圧力コントローラを設けなくても切替バルブの駆動圧を発生可能とすることができる。
ガスクロマトグラフの構成の一例を模式的に示す図である。 蓄圧処理中におけるガスサンプラの状態を示す図である。 サンプル充填処理中におけるガスサンプラの状態を示す図である。 サンプル供給処理中におけるガスサンプラの状態を示す図である。 分析処理中におけるガスサンプラの状態を示す図である。 制御装置が行なう処理の手順を示すフローチャート(その1)である。 制御装置が行なう処理の手順を示すフローチャート(その2)である。 ガスサンプラの構成の一例を模式的に示す図である。 サンプル供給処理中に蓄圧処理が実行される場合のガスサンプラの状態を示す図である。
以下、本開示の実施の形態について、図面を参照しながら詳細に説明する。なお、図中同一又は相当部分には同一符号を付してその説明は繰り返さない。
[装置構成]
図1は、本実施の形態によるガスサンプラ30を含むガスクロマトグラフ(ガス分析装置)1の構成の一例を模式的に示す図である。
ガスクロマトグラフ1は、電子式の自動圧力コントローラ(Automatic Pressure Controller、以下「APC」ともいう)10と、サンプルタンク20と、ガスサンプラ30と、ベント33と、カラム40と、検出装置50と、表示装置70と、入力装置60と、制御装置100とを備える。ベント33は、ガスサンプラ30の外部に連通される。
APC10は、キャリアガスと呼ばれる移動相を制御装置100からの指令に応じた圧力に調整して配管P4に出力する。APC10から配管P4に出力されたキャリアガスは、ガスサンプラ30の内部を通ってカラム40に供給される。なお、キャリアガスとしては、たとえばヘリウムガスが用いられる。
サンプルタンク20は、分析対象である試料ガス(サンプルガス)を貯留するタンクである。サンプルタンク20は、導入配管21を介してガスサンプラ30の接続部C1に接続される。ユーザは、ガスサンプラ30の接続部C1に接続されるサンプルタンク20および導入配管21を交換することによって、ガスクロマトグラフ1で分析される試料ガスを変更することができる。
ガスサンプラ30は、試料ガスを一定量ずつカラム40に供給するための装置である。ガスサンプラ30は、接続部C1と、一定容積のサンプルループPLと、配管P1〜P13と、切替バルブV1〜V6と、ポンプ31とを備える。サンプルループPLは、サンプル保持部の一例である。
接続部C1は、サンプルタンク20に接続された導入配管21に接続可能に構成される。配管P1は、接続部C1と切替バルブV1とを連通する。配管P2は、配管P12と切替バルブV3とを連通する。配管P3は、切替バルブV3と配管P4とを連通する。配管P5は、ポンプ31の吸込口31aと切替バルブV2とを連通する。配管P6は、切替バルブV2と切替バルブV4とを連通する。配管P7は、切替バルブV4と配管P10とを連通する。配管P8は、配管P4と切替バルブV5とを連通する。配管P9は、切替バルブV5と配管P10とを連通する。配管P10は、配管P9とカラム40とを連通する。配管P11は、ベント33と切替バルブV6とを連通する。配管P12は、切替バルブV1と配管P2とを連通する。配管P13は、配管P2と切替バルブV6とを連通する。なお、配管P4は、ガスサンプラ30の内部において配管P3と配管P8とに分岐される。配管P2は、配管P12と配管P13とに分岐される。配管P7と配管P9とは、ガスサンプラ30の内部において配管P10に合流される。
サンプルループPLは、配管P2と配管P6との間に接続される。サンプルループPLは、サンプルタンク20から導入される試料ガスを、カラム40に供給するために一時的に保持する機能を有する。
ポンプ31の吸込口31aは、配管P5、切替バルブV2および配管P6を介してサンプルループPLに接続される。ポンプ31は、サンプルループPL内を吸引することによってサンプルループPL内に試料ガスを充填するための吸引ポンプである。
切替バルブV1〜V6は、いずれも、制御用エアの圧力(以下「駆動圧」ともいう)によって開閉するニューマチック式のバルブである。ガスサンプラ30には、切替バルブV1〜V6に駆動圧を供給するための部品として、配管P14,P15、排気管P16、蓄圧バルブVP、蓄圧タンク80、制御配管81,82a〜82c、排気管83a〜83c、制御バルブVa〜Vcが備えられる。なお、以下では、蓄圧タンク80、制御配管81,82a〜82c、排気管83a〜83c、制御バルブVa〜Vcを含む流路を「ニューマチック流路系」とも称する。
切替バルブV1〜V6は、いずれも、駆動圧が供給されていない初期状態において開状態となり、駆動圧が供給されることによって閉状態となる、いわゆるノーマルオープンタイプのバルブである。
切替バルブV1,V2,V5の各々は、制御配管82bを介して制御バルブVbに連通され、制御バルブVbからの駆動圧の有無に応じて開閉される。切替バルブV3,V4は、制御配管82cを介して制御バルブVcに連通され、制御バルブVcからの駆動圧の有無に応じて開閉される。切替バルブV6は、制御配管82aを介して制御バルブVaに連通され、制御バルブVaからの駆動圧の有無に応じて開閉される。
制御配管81は、制御バルブVa〜Vcを介して制御配管82a〜82cに連通される。制御バルブVa〜Vcは、制御装置100からの指令信号によって制御される三方電磁弁である。
制御バルブVbは、制御配管81と制御配管82bと排気管83bとに接続され、排気管83bを遮断して制御配管81と制御配管82bとを連通する供給状態と、制御配管82bと排気管83bとを連通し制御配管81を遮断する遮断状態とのどちらかに制御される。制御バルブVbが供給状態に制御されると、制御配管81から制御バルブVbを介して切替バルブV1,V2,V5に駆動圧が供給されるため、切替バルブV1,V2,V5が閉状態となる。これにより、配管P1と配管P12とが遮断され、配管P5と配管P6とが遮断され、配管P8と配管P9とが遮断される。一方、制御バルブVbが遮断状態に制御されると、切替バルブV1,V2,V5に供給されていた駆動圧が排気管83bに排出されるため、切替バルブV1,V2,V5が開状態となる。これにより、配管P1と配管P12とが連通され、配管P5と配管P6とが連通され、配管P8と配管P9とが連通される。
