JP2020164449A - ヘキサン溶剤の製造方法 - Google Patents
ヘキサン溶剤の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2020164449A JP2020164449A JP2019065508A JP2019065508A JP2020164449A JP 2020164449 A JP2020164449 A JP 2020164449A JP 2019065508 A JP2019065508 A JP 2019065508A JP 2019065508 A JP2019065508 A JP 2019065508A JP 2020164449 A JP2020164449 A JP 2020164449A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- hexane solvent
- carbon atoms
- producing
- mass
- hydrocarbon
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 201
- 239000002904 solvent Substances 0.000 title claims abstract description 60
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 38
- 238000005984 hydrogenation reaction Methods 0.000 claims abstract description 46
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims abstract description 43
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 claims abstract description 43
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 claims abstract description 43
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 claims abstract description 37
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 31
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 31
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 26
- 239000002994 raw material Substances 0.000 claims abstract description 26
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims abstract description 25
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 claims abstract description 23
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims abstract description 9
- 238000005504 petroleum refining Methods 0.000 claims description 12
- 239000003350 kerosene Substances 0.000 claims description 7
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 6
- AFABGHUZZDYHJO-UHFFFAOYSA-N 2-Methylpentane Chemical compound CCCC(C)C AFABGHUZZDYHJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 36
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 abstract description 7
- 239000003208 petroleum Substances 0.000 abstract description 4
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 63
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 39
- 235000019198 oils Nutrition 0.000 description 38
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 8
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 5
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 5
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 5
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 4
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 3
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 3
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 3
