JP2020517443A - TiO2を含有している細孔性モノリスおよびその製造方法 - Google Patents

TiO2を含有している細孔性モノリスおよびその製造方法 Download PDF

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Abstract

本発明は、細孔性のモノリスであって、モノリスの全重量に対して20重量%〜70重量%のTiO2、およびモノリスの全重量に対して30重量%〜80重量%の、シリカ、アルミナまたはシリカ−アルミナから選択される耐火性酸化物を含んでおり、前記細孔性モノリスが有するバルク密度は、0.19g/mL未満であることを特徴とする、ものに関する。

Description

本発明の分野は、階層構造を有する材料の分野である。より詳細には、本発明は、TiOを含有している細孔性モノリスおよびそれの調製方法に関する。
複数種の孔隙を有する無機酸化物、特にシリカをベースとするモノリスを調製することは知られた実践であり、マクロ孔隙は、直接的エマルジョンによって形成する方法によって得られる。
A. Arayaら(特許文献1)およびA. Imhofら(非特許文献1)は、アルコールに溶解させられかつ少量の水の添加によって加水分解されるアルコキシドを用いるゾル−ゲル方法の実施を記載し、大部分のアルコキシドは、水と高い反応性でありかつ安定なエマルジョンを与えないことが思い出される。この文献には、ホルムアルデヒド中油の単分散エマルジョンから、酸化チタン、ジルコニアまたはシリカの単分散のミクロ細孔性材料であって、細孔径が50nm〜数マイクロメータであるものを調製することも記載されている。
B. P. Binks(非特許文献2)は、界面活性剤の非存在下に、シリカのみの粒子により安定化させられたエマルジョンからの細孔性シリカの調製を記載している。
J. S. Beckら(非特許文献3)は、ケイ酸塩またはアルミノケイ酸塩によって構成されたメソ細孔性固体の調製を記載している。
特許出願(特許文献2)には、可視スペクトルの照射下に空気中または水中の汚染物質を劣化させるためまたは可視スペクトルの照射下に水をHに分解するための光触媒としての、細孔性モノリスの形態にあるN−TiOベースの材料の使用が記載されている。
他の特許出願(特許文献3)には、TiOを含有している細孔性モノリスの調製の様式および光照射下に空気中または水中の汚染物質を劣化させるための光触媒としてのその使用が記載されている。特許請求されたモノリスが有するバルク密度は、約1g/mLである。
M. TahirおよびN. S. Aminの非特許文献4および5からも、半導体化合物によりコーティングされたミリメートルサイズのチャネルを含有している「ハニカム」タイプのモノリスを用いることが知られている。このタイプの物体も、単位体積当たりの高い密度を有している(約0.8〜0.9g/mL)。
米国特許第4888309号明細書 国際公開第2015/110772号 仏国特許出願公開第2975309号明細書
A. Imhofら著、"Nature"、1997年10月30日、第389巻、p.948-952 B. P. Binks著、"Adv. Mater."、2002年12月17日、第14巻、第24号、p.1824-1827 J. S. Beckら著、"J. Am. Chem. Soc."、1992年、第114巻、p.10834-10843 M. TahirおよびN. S. Amin著、"Appl. Catal. A: General"、2013年、第467巻、p.483-496 M. TahirおよびN. S. Amin著、"Chem. Eng. J."、2013年、第230巻、p.314-327
しかしながら、従来技術の文献のいずれにも、最低20重量%のTiOを含有し、かつ、0.19g/mL未満のバルク密度を有する細孔性モノリスタイプの材料は記載されていない。本発明の主題によると、高いTiOの含有率と低いバルク密度との組み合わせにより、モノリスを、従来技術と比較して増大した露出TiOの表面積を有するものにすることが可能となる。これらの特性により、本発明によるモノリスが触媒的または光触媒的な適用において有利に用いられることが可能となる。