制御バルブVcは、制御配管81と制御配管82cと排気管83cとに接続され、排気管83cを遮断して制御配管81と制御配管82cとを連通する供給状態と、制御配管82cと排気管83cとを連通し制御配管81を遮断する遮断状態とのどちらかに制御される。制御バルブVcが供給状態に制御されると、制御配管81から制御バルブVcを介して切替バルブV3,V4に駆動圧が供給されるため、切替バルブV3,V4が閉状態となる。これにより、配管P2と配管P3とが遮断され、配管P6と配管P7とが遮断される。一方、制御バルブVcが遮断状態に制御されると、切替バルブV3,V4に供給されていた駆動圧が排気管83cに排出され、切替バルブV3,V4が開状態となる。これにより、配管P2と配管P3とが連通され、配管P6と配管P7とが連通される。
制御バルブVaは、制御配管81と制御配管82aと排気管83aとに接続され、排気管83aを遮断して制御配管81と制御配管82aとを連通する供給状態と、制御配管82aと排気管83aを連通し制御配管81を遮断する遮断状態とのどちらかに制御される。制御バルブVaが供給状態に制御されると、制御配管81から制御バルブVaを介して切替バルブV6に駆動圧が供給されるため、切替バルブV6が閉状態となる。これにより、配管P11(ベント33)と配管P13とが遮断される。一方、制御バルブVaが遮断状態に制御されると、切替バルブV6に供給されていた駆動圧が排気管83aに排出されるため、切替バルブV6が開状態となる。これにより、配管P11(ベント33)と配管P13とが連通される。
蓄圧タンク80は、制御配管81に接続され、制御配管81とともに、切替バルブV1〜V6の駆動圧を生成するための元になる圧力(以下「駆動圧の元圧」ともいう)を蓄えておくタンクである。蓄圧タンク80には、圧力センサ85が設けられる。圧力センサ85は、蓄圧タンク80内の圧力を検出し、検出結果を制御装置100に出力する。
配管P14は、ポンプ31の吐出口31bと蓄圧バルブVPとを連通する。配管P15は、蓄圧タンク80と蓄圧バルブVPとを連通する。
蓄圧バルブVPは、配管P14と配管P15と排気管P16とに接続される。蓄圧バルブVPは、配管P14と配管P15とを連通して排気管P16を遮断する供給状態と、配管P14と排気管P16とを連通して配管P15を遮断する排気状態とのどちらかに制御される。蓄圧バルブVPが供給状態に制御されると、ポンプ31の吐出圧が蓄圧バルブVPを介して蓄圧タンク80に供給される。一方、蓄圧バルブVPが排気状態に制御されると、ポンプ31の吐出圧が蓄圧バルブVPを介して排気管P16に排出される。
切替バルブV1〜V6の制御によってサンプルループPLの接続先が適宜切り替えられることによって、サンプルタンク20からの試料ガスがサンプルループPLに一旦充填され、その後にサンプルループPL内の試料ガスがカラム40に供給される。ガスサンプラ30によるカラム40への試料ガスの供給方法については後に詳述する。
カラム40は、ガスサンプラ30から供給された試料ガス中の各種成分を分離する。具体的には、カラム40に供給された試料ガスは、APC10から出力されるキャリアガスの流れに乗ってカラム40中を通過する間に、当該試料ガス中に含まれる各種成分が時間方向に分離される。カラム40において分離された成分は、カラム40から検出装置50へと導入される。
検出装置50は、カラム40から導入された各成分を検出する。検出装置50として、たとえば、吸光光度検出器(PDA(Photo Diode Array)検出器)、蛍光検出器、示差屈折率検出器、伝導度検出器、あるいは質量分析計などが用いられる。検出装置50による検出結果を示すデータは、制御装置100内のメモリに記憶され、ユーザからの要求により表示装置70に表示される。
入力装置60は、たとえばキーボードあるいはマウスなどのポインティングデバイスであり、ユーザからの指令を受け付ける。表示装置70は、たとえば液晶(LCD:Liquid Crystal Display)パネルで構成され、ユーザに情報を表示する。ユーザインターフェースとしてタッチパネルが用いられる場合には、入力装置60と表示装置70とが一体的に形成される。
制御装置100は、図示しないCPU(Central Processing Unit)、メモリ、インターフェースなどを含む。制御装置100は、ポンプ31、APC10、切替バルブV1〜V6(制御バルブVa〜Vc)などを含めたガスクロマトグラフ1全体を統括的に制御する。制御装置100は、ユーザインターフェースである入力装置60および表示装置70と、有線あるいは無線で接続されている。
制御装置100は、ガスサンプラ30からカラム40へ試料ガスを供給する際には、サンプルタンク20から供給される試料ガスをサンプルループPLに一旦充填し、その後にサンプルループPL内に充填された試料ガスをカラム40に供給するように、ポンプ31および切替バルブV1〜V6を制御する。
切替バルブV1〜V6には、APC10からのキャリアガスが流通し得る。そのため、切替バルブV1〜V6には、キャリアガス圧が作用し得る。したがって、ニューマチック式の切替バルブV1〜V6を開状態(初期状態)から閉状態に切り替えるためには、キャリアガス圧よりも大きい駆動圧を切替バルブV1〜V6に供給する必要がある。しかしながら、キャリアガス圧を発生させるためのAPC10とは別に、キャリアガス圧よりも大きい駆動圧を発生させるための専用のAPCを設けると、その影響でガスクロマトグラフ1全体が大型化および複雑化してしまう。
そこで、本実施の形態によるガスサンプラ30においては、試料ガス充填用のポンプ31の吐出口31bと駆動圧供給用の制御配管81との間に、蓄圧タンク80が設けられる。そのため、ポンプ31を作動することによってポンプ31の吐出圧を、駆動圧の元圧として蓄圧タンク80に蓄えておくことができる。その結果、駆動圧の元圧を発生させるための専用のAPCが不要になり、ガスクロマトグラフ1が大型化および複雑化することが抑制される。
