JP2020521036A - レーザー剥離容易性及び高耐熱性を有するポリアミド酸樹脂の製造方法及びこれを用いて製造したポリイミド樹脂フィルム - Google Patents

レーザー剥離容易性及び高耐熱性を有するポリアミド酸樹脂の製造方法及びこれを用いて製造したポリイミド樹脂フィルム Download PDF

Info

Publication number
JP2020521036A
JP2020521036A JP2019565210A JP2019565210A JP2020521036A JP 2020521036 A JP2020521036 A JP 2020521036A JP 2019565210 A JP2019565210 A JP 2019565210A JP 2019565210 A JP2019565210 A JP 2019565210A JP 2020521036 A JP2020521036 A JP 2020521036A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
polyamic acid
acid resin
polyimide resin
resin film
acid dianhydride
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2019565210A
Other languages
English (en)
Other versions
JP6947848B2 (ja
Inventor
ジン ス カン
ジン ス カン
ジン モ キム
ジン モ キム
ヨン ホ アン
ヨン ホ アン
スン ジン ハン
スン ジン ハン
Original Assignee
デリム コーポレイション カンパニー リミテッド
デリム コーポレイション カンパニー リミテッド
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by デリム コーポレイション カンパニー リミテッド, デリム コーポレイション カンパニー リミテッド filed Critical デリム コーポレイション カンパニー リミテッド
Publication of JP2020521036A publication Critical patent/JP2020521036A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6947848B2 publication Critical patent/JP6947848B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G73/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule, not provided for in groups C08G12/00 - C08G71/00
    • C08G73/06Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain of the macromolecule
    • C08G73/10Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
    • C08G73/1003Preparatory processes
    • C08G73/1007Preparatory processes from tetracarboxylic acids or derivatives and diamines
    • C08G73/101Preparatory processes from tetracarboxylic acids or derivatives and diamines containing chain terminating or branching agents
    • C08G73/1014Preparatory processes from tetracarboxylic acids or derivatives and diamines containing chain terminating or branching agents in the form of (mono)anhydrid
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G73/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule, not provided for in groups C08G12/00 - C08G71/00
    • C08G73/06Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain of the macromolecule
    • C08G73/10Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
    • C08G73/1003Preparatory processes
    • C08G73/1007Preparatory processes from tetracarboxylic acids or derivatives and diamines
    • C08G73/1028Preparatory processes from tetracarboxylic acids or derivatives and diamines characterised by the process itself, e.g. steps, continuous
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08JWORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J5/00Manufacture of articles or shaped materials containing macromolecular substances
    • C08J5/18Manufacture of films or sheets
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L79/00Compositions of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon only, not provided for in groups C08L61/00 - C08L77/00
    • C08L79/04Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain; Polyhydrazides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
    • C08L79/08Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L2201/00Properties
    • C08L2201/02Flame or fire retardant/resistant

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)
  • Manufacture Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)

Abstract

【課題】 レーザー剥離容易性及び高耐熱性を有するポリアミド酸樹脂の製造方法及びこれによって製造されたポリアミド樹脂を用いて製造したポリイミド樹脂フィルムを提供する。【解決手段】ガラスなどと適度の接着力を維持しながらも、低いエネルギーでレーザー剥離が可能なので、薄膜の損傷(カール、欠陥、破損など)無しで剥離が可能であり、高耐熱性を有するポリアミド酸樹脂を製造し、これを用いて製造されたポリイミド樹脂フィルムは、フレキシブルディスプレイ基板素材、半導体素材などに有用に活用することができる。【選択図】 図1

