JP2020515720A5 - - Google Patents
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Description
図３、図４および図５を参照すると、２８５μｍ径である合金ワイヤＡ２の微細構造のＴＥＭ画像が示される。図３は、ベータ相粒の母相内にアルファ相粒１が存在することを示す。これらのアルファ相粒１は、β相粒内で、１００〜２００ｎｍの等軸な粒の形態で存在する。本発明による方法の条件下では、アルファ相粒１はほとんど存在せず、かつβ相粒の間に均一に分散している。発明者は、熱処理によりアルファ相が析出することと、β相の析出物内にアルファ相が均一に発生することが可能であることに言及した。これらのアルファ相粒１は、平均１５０ｎｍ未満のサイズを有する。図３の上部右に配置されている挿入図Ｉ１内に、選択された領域の電子回折図が示される。ベータ相粒の回折は環を形成する傾向があることを見ることができるが、これはベータ相粒の結晶方位のランダム化を示している。ベータ相粒の結晶方位のランダム化は、工程Ｔ１により引き起こされた再結晶を立証するものである。
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