なお、本実施の形態によるポンプ31は、ポンプ31の吐出圧をキャリアガス圧よりも所定値大きくなるように調整可能に構成されている。したがって、本実施の形態においては、制御配管81から各切替バルブV1〜V6に供給される駆動圧を、切替バルブV1〜V6に作用するキャリアガス圧よりも所定値大きい値にすることができる。これにより、各切替バルブV1〜V6を開状態(初期状態)から閉状態に適切に切り替えることができる。
なお、本実施の形態における「接続部C1」、「サンプルループPL」、「制御配管81」、「切替バルブV1〜V6」、「ポンプ31」、「蓄圧タンク80」、および「ベント33」は、本開示における「接続部」、「サンプル保持部」、「制御配管」、「切替バルブ」、「ポンプ」、「タンク」、および「ベント」にそれぞれ対応し得る。また、本実施の形態における「切替バルブV6」および「蓄圧バルブVP」は、本開示における「ベントバルブ」および「蓄圧バルブ」にそれぞれ対応し得る。また、本実施の形態における「配管P14」は、本開示における「供給配管」に対応し得る。
[試料ガスの供給動作]
本実施の形態による制御装置100は、以下に説明する蓄圧処理、サンプル充填処理、サンプル供給処理、分析処理をこの順に実行することによって、試料ガスをサンプルループPLに一旦充填し、サンプルループPL内に充填された試料ガスをカラム40に供給して試料ガスの分析を行なう。
まず、蓄圧処理について説明する。蓄圧処理は、ポンプ31を作動することによって、ポンプ31の吐出圧を切替バルブV1〜V6の駆動圧の元圧として蓄圧タンク80に蓄えておく処理である。なお、本実施の形態においては、蓄圧処理がガスクロマトグラフ1の起動時(切替バルブV1〜V6の駆動前)に実行される例について説明する。
図2は、蓄圧処理中におけるガスサンプラ30の状態を示す図である。切替バルブV1〜V6はノーマルオープンのバルブであるため、ガスクロマトグラフ1の起動時においては、切替バルブV1〜V6はいずれも開状態となっている。
この状態で、制御装置100は、制御バルブVa〜Vcを排気状態にして制御配管81を各切替バルブV1〜V6から遮断し、かつ蓄圧バルブVPを供給状態にしてポンプ31の吐出口31bを蓄圧タンク80に連通させ、かつポンプ31を作動する。これにより、白抜き矢印に示すように、エア(外気)がベント33から切替バルブV6、サンプルループPLおよび切替バルブV2を介してポンプ31に吸引される。ポンプ31に吸引されたエアは、ポンプ31内で加圧された後、ポンプ31の吐出口31bから配管P14および蓄圧バルブVPを通って蓄圧タンク80に供給される。これにより、ポンプ31の吐出圧が、蓄圧タンク80に蓄えられる。この際、制御装置100は、ポンプ31の吐出圧がキャリアガス圧よりも所定値大きい値となるように、ポンプ31の出力を調整する。そのため、蓄圧タンク80に蓄えられる圧力(駆動圧の元圧)は、キャリアガス圧よりも所定値大きい値となる。
なお、図2に示すように、蓄圧処理は、接続部C1に未だサンプルタンク20が接続されていない状態で行なわれる。そのため、蓄圧処理中において切替バルブV1が初期状態(開状態)であったとしても、試料ガスが蓄圧タンク80内に供給されることはない。これにより、ニューマチック流路系(蓄圧タンク80、制御配管81、制御バルブVa〜Vc等)に試料ガスが入り込むことが防止されるため、ニューマチック流路系が試料ガスによって腐食されることが防止される。
次に、サンプル充填処理について説明する。サンプル充填処理は、接続部C1にサンプルタンク20が接続された状態でポンプ31を作動して、サンプルタンク20からの試料ガスをサンプルループPLに充填するための処理である。
図3は、サンプル充填処理中におけるガスサンプラ30の状態を示す図である。サンプル充填処理中において、制御装置100は、制御バルブVa,Vcを供給状態にし、制御バルブVbを遮断状態にし、蓄圧バルブVPを排気状態にする。
制御バルブVa,Vcが供給状態にされることにより、細矢印に示すように、制御配管81から制御バルブVa,Vcを介して切替バルブV3,V4,V6に駆動圧が供給される。これにより、切替バルブV3,V4,V6が閉状態となる。一方、制御バルブVbは遮断状態であるため、切替バルブV1,V2には駆動圧は供給されず、切替バルブV1,V2は開状態のままである。さらに、蓄圧バルブVPが排気状態にされることにより、蓄圧タンク80が配管P14および排気管P16から遮断されるとともに、配管P14が排気管P16に連通される。
この状態で、制御装置100は、ポンプ31を作動する。これにより、斜線矢印に示すように、サンプルタンク20からの試料ガスがサンプルループPL内に充填される。この際、サンプルループPL内の試料ガスがポンプ31内にも吸引されて配管P14に排出され得るが、蓄圧バルブVPが排気状態であり配管P14は排気管P16に連通されるため、試料ガスは蓄圧タンク80には供給されずに排気管P16に排出される。そのため、劣化が抑制される。サンプル充填処理においても、ニューマチック流路系に試料ガスが入り込むことが防止される。
なお、カラム40にはキャリアガスを常に充填させておくことが望ましいため、サンプル充填処理以降においては、APC10が作動される。これにより、黒塗り矢印に示すように、APC10からのキャリアガスが切替バルブV5を通ってカラム40に供給される。
次に、サンプル供給処理について説明する。サンプル供給処理は、サンプル充填処理によってサンプルループPL内に充填された試料ガスを、キャリアガスを利用してカラム40に供給するための処理である。
図4は、サンプル供給処理中におけるガスサンプラ30の状態を示す図である。サンプル供給処理中においては、制御装置100は、ポンプ31を停止しつつ、制御バルブVa,Vbを供給状態にし、制御バルブVcを遮断状態にし、蓄圧バルブVPを排気状態にする。