より詳細には、本発明は、細孔性モノリスであって、モノリスの全重量に対して20重量%〜70重量%のTiO、モノリスの全重量に対して30重量%〜80重量%の、シリカ、アルミナまたはシリカ−アルミナから選択される耐火性酸化物を含有し、かつ、バルク密度は、0.19g/mL未満であるものを記載する。バルク密度は、細孔性モノリスの重量対その幾何学量の比を取ることによって計算される。
一変形例によると、前記細孔性モノリスは、0.2〜50nmの細孔径についてのメソ細孔を有し、メソ細孔容積は、0.01〜1mL/g、好ましくは、0.05〜0.5mL/gである。
一変形例によると、前記細孔性モノリスは、I型マクロ細孔、すなわち、その細孔径が50nm超かつ1000nm以下である細孔を有し、I型マクロ細孔容積は、0.1〜3mL/g、好ましくは0.2〜2.5mL/gである。
一変形例によると、前記細孔性モノリスは、II型マクロ細孔、すなわち、その細孔径が1μm超かつ10μm以下である細孔を有し、II型マクロ細孔容積は、0.1〜8mL/g、好ましくは0.5〜8mL/gである。
一つの好ましい変形例によると、細孔性モノリスの形態にある前記光触媒は、上記のようなメソ孔隙および/またはI型マクロ孔隙および/またはII型マクロ孔隙を有している。
一変形例によると、前記細孔性モノリスは、細孔径が10μm超であるマクロ細孔も有し、その細孔容積は、0.5mL/g未満である。
マクロ細孔容積およびメソ細孔容積は、規格ASTM D4284-83に従う水銀圧入ポロシメトリによって、4000バール(400MPa)の最大圧力で、484dyne/cmの表面張力および140°の接触角を用いて測定される。
一変形例によると、細孔性モノリスの形態にある前記光触媒が有する比表面積(S. Brunauer,P. H. Emmett,E. Teller,J. Am. Chem. Soc., 1938,60(2),pp.309-319において規定されたBrunauer、Emmett、Tellerの方法、すなわち、BET法から確立された規格ASTM D 3663-78に従って測定される)は、150〜700m/g、好ましくは200〜600m/gである。
好ましくは、TiOは、それのアナターゼおよびルチルの形態にあり、アナターゼ:ルチルの比は、好ましくは95:5〜50:50である。
本発明は、前記細孔性モノリスを調製する方法であって、Tiの前駆体は、ケイ素および/またはアルミニウムの酸化物の前駆体の工程以外の工程において導入される、方法にも関する。本方法は、以下の工程:
a) 界面活性剤を含有している溶液を、酸性水溶液と混合して、界面活性剤を含んでいる酸性水溶液を得る工程;
b) 少なくとも1種のケイ素および/またはアルミニウムの前駆体を、工程a)において得られた溶液に加える工程;
c) 少なくとも1種の液体有機化合物であって、工程b)において得られた溶液に混和しないものを、工程b)において得られた溶液に加えて、エマルジョンを形成する工程;
d) 工程c)において得られたエマルジョンを湿潤状態で放置して熟成させ、ゲルを得る工程;
e) 工程d)において得られたゲルを、有機溶液により洗浄する工程;
f) 工程e)において得られたゲルを、乾燥させかつ焼成して、細孔性モノリスを得る工程;
g) 少なくとも1種の可溶性チタン前駆体を含んでいる溶液を、工程f)において得られた細孔性モノリスの孔隙に含浸させる工程;
h) 場合による、工程g)において得られた細孔性モノリスを、湿潤状態中に放置して熟成させる工程;
i) 工程g)またはh)において得られた細孔性モノリスを、乾燥させかつ焼成して、TiOを含有している細孔性モノリスを得る工程
を含む。
(発明の詳細な説明)
(定義)
後続の明細書において、化学元素の族は、CAS分類に従って与えられる(CRC Handbook of Chemistry and Physics,CRC Press出版,チーフ編集者D. R. Lide,第81版,2000-2001)。例えば、CAS分類に従う第VIII族は、新IUPAC分類に従う8、9および10族の金属に対応する。