Description

本発明は、レーザー剥離容易性及び高耐熱性を有するポリアミド酸樹脂の製造方法及びこれによって製造されたポリアミド樹脂を用いて製造したポリイミド樹脂フィルムに関し、具体的に、ガラスなどとの接着力を適度なレベルに維持しながらも、低いエネルギーでレーザー剥離が可能なので、薄膜の損傷(カール(curl)、欠陥(defect)、破損など)無しに剥離が可能であるとともに高耐熱性を有するポリアミド酸樹脂を製造し、これを用いて製造されたポリイミド樹脂フィルムをフレキシブルディスプレイ基板素材、半導体素材などに有用に用いることができる。
次世代ディスプレイ装置として脚光を浴びているフレキシブルディスプレイの基板素材としてフレキシブルな高分子材料が注目されている。
フレキシブルデバイスは、一般に、有機発光ダイオード(OLED)ディスプレイを使用しており、高い工程温度(300〜500℃)のTFT工程が用いられている。このような高い工程温度に耐える高分子材料は極めて限られているが、特に、耐熱性に優れた高分子であるポリイミド(PI)樹脂が主に使用されている。
有機発光ダイオード(OLED)ディスプレイは、ガラス基板に樹脂を塗布後に熱硬化してフィルム化し、数段階の工程後にガラス基板から剥がす方法によってディスプレイを製造する。
このような作製過程のうち、ガラス基板に樹脂を塗布する過程における樹脂の粘度はフィルム製造において非常に重要な要素である。粘度が高すぎると、熱処理時に樹脂の溶媒が除去し難いため薄膜の物性が低下するか、コーティング時に均一に塗布し難いため薄膜の均一度が低下し、OLEDパネル製造において製品の欠陥(defect)につながることがある。一方、粘度が低すぎると、コーティング時に要求される厚さにし難く、薄膜の均一度も制御し難い。
したがって、適度な粘度を有する樹脂が薄膜の製造において有利だといえる。そして、TFT工程時に、高い工程温度(>350℃)による熱衝撃(Thermal shock)によって製品の欠陥が発生することがある。
したがって、ガラス基板程度の熱膨張係数を持ってこそ製品の欠陥が最小化できる。また、現在、一般的に薄膜製造後にレーザー剥離法でガラス基板から薄膜を剥離しているが、樹脂の特性上、非極性分子であり、熱処理後にガラスとの接着力が高いため、該樹脂をフィルムにした後に剥離するとき、カール(curl)、製品欠陥、製品破損などの問題が発生し、レーザー剥離時によく剥離されないからといって高いエネルギーを照射すると、フィルムの損傷につながる。
一方、韓国公開特許第1998−015679号は、芳香族ポリイミド樹脂フィルムの製造方法に関するものであり、芳香族ジアミンに対して過剰の酸二無水物単量体を数回に分けて添加し、有機極性溶媒を用いて5〜20℃程度の温度で重合させて得たポリアミド酸樹脂でポリイミド樹脂フィルムを製造するので、耐熱性などの物性には優れるが、物性を維持しながら常温におけるポリアミド酸粘度を下げることもまた、ポリアミド酸溶液の粘度が高いため、フィルムキャスティング時に溶液の温度を上げて粘度を下げる工程がさらに必要である点で限界があった。
したがって、レーザー剥離時に容易に剥離されると、上記の問題点が発生しない。これは、低いエネルギーでレーザー剥離されることにより、薄膜の損傷無しで剥離が可能である。
したがって、低い粘度を有しながらガラスとの適度な接着力に調節され、低いエネルギーでレーザー剥離が可能であり、高耐熱性及び低い熱膨張係数を有するポリアミド酸樹脂の開発が望まれている。
そこで、本発明者らは、上記の問題に鑑みて、高耐熱性を有するとともにレーザー剥離がしやすいポリアミド酸樹脂の開発のために、ポリアミド樹脂の製造に用いられる組成物の投入工程、分割投入の投入時間間隔及び重合温度条件を最適に調節することによって、酸二無水物過量モル比率を最小化し、粘度を容易に調節できることが分かり、また、同等レベルの粘度を基準にして既存の方法に比べて、使用される組成物のモル比を最小化し、より優れた物性的特性を有するポリアミド酸樹脂を製造できることを見出し、本発明を完成するに至った。また、このような分割投入工程、投入の投入時間間隔(前回の投入時刻から次の投入時刻までの時間)及び重合温度を最適化することによって物性の低下無しで低い粘度を有するポリアミド酸樹脂が得られることが分かった。
したがって、本願発明は、レーザー剥離容易性及び高耐熱性を有するポリアミド酸樹脂の製造方法を提供することにその目的がある。
また、本願発明は、前記製造方法によって得たポリアミド酸樹脂を熱処理して製造されたフィルムであって、フィルム厚さ10〜15μmを基準に接着力が0.2〜2.0N/cm、剥離エネルギーが200mJ/cm2以下、100〜350℃範囲における熱膨張係数が10ppm/℃以下であることを特徴とするポリイミド樹脂フィルムを提供することにその目的がある。
本発明は、ジアミン化合物単量体と、酸二無水物単量体と、有機溶媒とを含む組成物を重合して製造するポリアミド酸樹脂の製造方法であって、前記ポリアミド酸樹脂は、前記ジアミン化合物単量体を前記有機溶媒に溶解した後、30分〜60分の投入時間間隔で4回以上分割投入して重合することを特徴とする、レーザー剥離容易性及び高耐熱性を有するポリアミド酸樹脂の製造方法である。
また、本発明は前記酸二無水物単量体を4回以上6回以下の回数で分割して投入し、40℃〜60℃の重合温度で重合させることを特徴とするポリアミド酸樹脂の製造方法である。
また、本発明は前記酸二無水物単量体を40℃の重合温度で30分間隔で5回分割投入することを特徴をするポリアミド酸樹脂の製造方法である。
また、本発明は、前記ジアミン化合物単量体100モル%の中に、2,2’−ビス(トリフルオロメチル)−ベンジジン(2,2’−bis(trifluoromethyl)benzidine)を5〜50モル%含有させることを特徴とするポリアミド酸樹脂の製造方法である。
また、本発明は前記ポリアミド酸樹脂の粘度を、1,000〜7,000cpにすることを特徴とするポリアミド酸樹脂の製造方法である。
また、本発明は、上記いずれかの製造方法で製造されたポリアミド酸樹脂を熱処理して製造されたポリイミド樹脂フィルムであって、該ポリイミド樹脂フィルム厚さ10〜15μmを基準に、接着力が0.2〜2.0N/cm、剥離エネルギーが200mJ/cm2以下、100〜350℃範囲における熱膨張係数が10ppm/℃以下であることを特徴とする、ポリイミド樹脂フィルムである。
本発明の製造方法によって製造されたポリイミド樹脂は、低い粘度を有しながらも、熱硬化によって、低いエネルギーで優れたレーザー剥離力を示し、優れた機械的特性及び耐熱特性を有するポリイミド樹脂フィルムが得られる。得られたポリイミド樹脂フィルムは、フレキシブルディスプレイ基板素材、半導体素材などに有用に活用することができる。
本発明に係るポリアミド酸樹脂の製造時に、分割投入条件による粘度の変化を示すグラフである。
本発明に係るポリアミド酸樹脂をガラス基板上に塗布後に熱処理して製造したポリイミド樹脂フィルムに対して、個別のエネルギー大きさでレーザーを照射し、フィルムの剥離の有無をテストした結果(写真)である。
以下、本発明を一具現例を挙げてさらに詳しく説明する。
本発明は、ジアミン化合物単量体、酸二無水物単量体、及び有機溶媒を含む組成物を重合して製造されるポリアミド酸樹脂の製造方法を提供する。低い粘度を有しながらも、フィルム製造時に、適度のレーザー剥離特性、優れた耐熱性、及び低い熱膨張係数を有するポリイミド樹脂フィルムを得るために、所定の方法で製造されたポリアミド樹脂を使用する。
具体的に、本発明のポリアミド酸樹脂の製造方法は、ジアミン化合物単量体を有機溶媒に溶解した後、酸二無水物単量体を4個以上に分割して分割した酸二無水物単量体毎に投入時間間隔を空けて投入する。
投入の投入時間間隔は、例えば30〜60分である。図1は、本発明に係るポリアミド酸樹脂の製造時に、分割投入条件による粘度の変化を示すグラフである。
一般に、ポリアミド酸樹脂の粘度を調節するとき、酸二無水物単量体とジアミン化合物単量体のモル比を、いずれか一方が−5〜5モル%となるように過量で添加して目標粘度に到達させることが好ましいが、これは適切な粘度調節及び貯蔵安定性の確保のためである。しかし、このようなモル比は、いずれか一方が過度に過量になると、ポリイミド樹脂フィルム製造時に様々な特性低下の原因となる。
そこで、前記問題を解決するために、本発明のポリアミド酸樹脂の製造は、単量体の投入回数、投入の投入時間間隔及び重合温度を最適化することによって、使用する組成物モル比の過量を最小化し、且つ粘度を調節し、同等レベルの粘度を基準にしたとき、既存方法に比べてモル比を最小化するので、さらに優れた特性を有するポリアミド酸樹脂を製造することができる。
また、物性の低下無しで低い粘度を有するポリアミド酸樹脂を得ることができる。
さらにいうと、ポリアミド樹脂の重合時に、ジアミン化合物単量体を有機溶媒に溶解させた後、酸二無水物単量体を4回以上分割投入することが好ましい。より好ましくは4〜6回である。さらに好ましくは5回である。このとき、酸二無水物単量体を投入するジアミン含有溶液の重合温度は40〜60℃が好ましい。より好ましくは40℃である。