制御バルブVa,Vbが供給状態にされることにより、細矢印に示すように、制御配管81から制御バルブVa,Vbを介して切替バルブV1,V2,V5,V6に駆動圧が供給される。これにより、切替バルブV1,V2,V5,V6が閉状態となる。一方、制御バルブVcは遮断状態であるため、切替バルブV3,V4には駆動圧は供給されず、切替バルブV3,V4は開状態となる。これにより、黒塗り矢印に示すようにAPC10からのキャリアガスが配管P4および切替バルブV3を通ってサンプルループPLに供給され、サンプルループPLに充填された試料ガスがキャリアガスによって押し出されて切替バルブV4および配管P10を通ってカラム40に供給される。
次に、分析処理について説明する。分析処理は、サンプル供給処理によってカラム40に供給された試料ガスの分析を検出装置50で行なう処理である。
図5は、分析処理中におけるガスサンプラ30の状態を示す図である。分析処理中においては、制御装置100は、ポンプ31を停止しつつ、制御バルブVa,Vcを供給状態にし、制御バルブVbを遮断状態にし、蓄圧バルブVPを排気状態にする。これにより、細矢印に示すように、制御配管81から制御バルブVa,Vcを介して切替バルブV3,V4,V6に駆動圧が供給される。そのため、切替バルブV3,V4,V6が閉状態となる。一方、制御バルブVbは遮断状態であるため、切替バルブV1,V2,V5は開状態となる。そのため、黒塗り矢印に示すように、APC10からのキャリアガスが切替バルブV5を通ってカラム40に供給される。
サンプル充填処理、サンプル供給処理および分析処理の実行中においては、いずれも蓄圧バルブVPは排気状態にされるため、蓄圧タンク80は配管P14および排気管P16から遮断される。そのため、蓄圧タンク80内の圧力は、配管P14および排気管P16に漏れ出ることはなく、各処理において各切替バルブV1〜V6に駆動圧を供給することによって徐々に減少していく。したがって、蓄圧処理によって蓄圧タンク80に蓄えられる圧力は、サンプル充填処理、サンプル供給処理および分析処理での圧力減少分を考慮して設定される。すなわち、蓄圧処理においては、蓄圧タンク80に蓄えられる圧力がキャリアガス圧よりも「所定値」だけ大きい値となるように調整されるが、この「所定値」はサンプル充填処理、サンプル供給処理および分析処理での圧力減少量の合計よりも大きい値に設定される。これにより、蓄圧タンク80に蓄えられる圧力がサンプル充填処理、サンプル供給処理および分析処理で減少したとしても、各処理において駆動圧をキャリアガス圧よりも大きい状態に維持することができる。さらに、「所定値」を、各処理における圧力減少分に加えて、制御配管81から各切替バルブV1〜V6までの流路の圧力損失を考慮して設定するようにしてもよい。
図6は、制御装置100がガスサンプラ30からカラム40へ試料ガスを供給する際に行なう処理の手順を示すフローチャートである。このフローチャートは、ガスクロマトグラフ1の起動時に開始される。なお、ガスクロマトグラフ1の起動時においては、未だサンプルタンク20が接続部C1に接続されていない状態である。
制御装置100は、まず、上述の蓄圧処理を行なう(ステップS10)。具体的には、上述の図2に示したように、制御装置100は、制御バルブVa〜Vcを遮断状態にして制御配管81を各切替バルブV1〜V6から遮断し、かつ蓄圧バルブVPを供給状態にしてポンプ31の吐出口31bを蓄圧タンク80に連通させ、かつポンプ31を作動する。これにより、ポンプ31の吐出圧が駆動圧の元圧として蓄圧タンク80に蓄えられる。この蓄圧処理によって蓄圧タンク80に蓄えられた圧力が、以降の処理においては、切替バルブV1〜V6の駆動圧の元圧として利用される。そのため、駆動圧の元圧を発生させるための専用の圧力コントローラが不要になり、ガスクロマトグラフ1が大型化することが抑制される。
蓄圧処理において、制御装置100は、上述したように、蓄圧タンク80内の圧力がキャリアガス圧よりも所定値大きい値となるように、ポンプ31の出力を調整する。なお、ポンプ31の出力を調整する制御の態様としては、予め定められた条件でポンプ31を運転するフィードフォワード制御であってもよいし、圧力センサ85の検出値がキャリアガス圧よりも所定値大きい値となるようポンプ31を運転するフィードバッフ制御であってもよい。
蓄圧処理の実行後に、制御装置100は、上述のサンプル充填処理を実行する(ステップS12)。具体的には、上述の図3に示したように、制御装置100は、制御バルブVa,Vcを供給状態にして切替バルブV3,V4,V6を閉状態とし、制御バルブVbを遮断状態にして切替バルブV1,V2,V5を開状態とし、蓄圧バルブVPを排気状態にし、ポンプ31を作動する。これにより、サンプルタンク20からの試料ガスがサンプルループPL内に充填されるとともに、ニューマチック流路系に試料ガスが入り込むことが防止される。
サンプル充填処理の実行後に、制御装置100は、上述のサンプル供給処理を行なう(ステップS14)。具体的には、上述の図4に示したように、制御装置100は、ポンプ31を停止しつつ、制御バルブVa,Vbを供給状態にして切替バルブV1,V2,V5,V6を閉状態とし、制御バルブVcを遮断状態にして切替バルブV3,V4を開状態とし、蓄圧バルブVPを排気状態にする。これにより、サンプルループPLに充填された試料ガスがキャリアガスによってカラム40に供給される。
サンプル供給処理の実行後に、制御装置100は、上述の分析処理を行なう(ステップS16)。具体的には、上述の図5に示したように、制御装置100は、ポンプ31を停止しつつ、制御バルブVa,Vcを供給状態にして切替バルブV3,V4,V6を閉状態とし、制御バルブVbを遮断状態にして切替バルブV1,V2,V5を開状態とし、蓄圧バルブVPを排気状態にする。これにより、サンプルループPLに充填された試料ガスがキャリアガスによってカラム40から検出装置50に供給され、検出装置50による分析が行なわれる。
なお、本実施の形態における「制御装置100」、「蓄圧処理」、「サンプル充填処理」、「サンプル供給処理」は、本開示における「制御装置」、「蓄圧処理」、「導入処理」、「供給処理」にそれぞれ対応し得る。