- LIKMAJRDDDTEIG-UHFFFAOYSA-N 1-hexene Chemical compound CCCCC=C LIKMAJRDDDTEIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HNRMPXKDFBEGFZ-UHFFFAOYSA-N 2,2-dimethylbutane Chemical compound CCC(C)(C)C HNRMPXKDFBEGFZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZFFMLCVRJBZUDZ-UHFFFAOYSA-N 2,3-dimethylbutane Chemical compound CC(C)C(C)C ZFFMLCVRJBZUDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WWUVJRULCWHUSA-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-pentene Chemical compound CCCC(C)=C WWUVJRULCWHUSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PFEOZHBOMNWTJB-UHFFFAOYSA-N 3-methylpentane Chemical compound CCC(C)CC PFEOZHBOMNWTJB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 2
- GDOPTJXRTPNYNR-UHFFFAOYSA-N methylcyclopentane Chemical compound CC1CCCC1 GDOPTJXRTPNYNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007670 refining Methods 0.000 description 2
- LGAQJENWWYGFSN-PLNGDYQASA-N (z)-4-methylpent-2-ene Chemical compound C\C=C/C(C)C LGAQJENWWYGFSN-PLNGDYQASA-N 0.000 description 1
- OWWIWYDDISJUMY-UHFFFAOYSA-N 2,3-dimethylbut-1-ene Chemical compound CC(C)C(C)=C OWWIWYDDISJUMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZQDPJFUHLCOCRG-UHFFFAOYSA-N 3-hexene Chemical compound CCC=CCC ZQDPJFUHLCOCRG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BEQGRRJLJLVQAQ-UHFFFAOYSA-N 3-methylpent-2-ene Chemical compound CCC(C)=CC BEQGRRJLJLVQAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004517 catalytic hydrocracking Methods 0.000 description 1
- 239000007810 chemical reaction solvent Substances 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHDPTDWLEKQKKX-UHFFFAOYSA-N cobalt molybdenum Chemical compound [Co].[Co].[Mo] WHDPTDWLEKQKKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- YOCUPQPZWBBYIX-UHFFFAOYSA-N copper nickel Chemical compound [Ni].[Cu] YOCUPQPZWBBYIX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006356 dehydrogenation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 1
- 238000006317 isomerization reaction Methods 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 229910000480 nickel oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- GNRSAWUEBMWBQH-UHFFFAOYSA-N oxonickel Chemical compound [Ni]=O GNRSAWUEBMWBQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MUMZUERVLWJKNR-UHFFFAOYSA-N oxoplatinum Chemical compound [Pt]=O MUMZUERVLWJKNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910003446 platinum oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- PXXKQOPKNFECSZ-UHFFFAOYSA-N platinum rhodium Chemical compound [Rh].[Pt] PXXKQOPKNFECSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007086 side reaction Methods 0.000 description 1
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 1