本発明の説明において、IUPACコンベンションに従って、用語「ミクロ細孔(micropores)」は、径が2nm未満である細孔を意味するとして意図される;用語「メソ細孔(mesopores)」は、径が2nm超かつ50nm以下である細孔を意味するとして意図され、用語「マクロ細孔(macropores)
」は、径が50nm超である細孔を意味するとして意図され、より詳細には、用語「I型マクロ細孔(type-I macropores)」は、径が50nm超かつ1000nm(1μm)以下である細孔を意味するとして意図され、用語「II型マクロ細孔(type-II macropores)」は、径が1μm超かつ10μm以下である細孔を意味するとして意図される。
(説明)
本発明によると、細孔性モノリスは、モノリスの全重量に対して20重量%〜70重量%のTiO、好ましくは20重量%〜60重量%のTiOを含む。本発明による細孔性モノリスは、モノリスの全重量に対して、30重量%〜80重量%、好ましくは40重量%〜80重量%の、シリカ、アルミナまたはシリカ−アルミナから選択される耐火性酸化物も含む。
本発明による細孔性モノリスが有するバルク密度は、0.19g/mL未満、好ましくは0.16g/mL未満である。バルク密度は、細孔性モノリスの重量対その幾何学量の比によって計算される。
有利には、前記細孔性モノリスは、元素周期律表の第IA族、第IIA族、第VIIIB族、第IB族および第IIIA族の元素から選択される少なくとも1種の元素Mを、金属または酸化された状態で、単独または混合物として含有してよい。好ましくは、元素(1種または複数種)Mの全含有率は、細孔性モノリスの全重量に対して0.001重量%〜20重量%である。
有利には、細孔性モノリスは、金属元素、例えば、元素V、Ni、Cr、Mo、Fe、Sn、Mn、Co、Re、Nb、Sb、La、Ce、TaまたはTi、非金属元素、例えば、C、N、S、FまたはP等または金属および非金属の元素の混合物から選択される1種または複数種の元素をドーピングされてよい。ドーピング元素の含有率は、細孔性モノリスの全重量に対して0.001重量%〜5重量%である。
一変形例によると、前記細孔性モノリスは、0.2〜50nmの細孔径についてのメソ細孔を有し、メソ細孔容積は、0.01〜1mL/g、好ましくは0.05〜0.5mL/gである。
一変形例によると、前記細孔性モノリスは、I型マクロ細孔、すなわち、細孔径が50nm超かつ1000nm(1μm)以下である細孔を有し、I型マクロ細孔容積は、0.1〜3mL/g、好ましくは0.2〜2.5mL/gである。
一変形例によると、前記細孔性モノリスは、II型マクロ細孔、すなわち、細孔径が1μm超かつ10μm以下である細孔を有し、II型マクロ細孔容積は、0.1〜8mL/g、好ましくは0.5〜8mL/gである。
一つの好ましい変形例によると、前記細孔性モノリスは、メソ孔隙(porosity)および/またはI型マクロ孔隙および/またはII型マクロ孔隙を有している。
一変形例によると、前記細孔性モノリスは、10μm超の細孔径についてのマクロ細孔も有し、そのマクロ細孔容積は、0.5mL/g未満である。
一変形例によると、前記細孔性モノリスが有しているBET表面積は、150〜700m/gである。
本発明は、前記細孔性モノリスを調製する方法であって、Ti前駆体は、ケイ素および/またはアルミニウムの酸化物の前駆体の工程以外の工程において導入され;
a) 界面活性剤を含有している溶液を酸性水溶液と混合して、界面活性剤を含んでいる酸性水溶液を得る工程;
b) 少なくとも1種のケイ素および/またはアルミニウムの前駆体を、工程a)において得られた溶液に加える工程;
c) 工程b)において得られた溶液に混和しない少なくとも1種の液体有機化合物を、工程b)において得られた溶液に加えて、エマルジョンを形成する工程;
d) 工程c)において得られたエマルジョンを湿潤状態で放置して熟成させて、ゲルを得る工程;
e) 工程d)において得られたゲルを有機溶液により洗浄する工程;