以上のように、本実施の形態によるガスサンプラ30においては、試料ガス充填用のポンプ31の吐出口31bと駆動圧供給用の制御配管81との間に、蓄圧タンク80が設けられる。そのため、ポンプ31を作動することによってポンプ31の吐出圧を、駆動圧の元圧として蓄圧タンク80に蓄えておくことができる。その結果、駆動圧の元圧を発生させるための専用の圧力コントローラが不要になり、ガスクロマトグラフ1が大型化することが抑制される。
[変形例]
(変形例1)
上述の実施の形態においては、ガスクロマトグラフ1の起動時において、常に蓄圧処理を行なう例(図6参照)を説明した。
しかしながら、ガスクロマトグラフ1の起動時において、蓄圧タンク80内の圧力(以下「タンク圧」ともいう)がしきい値よりも小さい場合に蓄圧処理を行ない、そうでない場合には蓄圧処理を省略するようにしてもよい。
図7は、本変形例1による制御装置100がガスサンプラ30からカラム40へ試料ガスを供給する際に行なう処理の手順を示すフローチャートである。図7に示すフローチャートは、上述の図6に示すフローチャートに対し、ステップS10の前に、ステップS20を追加したものである。その他のステップ(上述の図6に示したステップと同じ番号を付しているステップ)については、既に説明したため詳細な説明はここでは繰り返さない。
ステップS20にて、制御装置100は、圧力センサ85によって検出されたタンク圧がしきい値よりも小さいか否かを判定する(ステップS20)。なお、「しきい値」は、たとえば、キャリアガス圧よりも所定値大きい値に設定される。
タンク圧がしきい値よりも小さい場合(ステップS20においてYES)、制御装置100は、蓄圧処理を実行する(ステップS10)。蓄圧処理の実行後、制御装置100は、サンプル充填処理以降の処理を順次行なう(ステップS12〜S16)。
一方、タンク圧がしきい値よりも大きい場合(ステップS20においてNO)、制御装置100は、蓄圧処理を省略して、サンプル充填処理以降の処理を順次行なう(ステップS12〜S16)。
以上のように、ガスクロマトグラフ1の起動時において、タンク圧がしきい値よりも大きい場合には蓄圧処理を省略するようにしてもよい。これにより、無駄に蓄圧処理を行なうことが抑制されるため、試料ガスの分析に要する時間を短縮することができる。
(変形例2)
上述の実施の形態によるガスサンプラ30においては、ポンプ31がサンプルループPLを介してベント33に連通可能に構成される例(図1等参照)を示した。しかしながら、ポンプ31がサンプルループPLを介することなくベント33に連通可能に構成されるようにしてもよい。
図8は、本変形例2によるガスサンプラ30Aの構成の一例を模式的に示す図である。ガスサンプラ30Aは、上述の図1に示すガスサンプラ30の配管P13の接続先を、配管P2から、配管P5に変更したものである。すなわち、ガスサンプラ30Aにおいては、ベント33が切替バルブV6を介して、ポンプ31と切替バルブV1との間の配管P5に接続される。なお、本変形例2における「切替バルブV1」および「切替バルブV6」は、本開示における「第1切替バルブ」および「第2切替バルブ」に対応し得る。
本変形例2によるガスサンプラ30Aにおいては、切替バルブV2を閉状態にしてポンプ31とサンプルループPLとを遮断しつつ、切替バルブV6を開状態にしてポンプ31とベント33とを連通することができる。そのため、サンプル供給処理中に蓄圧処理を実行することが可能となる。
図9は、サンプル供給処理中に蓄圧処理が実行される場合のガスサンプラ30Aの状態を示す図である。この場合、切替バルブV1,V2,V5が閉状態とされ、切替バルブV3,V4,V6が開状態とされ、蓄圧バルブVPが供給状態とされ、ポンプ31が作動される。これにより、黒塗り矢印に示すようにAPC10からのキャリアガスが切替バルブV3を通ってサンプルループPLに供給され、サンプルループPLに充填された試料ガスが切替バルブV4を通ってカラム40に供給される。これにより、上述のサンプル供給処理が行なわれることになる。さらに、白抜き矢印に示すように、エア(外気)がベント33から切替バルブV6を通ってポンプ31に吸引され、ポンプ31の吐出圧が蓄圧バルブVPを通って蓄圧タンク80に供給される。これにより、サンプル供給処理中に、上述の蓄圧処理が行なわれることになる。したがって、本変形例2においては、蓄圧タンク80および制御配管81に供給されたポンプ31の吐出圧が、リアルタイムで切替バルブV1,V2,V5の駆動圧として用いられる。
以上のように、本変形例2によるガスサンプラ30Aにおいては、ポンプ31がサンプルループPLを介することなくベント33に連通可能に構成される。そのため、サンプル供給処理中に蓄圧処理を実行することが可能となる。
(変形例3)
上述の実施の形態においては、蓄圧処理においてポンプ31の吐出圧(正圧)を蓄圧タンク80に蓄える例について説明した。しかしながら、蓄圧処理において蓄圧タンク80に蓄えられる圧力は、ポンプ31の作動によって生じた圧力であればよく、必ずしもポンプ31の吐出圧(正圧)に限定されるものではない。
たとえば、蓄圧処理において、ポンプ31の作動によって蓄圧タンク80内を負圧にし、その負圧を駆動圧の元圧として蓄圧タンク80に蓄えておくようにしてもよい。この場合、各切替バルブV1〜V6を、蓄圧タンク80に蓄えられる負圧によって駆動するように変更すればよい。
[態様]
上述した実施の形態およびその変形例は、以下の態様の具体例であることが当業者により理解される。
(第1項) 一態様に係るガスサンプラは、ガス分析装置のカラムに試料ガスを供給するためのガスサンプラであって、試料ガスが充填されたサンプルタンクに接続可能な接続部と、サンプルタンクから接続部に導入される試料ガスを保持するサンプル保持部と、サンプル保持部に接続される流路を切り替えるニューマチック式の切替バルブと、切替バルブに駆動圧を伝達する制御配管と、サンプル保持部内を吸引するためのポンプと、ポンプの作動によって生じた圧力を駆動圧の元圧として蓄圧するタンクとを備える。