- 235000015112 vegetable and seed oil Nutrition 0.000 description 1
- 235000019871 vegetable fat Nutrition 0.000 description 1
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
【解決課題】ｎ−ヘキサンやイソヘキサンのロスを抑制しつつ、簡便かつ低コストに高い収率でヘキサン溶剤を製造する新規な方法を提供する。【解決手段】ヘキサン溶剤を製造する方法であって、石油精製プロセスで得られる炭素数５〜炭素数７の炭化水素を主成分として含む原料油を蒸留処理し揮発成分および重質成分を除去して得られる炭素数６の炭化水素を９０．０質量％〜１００質量％含む留分を、ＶＩＡ族金属およびＶＩＩＩ族金属から選ばれる一種以上の活性金属を、触媒基準、酸化物換算で０．７〜２．０質量％含む芳香族の核水素化触媒を用いて核水素化処理することを特徴とするヘキサン溶剤の製造方法である。【選択図】なし
Description
本発明は、ヘキサン溶剤を製造する方法に関する。
従来より、有機溶剤として、ヘキサン溶剤やアルキルシクロヘキサン溶剤が使用されており（例えば、特許文献１（特開２００４−１５５７３０号公報）参照）、このうちヘキサン溶剤は、植物油脂の抽出用溶剤や、粘着剤、接着剤等の製造時の溶剤や、合成樹脂製造時の反応溶媒、触媒キャリアとして広く一般に使用されている。
一般に、ヘキサン溶剤を製造する方法としては、ライトナフサ、ヘビーナフサおよび灯油留分から選ばれる一種以上の留分を水素化脱硫処理した炭素数５〜炭素数７の炭化水素を主成分とする水素化精製油を蒸留処理して炭素数６の炭化水素を主成分とする留分を得た後、得られた炭素数６の炭化水素を主成分とする留分からベンゼン等の重質分をフェノール抽出により除去する方法が知られており、上記方法で製造されたヘキサン溶剤はさらに必要に応じイソヘキサンとｎ−ヘキサンに蒸留分離されて製品化されている。
ところで、上記ベンゼン等の重質分を抽出したフェノールは、加熱、再生して再利用されているが、フェノールの再生に多量の熱が必要になることから、エネルギーコストの増大を招き易かった。また、本発明者等が検討したところ、上記フェノール抽出によってｎ−ヘキサンやイソヘキサンの一部も抽出除去されてしまうことから、ヘキサン溶剤の収率が低下してしまうことが判明した。
このような状況下、本発明は、ｎ−ヘキサンやイソヘキサンのロスを抑制しつつ、簡便かつ低コストにヘキサン溶剤を製造する新規な方法を提供することを目的とするものである。
上記目的を達するために本発明者等が鋭意検討したところ、驚くべきことに、石油精製プロセスで得られる炭素数５〜炭素数７の炭化水素を主成分として含む原料油を蒸留処理し揮発成分および重質成分を除去して得られる炭素数６の炭化水素を９０．０〜１００質量％含む留分に対し、ベンゼン等の重質分をフェノール抽出することなく、活性金属を所定量含む芳香族の核水素化触媒を用いて核水素化処理することのみで上記目的を達成し得ることを見出し、本知見に基づいて本発明を完成するに至ったものである。
すなわち、本発明は、
（１）ヘキサン溶剤を製造する方法であって、
石油精製プロセスで得られる炭素数５〜炭素数７の炭化水素を主成分として含む原料油を蒸留処理し揮発成分および重質成分を除去して得られる炭素数６の炭化水素を９０．０〜１００質量％含む留分を、
ＶＩＡ族金属およびＶＩＩＩ族金属から選ばれる一種以上の活性金属を、触媒基準、酸化物換算で０．７〜２．０質量％含む芳香族の核水素化触媒を用いて核水素化処理する
ことを特徴とするヘキサン溶剤の製造方法、
（２）前記原料油が、ライトナフサ、ヘビーナフサおよび灯油留分から選ばれる一種以上を水素化脱硫して得られる水素化脱硫油である前記（１）に記載のヘキサン溶剤の製造方法、
（３）前記核水素化処理が、圧力０．２０〜０．４０ＭＰａ、温度５０〜９０℃、ＬＨＳＶ２．５〜５．９ｈｒ−１、水素／油比２５〜４０ＮＬ／Ｌの条件下で行われる前記（１）または（２）に記載のヘキサン溶剤の製造方法、
を提供するものである（なお、本出願書類において、ＮＬはノルマルリットルを意味する）。
（１）ヘキサン溶剤を製造する方法であって、
石油精製プロセスで得られる炭素数５〜炭素数７の炭化水素を主成分として含む原料油を蒸留処理し揮発成分および重質成分を除去して得られる炭素数６の炭化水素を９０．０〜１００質量％含む留分を、
ＶＩＡ族金属およびＶＩＩＩ族金属から選ばれる一種以上の活性金属を、触媒基準、酸化物換算で０．７〜２．０質量％含む芳香族の核水素化触媒を用いて核水素化処理する
ことを特徴とするヘキサン溶剤の製造方法、
（２）前記原料油が、ライトナフサ、ヘビーナフサおよび灯油留分から選ばれる一種以上を水素化脱硫して得られる水素化脱硫油である前記（１）に記載のヘキサン溶剤の製造方法、
（３）前記核水素化処理が、圧力０．２０〜０．４０ＭＰａ、温度５０〜９０℃、ＬＨＳＶ２．５〜５．９ｈｒ−１、水素／油比２５〜４０ＮＬ／Ｌの条件下で行われる前記（１）または（２）に記載のヘキサン溶剤の製造方法、
を提供するものである（なお、本出願書類において、ＮＬはノルマルリットルを意味する）。
本発明によれば、石油精製プロセスで得られる炭素数５〜炭素数７の炭化水素を主成分として含む原料油を蒸留処理し揮発成分および重質成分を除去して得られる炭素数６の炭化水素を９０．０〜１００質量％含む留分に対し、ベンゼン等の重質分をフェノール抽出することなく、活性金属を所定量含む芳香族の核水素化触媒を用いて核水素化処理することのみで目的とするヘキサン溶剤を得ることができ、このために、本発明によれば、ｎ−ヘキサンやイソヘキサンのロスを抑制しつつ、簡便かつ低コストに高い収率でヘキサン溶剤を製造する新規な方法を提供することができる。
本発明に係るヘキサン溶剤の製造方法は、ヘキサン溶剤を製造する方法であって、石油精製プロセスで得られる炭素数５〜炭素数７の炭化水素を主成分として含む原料油を蒸留処理し揮発成分および重質成分を除去して得られる炭素数６の炭化水素を９０．０〜１００質量％含む留分を、ＶＩＡ族金属およびＶＩＩＩ族金属から選ばれる一種以上の活性金属を、触媒基準、酸化物換算で０．７〜２．０質量％含む芳香族の核水素化触媒を用いて核水素化処理することを特徴とするものである。