f) 工程e)において得られたゲルを乾燥させかつ焼成して、細孔性モノリスを得る工程;
g) 少なくとも1種の可溶性チタン前駆体を含んでいる溶液を、工程f)において得られた細孔性モノリスの孔隙に含浸させる工程;
h) 場合による、工程g)において得られた細孔性モノリスを、湿潤状態で放置して熟成させる工程;
i) 工程g)またはh)において得られた細孔性モノリスを、乾燥させかつ焼成して、TiOを含有している細孔性モノリスを得る工程
を含む、方法も記載する。
これらの工程は、以降において詳細に記載される。
(工程a):界面活性剤を含んでいる酸性水溶液の調製)
本発明による方法の工程a)の間に、界面活性剤を含有している溶液は、酸性水溶液と混合されて、界面活性剤を含んでいる酸性水溶液が得られる。この工程は、好ましくは、周囲温度で行われる。
界面活性剤は、アニオン性、カチオン性、両性または非イオン性であってよい。好ましくは、界面活性剤は、カチオン性界面活性剤である。非常に好ましくは、界面活性剤は、セチルトリメチルアンモニウムブロミドまたはミリスチルトリメチルアンモニウムブロミドである。酸性水溶液は、好ましくは、無機酸性水溶液、例えば、硝酸、硫酸、リン酸、塩化水素酸または臭化水素酸、または有機酸、例えば、カルボン酸またはスルホン酸から単独または混合物として選択される。好ましくは、酸性水溶液は、塩化水素酸または硝酸の水溶液から選択される。工程a)において得られた溶液のpHは、好ましくは、4未満である。
(工程b):少なくとも1種のケイ素および/またはアルミニウムの前駆体の添加)
本発明による方法の工程b)の間に、少なくとも1種のケイ素および/またはアルミニウムの前駆体が、工程a)において得られた溶液に添加される。
アルコキシドタイプの1種または複数種のアルミニウムおよび/またはケイ素の前駆体が好ましくは選択される。非常に好ましくは、1種または複数種のアルミニウムおよび/またはケイ素の前駆体は、アルミニウムイソプロポキシド、アルミニウム tert−ブトキシド、オルトケイ酸テトラエチルまたはオルトケイ酸テトラメチルから選択される。
好ましくは、「前駆体/界面活性剤」の重量比は、0.1〜10、好ましくは0.2〜5である。
(工程c):エマルジョンの形成)
本発明による方法の工程c)の間に、少なくとも1種の液体有機化合物であって、工程b)において得られた溶液に混和しないものが、工程b)において得られた溶液に加えられて、エマルジョンが形成される。この工程は、好ましくは、周囲温度で行われる。
好ましくは、液体有機化合物は、1種の炭化水素または炭化水素の混合物であって、5〜15個の炭素原子を有するものである;例として、ドデカンの言及がなされてよい。好ましくは、「液体有機化合物/工程b)において得られた溶液」の重量比は、0.2〜5、好ましくは0.3〜3である。
(工程d):ゲルの形成)
本発明による方法の工程d)の間に、工程c)において得られたエマルジョンは、湿潤状態で放置されて熟成させられ、ゲルが得られる。
好ましくは、熟成は、5〜80℃、好ましくは20〜70℃の温度で行われる。好ましくは、熟成は、1〜30日にわたって、好ましくは1〜15日にわたって行われる。
(工程e):洗浄)
本発明による方法の工程e)の間に、工程d)において得られたゲルは、有機溶液により洗浄される。この工程は、好ましくは、周囲温度で行われる。
好ましくは、有機溶液は、単独または混合物としての、アセトン、エタノール、メタノール、イソプロパノール、テトラヒドロフラン、酢酸エチルまたは酢酸メチルである。好ましくは、洗浄工程は、少なくとも2回繰り返される。
(工程f):乾燥処理および焼成)
本発明による方法の工程f)の間に、工程e)において得られたゲルは、空気中で乾燥させられかつ焼成されて、細孔性モノリスが得られる。
好ましくは、乾燥処理は、5〜80℃、好ましくは20〜75℃の温度で行われる。好ましくは、乾燥処理は、1〜30日にわたって、好ましくは1〜15日にわたって行われる。
乾燥処理は、一般的には、空気下、好ましくは、空気の重量(キログラム)当たり0〜80グラムの水、5容積%〜25容積%の含有率の酸素および0容積%〜10容積%の含有率の二酸化炭素を含んでいる空気下に行われる;例えば、この空気は、炭化水素、好ましくはメタンの燃焼からの空気であり、または、乾燥処理は、加熱された空気下に行われる。