第1項に記載のガスサンプラによれば、サンプル保持部内を吸引するためのポンプの作動によって生じた圧力を駆動圧の元圧として蓄圧するタンクが設けられる。そのため、ポンプを作動することによって、駆動圧の元圧をタンクに蓄えておくことができる。その結果、駆動圧の元圧を発生させるための専用の圧力コントローラを設けなくても切替バルブの駆動圧を発生可能となるため、ガス分析装置が大型化および複雑化することが抑制される。
(第2項)第1項に記載のガスサンプラにおいて、切替バルブは、試料ガスをサンプル保持部に導入するための流路、キャリアガスをサンプル保持部に導入するための流路、サンプル保持部内の試料ガスをカラムに供給するための流路を切り替える。
(第3項) 第1項または第2項に記載のガスサンプラにおいて、タンクは、ポンプの吐出口と制御配管との間に接続され、ポンプの吐出圧を駆動圧の元圧として蓄圧する。
第3項に記載のガスサンプラによれば、ポンプでサンプル保持部内を吸引する際に発生するポンプの吐出圧を、駆動圧の元圧として有効に利用することができる。
(第4項) 第1項〜第3項のいずれかに記載のガスサンプラにおいて、ガスサンプラは、外部に連通されるベントをさらに備える。切替バルブは、ポンプの吸込口とベントとの接続状態を切り替えるベントバルブを含む。ベントバルブは、駆動圧が供給されていない場合に開状態となり、駆動圧が供給されている場合に閉状態になるように構成される。
第4項に記載のガスサンプラによれば、ベントバルブに駆動圧が供給されていない初期状態において、ベントバルブが開状態となり、ポンプの吸込口と外部とが連通される。そのため、試料ガスおよびキャリアガスではなく、ポンプがベントから吸引した外気をタンクに蓄えておくことができる。これにより、試料ガスがタンクに供給されて試料ガスによってタンクが腐食してしまうことが防止される。
(第5項) 第4項に記載のガスサンプラにおいて、ガスサンプラは、ポンプおよび切替バルブを制御する制御装置をさらに備える。制御装置は、ベントバルブが開状態であるときにポンプを作動してポンプの吐出圧をタンクに蓄圧する蓄圧処理を実行し、蓄圧処理の実行後に、ベントバルブを閉状態にしつつポンプを作動して試料ガスをサンプル保持部に導入する導入処理を実行し、導入処理の実行後に、サンプル保持部内の試料ガスをカラムに供給する供給処理を実行する。
第5項に記載のガスサンプラによれば、導入処理および供給処理の実行前に、蓄圧処理が実行される。そのため、蓄圧処理によってタンクに蓄えられた圧力を用いて、導入処理および供給処理における切替バルブの制御を行なうことができる。
(第6項) 第5項に記載のガスサンプラにおいて、ガスサンプラは、タンクの吐出口とポンプとの間に設けられた電磁式の蓄圧バルブをさらに備える。制御装置は、蓄圧処理中においてポンプの吐出口がタンクに連通されるように蓄圧バルブを制御し、導入処理中においてポンプの吐出口がガスサンプラの外部に連通されるように蓄圧バルブを制御する。
第6項に記載のガスサンプラによれば、蓄圧処理中においてはポンプの吐出口がタンクに連通されるため、ポンプの吐出圧をタンクに蓄えることができる。さらに、導入処理中においてはポンプの吐出口がガスサンプラの外部に連通されるため、導入処理中に試料ガスがポンプからタンクに供給されることを抑制できる。そのため、試料ガスによってタンクが腐食することを抑制できる。
(第7項) 一態様に係るガスサンプラは、ガス分析装置のカラムに試料ガスを供給するためのガスサンプラであって、試料ガスが充填されたサンプルタンクに接続可能な接続部と、サンプルタンクから接続部に導入される試料ガスを保持するサンプル保持部と、サンプル保持部に接続される流路を切り替えるニューマチック式の切替バルブと、切替バルブに駆動圧を伝達する制御配管と、サンプル保持部内を吸引するためのポンプと、ポンプと制御配管との間に設けられ、ポンプの作動によって生じる圧力を駆動圧の元圧として制御配管に供給するための供給配管とを備える。
第7項に記載のガスサンプラによれば、サンプル保持部内を吸引するためのポンプの作動によって生じる圧力を駆動圧の元圧として制御配管に供給するための供給配管が備えられる。そのため、ポンプを作動することによって、切替バルブの駆動圧の元圧を制御配管に供給することができる。その結果、駆動圧の元圧を発生させるための専用の圧力コントローラが不要になり、ガス分析装置が大型化することが抑制される。
(第8項) 第7項に記載のガスサンプラにおいて、ガスサンプラは、ガスサンプラの外部に連通されるベントをさらに備える。切替バルブは、ポンプとサンプル保持部との間に接続される第1切替バルブと、ポンプと第1切替バルブとを接続する流路と、ベントとの間に設けられ、駆動圧が供給されていない場合に開状態となり、駆動圧が供給されている場合に閉状態になる第2切替バルブとを備える。
第8項に記載のガスサンプラによれば、第1切替バルブを閉状態にしつつ第2切替バルブを開状態にすることによって、ポンプとサンプル保持部とを遮断しつつ、ポンプとベントとを連通することができる。そのため、サンプル保持部からカラムに試料ガスを供給している間に、ポンプを作動してポンプの吐出圧を切替バルブの駆動圧として切替バルブに供給することができる。
今回開示された実施の形態は、全ての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は、上記した実施の形態の説明ではなくて特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内での全ての変更が含まれることが意図される。
1 ガスクロマトグラフ、10 APC、20 サンプルタンク、21 導入配管、30,30A ガスサンプラ、31 ポンプ、31a 吸込口、31b 吐出口、33 ベント、40 カラム、50 検出装置、60 入力装置、70 表示装置、80 蓄圧タンク、81,82a〜82c 制御配管、83a,83b,83c,P16 排気管、85 圧力センサ、100 制御装置、C1 接続部、P1〜P15 配管、PL サンプルループ、V1〜V6 切替バルブ、VP 蓄圧バルブ、Va〜Vc 制御バルブ。

