JP2020196953A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2020196953A5
JP2020196953A5 JP2020142538A JP2020142538A JP2020196953A5 JP 2020196953 A5 JP2020196953 A5 JP 2020196953A5 JP 2020142538 A JP2020142538 A JP 2020142538A JP 2020142538 A JP2020142538 A JP 2020142538A JP 2020196953 A5 JP2020196953 A5 JP 2020196953A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
opening
mask
laser
resin plate
vapor deposition
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2020142538A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP2020196953A (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Publication of JP2020196953A publication Critical patent/JP2020196953A/ja
Publication of JP2020196953A5 publication Critical patent/JP2020196953A5/ja
Priority to JP2021196781A priority Critical patent/JP2022027833A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

JP2020142538A 2015-02-03 2020-08-26 蒸着マスクの製造方法 Pending JP2020196953A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2021196781A JP2022027833A (ja) 2015-02-03 2021-12-03 蒸着マスクの製造方法、蒸着マスク製造装置、レーザー用マスクおよび有機半導体素子の製造方法

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2015019665 2015-02-03
JP2015019665 2015-02-03

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2016165055A Division JP6756191B2 (ja) 2015-02-03 2016-08-25 蒸着マスクの製造方法、蒸着マスク製造装置、レーザー用マスクおよび有機半導体素子の製造方法

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2021196781A Division JP2022027833A (ja) 2015-02-03 2021-12-03 蒸着マスクの製造方法、蒸着マスク製造装置、レーザー用マスクおよび有機半導体素子の製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2020196953A JP2020196953A (ja) 2020-12-10
JP2020196953A5 true JP2020196953A5 (enExample) 2021-05-27

Family

ID=56685985

Family Applications (4)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2016018161A Active JP5994952B2 (ja) 2015-02-03 2016-02-02 蒸着マスクの製造方法、蒸着マスク製造装置、レーザー用マスクおよび有機半導体素子の製造方法
JP2016165055A Active JP6756191B2 (ja) 2015-02-03 2016-08-25 蒸着マスクの製造方法、蒸着マスク製造装置、レーザー用マスクおよび有機半導体素子の製造方法
JP2020142538A Pending JP2020196953A (ja) 2015-02-03 2020-08-26 蒸着マスクの製造方法
JP2021196781A Pending JP2022027833A (ja) 2015-02-03 2021-12-03 蒸着マスクの製造方法、蒸着マスク製造装置、レーザー用マスクおよび有機半導体素子の製造方法

Family Applications Before (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2016018161A Active JP5994952B2 (ja) 2015-02-03 2016-02-02 蒸着マスクの製造方法、蒸着マスク製造装置、レーザー用マスクおよび有機半導体素子の製造方法
JP2016165055A Active JP6756191B2 (ja) 2015-02-03 2016-08-25 蒸着マスクの製造方法、蒸着マスク製造装置、レーザー用マスクおよび有機半導体素子の製造方法

Family Applications After (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2021196781A Pending JP2022027833A (ja) 2015-02-03 2021-12-03 蒸着マスクの製造方法、蒸着マスク製造装置、レーザー用マスクおよび有機半導体素子の製造方法

Country Status (5)

Country Link
US (2) US20180053894A1 (enExample)
JP (4) JP5994952B2 (enExample)
KR (1) KR102045933B1 (enExample)
CN (2) CN111088476A (enExample)
TW (2) TWI712854B (enExample)

Families Citing this family (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6521182B2 (ja) * 2016-10-06 2019-05-29 大日本印刷株式会社 蒸着マスクの製造方法、有機半導体素子の製造方法、及び有機ｅｌディスプレイの製造方法
CN110512172A (zh) 2018-05-21 2019-11-29 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司 蒸镀遮罩的制造方法及有机发光材料的蒸镀方法
TWI694164B (zh) * 2018-05-21 2020-05-21 鴻海精密工業股份有限公司 蒸鍍遮罩的製造方法及有機發光材料的蒸鍍方法
JP7187883B2 (ja) 2018-08-09 2022-12-13 大日本印刷株式会社 蒸着マスクの製造方法
KR102673239B1 (ko) * 2018-08-20 2024-06-11 삼성디스플레이 주식회사 마스크 조립체, 표시 장치의 제조장치 및 표시 장치의 제조방법
KR102666228B1 (ko) * 2018-11-08 2024-05-17 삼성디스플레이 주식회사 마스크 조립체, 이의 제조 방법 및 이를 이용한 유기발광 표시장치의 제조방법
US11773477B2 (en) 2018-12-25 2023-10-03 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Deposition mask
TWI809235B (zh) * 2018-12-25 2023-07-21 日商大日本印刷股份有限公司 蒸鍍罩
CN211471535U (zh) * 2019-11-21 2020-09-11 昆山国显光电有限公司 一种掩膜版及蒸镀系统
CN113643965A (zh) * 2020-05-11 2021-11-12 三星显示有限公司 掩模、掩模的制造方法和利用掩模的显示装置的制造方法
KR102798150B1 (ko) * 2020-07-10 2025-04-23 삼성디스플레이 주식회사 마스크 및 이를 포함하는 증착 설비
TWI832113B (zh) * 2020-11-24 2024-02-11 南韓商奧魯姆材料股份有限公司 Ｏｌｅｄ像素形成用掩模及框架一體型掩模
CN114716154B (zh) * 2022-04-15 2023-05-12 业成科技（成都）有限公司 屏蔽组件

