JP4984070B2 - 成膜方法及び成膜装置 - Google Patents
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Description
このようなレーザアブレーション法は、ターゲットの組成と基板上に作製される薄膜の組成のずれが少ない等の特徴を有している。
特許文献1には、ターゲット上のレーザ照射位置と、基板とを結ぶ直線上のターゲット近傍に遮蔽物を設ける構成が記載されている。この遮蔽物を設けることにより、ターゲットから出た微粒子等の重い粒子は遮蔽物に遮られる。一方で、軽い粒子は粒子同士衝突し合いながら飛散していくため、基板上には質量の軽い粒子のみが散乱して到達する。このため、基板上にドロップレットの原因となる重い粒子は到達しないので、ドロップレットを含まない平坦な薄膜を作製することができる。
以下に、本実施形態例の成膜装置1を用いた成膜方法を示す。
Claims (6)
- 固体物質を有するターゲットに、第1のレーザ光源からレーザ光を照射して、前記ターゲットの固体物質を飛散させる工程と、
前記飛散された飛散物質に第2のレーザ光源からレーザ光を照射する工程とを有し、
前記第2のレーザ光源からのレーザ光のビーム径またはビーム幅を、前記ターゲットと前記飛散物質が付着して成膜される基板との間の距離と同程度にし、
前記第2のレーザ光源からのレーザ光の照射は、第1のレーザ光源からのレーザ光の照射後、所望の遅延時間後になされ、
前記飛散された飛散物質を前記基板に付着させて成膜する
ことを特徴とする成膜方法。 - 前記第2のレーザ光源を、複数のレーザ光源で構成し、
前記第2のレーザ光源における複数のレーザ光源からのレーザ光を、それぞれ遅延時間を変えて順次照射する
ことを特徴とする請求項1記載の成膜方法。 - 前記第2のレーザ光源を、複数のレーザ光源で構成し、
前記第2のレーザ光源における複数のレーザ光源からのレーザ光を、同じ位置に同時に照射する
ことを特徴とする請求項1記載の成膜方法。 - 固体物質材料から構成されるターゲットと、
前記ターゲットにレーザ光を照射する第1のレーザ光源と
前記ターゲットから飛散した飛散物質に対してレーザ光を照射する、少なくとも1以上のレーザ光源からなる第2のレーザ光源と、
前記飛散物質が付着して成膜される基板とを有し、
前記第2のレーザ光のビーム径またはビーム幅は、前記ターゲットと前記飛散物質が付着して成膜される基板との間の距離と同程度であり、
前記第2のレーザ光源からのレーザ光の照射は、第1のレーザ光源からのレーザ光の照射後、所望の遅延時間後になされる
ことを特徴とする成膜装置。 - 前記第2のレーザ光源が、複数のレーザ光源からなり、
前記第2のレーザ光源における複数のレーザ光源からのレーザ光が、それぞれ遅延時間を変えて順次照射される
ことを特徴とする請求項4記載の成膜装置。 - 前記第2のレーザ光源が、複数のレーザ光源からなり、
前記第2のレーザ光源における複数のレーザ光源からのレーザ光が、同じ位置に同時に照射される
ことを特徴とする請求項4記載の成膜装置。
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