Claims (8)

  1. ガス分析装置のカラムに試料ガスを供給するためのガスサンプラであって、
    前記試料ガスが充填されたサンプルタンクに接続可能な接続部と、
    前記サンプルタンクから前記接続部に導入される前記試料ガスを保持するサンプル保持部と、
    前記サンプル保持部に接続される流路を切り替えるニューマチック式の切替バルブと、
    前記切替バルブに駆動圧を伝達する制御配管と、
    前記サンプル保持部内を吸引するためのポンプと、
    前記ポンプの作動によって生じた圧力を前記駆動圧の元圧として蓄圧するタンクとを備える、ガスサンプラ。
  2. 前記切替バルブは、前記試料ガスを前記サンプル保持部に導入するための流路、キャリアガスを前記サンプル保持部に導入するための流路、前記サンプル保持部内の試料ガスを前記カラムに供給するための流路を切り替える、請求項1に記載のガスサンプラ。
  3. 前記タンクは、前記ポンプの吐出口と前記制御配管との間に接続され、前記ポンプの吐出圧を前記駆動圧の元圧として蓄圧する、請求項1または2に記載のガスサンプラ。
  4. 前記ガスサンプラは、外部に連通されるベントをさらに備え、
    前記切替バルブは、前記ポンプの吸込口と前記ベントとの接続状態を切り替えるベントバルブを含み、
    前記ベントバルブは、前記駆動圧が供給されていない場合に開状態となり、前記駆動圧が供給されている場合に閉状態になるように構成される、請求項1〜3のいずれかに記載のガスサンプラ。
  5. 前記ガスサンプラは、前記ポンプおよび前記切替バルブを制御する制御装置をさらに備え、
    前記制御装置は、
    前記ベントバルブが開状態であるときに前記ポンプを作動して前記ポンプの吐出圧を前記タンクに蓄圧する蓄圧処理を実行し、
    前記蓄圧処理の実行後に、前記ベントバルブを閉状態にしつつ前記ポンプを作動して前記試料ガスを前記サンプル保持部に導入する導入処理を実行し、
    前記導入処理の実行後に、前記サンプル保持部内の前記試料ガスを前記カラムに供給する供給処理を実行する、請求項4に記載のガスサンプラ。
  6. 前記ガスサンプラは、前記タンクの吐出口と前記ポンプとの間に設けられた電磁式の蓄圧バルブをさらに備え、
    前記制御装置は、前記蓄圧処理中において前記ポンプの吐出口が前記タンクに連通されるように前記蓄圧バルブを制御し、前記導入処理中において前記ポンプの吐出口が前記ガスサンプラの外部に連通されるように前記蓄圧バルブを制御する、請求項5に記載のガスサンプラ。
  7. ガス分析装置のカラムに試料ガスを供給するためのガスサンプラであって、
    前記試料ガスが充填されたサンプルタンクに接続可能な接続部と、
    前記サンプルタンクから前記接続部に導入される前記試料ガスを保持するサンプル保持部と、
    前記サンプル保持部に接続される流路を切り替えるニューマチック式の切替バルブと、
    前記切替バルブに駆動圧を伝達する制御配管と、
    前記サンプル保持部内を吸引するためのポンプと、
    前記ポンプと前記制御配管との間に設けられ、前記ポンプの作動によって生じる圧力を前記駆動圧の元圧として前記制御配管に供給するための供給配管とを備える、ガスサンプラ。
  8. 前記ガスサンプラは、前記ガスサンプラの外部に連通されるベントをさらに備え、
    前記切替バルブは、
    前記ポンプと前記サンプル保持部との間に接続される第1切替バルブと、
    前記ポンプと前記第1切替バルブとを接続する流路と、前記ベントとの間に設けられ、前記駆動圧が供給されていない場合に開状態となり、前記駆動圧が供給されている場合に閉状態になる第2切替バルブとを備える、請求項7に記載のガスサンプラ。
JP2019173303A 2019-09-24 2019-09-24 ガスサンプラ Active JP7226223B2 (ja)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2019173303A JP7226223B2 (ja) 2019-09-24 2019-09-24 ガスサンプラ
US16/919,789 US11531008B2 (en) 2019-09-24 2020-07-02 Gas sampler
CN202010854736.0A CN112629954A (zh) 2019-09-24 2020-08-24 气体取样器