Family Cites Families (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5288073A (en) 1976-01-17 1977-07-22 Citizen Watch Co Ltd Electronic watch with illumination
JPH04356393A (ja) * 1991-05-31 1992-12-10 Hitachi Ltd レーザ加工光学系及びレーザ加工方法
JPH0529199A (ja) * 1991-07-18 1993-02-05 Matsushita Electric Ind Co Ltd 半導体装置の製造方法
US5378137A (en) * 1993-05-10 1995-01-03 Hewlett-Packard Company Mask design for forming tapered inkjet nozzles
KR0128828B1 (ko) * 1993-12-23 1998-04-07 김주용 반도체 장치의 콘택홀 제조방법
TW521310B (en) * 2001-02-08 2003-02-21 Toshiba Corp Laser processing method and apparatus
JP4053263B2 (ja) * 2001-08-17 2008-02-27 株式会社ルネサステクノロジ 半導体装置の製造方法
JP3842769B2 (ja) * 2003-09-01 2006-11-08 株式会社東芝 レーザ加工装置、レーザ加工方法、及び半導体装置の製造方法
JP2006201538A (ja) * 2005-01-21 2006-08-03 Seiko Epson Corp マスク、マスクの製造方法、パターン形成方法、配線パターン形成方法
KR100913329B1 (ko) * 2007-12-05 2009-08-20 주식회사 동부하이텍 비어 형성을 위한 마스크 패턴과 그 제조 방법
KR20130115219A (ko) * 2010-08-04 2013-10-21 니혼 세이미츠 속키 카부시키가이샤 조리개 장치, 카메라 및 전자기기
JP5664954B2 (ja) * 2010-08-05 2015-02-04 大日本印刷株式会社 テーパ穴形成装置、テーパ穴形成方法、光変調手段および変調マスク
KR101346121B1 (ko) * 2010-12-14 2013-12-31 주식회사 피케이엘 하프톤 패턴 및 광근접보정 패턴을 포함하는 포토 마스크 및 그 제조 방법
JP5517308B2 (ja) * 2011-11-22 2014-06-11 株式会社ブイ・テクノロジー マスクの製造方法、マスク及びマスクの製造装置
US9108216B2 (en) * 2012-01-12 2015-08-18 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Vapor deposition mask, method for producing vapor deposition mask device and method for producing organic semiconductor element
CN105821375A (zh) * 2012-01-12 2016-08-03 大日本印刷株式会社 蒸镀掩模的制造方法及有机半导体元件的制造方法
JP6003464B2 (ja) * 2012-09-24 2016-10-05 大日本印刷株式会社 蒸着マスク材、及び蒸着マスク材の固定方法
JP5614665B2 (ja) * 2013-01-08 2014-10-29 大日本印刷株式会社 蒸着マスクの製造方法および蒸着マスク
CN109554663B (zh) 2013-03-26 2020-03-17 大日本印刷株式会社 蒸镀掩模、带框架的蒸镀掩模、及它们的制造方法
CN103556111A (zh) * 2013-10-30 2014-02-05 昆山允升吉光电科技有限公司 一种掩模板及其制作方法
JP6357312B2 (ja) * 2013-12-20 2018-07-11 株式会社ブイ・テクノロジー 成膜マスクの製造方法及び成膜マスク
JP6511908B2 (ja) * 2014-03-31 2019-05-15 大日本印刷株式会社 蒸着マスクの引張方法、フレーム付き蒸着マスクの製造方法、有機半導体素子の製造方法、及び引張装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2020196953A5 (enExample)
JP2017002408A5 (enExample)
JP5994952B2 (ja) 蒸着マスクの製造方法、蒸着マスク製造装置、レーザー用マスクおよび有機半導体素子の製造方法
RU2014133205A (ru) Изготовление импеллера турбомашины
JP2020506826A5 (enExample)
WO2015197039A1 (de) Generatives herstellungsverfahren und vorrichtung hierzu mit entgegengesetzt gerichteten schutzgasströmen parallel zur pulverschicht
JP5976527B2 (ja) 蒸着マスク及びその製造方法
JP2004245216A5 (enExample)
EP2944413A1 (de) Vorrichtung zur Maskenprojektion von Femtosekunden- und Pikosekunden- Laserstrahlen mit einer Blende, einer Maske und Linsensystemen
DE102011051198A1 (de) Verfahren zum Herstellen eines gewichtsoptimierten Ablenkspiegels
CN108350561B (zh) 成膜掩模的制造方法
JP2016215269A (ja) レーザ加工方法およびレーザ加工装置
JP2014067500A (ja) 蒸着マスク用材料の製造方法、蒸着マスクの製造方法
CN103909352B (zh) 基于局部离子注入实现电子状态调控的飞秒激光加工方法
WO2013000942A1 (de) Verfahren und vorrichtung zum laserschneiden folierter oder beschichteter bleche
CN105980098A (zh) 光束整形掩模、激光加工装置以及激光加工方法
JP2009238740A5 (enExample)
JP2014509968A (ja) 硬化システムおよびその方法
WO2012080945A1 (de) Verfahren zum ausbilden einer kochfeldplatte für ein kochfeld
WO2016125815A1 (ja) 蒸着マスクの製造方法、蒸着マスク製造装置、レーザー用マスクおよび有機半導体素子の製造方法
JP5404128B2 (ja) 孔の製造方法
KR101200484B1 (ko) 프로젝션 어블레이션용 마스크의 제조 방법
JP2008044327A5 (enExample)
CN111180328B (zh) 用于制造掩模的基底蚀刻方法
KR20190135782A (ko) 나노 임프린팅용 대면적 스탬프 제조방법