JP6562667B2 - 静電容量型トランスデューサ、その製造方法、及び被検体情報取得装置 - Google Patents
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Description
(第1の実施形態)
図1−1から図2−2は、本実施形態に係わる静電容量型トランスデューサの模式図である。201は基板、202はシート、203は枠、204はフレキシブル配線基板、205は音響マッチング層であるシリコーン層、206は支持部材である。また、図1−1と図1−2は、図2−1と図2−2でのX-Y断面を示した模式図である。
第2の実施形態は、枠203を形成している材質が異なる。それ以外は、第1の実施形態と同じである。本実施形態での枠203は、金属を用いていることが特徴である。これにより、枠203を樹脂で構成する場合に比べて、水蒸気の透過率を大幅に低減することができるため、基板201表面側のシート202からの水蒸気などの侵入を考慮するだけで良くなり、トータルの水蒸気などの透過を低減することができる。また、樹脂に比べて、機械的な強度を高くできるため、より小型にすることができる。また、金属の音響インピーダンスは、基板201の音響インピーダンスに近い。そのため、樹脂を用いる場合に比べて、基板201周辺での超音波の乱反射が少なく、CMUTの送受信特性に影響を与えることが少なくなる。
第3の実施形態は、枠203のシート202を接着していない側(以下、説明の便宜上、底面側と呼ぶ)の構成が一部異なる。それ以外は、第1または第2の実施形態と同じである。
第4の実施形態は、基板201とフレキシブル配線基板204間の配線接続方法と、フレキシブル配線基板204とシート202間との位置関係が異なる。それ以外は、第1から第3の何れかの実施形態と同じである。図4を用いて説明する。
第5の実施形態は、シート202の一部が凹部を有していることが異なる。即ち、シート202の表面がなす面に凹部を備えており、枠203近傍よりも、CMUT100を配した領域で、窪みを有している。それ以外は、第1から第4の何れかの実施形態と同じである。第4の実施形態の構成を元に、図5−1、図5−2を用いて説明する。
第6の実施形態は、基板201上で電極109、110が配置されている場所が異なる。それ以外は、第1から第5の何れかの実施形態と同じである。第4の実施形態の構成を元に、図6を用いて説明する。
第7の実施形態は、シート202の一部が凸部を有していることが異なる。それ以外は、第1から第6の何れかの実施形態と同じである。第6の実施形態の構成を元に、図7(a)、(b)を用いて説明する。
第8の実施形態は、シート202表面が異なる。それ以外は、第1から第7の何れかの実施形態と同じである。第4の実施形態の構成を元に、図8を用いて説明する。
第9の実施形態は、トランスデューサの外側に部材が配置されている点が異なる。それ以外は、第1から第8の何れかの実施形態と同じである。第4の実施形態の構成を元に、図9を用いて説明する。
第10の実施形態は、トランスデューサの外側に部材が配置されている点が異なる。それ以外は、第1から第8の何れかの実施形態と同じである。第4の実施形態の構成を元に、図10を用いて説明する。
本実施形態では、第1から第10の実施形態の何れかに記載の静電容量型トランスデューサの製造方法に関して記載する。
本実施形態でも、第1から第10の実施形態の何れかに記載の静電容量型トランスデューサの製造方法に関して記載する。本実施形態の製造方法は、CMUT100を形成した基板201とシート202をシリコーン層により固定する工程と、シート202を枠203の端面に接着する工程と、を同時に行うことを特徴とする。図12を用いて、製造工程を具体的に説明する。
本実施形態では、第1から第10の実施形態の何れかに記載の静電容量型トランスデューサの製造方法に関して記載する。本実施形態の製造方法は、シート202を枠203の端面に接着する工程の後、CMUT100を形成した基板201とシート202をシリコーン層205により固定する工程を行うことを特徴とする。図13を用いて、製造工程を具体的に説明する。
本実施形態では、CMUT100を形成した基板201と、シート202をシリコーン層205を介して固定する工程に関する。それ以外は、第11から第13の実施形態の何れかに記載の製造方法と同じである。本実施形態では、基板201上に配置された膜厚設定手段により、シリコーン205の膜厚を規定することが特徴である。図14−1と図14−2を用いて、工程を具体的に説明する。