好ましくは、焼成は、空気下に、300〜1000℃、好ましくは350〜900℃の温度で行われる。好ましくは、焼成は、1〜72時間にわたって、好ましくは2〜48時間にわたって行われる。
一層より好ましくは、焼成は、2工程で行われる:第1の温度静止段階:1〜10時間にわたって120〜250℃、次の第2の温度静止段階:2〜24時間にわたって300〜950℃。
一般的に、焼成工程は、燃焼空気下、好ましくは、メタンの燃焼からの、燃焼空気の重量(kg)当たり40〜80gの水、5容積%〜15容積%の含有率の酸素および4容積%〜10容積%の含有率のCOを含んでいる空気下で行われる。
(工程g):Ti前駆体の含浸)
本発明による方法の工程g)の間に、少なくとも1種の可溶性チタン前駆体を含んでいる溶液が、工程f)において得られた細孔性モノリスの孔隙に含浸させられる。
好ましくは、チタン前駆体は、チタンアルコキシドから選択される;非常に好ましくは、チタン前駆体は、チタンイソプロポキシドまたはオルトチタン酸テトラエチルから単独または混合物として選択される。
場合によっては、イオンタイプまたはコロイドゾルの形態での少なくとも1種の他の無機チタン前駆体の使用が単独でまたはチタンアルコキシド前駆体に加えてなされてよい。
(工程h):場合による熟成工程)
本発明による方法の工程h)の間に、工程g)において得られた細孔性モノリスは、湿潤状態で放置されて熟成させられる。
好ましくは、熟成工程は、5〜80℃、好ましくは20〜75℃の温度で、0.5〜30日にわたって、好ましくは1〜15日にわたって行われる。
(工程i):乾燥処理および焼成)
本発明による方法の工程i)の間に、工程g)またはh)において得られた細孔性モノリスは、空気下に乾燥させられかつ焼成されて、TiOを含有している細孔性モノリスが得られる。
好ましくは、乾燥処理は、5〜80℃、好ましくは20〜75℃の温度で行われる。好ましくは、乾燥処理は、1〜30日、好ましくは1〜15日にわたって行われる。
乾燥処理は、一般的に、炭化水素、好ましくは、メタンの燃焼からの空気下に、または、燃焼空気の重量(キログラム)当たり0〜80gの水、5容積%〜25容積%の含有率の酸素および0容積%〜10容積%の含有率の二酸化炭素を含んでいる加熱された空気下に行われる。
好ましくは、焼成は、空気下に300〜1000℃の温度で行われる。好ましくは、焼成は、1〜72時間にわたって、好ましくは2〜48時間にわたって行われる。
好ましくは、空気下に焼成する工程は、80〜150℃の1〜10時間にわたる第1の温度静止段階、次の、150℃超かつ250℃以下の1〜10時間にわたる第2の温度静止段階、および、最後の、300〜700℃の0.5〜24時間にわたる第3の温度静止段階により行われる。
一般的に、焼成工程は、燃焼空気下に、好ましくは、メタンの燃焼からの、燃焼空気の重量(kg)当たり40〜80グラムの水、5容積%〜15容積%の含有率の酸素および4容積%〜10容積%の含有率のCOを含んでいる空気下に行われる。
一変形例によると、TiOは、金属イオン、例えば、元素V、Ni、Cr、Mo、Fe、Sn、Mn、Co、Re、Nb、Sb、La、Ce、TaまたはTiから選択される1種または複数種の元素、非金属元素、例えば、C、N、S、FまたはP、または、金属および非金属元素の混合物を、前記方法のあらゆる工程において、当業者に知られているあらゆる方法によってドーピングされてよい。
一変形例によると、元素周期律表の第IA族、第IIA族、第VIIIB族、第IB族および第IIIA族の元素から選択される元素Mの前駆体は、金属または酸化された状態で、工程a)、b)および/またはg)に、場合によっては、工程i)の後に加えられる。前駆体は、溶液中に溶解した形態、固体粉体の形態またはコロイドゾルの形態であってよい。
元素Mを全体的にまたは部分的にそれの金属の形態で得ることが求められている場合、工程i)に続いて、水素の流れ下に100〜600℃の温度で0.5〜24時間にわたって還元の工程を行うことが可能であるだろう。