酸二無水物単量体100モル%を基準にしたとき、4〜6回均等分割の場合には30〜60分の時間差で投入することが好ましい。4〜6回投入後、ポリアミド酸溶液の目標粘度に基づいて酸二無水物単量体の投入量を調節しながら投入する。このような分割投入方式は、分子鎖の成長を、高分子量ではなく適正な分子量レベルであるオリゴマーの形態にさせることによって、溶液状態における粘度が可能であり、熱処理してポリイミド樹脂フィルムを製造する時、イミド化過程でオリゴマー形態の分子が高分子量で結合可能である。
したがって、本発明のポリアミド酸樹脂は、低い粘度を有しながらも、ポリイミド樹脂フィルムとして製造時に、優れた機械的特性、高耐熱性、及び低い熱膨張係数の特性を示すことができる。これは、後述する実験例から確認できる。なお、本発明に係るポリアミド酸樹脂の製造に用いられる組成物は、次の通りである。
(A)ジアミン系化合物
本発明のポリアミド酸樹脂の製造において、基本構成となるジアミン化合物単量体は、フッ素化芳香族ジアミン及び非フッ素化ジアミンを含む。ポリアミド酸樹脂は、フッ素置換基が導入されたフッ素化芳香族ジアミンを含む場合、フッ素置換基が表面張力を高めてガラス基板との接着力を下げることによって、ポリイミド樹脂フィルムの剥離時に発生し得るカール、製品欠陥、製品破損などの問題を改善することができ、低いエネルギーで優れたレーザー剥離特性を示すことができる。また、このようなフッ素化芳香族ジアミンと非−フッ素化芳香族ジアミンとを混合して使用する場合、フッ素化芳香族ジアミンのフッ素置換基によって剥離特性を与えると同時に、非−フッ素化芳香族ジアミンの芳香族構造の強直性によって優れた耐熱性及び低い熱膨張係数を有するポリイミド樹脂フィルムを提供し、レーザー剥離時にポリイミド樹脂フィルムの損傷を最小化することができる。
本発明で用いられるフッ素化芳香族ジアミンは、フッ素を含有する芳香族ジアミンであれば特に限定されない。例えば、2,2’−ビス(トリフルオロメチル)−4,4’−ジアミノビフェニル(2,2’−Bis(trifluoromethyl)−4,4’−Diaminobiphenyl,TFMB)、ビスアミノヒドロキシフェニルヘキサフルオロプロパン(bisaminohydroxyphenyl hexafluoropropane,DBOH)、ビスアミノフェノキシフェニルヘキサフルオロプロパン(bis aminophenoxy phenyl hexafluoropropane,4BDAF)、2,2’−ビス(トリフルオロメチル)−4,3’−ジアミノビフェニル(2,2’−Bis(trifluoromethyl)−4,3’−Diaminobiphenyl)、2,2’−ビス(トリフルオロメチル)−5,5’−ジアミノビフェニル(2,2’−Bis(trifluoromethyl)−5,5’−Diaminobiphenyl)などがあるが、これに限定されない。これらは、単独で又は2種以上を混合して用いることができる。このうち、TFMBを使用する場合、剥離特性及び耐熱特性を同時に向上させることができるので好ましい。
このようなフッ素化芳香族ジアミンの含有量は、特に限定されないが、全体ジアミン系化合物100モル%を基準に5〜50モル%、好ましくは5〜30モル%であれば、耐熱特性を維持しながら剥離特性を発現させることができる。
そして、本発明のポリアミド酸樹脂は、芳香族ジアミン成分として非−フッ素化芳香族ジアミンをさらに含むことができる。例えば、パラ−フェニレンジアミン(PPD)、メタ−フェニレンジアミン(MPD)、4,4’−オキシジアニリン(ODA)、ビスアミノフェノキシフェニルプロパン(6HMDA)、4,4’−ジアミノジフェニルスルホン(4,4’−DDS)、9,9’−ビス(4−アミノフェニル)フルオレン(FDA)、パラ−キシリレンジアミン(p−XDA)、メタ−キシリレンジアミン(m−XDA)、4,4’−メチレンジアニリン(MDA)、4,4’−ジアミノベンゾエート(4,4’−DABA)、4,4’−ビス(4−アミノフェノキシ)ビフェニル(4,4’−BAPP)などがあるが、これらは、単独で又は2種以上を混合して用いることができる。このうち、PPDを使用すると、優れた耐熱特性及び低い熱膨張係数特性を示すことができるので好ましい。
このような非−フッ素化芳香族ジアミンの含有量は特に限定されないが、ジアミン系化合物100モル%を基準に約50〜95モル%、好ましくは70〜95モル%であり得る。
(B)酸二無水物単量体
本発明のポリアミド酸樹脂は、酸二無水物単量体成分として芳香族酸二無水物単量体を含む。
前記ポリアミド酸樹脂において芳香族の酸二無水物単量体を使用する場合、ポリイミドの耐熱特性及び低い熱膨張係数特性を向上させることができる。芳香族の酸二無水物の強直な分子構造によって、耐熱特性に優れたポリイミド樹脂フィルムを製造することができる。前記芳香族の酸二無水物単量体は、特に限定されず、例えば、4,4’−(ヘキサフルオロイソプロピリデン)ジフタル酸無水物(6FDA)、4,4’−(4,4’−ヘキサフルオロイソプロピリデンジフェノキシ)ビス−(フタル酸無水物)(6−FDPDA)、ピロメリト酸二無水物(PMDA)、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物(BPDA)、3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物(BTDA)、4,4’−オキシジフタル酸無水物(ODPA)、2,2−ビス[4−3,4−ジカルボキシフェノキシ]フェニル]プロパン二無水物(BPADA)、3,3’,4,4’−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物(DSDA)、エチレングリコールビス(4−トリメリテート無水物)(TMEG)などがあるが、これに限定されない。これらは、単独で又は2種以上を混合して用いることができる。このうち、芳香族の酸二無水物単量体としてPMDA又はBPDAを使用すると好ましい。
前述した芳香族の酸二無水物単量体の含有量は特に限定されないが、酸二無水物単量体の合計100モル%を基準に、BPDA50〜90モル%、PMDA10〜50モル%であり、好ましくは、BPDA70〜100モル%、PMDA0〜30モル%である場合に、優れた耐熱特性を示すことができる。
(C)有機溶媒
本発明のポリアミド酸樹脂の製造に用いられる溶媒としては、ポリアミド酸樹脂が溶解すれば構わなく、特にその構造は限定されない。例えば、m−クレゾール、N−メチル−2−ピロリドン(NMP)、N−エチル−2−ピロリドン(NEP)、N,N−ジメチルホルムアミド(DMF)、N,N−ジエチルホルムアミド(DEF)、N,N−ジメチルアセトアミド(DMAc)、N,N−ジエチルアセトアミド(DEAc)、ジメチルスルホキシド(DMSO)、ジエチルアセテート(DEA)、3−メトキシ−N,N−ジメチルプロパンアミド(DMPA)のような極性溶媒、テトラヒドロフラン(THF)、クロロホルムなどのような低沸点溶媒、又はガンマ−ブチロラクトン(GBL)のような低吸水性溶媒を使用することが好ましい。これらは、単独で又は2種以上を混合して用いることができる。
(D)反応触媒
本発明のポリアミド酸樹脂は、反応性によってトリメチルアミン(Trimethylamine)、キシレン(Xylene)、ピリジン(Pyridine)及びキノリン(Quinoline)からなる群から1種以上の反応触媒剤をさらに含むことができ、必ずしもこれに制限されない。また、ポリアミド酸樹脂は、本発明の目的及び効果を顕著に損傷させない範囲内で、必要によって可塑剤、酸化防止剤、難燃化剤、分散剤、粘度調節剤、及びレベリング剤からなる群から選ばれる1種以上の添加剤を少量含むことができる。
前述した本発明のポリアミド酸樹脂において芳香族ジアミン(B)、芳香族の酸二無水物単量体(C)、有機溶媒(D)、触媒(E)の含有量は特に限定されない。本発明のポリアミド酸樹脂及び溶媒を含み、溶媒、酸二無水物単量体成分及びジアミン成分の合計量に対して、酸二無水物単量体成分及びジアミン成分の合計量が5質量%以上、好ましくは10質量%以上、より好ましくは15質量%以上の比率であると好ましい。また、普通は、60質量%以下、好ましくは50質量%以下が好ましい。この濃度が低すぎると、ポリイミド樹脂フィルムの製造時に、得られるポリイミド樹脂フィルムの膜厚の制御がし難く、高すぎると、ポリアミド酸樹脂の粘度を調節することに限界があり、前記範囲内にする。
この時、反応は、前記有機溶媒条件下でジアミン化合物単量体95〜100モル%及び酸二無水物単量体100〜105モル%を混合して10〜70℃温度条件で8〜24時間行うことが好ましい。ここで、酸二無水物単量体はジアミン化合物単量体に対して−5〜5モル%を過量添加して目標粘度に到達させることが好ましいが、これは適度な粘度調節及び貯蔵安定性の確保のためである。また、反応時間が4時間未満であると、ポリアミド酸樹脂の貯蔵安定性の側面で限界があり、24時間を超えると生産性の側面で限界があるので、前記範囲内で製造することが好ましい。