本発明に係るヘキサン溶剤の製造方法においては、原料油として、石油精製プロセスで得られる炭素数５〜炭素数７の炭化水素を主成分として含む原料油が用いられる。
本発明に係るヘキサン溶剤の製造方法において、石油精製プロセスで得られる炭素数５〜炭素数７の炭化水素を主成分として含む原料油とは、石油精製プロセスで得られる炭素数５〜炭素数７の炭化水素を、９０．０〜１００質量％含むものを意味し、９５．０〜１００質量％含むものが好ましく、９８．０〜１００質量％含むものがより好ましい。
なお、本出願書類において、原料油中における炭素数５〜炭素数７の炭化水素の含有割合とは、石油学会法ＪＰＩ−５Ｓ−３３−９０（ガスクロマトグラフ法）により算出された値を意味する。
なお、本出願書類において、原料油中における炭素数５〜炭素数７の炭化水素の含有割合とは、石油学会法ＪＰＩ−５Ｓ−３３−９０（ガスクロマトグラフ法）により算出された値を意味する。
このような原料油としては、いわゆるライトナフサ（軽質ナフサ）のほか、ライトナフサ、ヘビーナフサ（重質ナフサ）および灯油留分から選ばれる一種以上を水素化脱硫して得られる水素化脱硫油を挙げることができ、ライトナフサ、ヘビーナフサおよび灯油留分から選ばれる一種以上を水素化脱硫して得られる水素化脱硫油であることが好ましい。
上記水素化脱硫油は、ライトナフサ、ヘビーナフサおよび灯油留分から選ばれる一種以上を水素化脱硫し、重質留分および軽質留分に分離精製した上で、係る軽質留分を使用することが好適である。
本発明に係るヘキサン溶剤の製造方法で使用される原料油として、より具体的には、ライトナフサや、ライトナフサ、ヘビーナフサおよび灯油留分から選ばれる一種以上を水素化脱硫して得られる水素化脱硫油から選ばれる一種以上であって、沸点が、２０〜２００℃であるものが好ましく、２３〜１９０℃であるものがより好ましく、２６〜１８０℃であるものがさらに好ましい。
本発明に係るヘキサン溶剤の製造方法においては、石油精製プロセスで得られる炭素数５〜炭素数７の炭化水素を主成分として含む原料油を蒸留処理し揮発成分および重質成分を除去して炭素数６の炭化水素を９０．０〜１００質量％含む留分を得る。
本発明に係るヘキサン溶剤の製造方法においては、石油精製プロセスで得られる炭素数５〜炭素数７の炭化水素を主成分として含む原料油を蒸留処理し揮発成分および重質成分を除去して得られる炭素数６の炭化水素を９０．０〜１００質量％含む留分において、炭素数６の炭化水素の含有割合は、９５．０〜１００質量％であることが好ましく、９８．０〜１００質量％であることがより好ましい。炭素数６の炭化水素は、本発明にかかるヘキサン、イソヘキサンだけでなく、４−メチル−２−ペンテン、２，３−ジメチル１−ブテン、２−メチルー１−ペンテン、１−ヘキセン、２−メチル−２−ペンテン、３−ヘキセン、３−メチルー２−ペンテン、メチルシクロペンタン、シクロヘキサン等が含まれる。
本発明に係るヘキサン溶剤の製造方法においては、石油精製プロセスで得られる炭素数５〜炭素数７の炭化水素を主成分として含む原料油を５０〜８０℃で蒸留処理することが好ましく、５５〜７８℃で蒸留処理することがより好ましく、６０〜７８℃で蒸留処理することがさらに好ましい。また上記蒸留処理においては、常圧下であって、還流比８〜１５であることが好ましい。これらの条件で蒸留処理することによって、ヘキサン溶剤の収率低下を抑制するとともに、不純物であるベンゼンの含有量を目標値に制御することができる。
また、本発明に係るヘキサン溶剤の製造方法においては、石油精製プロセスで得られる炭素数５〜炭素数７の炭化水素を主成分として含む原料油を蒸留処理し揮発成分および重質成分を除去して得られる留分中に含まれる炭素数６の炭化水素には、ベンゼンも含有される。
上記石油精製プロセスで得られる炭素数５〜炭素数７の炭化水素を主成分として含む原料油を蒸留処理して得られる揮発成分および重質成分を除去した留分において、ベンゼンの含有割合は、６，０００質量ｐｐｍ以下あることが適当であり、５，６００質量ｐｐｍ以下であることがより適当であり、５，３００質量ｐｐｍ以下であることがさらに適当である。
上記石油精製プロセスで得られる炭素数５〜炭素数７の炭化水素を主成分として含む原料油を蒸留処理して得られる揮発成分および重質成分を除去した留分において、ベンゼンの含有割合は、６，０００質量ｐｐｍ以下あることが適当であり、５，６００質量ｐｐｍ以下であることがより適当であり、５，３００質量ｐｐｍ以下であることがさらに適当である。
なお、本出願書類において、上記原料油を蒸留処理して得られる留分中の炭素数６の炭化水素の含有割合やベンゼンの含有割合は、石油学会法ＪＰＩ−５Ｓ−３３−９０（ガスクロマトグラフ法）により算出された値を意味する。
本発明に係るヘキサン溶剤の製造方法においては、炭素数５〜炭素数７の炭化水素を主成分として含む原料油を蒸留処理し揮発成分および重質成分を除去して得られる炭素数６の炭化水素を９０．０〜１００質量％含む留分を、ＶＩＡ族金属およびＶＩＩＩ族金属から選ばれる一種以上の活性金属を、触媒基準、酸化物換算で０．７〜２．０質量％含む芳香族の核水素化触媒を用いて核水素化処理する。
本発明に係るヘキサン溶剤の製造方法において、核水素化触媒を構成するＶＩＡ族金属およびＶＩＩＩ族金属から選ばれる一種以上の活性金属としては、特に制限されないが、上記活性金属は核水素化触媒に酸化物として含まれていてもよく、例えば、ニッケル、酸化ニッケル、白金、酸化白金、パラジウム、ルテニウム、コバルト等から選ばれる一種以上を挙げることができ、ニッケル−銅、白金−アルミナ、白金−ロジウム、コバルト−モリブデン等の活性金属と助触媒等の他の金属とを組み合わせたものであってもよい。
上記活性金属としては、特に、ニッケルおよびパラジウムから選ばれる一種以上が好ましい。
上記活性金属としては、特に、ニッケルおよびパラジウムから選ばれる一種以上が好ましい。