制限的な本質を示すことなく、本発明によるTiOを含有している細孔性モノリスは、有利には、水の解離による二元素水素の製造のための光触媒作用において用いられてよい。
以下の実施例は、本発明を例証するが、本発明の範囲を制限するものではない。
(実施例)
(実施例1:固体A(本発明に合致しない)TiOモノリス)
ポリエチレングリコール(Aldrich(登録商標)、M=20000)1gが、蒸留水2mLに加えられ、次いで、塩化水素酸溶液(37重量%、Aldrich(登録商標)、純度97%)1mLと混合される。チタンイソプロポキシド(Aldrich(登録商標)、純度97%)1.1gが、この混合物に周囲温度で加えられ、生じた混合物は、明白に単一の相の混合物が得られるまで撹拌される。
混合物は、次いで、5.5cmの内径を有するペトリ皿に注がれる。このペトリ皿は、7日にわたって周囲温度でゲル化させるために飽和器中に置かれる(水蒸気の含有率は、この飽和器によって、蒸気圧の法則に従って調節されている)。
得られたゲルは、次いで、イソプロパノール(Aldrich(登録商標)、純度>99.5%)により2回連続して洗浄され、次いで、周囲温度で2日にわたって乾燥させられる。最後に、ゲルは、空気下にマッフル炉中180℃で2時間にわたって、次いで、350℃で6時間にわたって焼成される。
固体Aは、TiOベースの細孔性モノリスの形態で得られる。
固体Aが有するメソ細孔容積は、0.16mL/gであり、I型マクロ細孔容積は、0.19mL/gであり、II型マクロ細孔容積は、2.3mL/gである。固体Aが有する比表面積は、94m/gである。
細孔性モノリスAが有するバルク密度は、0.23g/mLである。
(実施例2:固体B(本発明に合致していない)TiOモノリス)
ミリスチルトリメチルアンモニウムブロミド(Aldrich(登録商標)、純度>99%)1.12gが、蒸留水2mLに加えられ、次いで、塩化水素酸溶液(37重量%、Aldrich(登録商標)、純度97%)1mLと混合される。チタンイソプロポキシド(Aldrich(登録商標)、純度97%)2.2gが、この混合物に周囲温度で加えられ、得られた混合物は、明白に単一な相の混合物が得られるまで撹拌される。
ヘプタン(Aldrich(登録商標)、純度>99%)7gが、この混合物にゆっくりと導入され、エマルジョンが形成されるまで撹拌される。
アンモニア水溶液(Aldrich(登録商標)、ACS試薬、28.0−30.0%NH基準)0.4mLが、次いで、このエマルジョンに加えられる。
エマルジョンは、次いで、5.5cmの内径を有するペトリ皿に注がれ、このペトリ皿は、飽和器中に7日にわたってゲル化のために周囲温度で置かれる。
得られたゲルは、次いで、最初に1回無水テトラヒドロフラン(Aldrich(登録商標)、純度>99%)により洗浄され、次いで、容積で70/70の無水テトラヒドロフラン/アセトンの混合物(VWR(登録商標)、ACSグレード)により連続して2回洗浄される。
このゲルは、次いで、周囲温度で7日にわたって乾燥させられる。最後に、このゲルは、空気下にマッフル炉中200℃で2時間にわたって、次いで、450℃で6時間にわたって焼成される。
固体Bは、ここで、TiOベースの細孔性モノリスの形態で得られる。
固体Bが有するメソ細孔容積は、0.29mL/gであり、I型マクロ細孔容積は、0.30mL/gであり、II型マクロ細孔容積は、0.4mL/g未満である。固体Bが有する比表面積は、135m/gである。
細孔性モノリスBが有するバルク密度は、1.1g/mLである。
(実施例3:固体C(本発明に合致する)TiO/SiOモノリス)
ミリスチルトリメチルアンモニウムブロミド(Aldrich(登録商標)、純度>99%)1.12gが、蒸留水2mLに加えられ、次いで、塩化水素酸溶液(37重量%、Aldrich(登録商標)、純度97%)1mLと混合される。オルトケイ酸テトラエチル(Aldrich(登録商標)、純度>99%)1.02gが、この混合物に周囲温度で加えられ、得られた混合物は、明白に単一な相の混合物が得られるまで撹拌される。