このような反応によって生成されたポリアミド酸樹脂は、粘度が1,000〜7,000cP範囲であることが好ましい。粘度が1,000cP未満であると適度なポリイミド樹脂フィルム厚さを得るのに問題があり、7,000cPを超えると均一なコーティング及び効果的な溶媒の除去に問題があるので、前記範囲内が好ましい。
なお、本発明においてポリイミド樹脂フィルムの製造方法は、次の通りである。本発明は、前述したポリアミド酸樹脂を熱イミド化して製造されたポリイミド樹脂フィルムを提供する。本発明に係るポリアミド酸樹脂は粘性を有するものであり、ポリイミド樹脂フィルム製造時にガラス基板等の表面が平坦な基板に適切な方法でコーティング後に熱処理して製造される。
前記コーティング方法は、周知の通常の方法を制限なく用いることができ、例えば、スピンコーティング(Spincoating)、ディップコーティング(Dip coating)、溶媒キャスティング(Solvent casting)、スロットダイコーティング(Slot die coating)、スプレーコーティング(Spray coating)などがあるが、これらに限定されない。
本発明のポリアミド酸樹脂は、高温対流オーブンで熱処理してポリイミド樹脂フィルムとして作ることができる。このとき、熱処理条件は、窒素雰囲気下で行われ、100〜500℃条件で60〜300分間行われる。より好ましくは100℃/30分、150℃/10分、300℃/15分、500℃/10分の温度及び時間条件下でポリイミド樹脂フィルムを得ることが好ましい。これは、適切な溶媒の除去と特性の極大化ができるイミド化のためである。
本発明の透明ポリイミド樹脂フィルムは前記ポリアミド酸樹脂を用いて製造するので、高い透明性を示すと同時に低い熱膨張係数を有する。
本発明のポリイミド樹脂フィルムは、フィルム厚さ10〜15μmを基準に、接着力が0.2〜2.0N/cm、剥離エネルギーが200mJ/cm2以下、100〜350℃範囲における熱膨張係数が10ppm/℃以下である。好ましくは、5ppm/℃以下と低い。本発明のポリイミド樹脂フィルムは、ガラス基板からのレーザー剥離時に、カール、膨脹及び収縮による基板上の素子の欠陥を抑制することができる。
図2は、本発明に係るポリアミド酸樹脂をガラス基板上に塗布後に熱処理して製造したポリイミド樹脂フィルムに対して、個別のエネルギー大きさでレーザーを照射し、ポリイミド樹脂フィルムの剥離の有無をテストした結果(写真)である。低いエネルギーのレーザーを照射した場合にも(160mJ/cm2)ポリイミドがよく剥離されたが、照射するレーザーのエネルギーが高くなるほど(220mJ/cm2)、ガラス基板上のポリイミド樹脂フィルムが損傷する現象が見られた。
本発明のポリイミド樹脂フィルムは、様々な分野に利用することができ、OLED用ディスプレイ、液晶素子用ディスプレイ、TFT基板、フレキシブル印刷回路基板、フレキシブル(Flexible)OLED面照明基板、電子ペーパー用基板素材のようなフレキシブルディスプレイ用基板及び保護膜として提供することができる。
以下、本発明を、実施例を用いてより詳しく説明する。ただし、これらの実施例は本発明を例示するためのもので、本発明の範囲を限定するものではない。
<分割投入工程>
比較例1
下記表1に示す組成物として、ジアミン化合物単量体であるPPD 19.154g(0.177mole)とTFMB 2.987g(0.009mole)を有機溶媒であるNMP 455.04gに入れ、窒素雰囲気、常温で30分〜1時間溶解させ、ジアミン含有溶液を作製した。その後、酸二無水物単量体であるBPDA58.160g(0.197mole)をジアミン含有溶液に投入して6時間撹拌し、ポリアミド酸樹脂重合温度を製造した(重合温度:23℃、この時、固形分は反応溶媒の全重量に対して15重量%となるように維持させる。)。粘度測定装備(Brookfield DV2T,SC4−27)で測定した結果、粘度は5,900cPであった。
比較例2及び3
下記表1の酸二無水物単量体のジアミン含有溶液への投入回数(2〜3回)、投入の投入時間間隔(30分)、酸二無水物過量モル比率を使用した以外は比較例1と同じ方法でポリアミド酸樹脂を製造した。
実施例1〜3
酸二無水物単量体の投入回数(4〜6回)と投入時間(30分)と酸二無水物過量モル比率とを下記表1とした以外は比較例1と同じ方法でポリアミド酸樹脂を製造した。
<実験例1:物性測定>
前記比較例及び実施例のポリアミド酸樹脂をガラス板上にバーコーターを用いてコートした後、高温対流オーブンで熱処理をした。熱処理条件は、窒素雰囲気で行い、100℃/30分、150℃/10分、300℃/15分、500℃/10分の温度及び時間条件で最終ポリイミド樹脂フィルムを得た。このようにして得たポリイミド樹脂フィルムは、下記のような方法で物性を測定し、下記表1にその結果を示した。
(a)粘度測定
Brookfield viscometer(Brookfield DV2T,SC4−27)を用いて測定した。
(b)接着力測定(peel test)
100mm×100mmガラス基板にポリアミド酸樹脂を熱処理してポリイミド樹脂フィルムとして製造後に、幅25mmにカットした後、Instron社のUTMを用いて300mm/分の速度で90°接着力テストを行った。
(c)熱的特性
ポリイミド樹脂フィルムの熱膨張係数(CTE)は、Netzsch社のTMA 402 F3を用いて測定した。テンションモード(Tension mode)の力(Force)は0.05Nに設定し、測定温度は30℃から5℃/分の速度で500℃まで昇温し、100〜350℃の範囲における平均値として線熱膨脹係数を測定した。
熱分解温度(Td,1%)は、Netzsch社のTG 209 F3を用いて測定した。測定温度は、30℃から120℃まで昇温して10分間維持→220℃に昇温して1時間維持→460℃で3時間維持→700℃に昇温(分当り10℃昇温)して460℃3時間維持後の重量減少%を測定した。
(d)機械的特性
ポリイミド樹脂フィルムの機械的物性を測定するためにInstron社のUTMを使用した。ポリイミド樹脂フィルム試験片は、幅を10mm、グリップ間の間隔を100mmに設定し、50mm/分の速度で試験片を引っ張りながら測定した。
前記表1に示すように、同等レベルの粘度を有する組成物に対して酸二無水物単量体を5回均等分割投入した実施例2の場合、耐熱特性、460℃3時間維持後のTd(%)及びCTEが、酸二無水物単量体を1〜3回、均等分割投入した比較例1〜3に比べて優れており、4回、6回均等分割投入した実施例1,3とは同等レベルの特性を示すことが分かる。
これは、酸二無水物単量体の投入方式を変えて酸二無水物過量モル比率を最小化することによって、同等レベルの粘度を有しながらも、耐熱及び機械的物性面において優れた結果を示すものといえる。
上の結果から、本発明に係る酸二無水物単量体の分割投入回数は、4〜6回が適切であり、5回分割投入が好ましい。
<分割投入時間>
比較例4
下記表2に示す組成物として、ジアミン化合物単量体であるPPD 19.154g(0.177mole)とTFMB 2.987g(0.009mole)を有機溶媒であるNMP 455.04gに入れ、窒素雰囲気、常温で30分〜1時間溶解させジアミン含有溶液を作製した。
その後、酸二無水物単量体であるBPDA 58.160(0.197mole)をジアミン含有溶液に5回均等分割投入した。この時、分割投入の投入時間間隔を10分にして添加し、6時間撹拌してポリアミド酸樹脂を製造した(ジアミン含有溶液の温度である重合温度は23℃にした。この時、固形分は反応溶媒の全重量に対して15重量%となるように維持させた。)。分割投入する投入時間間隔が短いため酸二無水物単量体が十分に溶解しなかった。
比較例5
下記表2の酸二無水物単量体の分割投入する投入時間間隔(20分)以外は比較例4と同じ方法でポリアミド酸樹脂を製造した。同様に、分割投入の投入時間間隔が短いため酸二無水物単量体が十分に溶解しなかった。
実施例2−1〜2−4
下記表2の酸二無水物単量体の分割投入の投入時間間隔以外は比較例4と同じ条件でポリアミド酸樹脂を製造した。
<実験例2:物性測定>
実験例1と同じ方法でポリイミド樹脂フィルムを製造し、物性を測定してその結果を下記表2に示した。
前記表2に示すように、酸二無水物単量体の分割投入回数を5回に固定し、分割投入時間間隔の最適化を評価した。比較例4及び5では、分割投入時間間隔が短いため投入された酸二無水物単量体が十分に溶解しない。このため、特性の良いポリアミド酸樹脂の製造ができなかった。
一方、実施例2−1〜実施例2−4のように、酸二無水物単量体の単量体の分割投入時間間隔を30〜60分にして投入すると、投入された酸二無水物単量体は十分に溶解され、特性の良いポリアミド酸樹脂が得られた。
実施例2−1〜実施例2−4の特性結果にみられるように、酸二無水物単量体が十分に溶解し得る分割投入時間間隔では、分割投入時間間隔の増加にかかわらず同等レベルの特性を示している。この結果から、酸二無水物単量体の単量体の分割投入時間間隔は30〜60分が適切であり、30分が好ましい。
<重合温度>
実施例2−1、実施例2−5〜2−7、及び比較例6