本発明に係るヘキサン溶剤の製造方法において、核水素化触媒は、ＶＩＡ族金属およびＶＩＩＩ族金属から選ばれる一種以上の活性金属を、触媒基準、酸化物換算で、０．７〜２．０質量％含み、０．８〜１．８質量％含むことが好ましく、０．９〜１．６質量％含むことがより好ましい。
上述したように、核水素化処理の対象となる炭素数５〜炭素数７の炭化水素を主成分として含む原料油を蒸留処理し揮発成分および重質成分を除去して得られる留分中に含まれる炭素数６の炭化水素には、ｎ−ヘキサンやイソヘキサンと共に一定量のベンゼンも含有され、ベンゼンは、ヘキサン溶剤中に混入した場合には不純物となり、また、ヘキサン溶剤が使用後に揮発等して除去されるものであることから、環境上もヘキサン溶剤中へのベンゼンの混入は好ましくない。
このため、従来は、上記炭素数６の炭化水素を高い含有割合で含む留分に対してフェノール抽出処理を施すことによって、同留分中に含まれるベンゼンや炭素数７以上の重質分を除去することが行われていたが、上述したように、抽出に利用したフェノールを再生するために多量のエネルギーが必要になるばかりか、係るフェノール抽出によってｎ−ヘキサンやイソヘキサンの一部も抽出除去されてしまうことから、ヘキサン溶剤の収率が低下してしまうことが判明した。
これに対して、本件発明は、上記フェノール抽出を行うことなく、ＶＩＡ族金属およびＶＩＩＩ族金属から選ばれる一種以上の活性金属を所定量含む核水素化触媒を用いて核水素化処理を行うことのみにより、エネルギーコストを低減し、ｎ−ヘキサンやイソヘキサンのロスを抑制しつつベンゼンをシクロヘキサンに変換して、ヘキサン溶剤を簡便かつ低コストに製造し得るものである。
このため、従来は、上記炭素数６の炭化水素を高い含有割合で含む留分に対してフェノール抽出処理を施すことによって、同留分中に含まれるベンゼンや炭素数７以上の重質分を除去することが行われていたが、上述したように、抽出に利用したフェノールを再生するために多量のエネルギーが必要になるばかりか、係るフェノール抽出によってｎ−ヘキサンやイソヘキサンの一部も抽出除去されてしまうことから、ヘキサン溶剤の収率が低下してしまうことが判明した。
これに対して、本件発明は、上記フェノール抽出を行うことなく、ＶＩＡ族金属およびＶＩＩＩ族金属から選ばれる一種以上の活性金属を所定量含む核水素化触媒を用いて核水素化処理を行うことのみにより、エネルギーコストを低減し、ｎ−ヘキサンやイソヘキサンのロスを抑制しつつベンゼンをシクロヘキサンに変換して、ヘキサン溶剤を簡便かつ低コストに製造し得るものである。
本発明に係るヘキサン溶剤の製造方法において、核水素化処理条件は、ベンゼンの含有量や得ようとするヘキサン溶剤の用途等に応じて適宜設定することができる。
本発明に係るヘキサン溶剤の製造方法において、核水素化処理時の圧力は、０．２〜０．４０ＭＰａが好ましく、０．２５〜０．３７ＭＰａがより好ましく、０．３０〜０．３５ＭＰａがさらに好ましい。
本発明に係るヘキサン溶剤の製造方法において、核水素化処理時の温度は、５０〜９０℃が好ましく、５２〜８７℃がより好ましく、５３〜８５℃がさらに好ましい。
本発明に係るヘキサン溶剤の製造方法において、核水素化処理時のＬＨＳＶ（液空間速度）は、２．５〜５．９ｈｒ−１が好ましく、２．６〜５．６ｈｒ−１がより好ましく、２．８〜５．３ｈｒ−１がさらに好ましい。
本発明に係るヘキサン溶剤の製造方法において、核水素化処理時の水素／油比は、２５〜４０ＮＬ／Ｌが好ましく、２７〜３９ＮＬ／Ｌがより好ましく、３０〜３８ＮＬ／Ｌがさらに好ましい。
上記核水素化処理時の反応条件が緩和過ぎると、芳香族の核水素化が進行し難くベンゼン等の芳香族分が残存し易くなり、上記核水素化処理時の反応条件が過酷過ぎると、水素化分解、異性化、脱水素反応等の副反応が生じ易くなることから、核水素化処理条件は適宜決定することが好ましい。
上記核水素化処理により、ｎ−ヘキサン、イソヘキサン、シクロヘキサン等を含む核水素化油を得ることができる。
得られた核水素化処理油において、ｎ−ヘキサンの含有割合は、２０〜６０容量％であることが好ましく、３０〜５５容量％であることがより好ましく、４０〜５５容量％であることがさらに好ましい。
得られた核水素化処理油において、イソヘキサンの含有割合は、２０〜５０容量％であることが好ましく、２５〜４５容量％であることがより好ましく、３０〜４０容量％であることがさらに好ましい。本出願書類において、イソヘキサンとは、２−メチルペンタン、３−メチルペンタン、２，２−ジメチルブタン、２，３−ジメチルブタンのうち少なくとも１種以上の化合物を意味する。
得られた核水素化処理油において、ｎ−ヘキサンの含有割合は、２０〜６０容量％であることが好ましく、３０〜５５容量％であることがより好ましく、４０〜５５容量％であることがさらに好ましい。
得られた核水素化処理油において、イソヘキサンの含有割合は、２０〜５０容量％であることが好ましく、２５〜４５容量％であることがより好ましく、３０〜４０容量％であることがさらに好ましい。本出願書類において、イソヘキサンとは、２−メチルペンタン、３−メチルペンタン、２，２−ジメチルブタン、２，３−ジメチルブタンのうち少なくとも１種以上の化合物を意味する。
なお、本出願書類において、上記核水素化油中のｎ−ヘキサン、イソヘキサンの含有割合は、ガスクロマトグラフィーにより算出される値を意味する。
得られた核水素化処理油は、さらに蒸留処理することにより、ｎ−ヘキサンおよびイソヘキサンを各々単離することが好ましい。
本発明によれば、石油精製プロセスで得られる炭素数５〜炭素数７の炭化水素を主成分として含む原料油を蒸留処理し揮発成分および重質成分を除去して得られる炭素数６の炭化水素を９０．０〜１００質量％含む留分に対し、ベンゼン等の重質分をフェノール抽出することなく、活性金属を所定量含む芳香族の核水素化触媒を用いて核水素化処理することのみで目的とするヘキサン溶剤を得ることができ、このために、本発明によれば、ｎ−ヘキサンやイソヘキサンのロスを抑制しつつ、簡便かつ低コストに高い収率でヘキサン溶剤を製造する新規な方法を提供することができる。
以下に実施例を示して本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれに制限されるものではない。