ドデカン(Aldrich(登録商標)、純度>99%)7gがこの混合物にゆっくり導入され、エマルジョンが形成されるまで撹拌される。
このエマルジョンは、次いで、5.5cmの内径を有するペトリ皿に注がれ、このペトリ皿は、飽和器に7日にわたってゲル化のために周囲温度に置かれる。
得られたゲルは、次いで、最初に1回無水テトラヒドロフラン(Aldrich(登録商標)、純度>99%)により洗浄され、次いで、容積で70/30の無水テトラヒドロフラン/アセトンの混合物(VWR(登録商標)、ACSグレード)により連続して2回洗浄される。
このゲルは、次いで、周囲温度で7日にわたって乾燥させられる。最後に、このゲルは、空気下にマッフル炉中180℃で2時間にわたって、次いで、650℃で5時間にわたって焼成される。SiOベースの細孔性モノリスが得られ、このものの全細孔容積は、10.5mL/gである。
蒸留水34mL、イソプロパノール(Aldrich(登録商標)、純度>99.5%)44.75mL、塩化水素酸(37重量%、Aldrich(登録商標)、純度97%)10.74mLおよびチタンイソプロポキシド(Aldrich(登録商標)、純度97%)10.50mLを含有している溶液が、撹拌しながら調製される。全細孔容積に相当する溶液の部分が、モノリスの孔隙に含浸させられ、次いで、12時間にわたって周囲温度で放置されて熟成させられる。モノリスは、次いで、周囲雰囲気下に24時間にわたって乾燥させられる。この工程は、2回繰り返される。最後に、モノリスは、空気下にマッフル炉中120℃で2時間にわたって、次いで、180℃で2時間にわたって、最後に400℃で1時間にわたって焼成される。SiOマトリクス中にTiOを含んでいる細孔性モノリスが得られる。
固体Cが有するメソ細孔容積は、0.20mL/gであり、I型マクロ細孔容積は、1.15mL/gであり、II型マクロ細孔容積は、5.8mL/gである。固体Cが有する比表面積は、212m/gである。Ti元素の含有率は、ICP−AESによって測定されて、27.35重量%であり、これは、固体C中52.1重量%のTiO半導体と等価である。
細孔性モノリスCが有するバルク密度は、0.14g/mLである。
(実施例4:気相中の水の解離による二原子水素(dihydrogen)の光触媒的製造のための固体の使用)
細孔性モノリスA、BおよびCは、貫流式床連続鋼性反応器における気相中の水の解離による二原子水素の光触媒的製造の試験に付される。この反応器は、石英から作製された光学窓と、光学窓の反対側のフリットとを備え、このフリットの上に固体が置かれる、ものである。
モノリスは、フリット上に置かれ、それらの径は、反応器の径に等しい。全ての光触媒に向けて光が照らされる表面積は、8.042477×10−04である。試験は、周囲温度で大気圧下に行われる。3mL/分の流量のアルゴンが、水飽和器中を通過した後に、反応器に分配される。飽和器に同伴される水の光触媒還元に由来する生じた二原子水素ガスの生成は、マイクロガスクロマトグラフィーによる4分毎の流出物の分析によってモニタリングされる。UV−可視光照射源は、Xe−Hgランプ(Asahi(登録商標)、MAX302(登録商標))によって提供される。照射電力は、常時、315〜400nmの波長範囲について80W/mに維持される。試験の継続期間は、20時間である。
光触媒活性は、時間当たりかつTiOの重量(グラム)当たりの生じた二原子水素のモル(μmol)で表される。それらは、試験の継続期間全体にわたる平均活性である。結果は、下記の表に与えられる。
Figure 2020517443
活性値が示していることは、本発明に合致する固体は、水の解離による二原子水素の光触媒生成において用いられる時により良好な性能レベルを呈することである。

Claims (15)

  1. 細孔性モノリスであって、モノリスの全重量に対して20重量%〜70重量%のTiO、モノリスの全重量に対して30重量%〜80重量%の、シリカ、アルミナまたはシリカ−アルミナから選択される耐火性酸化物を含んでいる細孔性モノリスにおいて、前記細孔性モノリスが含むバルク密度は、0.19g/mL未満であることを特徴とする細孔性モノリス。