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2019173303A JP7226223B2 (ja) 2019-09-24 2019-09-24 ガスサンプラ

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2021050978A true JP2021050978A (ja) 2021-04-01
JP2021050978A5 JP2021050978A5 (ja) 2022-01-28
JP7226223B2 JP7226223B2 (ja) 2023-02-21

Family

ID=74881838

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2019173303A Active JP7226223B2 (ja) 2019-09-24 2019-09-24 ガスサンプラ

Country Status (3)

Country Link
US (1) US11531008B2 (ja)
JP (1) JP7226223B2 (ja)
CN (1) CN112629954A (ja)

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20110011156A1 (en) * 2007-11-30 2011-01-20 Paul Guieze Natural gas analyzer on a micro-chip
WO2018235229A1 (ja) * 2017-06-22 2018-12-27 株式会社島津製作所 マイクロバルブ
JP2019124625A (ja) * 2018-01-18 2019-07-25 株式会社島津製作所 バルブシステム

Family Cites Families (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3174326A (en) * 1958-02-24 1965-03-23 Beckman Instruments Inc Gas chromatograph
US4094187A (en) * 1977-07-22 1978-06-13 Champion International Corporation Stack gas analyzing system with calibrating/sampling feature
US4970905A (en) * 1989-05-25 1990-11-20 University Of Utah Apparatus and method for sampling
US5547497A (en) * 1992-09-30 1996-08-20 Chromatofast, Inc. Apparatus for gas chromatography
US5288310A (en) * 1992-09-30 1994-02-22 The Regents Of The University Of Michigan Adsorbent trap for gas chromatography
US5611846A (en) * 1994-01-14 1997-03-18 Board Of Supervisors Of Louisiana State University And Agricultural And Mechanical College Portable gas chromatograph
US5811059A (en) * 1995-10-16 1998-09-22 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Army Automated, on-demand ion mobility spectrometry analysis of gas chromatograph effluents
JP4887199B2 (ja) * 2007-04-09 2012-02-29 株式会社日立ハイテクノロジーズ 液体クロマトグラフィ
CN102323359B (zh) * 2011-08-15 2014-04-02 西北核技术研究所 制备型气相色谱系统及其分离惰性气体样品的方法
JP6207872B2 (ja) * 2013-04-18 2017-10-04 株式会社日立ハイテクノロジーズ 液体クロマトグラフ装置および液体クロマトグラフ分析方法
JP2015206774A (ja) * 2014-04-23 2015-11-19 株式会社島津製作所 流量調整装置及びこれを備えたガスクロマトグラフ
KR102051696B1 (ko) * 2015-10-06 2019-12-05 주식회사 엘지화학 가스 크로마토그래피 분석을 위한 가스시료 주입장치 및 이의 방법
CN105485408A (zh) * 2015-12-30 2016-04-13 上海华爱色谱分析技术有限公司 一种为气相色谱仪气动阀的切换提供气源的装置
JP6717386B2 (ja) * 2016-12-08 2020-07-01 株式会社島津製作所 流体クロマトグラフ
US10458961B2 (en) * 2017-08-01 2019-10-29 Shimadzu Corporation Gas chromatograph
CN113219108A (zh) * 2021-02-02 2021-08-06 成都昶艾电子科技有限公司 一种气相色谱仪

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20110011156A1 (en) * 2007-11-30 2011-01-20 Paul Guieze Natural gas analyzer on a micro-chip
WO2018235229A1 (ja) * 2017-06-22 2018-12-27 株式会社島津製作所 マイクロバルブ
JP2019124625A (ja) * 2018-01-18 2019-07-25 株式会社島津製作所 バルブシステム

Also Published As

Publication number Publication date
CN112629954A (zh) 2021-04-09
US20210088484A1 (en) 2021-03-25
JP7226223B2 (ja) 2023-02-21
US11531008B2 (en) 2022-12-20

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7550080B2 (en) Liquid chromatograph analysis apparatus and method
US9273394B2 (en) Plasma processing apparatus and diagnosis method thereof
JP2019035608A (ja) リーク検査装置およびリーク検査装置における検査ガス回収方法
JP2007024650A (ja) Lng成分の自動分析システム
JP2021050978A (ja) ガスサンプラ
CN110646151A (zh) 一种泄漏检测的方法、装置、设备、系统及存储介质
JP7259678B2 (ja) ガス供給方法およびガスサンプラ
EP1403363B1 (en) CO2 incubator
JP3771167B2 (ja) エアリークテスト方法および装置
JP2009222613A (ja) ガス導入装置
CN110168381B (zh) 自动分析装置、自动分析装置的废液方法、以及三通电磁阀
JP2513359B2 (ja) マイクロピペット装置
KR102484208B1 (ko) 유체 조절 장치
JP6671202B2 (ja) ポジショナ
EP2009287B1 (en) Vacuum-exhaust device and vacuum-exhaust method
US20230408460A1 (en) Sample supply device and gas chromatograph
JP2022086659A (ja) ガス分析装置およびガス分析装置の状態検出方法
US20230294305A1 (en) Vacuum pressure feeding system
JP2007198865A (ja) ヘリウムリークデテクタ
US5914607A (en) Apparatus and methods for analyzing a sample solution, including first and second ion detectors
JP2001228047A (ja) エアリークテスト装置における容積調節方法および容積調節機能付きのエアリークテスト装置
US20230402248A1 (en) Vacuum Treatment Apparatus and Vacuum Treatment Method
KR20240008792A (ko) 표시 방법 및 정보 처리 장치
CN115452277A (zh) 一种压力容器用密封检测装置以及操作方法
JP2001311677A (ja) エアリークテスト装置

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20200414

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20220120

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20220120

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20221219

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20230110

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20230123

R151 Written notification of patent or utility model registration

Ref document number: 7226223

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151