（実施例１）
ライトナフサおよびヘビーナフサを混合した留分を水素化脱硫して得られる原料油１を、常圧下、還流比１０、沸点範囲が６０〜７８℃の範囲で更に蒸留して、表１に示す成分を有するＣ６留分１を得た。得られたＣ６留分１は、炭素数６の炭化水素を９０．０質量％以上含むものであった。
上記Ｃ６留分１を、Ｐｄを酸化物換算で１．０質量％担持した核水素化触媒１を用いて表１に示す条件で水素化処理することにより、目的とするヘキサン溶剤１を得た。
（実施例１）
ライトナフサおよびヘビーナフサを混合した留分を水素化脱硫して得られる原料油１を、常圧下、還流比１０、沸点範囲が６０〜７８℃の範囲で更に蒸留して、表１に示す成分を有するＣ６留分１を得た。得られたＣ６留分１は、炭素数６の炭化水素を９０．０質量％以上含むものであった。
上記Ｃ６留分１を、Ｐｄを酸化物換算で１．０質量％担持した核水素化触媒１を用いて表１に示す条件で水素化処理することにより、目的とするヘキサン溶剤１を得た。
なお、ｎ−ヘキサン、ｉ−ヘキサン、ベンゼンおよびトルエンの含有量は、石油学会法ＪＰＩ−５Ｓ−３３−９０（ガスクロマトグラフ法）により測定された値を意味する。
（実施例２）
水素化処理の条件を表１に示す条件に変更した以外は、実施例１と同様の手順によって、目的とするヘキサン溶剤２を得た。
水素化処理の条件を表１に示す条件に変更した以外は、実施例１と同様の手順によって、目的とするヘキサン溶剤２を得た。
（実施例３）
ライトナフサおよびヘビーナフサを混合した留分を水素化脱硫して得られる原料油２を、常圧下、還流比１０、沸点範囲が６０〜７５℃の範囲で更に蒸留して、表１に示す成分を有するＣ６留分２を得た。得られたＣ６留分２は、炭素数６の炭化水素を９０．０質量％以上含むものであった。
上記Ｃ６留分２を、核水素化触媒１を用いて表１に示す条件で水素化処理することにより、目的とするヘキサン溶剤３を得た。
ライトナフサおよびヘビーナフサを混合した留分を水素化脱硫して得られる原料油２を、常圧下、還流比１０、沸点範囲が６０〜７５℃の範囲で更に蒸留して、表１に示す成分を有するＣ６留分２を得た。得られたＣ６留分２は、炭素数６の炭化水素を９０．０質量％以上含むものであった。
上記Ｃ６留分２を、核水素化触媒１を用いて表１に示す条件で水素化処理することにより、目的とするヘキサン溶剤３を得た。
（実施例４）
水素化処理の条件を表１に示す条件に変更した以外は、実施例３と同様の手順によって、目的とするヘキサン溶剤４を得た。
水素化処理の条件を表１に示す条件に変更した以外は、実施例３と同様の手順によって、目的とするヘキサン溶剤４を得た。
（比較例１）
ライトナフサおよびヘビーナフサを混合した留分を水素化脱硫して得られる原料油４を、フェノール抽出して、ベンゼン、トルエン等の不純物を除いたＣ６留分３を得た。
上記Ｃ６留分３を、Ｐｄを酸化物換算で０．３質量％担持した核水素化触媒２を用いて水素化処理することにより、目的とするヘキサン溶剤５を得た。反応条件を表２に示す。
ライトナフサおよびヘビーナフサを混合した留分を水素化脱硫して得られる原料油４を、フェノール抽出して、ベンゼン、トルエン等の不純物を除いたＣ６留分３を得た。
上記Ｃ６留分３を、Ｐｄを酸化物換算で０．３質量％担持した核水素化触媒２を用いて水素化処理することにより、目的とするヘキサン溶剤５を得た。反応条件を表２に示す。
（実施例５）
実施例１で得たＣ６留分１に表３に示す含有量になるようにトルエンを添加して調整した炭素数６の炭化水素を９０．０質量％以上含むＣ６留分を、表３に示す条件下で核水素化触媒１を用いて水素化処理することにより、目的とするヘキサン溶剤５を得た。反応条件を表３に示す。
実施例１で得たＣ６留分１に表３に示す含有量になるようにトルエンを添加して調整した炭素数６の炭化水素を９０．０質量％以上含むＣ６留分を、表３に示す条件下で核水素化触媒１を用いて水素化処理することにより、目的とするヘキサン溶剤５を得た。反応条件を表３に示す。
（実施例６）
実施例３で得た炭素数６の炭化水素を９０．０質量％以上含むＣ６留分２を、表３に示す条件下でＰｄを酸化物換算で１．５質量％担持した核水素化触媒３を用いて水素化処理することにより、目的とするヘキサン溶剤６を得た。反応条件を表３に示す。
実施例３で得た炭素数６の炭化水素を９０．０質量％以上含むＣ６留分２を、表３に示す条件下でＰｄを酸化物換算で１．５質量％担持した核水素化触媒３を用いて水素化処理することにより、目的とするヘキサン溶剤６を得た。反応条件を表３に示す。
（比較例２）
実施例３で得た炭素数６の炭化水素を９０．０質量％以上含むＣ６留分２を、表３に示す条件下でＰｄを酸化物換算で０．３質量％担持した核水素化触媒２を用いて水素化処理することにより、目的とするヘキサン溶剤７を得た。反応条件を表３に示す。
実施例３で得た炭素数６の炭化水素を９０．０質量％以上含むＣ６留分２を、表３に示す条件下でＰｄを酸化物換算で０．３質量％担持した核水素化触媒２を用いて水素化処理することにより、目的とするヘキサン溶剤７を得た。反応条件を表３に示す。
表１および表２より、本発明に係る製造方法である実施例１〜実施例４は、従来法である比較例１よりも、得られたヘキサン溶剤中におけるｎ−ヘキサンおよびイソヘキサンの収率に優れた製造方法であることが分かる。またベンゼン、トルエンといった不純物も従来法である比較例１の場合と同等程度に抑えられていることから、本発明に係る製造方法である実施例１〜実施例４は、フェノールを用いることなく収率よくヘキサン溶剤を製造できることが分かる。
また表３より、本発明に係る製造方法に対応する実施例５〜実施例６においても、従来法であるフェノール抽出ではなく特定条件下で核水素化することにより、増加したＣ６留分へのベンゼンおよびトルエンを、従来と同等程度まで低減できていることが分かる。
これに対して比較例２においては、特定条件下での核水素化を行っていないことから、ベンゼンの含有量を十分に低減し得ないことが分かる。
これに対して比較例２においては、特定条件下での核水素化を行っていないことから、ベンゼンの含有量を十分に低減し得ないことが分かる。