下記表3の重合温度、酸二無水物過量モル比率以外は実施例1と同じ方法でポリアミド酸樹脂を製造した。
<実験例3:物性測定>
実験例1と同じ方法でポリイミド樹脂フィルムを製造し、物性を測定してその結果を下記表3に示した。
前記表3に示すように、酸二無水物単量体の投入回数(5回)、投入時間間隔(30分)を固定し、重合温度の最適化を評価した。実施例2−1に比べて実施例2−5〜2−7の結果にみられるように、重合温度が増加しながら酸二無水物過量モル比率が減ることにより、同等レベルの粘度を示しながらも耐熱特性及び機械的特性は増加した。実施例2−5〜2−7の重合温度40〜60℃では同等レベルの特性を示すことが分かる。一方、比較例6の結果にみられるように、重合温度70℃では、酸二無水物過量モル比率が小さくなっており、同等レベルの粘度であるにもかかわらず、実施例2−5〜2−7に比べて特性が低下している。この結果から、重合温度は40〜60℃が適切であり、40℃が好ましい。
上記の結果から、ジアミン化合物単量体を有機溶媒に溶解させた後、40〜60℃の重合温度で酸二無水物単量体を4回以上分割して投入するが、30〜60分間隔の時間差で投入し重合して得たポリアミド酸樹脂の場合、レーザー剥離の容易性と高耐熱性を有するポリイミド樹脂フィルムを製造できるということが分かる。
<参考例>
比較例7
下記表4に示す組成物として、ジアミン化合物単量体であるTFMB 41.536g(0.130mole)を有機溶媒であるNMP 455.04gに入れ、窒素雰囲気、常温で30分〜1時間溶解させた。その後、酸二無水物単量体であるBPDA 38.765g(0.132mole)を5回分割添加して6時間撹拌し、ポリアミド酸樹脂を製造した(重合温度:60℃/6時間撹拌後に25℃、この時、固形分は反応溶媒の全重量に対して15重量%となるように維持させる。)粘度測定装備(Brookfield DV2T,SC4−27)で測定した結果、粘度が6,000cPであった。
比較例8
下記表4に示す組成物として、ジアミン化合物単量体であるPPD 21.329g(0.197mole)を有機溶媒であるNMP 455.04gに入れ、窒素雰囲気、常温で30分〜1時間溶解させ、ジアミン含有溶液を作製した。その後、酸二無水物単量体であるBPDA 58.971g(0.200mole)を5回分割添加して6時間撹拌し、ポリアミド酸樹脂を製造した(重合温度:60℃/6時間撹拌後に25℃、この時、固形分は反応溶媒の全重量に対して15重量%となるように維持させる。)。粘度測定装備(Brookfield DV2T,SC4−27)で測定した結果、粘度が6,100cPであった。
実施例4
下記表4に示す組成物として、ジアミン化合物単量体であるPPD 19.748g(0.182mol)、TFMB 3.079g(0.010mole)を有機溶媒であるNMP 455.04gに入れ、窒素雰囲気、常温で30分〜1時間溶解させた。その後、酸二無水物単量体であるBPDA 57.441g(0.195mole)を5回分割添加して6時間撹拌し、ポリアミド酸樹脂を製造した(重合温度:40℃/6時間撹拌後に25℃、この時、固形分は反応溶媒の全重量に対して15重量%となるように維持させる。)。粘度測定装備(Brookfield DV2T,SC4−27)で測定した結果、粘度が5,800cPであった。
実施例5
下記表4に示す組成物として、ジアミン化合物単量体であるPPD 18.245g(0.169mol)、TFMB 6.006g(0.019mole)を有機溶媒であるNMP 455.04gに入れ、窒素雰囲気、常温で30分〜1時間溶解させた。その後、酸二無水物単量体であるBPDA 55.983g(0.190mole)を5回分割添加して6時間撹拌し、ポリアミド酸樹脂を製造した(重合温度:60℃/6時間撹拌後に25℃、この時、固形分は反応溶媒の全重量に対して15重量%となるように維持させる。)。粘度測定装備(Brookfield DV2T,SC4−27)で測定した結果、粘度が5,300cPであった。
実施例6
下記表4に示す組成物として、ジアミン化合物単量体であるPPD 8.460g(0.078mol)、TFMB 25.061g(0.078mole)を有機溶媒であるNMP 455.04gに入れ、窒素雰囲気、常温で30分〜1時間溶解させた。その後、酸二無水物単量体であるBPDA 46.779g(0.159mole)を5回分割添加して6時間撹拌し、ポリアミド酸樹脂を製造した(重合温度:60℃/6時間撹拌後に25℃、この時、固形分は反応溶媒の全重量に対して15重量%となるように維持させる。)。粘度測定装備(Brookfield DV2T,SC4−27)で測定した結果、粘度が5,500cPであった。
実施例7
下記表4に示す組成物として、ジアミン化合物単量体であるPPD 21.323g(0.197mol)、TFMB 3.325g(0.010mole)を有機溶媒であるNMP 455.04gに入れ、窒素雰囲気、常温で30分〜1時間溶解させた。その後、酸二無水物単量体であるBPDA 37.234g(0.126mole)、PMDA 18.419g(0.084mol)を5回分割添加して6時間撹拌し、ポリアミド酸樹脂を製造した(重合温度:60℃/24時間撹拌後に25℃、この時、固形分は反応溶媒の全重量に対して15重量%となるように維持させる。)。粘度測定装備(Brookfield DV2T,SC4−27)で測定した結果、粘度が5,900cPであった。
<実験例4:物性測定>
実験例1と同じ方法でポリイミド樹脂フィルムを製造し、物性を測定してその結果を下記表4に示した。
前記表4に示すように、2,2’−ビス(トリフルオロメチル)−ベンジジン(TFMB)5〜50モル%を含む実施例4〜7の場合、ガラス基板に対して接着力が0.5〜2.0(N/cm)であることが確認できる。TFMBの含有量を調節するによって接着力を調節でき、ガラス基板との適正な接着力を有し、剥離時にカール、製品欠陥を最小化することができる。
また、レーザー剥離時に低いエネルギーで剥離可能なので、ポリイミド樹脂フィルム損傷無しで剥離することができる。しかも、耐熱特性及び機械的な面にも優れていることが確認できる。比較例7は、接着力が0.2(N/cm)未満であって、接着力が弱すぎ、比較例8は、接着力が2.3(N/cm)であって、接着力が強すぎる。また、レーザー剥離エネルギーが高すぎるため、剥離時にポリイミド樹脂フィルム損傷を起こすことがある。このように、接着力が弱すぎるか強すぎると、フィルム剥離時にカール又は製品欠陥につながるだろう。
したがって、本発明によって製造されたポリアミド酸樹脂は、接着力が0.2〜2.0N/cm、剥離エネルギーが200mJ/cm2以下、100〜350℃範囲における熱膨張係数が10ppm/℃以下であることを特徴とするポリイミド樹脂フィルムとして提供され得る。
上記の結果に基づいて、単量体分割投入、投入時間調節及び重合温度の最適化によって製造した本発明のポリアミド酸樹脂は、低粘度であるとともに、優れた機械的特性及び耐熱性と低い熱膨張係数を有し、且つ適度な接着力を維持し、低いエネルギーでレーザー剥離が可能なので、剥離時にカール、製品欠陥を招かず、有機発光ダイオードのガラス基板上の接着フィルムとして広く利用可能である。
実施例1〜3
酸二無水物単量体の投入回数(4〜6回)と投入時間(30分)と酸二無水物過量モル比率とを下記表1とした以外は比較例1と同じ方法でポリアミド酸樹脂を製造した。
即ち、ジアミン化合物単量体であるPPD 19.154g(0.177mole)とTFMB 2.987g(0.009mole)を有機溶媒であるNMP 455.04gに入れ、窒素雰囲気、常温で30分〜1時間溶解させた。その後、酸二無水物単量体であるBPDAを表1の投入回数と、投入時間と、酸二無水物過量となる量とで投入して6時間攪拌し、ポリアミド酸樹脂を製造した(重合温度:23℃、この時、固形分は反応溶媒の全重量に対して15重量%となるように維持させる。)
その後、酸二無水物単量体であるBPDA56.83g(0.193mole)をジアミン含有溶液に5回均等分割投入した。この時、分割投入の投入時間間隔を10分にして添加し、6時間撹拌してポリアミド酸樹脂を製造した(ジアミン含有溶液の温度である重合温度は23℃にした。この時、固形分は反応溶媒の全重量に対して15重量%となるように維持させた。)。分割投入する投入時間間隔が短いため酸二無水物単量体が十分に溶解しなかった。
実施例2−1〜2−4
下記表2の酸二無水物単量体の分割投入の投入時間間隔以外は比較例4と同じ条件でポリアミド酸樹脂を製造した。
即ち、下記表2に示す組成物として、比較例1と同量の、ジアミン化合物単量体であるPPDとTFMBとを有機溶媒である同量のNMPに入れてジアミン含有溶液を作製し、窒素雰囲気、常温で30分〜1時間溶解させた。
酸二無水物単量体である同量のBPDAを、表2に示す分割投入回数(5回)と分割投入時間間隔(分)でジアミン含有溶液に投入し、6時間撹拌してポリアミド酸樹脂を製造した(重合温度:23℃、この時、固形分は反応溶媒の全重量に対して15重量%となるように維持させた。)。

