JP2020512585A5

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Publication number: JP2020512585A5
Application number: JP2019552053A
Authority: JP
Filing date: 2018-03-20
Publication date: 2021-04-30
Anticipated expiration: 2038-03-20

Claims

テラヘルツ範囲の電磁波の検出もしくは出射または検出および出射の両方を行うためのテラヘルツ装置であって、前記装置は、プラズモニック導波路である第１導波路を備え、
前記プラズモニック導波路は、
第１コアを含み、前記第１コアは、非線形材料（１０１，２０２，３０５，４０２）を含み、
クラッドを含み、前記クラッドは、第１クラッド部を含み、前記第１クラッド部は、第１コアとの第１界面に、導電性材料である第１クラッド材料を含み、
前記装置は、
前記第１導波路の近傍に配置された第１電極および第２電極（１０２）を備え、
前記装置は、テラヘルツ範囲の電磁波の受信もしくは出射または受信および出射の両方を行うための第１アームおよび第２アーム（２０１，３０４，４０３）を含むアンテナを備える、装置。
前記装置は、テラヘルツ範囲の電磁波を出射するためのテラヘルツエミッタであり、
前記第１電極および前記第２電極（１０２）は、前記非線形材料（１０１，２０２，３０５，４０２）に存在する電界を捕捉するために設けられる、請求項１に記載の装置。
前記装置は、テラヘルツ範囲の電磁波を検出するためのテラヘルツ検出器であり、
前記第１電極および前記第２電極（１０２）は、前記第１電極と前記第２電極との間に電圧が印加されたときに、前記非線形材料の光学特性を調整するための電界を前記非線形材料（１０１，２０２，３０５，４０２）に生成するために設けられる、請求項１に記載の装置。
前記第１電極は、前記第１クラッド部を形成する、請求項１〜３のいずれか１項に記載の装置。
前記クラッドは、前記第１クラッド部とは別の第２クラッド部を含み、
前記第２クラッド部は、前記非線形材料との第２界面に、導電性材料である第２クラッド材料を含む、請求項１〜４のいずれか１項に記載の装置。
前記非線形材料（１０１，２０２，３０５，４０２）は、前記第１クラッド部と前記第２クラッド部との間に配置される、請求項５に記載の装置。
前記第１導波路に近接して配置された第２コアを含む第２導波路（１０３，３０２，４０１）をさらに備え、前記第１導波路と前記第２導波路との間の結合を可能にする、請求項１〜６のいずれか１項に記載の装置。
１つ以上の基板層を含む基板（１０４，２０３，３０１）を備え、
前記第１導波路および第２導波路の両方は、前記基板上に配置され、前記基板に取り付けられている、請求項７に記載の装置。
自由空間電磁波と前記第１導波路との間の結合を強化するための光学構造を備える、請求項１〜８のいずれか１項に記載の装置。
テラヘルツ装置を製造するための方法であって、
第１ウエハを提供するステップと、
前記第１ウエハ上に非線形材料（１０１，２０２，３０５，４０２）を堆積させるステップと、
第２ウエハを提供するステップと、
前記非線形材料を埋めるように、前記第１ウエハを前記第２ウエハに接着することによって、ウエハ積層体を得るステップとを含む、方法であって、
前記方法は、テラヘルツ範囲の電磁波の受信もしくは出射または受信および出射の両方を行うための第１アームおよび第２アーム（２０１，３０４，４０３）を含むアンテナを提供するステップを含む、方法。
前記ウエハ積層体から前記第１ウエハの一部を除去するステップをさらに含む、請求項１０に記載の方法。
前記ウエハ積層体上にプラズモニック導波路である第１導波路を生成するステップと、
前記構造化ウエハ上に材料を堆積させることによって、自由空間電磁波と前記第１導波路との間の結合を強化するための光学構造（３０８）を形成するステップとを含む、請求項１０または１１に記載の方法。
テラヘルツ装置を製造するための方法であって、
非線形材料（１０１，２０２，３０５，４０２）で作られた第１ウエハを提供するステップと、
第２ウエハを提供するステップと、
前記第１ウエハを前記第２ウエハに接着することによって、ウエハ積層体を得るステップとを含む、方法であって、
前記方法は、テラヘルツ範囲の電磁波の受信もしくは出射または受信および出射の両方を行うための第１アームおよび第２アーム（２０１，３０４，４０３）を含むアンテナを提供するステップを含む、方法。
前記積層ウエハに含まれた前記非線形材料（１０１，２０２，３０５，４０２）を構造化するステップを含む、請求項１０〜１３のいずれか１項に記載の方法。
前記接着の後に、第２導波路（１０３，３０２，４０１）の第２コアを生成するステップを含み、
前記第２コアは、前記第２ウエハの一層の材料を含み、
前記第２コアを生成するステップは、前記層を構造化することを含む、請求項１０〜１４のいずれか１項に記載の方法。