本実施形態は、第14の実施形態と保持部材の表面形状が異なる。図15は、本実施形態を説明する模式図である。本実施形態は、保持冶具270の表面形状が凸形状を有していることが特徴である。保持冶具270が有している凸形状の凸部平面は、基板201上にCMUTが形成された領域を覆うようになっている。保持冶具270の形状が異なるだけで、第14の実施形態と製造工程自体は同じである。ただし、基板201をシート202側に近づける前に、保持冶具270とCMUTを形成した基板201との位置関係を決める冶具、または位置関係を調整する工程を追加する必要がある。これらは、汎用の実装技術を用いて、高精度な位置決め機能付きの冶具や微調整機能を有したステージなどにより、容易に実現することができる。本実施形態の保持冶具270を用いると、CMUTを形成した平面とCMUT上のシート間にあるシリコーン層205の厚さを、封止材132(膜厚設定手段)の高さより薄くすることができる。
本実施形態は、第13の実施形態に記載の製造方法における、CMUT100を形成した基板201とシート202をシリコーン層205により固定する工程を有する製造方法に関する。本実施形態では、基板201上に配置された膜厚設定手段により、シリコーン205の膜厚を規定しており、且つ基板201上のシート202表面が、枠203上のシート表面より外側になるように基板に外力を与えることが特徴である。図16を用いて、工程を具体的に説明する。
第17の実施形態は、第1から第10の何れかの実施形態に係る静電容量型トランスデューサ、または第11から第16の何れかの実施形態に係る製造方法による静電容量型トランスデューサ を用いた超音波プローブに関する。
第18の実施形態は、第1から第16の何れかの実施形態に記載の静電容量型トランスデューサ、あるいは第17の実施形態に記載の超音波プローブを用いた超音波画像形成装置などの被検体情報取得装置に関する。ここでは超音波画像形成装置として説明する。
Claims (30)
- 間隙を隔てて形成された一対の電極のうちの一方の電極を含む振動膜と、前記振動膜を振動可能に支持する支持部と、を含む構造を有する1つ以上のセルと、
前記1つ以上のセルが一方の面上に配置された基板と、
耐水性を備えるシートと、
前記シートと前記セルとの間に設けられる音響マッチング層と、
耐水性を備え、前記基板の側面の周囲を囲むように配置された枠と、
を備え、
前記シートは、前記枠の開口に蓋をするように前記枠の端面に接着されており、
前記一方の面は、前記1つ以上のセルが設けられたセル領域と、前記1つ以上のセルの電極と電気回路とを電気的に接続する電気接続領域と、を有し、
前記セル領域における前記基板と前記シートとの間の距離は、前記電気接続領域における前記基板と前記シートとの間の距離よりも小さいことを特徴とする静電容量型トランスデューサ。 - 前記シートの表面は、前記枠の近傍よりも前記セルが位置する領域で前記基板の一方の面に近づいた凹部を構成することを特徴とする請求項1に記載の静電容量型トランスデューサ。
- 前記音響マッチング層は、前記セルが位置する領域に比べて、該領域の外側の領域で厚く構成されていることを特徴とする請求項2に記載の静電容量型トランスデューサ。
- 前記セルが位置する領域の前記音響マッチング層は、20μmから40μmの範囲にあることを特徴とする請求項3に記載の静電容量型トランスデューサ。
- 4メガヘルツの周波数を中心とする超音波の送受信に適用されることを特徴とする請求項4に記載の静電容量型トランスデューサ。
- 前記セルが位置する領域の前記音響マッチング層は、20μmから24μmの範囲にあることを特徴とする請求項3に記載の静電容量型トランスデューサ。
- 8メガヘルツの周波数を中心とする超音波の送受信に適用されることを特徴とする請求項6に記載の静電容量型トランスデューサ。
- 前記セルが位置する領域の外側の領域の前記マッチング層は、40μmから100μmの範囲にあることを特徴とする請求項3から7の何れか1項に記載の静電容量型トランスデューサ。
- 間隙を隔てて形成された一対の電極のうちの一方の電極を含む振動膜と、前記振動膜を振動可能に支持する支持部と、を含む構造を有する1つ以上のセルと、
前記1つ以上のセルが一方の面上に配置された基板と、
耐水性を備えるシートと、
前記シートと前記セルとの間に設けられる音響マッチング層と、
耐水性を備え、前記基板の側面の周囲を囲むように配置された枠と、
を備え、
前記シートは、前記枠の開口に蓋をするように前記枠の端面に接着されており、
前記基板の上の領域に設けられた前記シートの表面が、前記枠の上の領域に設けられた前記シートの表面に対して、突出して設けられていることを特徴とする静電容量型トランスデューサ。 - 前記シートは、30μm以下の厚みを有することを特徴とする請求項1から9の何れか1項に記載の静電容量型トランスデューサ。
- 前記シートは、水分透過率が100g/m 2 ・day以下であることを特徴とする請求項1から10の何れか1項に記載の静電容量型トランスデューサ。
- 前記シートの表面上に、所定の波長の光を反射する反射膜が形成されていることを特徴とする請求項1から11の何れか1項に記載の静電容量型トランスデューサ。
- 前記シートは、無機材料からなる層を含むことを特徴とする請求項1から12の何れか1項に記載の静電容量型トランスデューサ。