Claims (6)

  1. ジアミン化合物単量体と、酸二無水物単量体と、有機溶媒とを含む組成物を重合して製造するポリアミド酸樹脂の製造方法であって、
    前記ポリアミド酸樹脂は、前記ジアミン化合物単量体を前記有機溶媒に溶解した後、30分〜60分の投入時間間隔で4回以上分割投入して重合することを特徴とする、レーザー剥離容易性及び高耐熱性を有するポリアミド酸樹脂の製造方法。
  2. 前記酸二無水物単量体を4回以上6回以下の回数で分割して投入し、40℃〜60℃の重合温度で重合させることを特徴とする、請求項1に記載のポリアミド酸樹脂の製造方法。
  3. 前記酸二無水物単量体を40℃の重合温度で30分間隔で5回分割投入することを特徴とする、請求項1に記載のポリアミド酸樹脂の製造方法。
  4. 前記ジアミン化合物単量体100モル%の中に、2,2’−ビス(トリフルオロメチル)−ベンジジン(2,2’−bis(trifluoromethyl)benzidine)を5〜50モル%含有させることを特徴とする請求項1に記載のポリアミド酸樹脂の製造方法。
  5. 前記ポリアミド酸樹脂の粘度を、1,000〜7,000cpにすることを特徴とする、請求項1に記載のポリアミド酸樹脂の製造方法。
  6. 請求項1〜5のいずれかの製造方法で製造されたポリアミド酸樹脂を熱処理して製造されたポリイミド樹脂フィルムであって、該ポリイミド樹脂フィルム厚さ10〜15μmを基準に、接着力が0.2〜2.0N/cm、剥離エネルギーが200mJ/cm2以下、100〜350℃範囲における熱膨張係数が10ppm/℃以下であることを特徴とする、ポリイミド樹脂フィルム。
JP2019565210A 2017-05-23 2017-08-07 レーザー剥離容易性及び高耐熱性を有するポリアミド酸樹脂の製造方法及びこれを用いて製造したポリイミド樹脂フィルム Active JP6947848B2 (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020170063305A KR101912737B1 (ko) 2017-05-23 2017-05-23 레이저 박리 용이성 및 고내열성을 갖는 폴리아믹산 수지의 제조방법 및 이를 이용하여 제조한 폴리이미드 필름
KR10-2017-0063305 2017-05-23
PCT/KR2017/008493 WO2018216853A1 (ko) 2017-05-23 2017-08-07 레이저 박리 용이성 및 고내열성을 갖는 폴리아믹산 수지의 제조방법 및 이를 이용하여 제조한 폴리이미드 필름

