JP2021017642A - 積層造形装置および三次元造形物の製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
5 照射装置
6 除電装置
10 チャンバ
15 ウインドウ
16 不活性ガス供給装置
61 放電電極
65 ノズル
69 電源
651 開口
83 材料層
85 固化層
L レーザ光
R 造形領域
Claims (12)
- 造形領域を覆うチャンバと、
前記チャンバに所定濃度の不活性ガスを充満させる不活性ガス供給装置と、
前記造形領域に対して材料層を形成する材料層形成装置と、
前記チャンバの上面に設けられるウインドウと、
前記チャンバの上方に設けられ前記材料層に前記ウインドウを介してレーザ光を照射して固化層を形成する照射装置と、
前記ウインドウを除電する除電装置と、を備える積層造形装置。 - 前記除電装置は、
所定の気体を電離させ正イオンまたは負イオンを生成する放電電極と、
前記放電電極を把持し、少なくとも一部が電離された前記気体を前記ウインドウに向かって吹き出す開口が形成されたノズルと、
前記放電電極に所定の電圧を印加する電源と、を含む請求項1に記載の積層造形装置。 - 前記気体は空気である、請求項2に記載の積層造形装置。
- 前記不活性ガスおよび前記気体は窒素である、請求項2に記載の積層造形装置。
- 前記除電装置による前記ウインドウの除電は、前記固化層の形成前に行われる、請求項1から請求項4のいずれか1項に記載の積層造形装置。
- 前記除電装置による前記ウインドウの除電は、前記不活性ガス供給装置が前記チャンバに前記不活性ガスを充満させる前に行われる、請求項5に記載の積層造形装置。
- ウインドウを除電する除電工程と、
造形領域を覆うチャンバに所定濃度の不活性ガスを充満させる不活性ガス充填工程と、
前記造形領域に対して材料層を形成する材料層形成工程と、
前記材料層に前記チャンバの上方に設けられたウインドウを介してレーザ光を照射して固化層を形成する照射工程と、を備える三次元造形物の製造方法。 - 前記除電工程においては、少なくとも一部が電離された所定の気体が前記ウインドウに吹き付けられる、請求項7に記載の三次元造形物の製造方法。
- 前記気体は空気である、請求項8に記載の三次元造形物の製造方法。
- 前記不活性ガスおよび前記気体は窒素である、請求項8に記載の三次元造形物の製造方法。
- 前記除電工程は前記照射工程前に行われる、請求項7から請求項10のいずれか1項に記載の三次元造形物の製造方法。
- 前記除電工程は前記不活性ガス充填工程前に行われる、請求項11に記載の三次元造形物の製造方法。
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