JP2020160479A - 光学膜形成方法、プログラム、コンピュータ記憶媒体及び光学膜形成装置 - Google Patents
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先ず、本実施の形態に係る光学膜形成装置の構成について説明する。本実施の形態では、OLEDに用いられる円偏光板を作製する場合において、光学膜として、直線偏光膜(直線偏光板)とλ/4波長膜(λ/4波長板)をガラス基板に形成する場合を例にとって説明する。なお、直線偏光膜とλ/4波長膜が形成される前のガラス基板上には、例えば複数の有機膜(図示せず)などが積層して形成されている。
図1は、塗布処理装置の構成の概略を示す横断面図である。図2は、塗布処理装置の構成の概略を示す縦断面図である。塗布処理装置10では、ガラス基板Gの全面に塗布液を塗布する。
図4は、減圧乾燥装置の構成の概略を示す縦断面図である。減圧乾燥装置100では、ガラス基板Gに形成された光学膜(直線偏光膜とλ/4波長膜)を減圧乾燥する。
図5は、塗布処理装置、乾燥処理装置及び搬送領域の配置を示す平面図である。
図6は、加熱処理装置の構成の概略を示す縦断面図である。加熱処理装置300では、ガラス基板Gに形成された光学膜(直線偏光膜とλ/4波長膜)を加熱する。
図7は、膜定着装置の構成の概略を示す縦断面図である。膜定着装置400では、インクジェット方式で定着材を所定領域、本実施の形態ではガラス基板Gの画素エリアに選択的に塗布する。
図8は、膜除去装置の構成の概略を示す縦断面図である。膜除去装置500では、ガラス基板Gに洗浄液を供給し、膜定着装置400で定着していない光学膜(所定領域以外の光学膜)を選択的に除去する。
次に、以上のように構成された光学膜形成装置を用いて行われる光学膜形成方法について説明する。図9は、かかる光学膜形処理の主な工程の例を示すフローチャートである。本実施の形態では、上述したように光学膜として、直線偏光膜とλ/4波長膜を、その偏光軸が45度で交差するようにガラス基板Gに積層して形成する。工程S1〜S5は直線偏光膜を形成する工程であり、工程S6〜S10はλ/4波長膜を形成する工程である。
先ず、塗布処理装置10において、ガラス基板Gの全面に塗布液を塗布する。この場合の塗布液は、直線偏光膜を形成するための偏光膜用塗布液である。
次に、減圧乾燥装置100において、ガラス基板Gの直線偏光膜P1を減圧乾燥させる。具体的には、載置台110にガラス基板Gを載置し、蓋体102を閉じて、処理容器101の内部に密閉された空間を形成する。その後、ガス供給部120から不活性ガスを供給すると共に、排気部121から処理容器101の内部が排気され、処理容器101の内部を減圧雰囲気にする。そして、直線偏光膜P1が乾燥される。
次に、加熱処理装置300において、ガラス基板Gの直線偏光膜P1を加熱する。具体的には、熱板310にガラス基板Gを載置し、蓋体302を閉じて、処理容器101の内部に密閉された空間を形成する。そして、熱板310のヒータ311によって、直線偏光膜P1が所定の温度、例えば50℃で加熱される。
次に、膜定着装置400において、ガラス基板Gの所定領域、本実施の形態では画素エリアに定着材を塗布する。
次に、膜除去装置500において、ガラス基板Gに洗浄液を供給し、工程S4で定着していない直線偏光膜P1を選択的に除去する。
以上のようにガラス基板Gに直線偏光膜P2が形成されると、次に、ガラス基板Gにλ/4波長膜をさらに形成する。先ず、塗布処理装置10において、ガラス基板Gの全面に塗布液を塗布する。この場合の塗布液は、λ/4波長膜を形成するための波長膜用塗布液である。
次に、減圧乾燥装置100において、ガラス基板Gのλ/4波長膜Q1を減圧乾燥させる。具体的な減圧乾燥処理は、工程S2と同様であるので、説明を省略する。そして、λ/4波長膜Q1の溶媒が除去され、膜中の分子の配向状態が適切に維持される。
次に、加熱処理装置300において、ガラス基板Gのλ/4波長膜Q1を加熱する。具体的な加熱処理は、工程S3と同様であるので、説明を省略する。そして、λ/4波長膜Q1の溶媒が完全に除去される。なお、工程S7において膜中の溶媒を完全に除去できる場合には、工程S8は省略してもよい。
次に、膜定着装置400において、図20に示すようにガラス基板Gの画素エリアに形成されたλ/4波長膜Q1に、塗布ノズル420から定着材Fを選択的に塗布する。具体的な定着材Fの選択手的塗布処理は、工程S4と同様であるので、説明を省略する。
次に、膜除去装置500において、ガラス基板Gに洗浄液を供給し、工程S9で定着していないλ/4波長膜Q1を選択的に除去する。具体的なλ/4波長膜Q1の選択手的除去処理は、工程S5と同様であるので、説明を省略する。そして、図22及び図23に示すようにガラス基板G上には画素エリアにλ/4波長膜Q2のみが形成される。
以上の実施の形態において、塗布処理装置10と減圧乾燥装置100は別の装置として設けられていたが、これらは同一装置であってもよい。
100 減圧乾燥装置
200 搬送領域
300 加熱処理装置
400 膜定着装置
500 膜除去装置
G ガラス基板
P1 直線偏光膜(塗布液)
P2 直線偏光膜
Q1 λ/4波長膜(塗布液)
Q2 λ/4波長膜
Claims (6)
- 基板に光学膜を形成する光学膜形成方法であって、
基板に光学材料を含む塗布液を塗布して第1の光学膜を形成する第1の工程と、
前記第1の光学膜上に、光学材料を含む塗布液を塗布して第2の光学膜を形成する第2の工程と、を有し、
前記第1の光学膜及び前記第2の光学膜の形成においては、前記塗布液の塗布時に光学膜中の分子が一方向に配向され、
積層して形成される前記第1の光学膜及び前記第2の光学膜中における分子の配向方向はそれぞれ異なる、光学膜形成方法。 - 前記第1の工程及び前記第2の工程における前記塗布液の塗布はスリットノズルにより行われ、
前記第1の光学膜及び前記第2の光学膜中の分子の配向方向は、前記スリットノズルによる前記塗布液の塗布方向により制御される、請求項1に記載の光学膜形成方法。 - 請求項1または2に記載の光学膜形成方法を光学膜形成装置によって実行させるように、当該光学膜形成装置を制御する制御部のコンピュータ上で動作するプログラム。
- 請求項3に記載のプログラムを格納した読み取り可能なコンピュータ記憶媒体。
- 基板に光学膜を形成する光学膜形成装置であって、
基板に光学材料を含む塗布液を塗布して光学膜を形成する塗布処理部、を有し、
前記光学膜は、前記基板上に形成される第1の光学膜と、前記第1の光学膜上に形成される第2の光学膜と、を含み、
前記光学膜の形成においては、前記塗布液の塗布時に光学膜中の分子が一方向に配向され、
積層して形成される前記第1の光学膜及び前記第2の光学膜中における分子の配向方向はそれぞれ異なる、光学膜形成装置。 - 前記塗布処理部は、
基板に前記塗布液を塗布するスリットノズルと、
前記スリットノズルを移動させる移動機構と、を有し、
前記第1の光学膜及び前記第2の光学膜中の分子の配向方向は、前記スリットノズルによる前記塗布液の塗布方向により制御される、請求項5に記載の光学膜形成装置。
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