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2020521036A true JP2020521036A (ja) 2020-07-16
JP6947848B2 JP6947848B2 (ja) 2021-10-13

Family

ID=64100734

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2019565210A Active JP6947848B2 (ja) 2017-05-23 2017-08-07 レーザー剥離容易性及び高耐熱性を有するポリアミド酸樹脂の製造方法及びこれを用いて製造したポリイミド樹脂フィルム

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP6947848B2 (ja)
KR (1) KR101912737B1 (ja)
CN (1) CN110892002B (ja)
WO (1) WO2018216853A1 (ja)

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102172561B1 (ko) * 2018-11-30 2020-11-03 피아이첨단소재 주식회사 배향성이 우수한 폴리이미드 필름의 제조방법, 이로부터 제조되는 폴리이미드 필름 및 이를 이용하여 제조된 그라파이트 시트
US20220017371A1 (en) * 2018-11-30 2022-01-20 Pi Advanced Materials Co., Ltd. Graphite sheet produced from polyimide film having excellent orientation properties, and method for producing same
CN111534270B (zh) * 2020-05-18 2023-08-01 深圳市化讯半导体材料有限公司 一种激光剥离材料及其制备方法和应用
KR102548091B1 (ko) * 2021-04-16 2023-06-27 주식회사 대림 폴리이미드를 포함하는 반도체 소자 테스트 소켓용 성형체 및 이의 제조방법
CN113201136B (zh) * 2021-04-29 2022-01-07 上海瑞暨新材料科技有限公司 一种聚酰亚胺树脂的制备方法及其薄膜

Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0995533A (ja) * 1995-09-29 1997-04-08 Maruzen Petrochem Co Ltd 無色透明性ポリイミド樹脂材料およびそれを用いたフィルムまたはコーティング膜
JP2004352912A (ja) * 2003-05-30 2004-12-16 Teijin Ltd 芳香族ポリイミド組成物から成るフィルムおよびその製造方法
JP2006182928A (ja) * 2004-12-28 2006-07-13 Toyobo Co Ltd ポリイミドベンゾオキサゾール前駆体の製造方法
JP2006336012A (ja) * 2005-05-30 2006-12-14 Chang Chun Plastics Co Ltd 可溶性のポリイミド樹脂およびその製造方法
JP2008050694A (ja) * 2006-07-25 2008-03-06 Ube Ind Ltd 無電解めっき促進用多分岐ポリイミド、金属被覆多分岐ポリイミド及びこれらの製造方法
JP2008214412A (ja) * 2007-03-01 2008-09-18 Toray Ind Inc ポリイミドフィルムおよびその製造方法
JP2008248067A (ja) * 2007-03-30 2008-10-16 Du Pont Toray Co Ltd ポリイミドフィルムおよびフレキシブル回路基板
JP2009029935A (ja) * 2007-07-27 2009-02-12 Ube Ind Ltd ポリイミド積層体の製造方法、ポリイミド積層体
WO2016147958A1 (ja) * 2015-03-13 2016-09-22 旭化成株式会社 ポリイミド前駆体樹脂組成物