- 前記シートが、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリプロピレンのうちのいずれかであることを特徴とする請求項1から13の何れか1項に記載の静電容量型トランスデューサ。
- 前記シートの表面側に、シリコーンにより形成された音響レンズを備えることを特徴とする請求項1から14の何れか1項に記載の静電容量型トランスデューサ。
- 前記枠の材質が金属であることを特徴とする請求項1から15の何れか1項に記載の静電容量型トランスデューサ。
- 前記基板の前記一方の面と逆の面側において、前記枠と前記基板の間、または前記枠と前記基板を支持する支持部材の間をエポキシ樹脂で塞いでいることを特徴とする請求項1から16の何れか1項に記載の静電容量型トランスデューサ。
- 前記基板の前記一方の面と逆の面側に、前記基板を支持する支持部材が配置され、
前記基板の前記一方の面と前記枠の端面との位置を規定する突き当て構造が、前記支持部材と前記枠に設けられていることを特徴とする請求項1から17の何れか1項に記載の静電容量型トランスデューサ。 - 前記セルの電極に接続された配線を有するフレキシブル配線基板を有し、
前記基板の前記一方の面上に、前記フレキシブル配線基板の一部が配置されており、
前記フレキシブル配線基板の一部は、前記シートの前記基板側の面に接触するように配置されていることを特徴とする請求項1から18の何れか1項に記載の静電容量型トランスデューサ。 - 前記基板が貫通配線を有しており、
前記基板の前記一方の面と逆側の基板面に、前記貫通配線と電気的に接続され前記基板の外部へ配線を取り出すための電極が設けられていることを特徴とする請求項1から19の何れか1項に記載の静電容量型トランスデューサ。 - 前記音響マッチング層はシリコーン層であることを特徴とする請求項1から20の何れか1項に記載の静電容量型トランスデューサ。
- 間隙を隔てて形成された一対の電極のうちの一方の電極を含む振動膜が振動可能に支持された構造を有する1つ以上のセルを有し、前記1つ以上のセルが基板の一方の面上に配置され、耐水性のシートと前記セルとの間に音響マッチング層が設けられ、前記基板の側面の周囲を囲むように耐水性の枠が配置された静電容量型トランスデューサの製造方法であって、
前記シートと前記基板との間を前記音響マッチング層となるシリコーンで固定する工程と、前記枠の開口に蓋をするように前記シートを前記枠の端面に接着する工程を同時に行うことを特徴とする製造方法。 - 間隙を隔てて形成された一対の電極のうちの一方の電極を含む振動膜が振動可能に支持された構造を有する1つ以上のセルを有し、前記1つ以上のセルが基板の一方の面上に配置され、耐水性のシートと前記セルとの間に音響マッチング層が設けられ、前記基板の側面の周囲を囲むように耐水性の枠が配置された静電容量型トランスデューサの製造方法であって、
前記枠の開口に蓋をするように前記シートを前記枠の端面に接着する工程の後、前記シートと前記枠で囲まれた領域に硬化前の前記音響マッチング層のシリコーンを塗布する工程を行い、前記基板を前記シリコーン内に浸漬する工程の後、前記シートを前記シリコーンにより前記基板に固定する工程を行うことを特徴とする製造方法。 - 前記シートを前記シリコーンにより前記基板に固定する工程において、前記基板に設けられた膜厚設定手段を前記シートに接触させることで、前記シリコーンの層の厚さを設定することを特徴とする請求項22または23に記載の製造方法。
- 前記シートを前記シリコーンにより前記基板に固定する工程において、平面を有する保持冶具で前記シートの表面の緊張を保持することを特徴とする請求項24に記載の製造方法。
- 前記シートを前記シリコーンにより前記基板に固定する工程において、凸形状を有する保持冶具でシートの表面の緊張を保持することを特徴とする請求項24に記載の製造方法。
- 前記シートを前記シリコーンにより前記基板に固定する工程において、前記枠を動かないように保持冶具で固定し、前記基板に外力を加えて前記シートを凸形状に変形させた後、前記シリコーンにより固定を行うことを特徴とする請求項24に記載の製造方法。
- 請求項1から21の何れか1項に記載の静電容量型トランスデューサと、処理部と、を有し、
前記静電容量型トランスデューサは、被検体からの音響波を受信して電気信号に変換し、前記処理部は、前記電気信号を用いて被検体の情報を取得することを特徴とする被検体情報取得装置。 - 光源をさらに有し、
前記静電容量型トランスデューサは、前記光源からの光が被検体に照射されることにより発生する光音響波を受信して電気信号に変換することを特徴とする請求項28に記載の被検体情報取得装置。 - 前記処理部が、画像情報の信号を生成する画像情報生成部であり、前記画像情報の信号に基づき画像を表示する画像表示部を備える超音波画像形成装置として構成されていることを特徴とする請求項28または29に記載の被検体情報取得装置。
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