Claims (3)
- ヘキサン溶剤を製造する方法であって、
石油精製プロセスで得られる炭素数５〜炭素数７の炭化水素を主成分として含む原料油を蒸留処理し揮発成分および重質成分を除去して得られる炭素数６の炭化水素を９０．０〜１００質量％含む留分を、
ＶＩＡ族金属およびＶＩＩＩ族金属から選ばれる一種以上の活性金属を、触媒基準、酸化物換算で０．７〜２．０質量％含む芳香族の核水素化触媒を用いて核水素化処理する
ことを特徴とするヘキサン溶剤の製造方法。 - 前記原料油が、ライトナフサ、ヘビーナフサおよび灯油留分から選ばれる一種以上を水素化脱硫して得られる水素化脱硫油である請求項１に記載のヘキサン溶剤の製造方法。
- 前記核水素化処理が、圧力０．２〜０．４０ＭＰａ、温度５０〜９０℃、ＬＨＳＶ２．５〜５．９ｈｒ−１、水素／油比２５〜４０ＮＬ／Ｌの条件下で行われる請求項１または請求項２に記載のヘキサン溶剤の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2019065508A JP7308061B2 (ja) | 2019-03-29 | 2019-03-29 | ヘキサン溶剤の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2019065508A JP7308061B2 (ja) | 2019-03-29 | 2019-03-29 | ヘキサン溶剤の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2020164449A true JP2020164449A (ja) | 2020-10-08 |
| JP7308061B2 JP7308061B2 (ja) | 2023-07-13 |
Family
ID=72715131
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2019065508A Active JP7308061B2 (ja) | 2019-03-29 | 2019-03-29 | ヘキサン溶剤の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP7308061B2 (ja) |
Citations (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03202152A (ja) * | 1989-12-28 | 1991-09-03 | Japan Synthetic Rubber Co Ltd | 水素化触媒 |
| US5663466A (en) * | 1992-12-04 | 1997-09-02 | Uop | Mixed phase benzene saturation with controlled hydrogen addition |
| JPH11309372A (ja) * | 1998-04-28 | 1999-11-09 | Agency Of Ind Science & Technol | 芳香族炭化水素の水素化触媒組成物 |
| JP2001213812A (ja) * | 2000-02-04 | 2001-08-07 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | ベンゼン含有炭化水素油を水素化し同時に異性化する方法 |
| WO2007066915A1 (en) * | 2005-12-06 | 2007-06-14 | Sk Energy Co., Ltd. | Environment-friendly hydrocarbon solvent composition removed normal hexane |
| JP2008527140A (ja) * | 2005-01-14 | 2008-07-24 | エクソンモービル・ケミカル・パテンツ・インク | 超純粋流体 |
| US20100063334A1 (en) * | 2008-09-08 | 2010-03-11 | Catalytic Distillation Technologies | Process for ultra low benzene reformate using catalytic distillation |
| JP2011509172A (ja) * | 2007-12-27 | 2011-03-24 | エクソンモービル リサーチ アンド エンジニアリング カンパニー | 芳香族水素添加触媒および方法 |
| JP2013202436A (ja) * | 2012-03-27 | 2013-10-07 | Cosmo Oil Co Ltd | 芳香族化合物の水素化触媒及び当該触媒を用いる芳香族化合物の水素化方法 |
| US20140128647A1 (en) * | 2012-11-06 | 2014-05-08 | Uop Llc | Method and apparatus for reducing an aromatic concentration in a hydrocarbon stream |
-
2019
- 2019-03-29 JP JP2019065508A patent/JP7308061B2/ja active Active
Patent Citations (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03202152A (ja) * | 1989-12-28 | 1991-09-03 | Japan Synthetic Rubber Co Ltd | 水素化触媒 |
| US5663466A (en) * | 1992-12-04 | 1997-09-02 | Uop | Mixed phase benzene saturation with controlled hydrogen addition |
| JPH11309372A (ja) * | 1998-04-28 | 1999-11-09 | Agency Of Ind Science & Technol | 芳香族炭化水素の水素化触媒組成物 |