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR19980052192U (ko) * 1996-12-31 1998-10-07 박병재 자동차의 사각방지용 아웃사이드 미러장치
KR101531737B1 (ko) * 2011-06-30 2015-06-25 코오롱인더스트리 주식회사 폴리아믹산,폴리아믹산 용액,폴리이미드 보호층 및 폴리이미드 필름
KR101646283B1 (ko) * 2011-12-27 2016-08-08 코오롱인더스트리 주식회사 폴리아믹산 용액
US8753426B2 (en) * 2012-08-03 2014-06-17 Air Products And Chemicals, Inc. Polymers, polymer membranes and methods of producing the same
KR102268406B1 (ko) * 2014-02-21 2021-06-23 미쯔비시 케미컬 주식회사 폴리이미드 전구체 및/또는 폴리이미드를 포함하는 조성물, 및 폴리이미드 필름
CN104927072B (zh) * 2015-05-29 2019-05-14 六安市杜尔邦绝缘材料有限公司 一种耐溶剂低热膨胀系数的聚酰亚胺薄膜及其制备方法
KR20150108812A (ko) * 2015-09-14 2015-09-30 코오롱인더스트리 주식회사 폴리아믹산 용액

Patent Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0995533A (ja) * 1995-09-29 1997-04-08 Maruzen Petrochem Co Ltd 無色透明性ポリイミド樹脂材料およびそれを用いたフィルムまたはコーティング膜
JP2004352912A (ja) * 2003-05-30 2004-12-16 Teijin Ltd 芳香族ポリイミド組成物から成るフィルムおよびその製造方法
JP2006182928A (ja) * 2004-12-28 2006-07-13 Toyobo Co Ltd ポリイミドベンゾオキサゾール前駆体の製造方法
JP2006336012A (ja) * 2005-05-30 2006-12-14 Chang Chun Plastics Co Ltd 可溶性のポリイミド樹脂およびその製造方法
JP2008050694A (ja) * 2006-07-25 2008-03-06 Ube Ind Ltd 無電解めっき促進用多分岐ポリイミド、金属被覆多分岐ポリイミド及びこれらの製造方法
JP2008214412A (ja) * 2007-03-01 2008-09-18 Toray Ind Inc ポリイミドフィルムおよびその製造方法
JP2008248067A (ja) * 2007-03-30 2008-10-16 Du Pont Toray Co Ltd ポリイミドフィルムおよびフレキシブル回路基板
JP2009029935A (ja) * 2007-07-27 2009-02-12 Ube Ind Ltd ポリイミド積層体の製造方法、ポリイミド積層体
WO2016147958A1 (ja) * 2015-03-13 2016-09-22 旭化成株式会社 ポリイミド前駆体樹脂組成物

Also Published As

Publication number Publication date
JP6947848B2 (ja) 2021-10-13
CN110892002B (zh) 2022-10-21
WO2018216853A1 (ko) 2018-11-29
KR101912737B1 (ko) 2018-10-30
CN110892002A (zh) 2020-03-17

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US10815378B2 (en) Polyamic acid resin and polyamideimide film
JP6906054B2 (ja) 樹脂安定性及び耐熱性が向上し、透明性を有するポリイミド前駆体樹脂組成物、これを用いたポリイミドフィルムの製造方法、及びこれによって製造されたポリイミドフィルム
JP6947848B2 (ja) レーザー剥離容易性及び高耐熱性を有するポリアミド酸樹脂の製造方法及びこれを用いて製造したポリイミド樹脂フィルム
JP5667392B2 (ja) 積層体、及びその利用
JP2021102770A (ja) 接着力が向上したポリアミック酸組成物及びこれを含むポリイミドフィルム
CN107849249B (zh) 聚酰亚胺-聚苯并噁唑前体溶液、聚酰亚胺-聚苯并噁唑薄膜及其制备方法
US11479643B2 (en) Polyimide precursor solution and polyimide film produced using same
CN110099946B (zh) 透明聚酰亚胺膜
TW201821482A (zh) 聚醯亞胺、聚醯胺酸、聚醯胺酸溶液、及聚醯亞胺薄膜
JP2016162403A (ja) ポリイミドを貼り合わせ接着層とする光学部材
CN113227207A (zh) 聚酰胺酸组合物及利用其的透明聚酰亚胺膜
KR20150080221A (ko) 폴리아믹산 수지 조성물, 이로부터 제조된 폴리이미드 수지 및 폴리이미드 기판
TW201900729A (zh) 聚醯胺酸、聚醯胺酸溶液、聚醯亞胺、聚醯亞胺膜、積層體及可撓性裝置,與聚醯亞胺膜之製造方法
KR20160003606A (ko) 폴리아믹산 용액, 및 이를 이용한 투명 폴리이미드 수지 필름 및 투명 기판
JP7317123B2 (ja) 新規なジカルボニル化合物を含むポリアミド酸組成物の製造方法、ポリアミド酸組成物、これを用いたポリアミド-イミドフィルムの製造方法及びその製造方法によって製造されたポリアミド-イミドフィルム
KR20220137595A (ko) 폴리이미드 전구체 조성물 및 이를 이용한 폴리이미드 필름의 제조 방법
JP6935623B2 (ja) 光特性及び位相遅延特性に優れた高透明性のポリイミド前駆体樹脂組成物、これを用いたポリイミド樹脂フィルムの製造方法、及びこれによって製造されたポリイミド樹脂フィルム
JP7317122B2 (ja) ポリアミド酸組成物の製造方法、ポリアミド酸組成物、これを用いたポリイミドフィルムの製造方法及びその製造方法によって製造されたポリイミドフィルム
JP2022010372A (ja) ポリアミック酸の製造方法、これから製造されたポリアミック酸、ポリイミド樹脂、及びポリイミドフィルム
US11970579B2 (en) Polyamic acid resin and polyamideimide film
CN109384922B (zh) 聚酰亚胺前体组合物及利用其的聚酰亚胺膜的制备方法
TWI842677B (zh) 聚醯胺酸樹脂及聚醯胺醯亞胺膜
CN114920931A (zh) 聚酰亚胺前体组合物、聚酰亚胺膜及其制备方法
TW202311369A (zh) 聚醯胺酸組合物及由其製備的聚醯亞胺
JP2023142849A (ja) ポリアミド酸ワニス及びポリアミド酸ワニスの製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20200106

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821

Effective date: 20200106

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20191226

RD03 Notification of appointment of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423

Effective date: 20200903

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20201116

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20201124

RD04 Notification of resignation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

Effective date: 20201228

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20210224

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20210316

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20210616

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20210706

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20210712

RD02 Notification of acceptance of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422

Effective date: 20210712

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20210715

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20210914

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20210916

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6947848

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150