  2. 前記細孔性モノリスが含むバルク密度は、0.16g/mL未満であることを特徴とする請求項1に記載のモノリス。
  3. 0.2〜50nmの細孔径についてのメソ細孔を含み、メソ細孔容積は、0.1〜1mL/gであることを特徴とする請求項1または2に記載のモノリス。
  4. 細孔径が50nm超かつ1000nm以下であるI型マクロ細孔を含み、I型マクロ細孔容積は、0.1〜3mL/gであることを特徴とする請求項1または2に記載のモノリス。
  5. 細孔径が1μm超かつ10μm以下であるII型マクロ細孔を含み、II型マクロ細孔容積は、0.1〜8mL/gであることを特徴とする請求項1または2に記載のモノリス。
  6. メソ孔隙および/またはI型マクロ孔隙および/またはII型マクロ孔隙を含むことを特徴とする請求項1〜5のいずれか1つに記載のモノリス。
  7. 10μm超の細孔径についてのマクロ細孔も含み、該マクロ細孔の容積は、0.5mL/g未満であることを特徴とする請求項1〜6のいずれか1つに記載のモノリス。
  8. モノリスが含むBET比表面積は、150〜700m/gであることを特徴とする請求項1〜7のいずれか1つに記載のモノリス。
  9. 元素周期律表の第IA族、第IIA族、第VIIIB族、第IB族および第IIIA族の元素から選択される少なくとも1種の元素Mも、金属または酸化物の状態で、単独または混合物として含むことを特徴とする請求項1〜8のいずれか1つに記載のモノリス。
  10. 元素(1種または複数種)Mの含有率は、細孔性モノリスの全重量に対して0.001重量%〜20重量%である、請求項9に記載のモノリス。
  11. 金属元素、例えば、元素V、Ni、Cr、Mo、Fe、Sn、Mn、Co、Re、Nb、Sb、La、Ce、TaまたはTi、非金属元素、例えば、C、N、S、FまたはP、または金属および非金属の元素の混合物から選択される1種または複数種のドーピング元素も含むことを特徴とする請求項1〜10のいずれか1つに記載のモノリス。
  12. ドーピング元素の含有率は、細孔性モノリスの全重量に対して0.001重量%〜5重量%である、請求項11に記載のモノリス。
  13. 請求項1〜12のいずれか1つに記載の細孔性モノリスを調製する方法であって、以下の工程:
    a) 界面活性剤を含有している溶液を、酸性水溶液と混合して、界面活性剤を含んでいる酸性水溶液を得る工程;
    b) 少なくとも1種のケイ素および/またはアルミニウムの前駆体を、工程a)において得られた溶液に加える工程;
    c) 少なくとも1種の液体有機化合物であって、工程b)において得られた溶液に混和しないものを、工程b)において得られた溶液に加えて、エマルジョンを形成する工程;
    d) 工程c)において得られたエマルジョンを、湿潤状態で放置して熟成させて、ゲルを得る工程;
    e) 工程d)において得られたゲルを、有機溶液により洗浄する工程;
    f) 工程e)において得られたゲルを、乾燥させかつ焼成して、細孔性モノリスを得る工程;
    g) 少なくとも1種の可溶性チタン前駆体を含んでいる溶液を、工程f)において得られた細孔性モノリスの孔隙に含浸させる工程;
    h) 場合による、工程g)において得られた細孔性モノリスを、湿潤状態で放置して熟成させる工程;
    i) 工程g)またはh)において得られた細孔性モノリスを、乾燥させかつ焼成して、TiOを含有している細孔性モノリスを得る工程
    を含む、方法。
  14. 工程i)において、乾燥処理が行われる際の温度は、5〜80℃であり、焼成が行われる際の温度は、300〜1000℃である、請求項13に記載の方法。
  15. 工程i)において、焼成を、連続する2回の工程:1〜10時間にわたる120〜250℃の第1の温度静止段階、次の、2〜24時間にわたる300〜950℃の第2の温度静止段階において行う、請求項13または14に記載の方法。
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