| JP2001213812A (ja) * | 2000-02-04 | 2001-08-07 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | ベンゼン含有炭化水素油を水素化し同時に異性化する方法 |
| JP2008527140A (ja) * | 2005-01-14 | 2008-07-24 | エクソンモービル・ケミカル・パテンツ・インク | 超純粋流体 |
| WO2007066915A1 (en) * | 2005-12-06 | 2007-06-14 | Sk Energy Co., Ltd. | Environment-friendly hydrocarbon solvent composition removed normal hexane |
| JP2011509172A (ja) * | 2007-12-27 | 2011-03-24 | エクソンモービル リサーチ アンド エンジニアリング カンパニー | 芳香族水素添加触媒および方法 |
| US20100063334A1 (en) * | 2008-09-08 | 2010-03-11 | Catalytic Distillation Technologies | Process for ultra low benzene reformate using catalytic distillation |
| JP2013202436A (ja) * | 2012-03-27 | 2013-10-07 | Cosmo Oil Co Ltd | 芳香族化合物の水素化触媒及び当該触媒を用いる芳香族化合物の水素化方法 |
| US20140128647A1 (en) * | 2012-11-06 | 2014-05-08 | Uop Llc | Method and apparatus for reducing an aromatic concentration in a hydrocarbon stream |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP7308061B2 (ja) | 2023-07-13 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP5439370B2 (ja) | 流動接触分解装置の流出物からナフテン系基油を製造する方法 | |
| JP3065816B2 (ja) | 高粘度指数低粘度潤滑油基油の製造法 | |
| JP3057125B2 (ja) | 高粘度指数低粘度潤滑油基油の製造方法 | |
| US9206363B2 (en) | Hydroprocessing of heavy hydrocarbon feeds | |
| CN104662134B (zh) | 残余物加氢裂化 | |
| JP2010275550A (ja) | 高オクタン価及び低硫黄含量を有する炭化水素フラクションの製造方法 | |
| CN107075392B (zh) | 与真空蒸馏和溶剂脱沥青整合以减少重多环芳香族积累的加氢裂解方法 | |
| CA2899196C (en) | Fixed bed hydrovisbreaking of heavy hydrocarbon oils | |
| CN105849237A (zh) | 生产中间馏分油的方法 | |
| JPWO2009013971A1 (ja) | 炭化水素油の水素化精製方法 | |
| JP2014145009A (ja) | 水素化処理方法 | |
| JP7308061B2 (ja) | ヘキサン溶剤の製造方法 | |
| JP5191865B2 (ja) | 常圧蒸留留分の製造方法 | |
| JP7308062B2 (ja) | ヘキサン溶剤の製造方法 | |
| JP3488281B2 (ja) | 石油類の処理方法 | |
| RU2549898C1 (ru) | Способ получения маловязких белых масел | |
| JPH04224892A (ja) | 原油の精製法 | |
| US11142704B2 (en) | Methods and systems of steam stripping a hydrocracking feedstock | |
| JP5483861B2 (ja) | 精製留分の製造方法 | |
| JPH07102266A (ja) | 石油蒸留物の低イオウ化方法 | |
| JP5501048B2 (ja) | 接触改質原料油の製造方法 | |
| JP7195250B2 (ja) | 蒸留生成物を最大化するための炭化水素の変換プロセス | |
| JP5207923B2 (ja) | 精製炭化水素油の製造方法 | |
| JPH08183964A (ja) | 流動接触分解用原料の水素化処理方法 | |
| CN116064112A (zh) | 一种喷气燃料组合物及其制备方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20220310 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20230222 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20230328 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20230424 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20230627 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20230703 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7308061 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |