JP2020158778A - 耐寒性シーラント及びその構成成分 - Google Patents
耐寒性シーラント及びその構成成分 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2020158778A JP2020158778A JP2020100997A JP2020100997A JP2020158778A JP 2020158778 A JP2020158778 A JP 2020158778A JP 2020100997 A JP2020100997 A JP 2020100997A JP 2020100997 A JP2020100997 A JP 2020100997A JP 2020158778 A JP2020158778 A JP 2020158778A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- formula
- polythioether
- polymer
- polythioether polymer
- polymer according
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C323/00—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups
- C07C323/10—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups containing thio groups and singly-bound oxygen atoms bound to the same carbon skeleton
- C07C323/11—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups containing thio groups and singly-bound oxygen atoms bound to the same carbon skeleton having the sulfur atoms of the thio groups bound to acyclic carbon atoms of the carbon skeleton
- C07C323/12—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups containing thio groups and singly-bound oxygen atoms bound to the same carbon skeleton having the sulfur atoms of the thio groups bound to acyclic carbon atoms of the carbon skeleton the carbon skeleton being acyclic and saturated
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C323/00—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups
- C07C323/10—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups containing thio groups and singly-bound oxygen atoms bound to the same carbon skeleton
- C07C323/11—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups containing thio groups and singly-bound oxygen atoms bound to the same carbon skeleton having the sulfur atoms of the thio groups bound to acyclic carbon atoms of the carbon skeleton
- C07C323/14—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups containing thio groups and singly-bound oxygen atoms bound to the same carbon skeleton having the sulfur atoms of the thio groups bound to acyclic carbon atoms of the carbon skeleton the carbon skeleton being acyclic and unsaturated
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C321/00—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides
- C07C321/12—Sulfides, hydropolysulfides, or polysulfides having thio groups bound to acyclic carbon atoms
- C07C321/14—Sulfides, hydropolysulfides, or polysulfides having thio groups bound to acyclic carbon atoms of an acyclic saturated carbon skeleton
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C321/00—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides
- C07C321/12—Sulfides, hydropolysulfides, or polysulfides having thio groups bound to acyclic carbon atoms
- C07C321/18—Sulfides, hydropolysulfides, or polysulfides having thio groups bound to acyclic carbon atoms of an acyclic unsaturated carbon skeleton
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G75/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing sulfur with or without nitrogen, oxygen, or carbon in the main chain of the macromolecule
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G75/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing sulfur with or without nitrogen, oxygen, or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G75/02—Polythioethers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G75/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing sulfur with or without nitrogen, oxygen, or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G75/02—Polythioethers
- C08G75/04—Polythioethers from mercapto compounds or metallic derivatives thereof
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G75/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing sulfur with or without nitrogen, oxygen, or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G75/02—Polythioethers
- C08G75/04—Polythioethers from mercapto compounds or metallic derivatives thereof
- C08G75/045—Polythioethers from mercapto compounds or metallic derivatives thereof from mercapto compounds and unsaturated compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G75/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing sulfur with or without nitrogen, oxygen, or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G75/12—Polythioether-ethers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L81/00—Compositions of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing sulfur with or without nitrogen, oxygen or carbon only; Compositions of polysulfones; Compositions of derivatives of such polymers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L81/00—Compositions of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing sulfur with or without nitrogen, oxygen or carbon only; Compositions of polysulfones; Compositions of derivatives of such polymers
- C08L81/02—Polythioethers; Polythioether-ethers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
- C09J181/00—Adhesives based on macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing sulfur, with or without nitrogen, oxygen, or carbon only; Adhesives based on polysulfones; Adhesives based on derivatives of such polymers
- C09J181/02—Polythioethers; Polythioether-ethers
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Sealing Material Composition (AREA)
- Polymers With Sulfur, Phosphorus Or Metals In The Main Chain (AREA)
- Epoxy Resins (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
【課題】ポリチオエーテルポリマー、ポリチオエーテルポリマーを含むシーラント、及びポリチオエーテルポリマーの製造において安定化モノマーとして有用な化合物の提供。
【解決手段】多くの実施形態では、ポリマー及びシーラントが、ポリマー又は未硬化のシーラントの低温保管により生じ得る品質低下のリスクを低減する。安定化モノマーとして有用な化合物としては、式［Ｉ］の化合物が挙げられる：ＣＨ２＝ＣＲ１−ＣＨＲ２−Ｓ−Ｒ３−Ｓ−ＣＨＲ４−ＣＲ５＝ＣＨ２［Ｉ］［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ４、及びＲ５は、独立して、−Ｈ、−ＣＨ３、又は−Ｃ２Ｈ５から選択され、Ｒ３は、２〜１２個の炭素原子、０〜５個のエーテル酸素原子、及び０〜５個のチオエーテル硫黄原子を含む、直鎖、分岐鎖、又は環式であってよい二価の基から選択される。］。
【選択図】なし
【解決手段】多くの実施形態では、ポリマー及びシーラントが、ポリマー又は未硬化のシーラントの低温保管により生じ得る品質低下のリスクを低減する。安定化モノマーとして有用な化合物としては、式［Ｉ］の化合物が挙げられる：ＣＨ２＝ＣＲ１−ＣＨＲ２−Ｓ−Ｒ３−Ｓ−ＣＨＲ４−ＣＲ５＝ＣＨ２［Ｉ］［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ４、及びＲ５は、独立して、−Ｈ、−ＣＨ３、又は−Ｃ２Ｈ５から選択され、Ｒ３は、２〜１２個の炭素原子、０〜５個のエーテル酸素原子、及び０〜５個のチオエーテル硫黄原子を含む、直鎖、分岐鎖、又は環式であってよい二価の基から選択される。］。
【選択図】なし
Description
（開示の分野）
本開示は、ポリチオエーテルポリマー、ポリチオエーテルポリマーを含むシーラント、ポリチオエーテルポリマーの製造に有用な安定化モノマー、に関する。多くの実施形態では、ポリマー及びシーラントが、ポリマー又は未硬化のシーラントの低温保管により生じ得る品質低下のリスクを低減することを示す。
本開示は、ポリチオエーテルポリマー、ポリチオエーテルポリマーを含むシーラント、ポリチオエーテルポリマーの製造に有用な安定化モノマー、に関する。多くの実施形態では、ポリマー及びシーラントが、ポリマー又は未硬化のシーラントの低温保管により生じ得る品質低下のリスクを低減することを示す。
（開示の背景）
ポリチオエーテルポリマーベースのシーラントのある種の実施形態は、当該技術分野で既知である。以下の参照は、かかる技術に関係し得るものである：米国特許第５，９１２，３１９号；同第５，９５９，０７１号；同第６，１７２，１７９号；同第６，２３２，４０１号；同第６，３７２，８４９号；同第６，４８６，２９７号；同第６，５０９，４１８号；同第７，０９７，８８３号；同第７，３９０，８５９号；同第７，６２２，５４８号；同第７，６７１，１４５号；同第７，６８７，５７８号；同第７，８３４，１０５号；同第７，８５８，７０３号；同第７，８５８，７０４号；同第７，８７５，６６６号；同第７，８７９，９５５号；同第７，８８８，４３６号；同第８，０７６，４２０号；及び同第８，１３８，２７３号。
ポリチオエーテルポリマーベースのシーラントのある種の実施形態は、当該技術分野で既知である。以下の参照は、かかる技術に関係し得るものである：米国特許第５，９１２，３１９号；同第５，９５９，０７１号；同第６，１７２，１７９号；同第６，２３２，４０１号；同第６，３７２，８４９号；同第６，４８６，２９７号；同第６，５０９，４１８号；同第７，０９７，８８３号；同第７，３９０，８５９号；同第７，６２２，５４８号；同第７，６７１，１４５号；同第７，６８７，５７８号；同第７，８３４，１０５号；同第７，８５８，７０３号；同第７，８５８，７０４号；同第７，８７５，６６６号；同第７，８７９，９５５号；同第７，８８８，４３６号；同第８，０７６，４２０号；及び同第８，１３８，２７３号。
（開示の概要）
簡潔に、本開示は式Ｉで表される化合物を提供し：
ＣＨ２＝ＣＲ１−ＣＨＲ２−Ｓ−Ｒ３−Ｓ−ＣＨＲ４−ＣＲ５＝ＣＨ２ ［Ｉ］
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ４及びＲ５は、独立して、−Ｈ、−ＣＨ３、又は−Ｃ２Ｈ５から選択され、Ｒ３は、２〜１２個の炭素原子、０〜５個のエーテル酸素原子、及び０〜５個のチオエーテル硫黄原子を含む、直鎖、分岐鎖、又は環式であってよい二価の基から選択される。］。いくつかの実施形態では、Ｒ１及びＲ５は同じであり、−Ｈ及び−ＣＨ３から選択される。いくつかの実施形態では、Ｒ２及びＲ４は同じであり、−Ｈ及び−ＣＨ３から選択される。いくつかの実施形態では、Ｒ１及びＲ５は−ＣＨ３であり、Ｒ２及びＲ４は−Ｈである。いくつかの実施形態では、Ｒ３は、式ＩＩで表される二価の基である：
−（（ＣＨ２）ｎ−Ｘ）ｍ−（ＣＨ２）ｎ−［ＩＩ］
［式中、ｍは０〜５であり、各ｎは、独立して、２〜６から選択され、各Ｘは、独立して、Ｏ又はＳから選択される。］。本開示の化合物の更なる実施形態を、以下「選択実施形態」に記載する。本開示の化合物は、シーラントに使用するものなどのポリチオエーテルポリマーの合成において、安定化ジエンモノマーとして有用であり得る。
簡潔に、本開示は式Ｉで表される化合物を提供し：
ＣＨ２＝ＣＲ１−ＣＨＲ２−Ｓ−Ｒ３−Ｓ−ＣＨＲ４−ＣＲ５＝ＣＨ２ ［Ｉ］
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ４及びＲ５は、独立して、−Ｈ、−ＣＨ３、又は−Ｃ２Ｈ５から選択され、Ｒ３は、２〜１２個の炭素原子、０〜５個のエーテル酸素原子、及び０〜５個のチオエーテル硫黄原子を含む、直鎖、分岐鎖、又は環式であってよい二価の基から選択される。］。いくつかの実施形態では、Ｒ１及びＲ５は同じであり、−Ｈ及び−ＣＨ３から選択される。いくつかの実施形態では、Ｒ２及びＲ４は同じであり、−Ｈ及び−ＣＨ３から選択される。いくつかの実施形態では、Ｒ１及びＲ５は−ＣＨ３であり、Ｒ２及びＲ４は−Ｈである。いくつかの実施形態では、Ｒ３は、式ＩＩで表される二価の基である：
−（（ＣＨ２）ｎ−Ｘ）ｍ−（ＣＨ２）ｎ−［ＩＩ］
［式中、ｍは０〜５であり、各ｎは、独立して、２〜６から選択され、各Ｘは、独立して、Ｏ又はＳから選択される。］。本開示の化合物の更なる実施形態を、以下「選択実施形態」に記載する。本開示の化合物は、シーラントに使用するものなどのポリチオエーテルポリマーの合成において、安定化ジエンモノマーとして有用であり得る。
別の態様では、本開示は、本開示の１種以上の化合物（安定化ジエンモノマー）のコポリマーであるポリチオエーテルポリマーを提供する。いくつかの実施形態では、ポリチオエーテルポリマーは、本開示の１種以上の化合物と、１種以上のポリチオール及び１種以上のポリエポキシドとのコポリマーである。いくつかの実施形態では、ポリチオールは、式ＶＩで表されるジチオールである：
ＨＳ−Ｒ６−ＳＨ［ＶＩ］
［式中、Ｒ６は、２〜１２個の炭素原子、０〜５個のエーテル酸素原子、及び０〜５個のチオエーテル硫黄原子を含む、直鎖、分岐鎖、又は環式であってよい二価の基から選択される。］。いくつかの実施形態では、ジチオールのＲ６は、安定化ジエンモノマーのＲ３と同じ基である。いくつかの実施形態では、Ｒ６は、式ＩＩで表される二価の基である：
−（（ＣＨ２）ｎ−Ｘ）ｍ−（ＣＨ２）ｎ−［ＩＩ］
［式中、ｍは０〜５であり、各ｎは、独立して、２〜６から選択され、各Ｘは、独立して、Ｏ又はＳから選択される。］。いくつかの実施形態では、ポリチオエーテルポリマーは、チオール末端ポリマーである。いくつかの実施形態では、ポリチオエーテルポリマーは安定化単位から構成され、かかる単位は、安定化ジエンモノマーから誘導されたセグメントであり、安定化単位がポリマーの１．１重量％超かつポリマーの２４重量％未満を構成する。いくつかの実施形態では、ポリチオエーテルポリマーは、エポキシ単位から構成され、かかる単位は、ポリエポキシドから誘導されたセグメントであり、エポキシ単位がポリマーの１．１重量％超かつポリマーの２０重量％未満を構成する。いくつかの実施形態では、ポリチオエーテルポリマーは、他の反応種よりも１０１／９９超でモル過剰のポリチオールを含む反応混合物から誘導される。本開示のポリチオエーテルポリマーの更なる実施形態を、以下、「選択実施形態」に記載する。
ＨＳ−Ｒ６−ＳＨ［ＶＩ］
［式中、Ｒ６は、２〜１２個の炭素原子、０〜５個のエーテル酸素原子、及び０〜５個のチオエーテル硫黄原子を含む、直鎖、分岐鎖、又は環式であってよい二価の基から選択される。］。いくつかの実施形態では、ジチオールのＲ６は、安定化ジエンモノマーのＲ３と同じ基である。いくつかの実施形態では、Ｒ６は、式ＩＩで表される二価の基である：
−（（ＣＨ２）ｎ−Ｘ）ｍ−（ＣＨ２）ｎ−［ＩＩ］
［式中、ｍは０〜５であり、各ｎは、独立して、２〜６から選択され、各Ｘは、独立して、Ｏ又はＳから選択される。］。いくつかの実施形態では、ポリチオエーテルポリマーは、チオール末端ポリマーである。いくつかの実施形態では、ポリチオエーテルポリマーは安定化単位から構成され、かかる単位は、安定化ジエンモノマーから誘導されたセグメントであり、安定化単位がポリマーの１．１重量％超かつポリマーの２４重量％未満を構成する。いくつかの実施形態では、ポリチオエーテルポリマーは、エポキシ単位から構成され、かかる単位は、ポリエポキシドから誘導されたセグメントであり、エポキシ単位がポリマーの１．１重量％超かつポリマーの２０重量％未満を構成する。いくつかの実施形態では、ポリチオエーテルポリマーは、他の反応種よりも１０１／９９超でモル過剰のポリチオールを含む反応混合物から誘導される。本開示のポリチオエーテルポリマーの更なる実施形態を、以下、「選択実施形態」に記載する。
別の態様では、本開示は、式ＸＩで表されるポリマー主鎖中に二価の基を含む、ポリチオエーテルポリマーを提供する：
−Ｓ−Ｒ１１−Ｓ−ＣＨ２−ＣＨＲ１２−ＣＨＲ１３−Ｓ−［ＸＩ］
［式中、Ｒ１１は、２〜１２個の炭素原子、０〜５個のエーテル酸素原子、及び０〜５個のチオエーテル硫黄原子を含む、直鎖、分岐鎖、又は環式であってよい二価の基から選択され、Ｒ１２及びＲ１３は、独立して、−Ｈ、−ＣＨ３、又は−Ｃ２Ｈ５から選択され、但し、Ｒ１２及びＲ１３のうち少なくとも１つは−Ｈではない。］。いくつかの実施形態では、ポリチオエーテルポリマーは、式ＸＩＩで表されるポリマー主鎖中に二価の基を含む：
−Ｃ（ＯＨ）（Ｒ１４）−ＣＨ２−Ｓ−Ｒ１１−Ｓ−ＣＨ２−ＣＨＲ１２−ＣＨＲ１３−Ｓ−［ＸＩＩ］
［式中、Ｒ１４は、−Ｈ又はＣ１〜４アルキルから選択される。］。いくつかの実施形態では、ポリチオエーテルポリマーは、式ＸＩＩＩで表されるポリマー主鎖中に二価の基を含む：
−Ｓ−Ｒ１１−Ｓ−ＣＨ２−ＣＨＲ１２−ＣＨＲ１３−Ｓ−Ｒ１５−Ｓ−［ＸＩＩＩ］
［式中、Ｒ１５は、２〜１２個の炭素原子、０〜５個のエーテル酸素原子、及び０〜５個のチオエーテル硫黄原子を含む、直鎖、分岐鎖、又は環式であってよい二価の基から選択される。］。いくつかの実施形態では、Ｒ１５はＲ１１と同じ基である。いくつかの実施形態では、Ｒ１２は−ＣＨ３であり、Ｒ１３は−Ｈである。いくつかの実施形態では、Ｒ１１は、式ＩＩで表される二価の基である：
−（（ＣＨ２）ｎ−Ｘ）ｍ−（ＣＨ２）ｎ−［ＩＩ］
［式中、ｍは０〜５であり、各ｎは、独立して、２〜６から選択され、各Ｘは、独立して、Ｏ又はＳから選択される。］。いくつかの実施形態では、ポリチオエーテルポリマーは、チオール末端ポリマーである。本開示のポリチオエーテルポリマーの更なる実施形態を、以下、「選択実施形態」に記載する。
−Ｓ−Ｒ１１−Ｓ−ＣＨ２−ＣＨＲ１２−ＣＨＲ１３−Ｓ−［ＸＩ］
［式中、Ｒ１１は、２〜１２個の炭素原子、０〜５個のエーテル酸素原子、及び０〜５個のチオエーテル硫黄原子を含む、直鎖、分岐鎖、又は環式であってよい二価の基から選択され、Ｒ１２及びＲ１３は、独立して、−Ｈ、−ＣＨ３、又は−Ｃ２Ｈ５から選択され、但し、Ｒ１２及びＲ１３のうち少なくとも１つは−Ｈではない。］。いくつかの実施形態では、ポリチオエーテルポリマーは、式ＸＩＩで表されるポリマー主鎖中に二価の基を含む：
−Ｃ（ＯＨ）（Ｒ１４）−ＣＨ２−Ｓ−Ｒ１１−Ｓ−ＣＨ２−ＣＨＲ１２−ＣＨＲ１３−Ｓ−［ＸＩＩ］
［式中、Ｒ１４は、−Ｈ又はＣ１〜４アルキルから選択される。］。いくつかの実施形態では、ポリチオエーテルポリマーは、式ＸＩＩＩで表されるポリマー主鎖中に二価の基を含む：
−Ｓ−Ｒ１１−Ｓ−ＣＨ２−ＣＨＲ１２−ＣＨＲ１３−Ｓ−Ｒ１５−Ｓ−［ＸＩＩＩ］
［式中、Ｒ１５は、２〜１２個の炭素原子、０〜５個のエーテル酸素原子、及び０〜５個のチオエーテル硫黄原子を含む、直鎖、分岐鎖、又は環式であってよい二価の基から選択される。］。いくつかの実施形態では、Ｒ１５はＲ１１と同じ基である。いくつかの実施形態では、Ｒ１２は−ＣＨ３であり、Ｒ１３は−Ｈである。いくつかの実施形態では、Ｒ１１は、式ＩＩで表される二価の基である：
−（（ＣＨ２）ｎ−Ｘ）ｍ−（ＣＨ２）ｎ−［ＩＩ］
［式中、ｍは０〜５であり、各ｎは、独立して、２〜６から選択され、各Ｘは、独立して、Ｏ又はＳから選択される。］。いくつかの実施形態では、ポリチオエーテルポリマーは、チオール末端ポリマーである。本開示のポリチオエーテルポリマーの更なる実施形態を、以下、「選択実施形態」に記載する。
別の態様では、本開示は、式ＸＸＩで表されるポリマー主鎖中に二価の基を含む、ポリチオエーテルポリマーを提供する：
−Ｓ−Ｒ２１−Ｓ−ＣＨ（ＣＨ３）−ＣＨ２−Ｓ−［ＸＸＩ］
［式中、Ｒ２１は、２〜１２個の炭素原子、０〜５個のエーテル酸素原子、及び０〜５個のチオエーテル硫黄原子を含む、直鎖、分岐鎖、又は環式であってよい二価の基から選択される。］。いくつかの実施形態では、このポリチオエーテルポリマーは、式ＸＸＩＩＩで表されるポリマー主鎖中に二価の基を含む：
−Ｓ−Ｒ２１−Ｓ−ＣＨ（ＣＨ３）−ＣＨ２−Ｓ−Ｒ２３−Ｓ−［ＸＸＩＩＩ］
［式中、Ｒ２３はＲ２１と同じ基である。］。本開示のポリチオエーテルポリマーの更なる実施形態を、以下、「選択実施形態」に記載する。
−Ｓ−Ｒ２１−Ｓ−ＣＨ（ＣＨ３）−ＣＨ２−Ｓ−［ＸＸＩ］
［式中、Ｒ２１は、２〜１２個の炭素原子、０〜５個のエーテル酸素原子、及び０〜５個のチオエーテル硫黄原子を含む、直鎖、分岐鎖、又は環式であってよい二価の基から選択される。］。いくつかの実施形態では、このポリチオエーテルポリマーは、式ＸＸＩＩＩで表されるポリマー主鎖中に二価の基を含む：
−Ｓ−Ｒ２１−Ｓ−ＣＨ（ＣＨ３）−ＣＨ２−Ｓ−Ｒ２３−Ｓ−［ＸＸＩＩＩ］
［式中、Ｒ２３はＲ２１と同じ基である。］。本開示のポリチオエーテルポリマーの更なる実施形態を、以下、「選択実施形態」に記載する。
別の態様では、本開示は、本開示のいずれかのポリチオエーテルポリマーと、硬化剤と、を含むシーラントを提供する。いくつかの実施形態では、硬化剤は、架橋剤である。いくつかの実施形態では、硬化剤は、ポリエポキシドを含む。本開示のシーラントの更なる実施形態を、以下、「選択実施形態」に記載する。
別の態様では、本開示は、本開示のシーラントを硬化させることにより得られる材料を提供する。本開示の硬化材料の更なる実施形態を、以下、「選択実施形態」に記載する。
（詳細な説明）
本開示は、ポリチオエーテルポリマーベースのシーラントを提供する。多くの実施形態では、本開示のシーラントは、性能低下のリスクを低減する低温にて未硬化の状態で保管され得る。更に、本開示は、ある種のポリチオエーテルポリマー及びポリチオエーテルポリマーに使用するためのモノマーを提供する。
本開示は、ポリチオエーテルポリマーベースのシーラントを提供する。多くの実施形態では、本開示のシーラントは、性能低下のリスクを低減する低温にて未硬化の状態で保管され得る。更に、本開示は、ある種のポリチオエーテルポリマー及びポリチオエーテルポリマーに使用するためのモノマーを提供する。
航空宇宙用シーラント
本開示は、航空宇宙産業に有用なシーラントなどといった、ポリチオエーテルポリマーベースのシーラントを提供する。いくつかの用途では、本開示のシーラントを用いて燃料タンクをシールすることができる。これらの用途では、シーラントは、好ましくは、低密度、速硬化、硬化後の高い引張強さ、硬化後低温下での高い可撓性、硬化後の高いジェット燃料耐性（工業標準法（standard industry methods）により測定したとき）、並びに硬化後の低Ｔｇ、すなわち典型的には−５０℃未満、より典型的には−５３℃未満、より典型的には−５５℃未満の低Ｔｇを示す。これらのシーラントを含むポリチオエーテルポリマーは、好ましくは、低密度及び低Ｔｇを示し、すなわち典型的には−５０℃未満、より典型的には−５３℃未満、及びより典型的には−５５℃未満の低Ｔｇを示す。
本開示は、航空宇宙産業に有用なシーラントなどといった、ポリチオエーテルポリマーベースのシーラントを提供する。いくつかの用途では、本開示のシーラントを用いて燃料タンクをシールすることができる。これらの用途では、シーラントは、好ましくは、低密度、速硬化、硬化後の高い引張強さ、硬化後低温下での高い可撓性、硬化後の高いジェット燃料耐性（工業標準法（standard industry methods）により測定したとき）、並びに硬化後の低Ｔｇ、すなわち典型的には−５０℃未満、より典型的には−５３℃未満、より典型的には−５５℃未満の低Ｔｇを示す。これらのシーラントを含むポリチオエーテルポリマーは、好ましくは、低密度及び低Ｔｇを示し、すなわち典型的には−５０℃未満、より典型的には−５３℃未満、及びより典型的には−５５℃未満の低Ｔｇを示す。
更に、本発明の未硬化のシーラントは、好ましくは、低温で保管したときに、濁り、結晶化、又はシーディング（seeding）に抵抗性を示す。いくつかの実施形態では、シーラントは、４．４℃で３２週間保管時に、実質的に固体形成を示さない；いくつかの実施形態では、シーラントは、４．４℃で２４週間保管時に、実質的に固体形成を示さない；いくつかの実施形態では、シーラントは、４．４℃で１６週間保管時に、実質的に固体形成を示さない；いくつかの実施形態では、シーラントは、４．４℃で８週間保管時に、実質的に固体形成を示さない。前述の実施形態のいくつかでは、「実質的に固体形成を示さない」は、視認され得る固体形成がないことを意味する；いくつかの実施形態では、「実質的に固体形成を示さない」は、視認され得る濁りがないことを意味する；いくつかの実施形態では、「実質的に固体形成を示さない」は、固体への変換率が５体積％を超過しないことを意味する。いくつかの実施形態では、シーラントを構成するポリチオエーテルポリマーは、４．４℃で３２週間保管時に、実質的に固体形成を示さない；いくつかの実施形態では、シーラントは、４．４℃で２４週間保管時に、実質的に固体形成を示さない；いくつかの実施形態では、シーラントは、４．４℃で１６週間保管時に、実質的に固体形成を示さない；いくつかの実施形態では、シーラントは、４．４℃で８週間保管時に、実質的に固体形成を示さない。前述の実施形態のいくつかでは、「実質的に固体形成を示さない」は、視認され得る固体形成がないことを意味する；いくつかの実施形態では、「実質的に固体形成を示さない」は、視認され得る濁りがないことを意味する；いくつかの実施形態では、「実質的に固体形成を示さない」は、固体への変換率が５体積％を超過しないことを意味する。
安定化ジエンモノマー
本開示は式Ｉで表される化合物を提供する：
ＣＨ２＝ＣＲ１−ＣＨＲ２−Ｓ−Ｒ３−Ｓ−ＣＨＲ４−ＣＲ５＝ＣＨ２ ［Ｉ］
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ４及びＲ５は、独立して、−Ｈ、−ＣＨ３、又は−Ｃ２Ｈ５から選択され、Ｒ３は、２〜１２個の炭素原子、０〜５個のエーテル酸素原子、及び０〜５個のチオエーテル硫黄原子を含む、直鎖、分岐鎖、又は環式であってよい二価の基から選択される。］。典型的には、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ４、及びＲ５は、独立して、−Ｈ、及び−ＣＨ３から選択される。いくつかの実施形態では、Ｒ１及びＲ２のうち一方は−Ｈであり、他方は−ＣＨ３であり、Ｒ４及びＲ５のうち一方は−Ｈであり、他方は−ＣＨ３である。典型的には、Ｒ１及びＲ５は同じであり、Ｒ２及びＲ４は同じである。いくつかの実施形態では、Ｒ１及びＲ５は−ＣＨ３であり、Ｒ２及びＲ４は−Ｈである。いくつかの実施形態では、Ｒ１及びＲ５は−Ｈであり、Ｒ２及びＲ４は−ＣＨ３である。いくつかの実施形態では、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ４、及びＲ５は−Ｈである。
本開示は式Ｉで表される化合物を提供する：
ＣＨ２＝ＣＲ１−ＣＨＲ２−Ｓ−Ｒ３−Ｓ−ＣＨＲ４−ＣＲ５＝ＣＨ２ ［Ｉ］
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ４及びＲ５は、独立して、−Ｈ、−ＣＨ３、又は−Ｃ２Ｈ５から選択され、Ｒ３は、２〜１２個の炭素原子、０〜５個のエーテル酸素原子、及び０〜５個のチオエーテル硫黄原子を含む、直鎖、分岐鎖、又は環式であってよい二価の基から選択される。］。典型的には、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ４、及びＲ５は、独立して、−Ｈ、及び−ＣＨ３から選択される。いくつかの実施形態では、Ｒ１及びＲ２のうち一方は−Ｈであり、他方は−ＣＨ３であり、Ｒ４及びＲ５のうち一方は−Ｈであり、他方は−ＣＨ３である。典型的には、Ｒ１及びＲ５は同じであり、Ｒ２及びＲ４は同じである。いくつかの実施形態では、Ｒ１及びＲ５は−ＣＨ３であり、Ｒ２及びＲ４は−Ｈである。いくつかの実施形態では、Ｒ１及びＲ５は−Ｈであり、Ｒ２及びＲ４は−ＣＨ３である。いくつかの実施形態では、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ４、及びＲ５は−Ｈである。
いくつかの実施形態では、Ｒ３は、式ＩＩで表される二価の基である：
−（（ＣＨ２）ｎ−Ｘ）ｍ−（ＣＨ２）ｎ−［ＩＩ］
［式中、ｍは０〜５であり、各ｎは、独立して、２〜６から選択され、及び各Ｘは、独立して、Ｏ又はＳから選択される。］。いくつかの実施形態では、Ｒ３は、式ＩＩＩで表される二価の基である：
−（Ｃ２Ｈ４−Ｘ）ｍ−Ｃ２Ｈ４−［ＩＩＩ］
［式中、ｍは０〜５であり、及び各Ｘは、独立して、Ｏ又はＳから選択される。］。
−（（ＣＨ２）ｎ−Ｘ）ｍ−（ＣＨ２）ｎ−［ＩＩ］
［式中、ｍは０〜５であり、各ｎは、独立して、２〜６から選択され、及び各Ｘは、独立して、Ｏ又はＳから選択される。］。いくつかの実施形態では、Ｒ３は、式ＩＩＩで表される二価の基である：
−（Ｃ２Ｈ４−Ｘ）ｍ−Ｃ２Ｈ４−［ＩＩＩ］
［式中、ｍは０〜５であり、及び各Ｘは、独立して、Ｏ又はＳから選択される。］。
化合物は任意の好適な方法により合成され得る。いくつかの実施形態では、ＨＳ−Ｒ３−ＳＨは、ＣＨ２＝ＣＲ１−ＣＨＲ２−Ｙ又はＹ−ＣＨＲ４−ＣＲ５＝ＣＨ２などの種と反応し、式中、Ｙはハロゲンであり、典型的には、Ｃｌ又はＢｒから選択される。
これらの化合物は、ポリチオエーテルポリマーの合成においてジエンモノマーとして有用であり、特に、シーラント用のポリチオエーテルポリマーの合成において安定化ジエンモノマーとして有用である。
ポリチオエーテルポリマー
本開示は、本開示による安定化ジエンモノマーと、典型的には、１種以上のポリチオールとのコポリマーである、ポリチオエーテルポリマーを提供する。いくつかの実施形態では、ポリチオエーテルポリマーは、更に、本開示の安定化ジエンモノマー以外の追加のジエンのコポリマーである。いくつかの実施形態では、ポリチオエーテルポリマーは、更に、ポリチオールと反応性である追加のモノマー又はオリゴマーのコポリマーである；いくつかのこのような実施形態では、更なるモノマー又はオリゴマーはポリエポキシドである。いくつかの実施形態では、ポリチオエーテルポリマーは、更に、ジエンと反応性である追加のモノマー又はオリゴマーのコポリマーである；いくつかの実施形態では、ポリチオエーテルポリマーは、ビニル末端ポリマーである。いくつかの実施形態では、ポリチオエーテルポリマーは、チオール末端ポリマーである。
本開示は、本開示による安定化ジエンモノマーと、典型的には、１種以上のポリチオールとのコポリマーである、ポリチオエーテルポリマーを提供する。いくつかの実施形態では、ポリチオエーテルポリマーは、更に、本開示の安定化ジエンモノマー以外の追加のジエンのコポリマーである。いくつかの実施形態では、ポリチオエーテルポリマーは、更に、ポリチオールと反応性である追加のモノマー又はオリゴマーのコポリマーである；いくつかのこのような実施形態では、更なるモノマー又はオリゴマーはポリエポキシドである。いくつかの実施形態では、ポリチオエーテルポリマーは、更に、ジエンと反応性である追加のモノマー又はオリゴマーのコポリマーである；いくつかの実施形態では、ポリチオエーテルポリマーは、ビニル末端ポリマーである。いくつかの実施形態では、ポリチオエーテルポリマーは、チオール末端ポリマーである。
いくつかの実施形態では、ポリチオールは、式ＶＩで表されるジチオールである：
ＨＳ−Ｒ６−ＳＨ［ＶＩ］
［式中、Ｒ６は、２〜１２個の炭素原子、０〜５個のエーテル酸素原子、及び０〜５個のチオエーテル硫黄原子を含む、直鎖、分岐鎖、又は環式であってよい二価の基から選択される。］。いくつかの実施形態では、ジチオールは、安定化ジエンモノマーの合成に使用されるジチオールと同じである。
ＨＳ−Ｒ６−ＳＨ［ＶＩ］
［式中、Ｒ６は、２〜１２個の炭素原子、０〜５個のエーテル酸素原子、及び０〜５個のチオエーテル硫黄原子を含む、直鎖、分岐鎖、又は環式であってよい二価の基から選択される。］。いくつかの実施形態では、ジチオールは、安定化ジエンモノマーの合成に使用されるジチオールと同じである。
いくつかの実施形態では、ポリチオエーテルポリマーにはポリエポキシドが追加的に組み込まれる。任意の好適なポリエポキシドを使用できる。いくつかの実施形態では、ポリエポキシドは、ジエポキシドである。いくつかの実施形態では、ポリエポキシドは、２官能性超である。好適なポリエポキシドとしては、式ＸＸＸで表されるものを挙げることができる：
式中、Ｍ基は、Ｃ２〜１０アルキル、Ｃ６〜２０アリール、少なくとも１つのＣ１〜８アルキル基又はＮ若しくはＯヘテロ原子で置換されたＣ６〜２０アリールである。本明細書において機能する好適なポリエポキシド化合物は、米国特許第４，１３６，０８６号に記載されている。いくつかの実施形態では、本発明のポリエポキシドは、Ｍにアリール基を含む。アリール主鎖構成成分が、チオールエポキシド反応に伴ってヒドロキシル基と相乗作用して、優れた強度及び取り扱い性を備えたポリチオエーテルポリマーを形成することが判明している。Ｒ３１は、水素又はＣ１〜Ｃ４アルキル基、より典型的には、水素又はメチル基である。式中、Ｒ３２は、１〜１２個の炭素原子、０〜５個のエーテル酸素原子、及び０〜５個のチオエーテル硫黄原子を含む、直鎖、分岐鎖、又は環式であってよい二価の基から選択される。Ｐは、１〜１０の範囲の整数値である。いくつかの実施形態では、好適なポリエポキシドとしては、ビスフェノールＡのジグリシジルエーテル（ＥＰＯＮ ８２８（登録商標）、Ｓｈｅｌｌ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ Ｌｔｄ．など）、５５ビスフェノールＦのジグリシジルエーテル（ＥＲＩＳＹＳＴＭ、ＣＶＣなど）、低官能性のＮｏｖｏｌａｋ（ＤＥＮ ４３ＦＭ、Ｔｈｅ Ｄｏｗ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｃｏ．など）、並びにブタン−及びヘキサン−ジオールジグリシジルエーテル（ＡＲＡＬＤＩＴＥ（登録商標）、Ｃｉｂａ−Ｇｅｉｇｙなど）が挙げられ得る。
式中、Ｍ基は、Ｃ２〜１０アルキル、Ｃ６〜２０アリール、少なくとも１つのＣ１〜８アルキル基又はＮ若しくはＯヘテロ原子で置換されたＣ６〜２０アリールである。本明細書において機能する好適なポリエポキシド化合物は、米国特許第４，１３６，０８６号に記載されている。いくつかの実施形態では、本発明のポリエポキシドは、Ｍにアリール基を含む。アリール主鎖構成成分が、チオールエポキシド反応に伴ってヒドロキシル基と相乗作用して、優れた強度及び取り扱い性を備えたポリチオエーテルポリマーを形成することが判明している。Ｒ３１は、水素又はＣ１〜Ｃ４アルキル基、より典型的には、水素又はメチル基である。式中、Ｒ３２は、１〜１２個の炭素原子、０〜５個のエーテル酸素原子、及び０〜５個のチオエーテル硫黄原子を含む、直鎖、分岐鎖、又は環式であってよい二価の基から選択される。Ｐは、１〜１０の範囲の整数値である。いくつかの実施形態では、好適なポリエポキシドとしては、ビスフェノールＡのジグリシジルエーテル（ＥＰＯＮ ８２８（登録商標）、Ｓｈｅｌｌ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ Ｌｔｄ．など）、５５ビスフェノールＦのジグリシジルエーテル（ＥＲＩＳＹＳＴＭ、ＣＶＣなど）、低官能性のＮｏｖｏｌａｋ（ＤＥＮ ４３ＦＭ、Ｔｈｅ Ｄｏｗ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｃｏ．など）、並びにブタン−及びヘキサン−ジオールジグリシジルエーテル（ＡＲＡＬＤＩＴＥ（登録商標）、Ｃｉｂａ−Ｇｅｉｇｙなど）が挙げられ得る。
いくつかの実施形態では、ジチオールのチオール基をマルコフニコフ則により安定化ジエンモノマーの不飽和基に付加することで、式ＸＩで表されるポリマー主鎖中に二価の基を含むポリチオエーテルポリマーが得られる：
−Ｓ−Ｒ１１−Ｓ−ＣＨ２−ＣＨＲ１２−ＣＨＲ１３−Ｓ−［ＸＩ］
［式中、Ｒ１１は、２〜１２個の炭素原子、０〜５個のエーテル酸素原子、及び０〜５個のチオエーテル硫黄原子を含む二価の基から選択され、直鎖、分岐鎖、又は環式であり得る；並びにＲ１２及びＲ１３は、独立して、−Ｈ、−ＣＨ３、又は−Ｃ２Ｈ５から選択され、但し、Ｒ１２及びＲ１３のうち少なくとも１つは−Ｈではない。］。
−Ｓ−Ｒ１１−Ｓ−ＣＨ２−ＣＨＲ１２−ＣＨＲ１３−Ｓ−［ＸＩ］
［式中、Ｒ１１は、２〜１２個の炭素原子、０〜５個のエーテル酸素原子、及び０〜５個のチオエーテル硫黄原子を含む二価の基から選択され、直鎖、分岐鎖、又は環式であり得る；並びにＲ１２及びＲ１３は、独立して、−Ｈ、−ＣＨ３、又は−Ｃ２Ｈ５から選択され、但し、Ｒ１２及びＲ１３のうち少なくとも１つは−Ｈではない。］。
更に、ジチオールのチオール基を逆マルコフニコフ則により安定化ジエンモノマーの不飽和基に付加することで、式ＸＩＶで表されるポリマー主鎖中に二価の基が提供され得る：
−Ｓ−Ｒ１１−Ｓ−Ｃ（ＣＨ３）Ｒ１２−ＣＨＲ１３−Ｓ−［ＸＩＶ］
［式中、Ｒ１１、Ｒ１２及びＲ１３は、上記で定義される通りのものである。］。
−Ｓ−Ｒ１１−Ｓ−Ｃ（ＣＨ３）Ｒ１２−ＣＨＲ１３−Ｓ−［ＸＩＶ］
［式中、Ｒ１１、Ｒ１２及びＲ１３は、上記で定義される通りのものである。］。
ジチオール、安定化ジエンモノマー、及びポリエポキシドのコポリマーであるいくつかの実施形態では、ポリチオエーテルポリマーは、式ＸＩＩで表されるポリマー主鎖中に二価の基を含む：
−Ｃ（ＯＨ）（Ｒ１４）−ＣＨ２−Ｓ−Ｒ１１−Ｓ−ＣＨ２−ＣＨＲ１２−ＣＨＲ１３−Ｓ−［ＸＩＩ］
［式中、Ｒ１４は、−Ｈ又はＣ１〜４アルキルから選択される；並びにＲ１１、Ｒ１２及びＲ１３は上記で定義される通りのものである。］。
−Ｃ（ＯＨ）（Ｒ１４）−ＣＨ２−Ｓ−Ｒ１１−Ｓ−ＣＨ２−ＣＨＲ１２−ＣＨＲ１３−Ｓ−［ＸＩＩ］
［式中、Ｒ１４は、−Ｈ又はＣ１〜４アルキルから選択される；並びにＲ１１、Ｒ１２及びＲ１３は上記で定義される通りのものである。］。
いくつかの実施形態では、安定化ジエンモノマーは、式ＸＬで表されるものである：
ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＨ２−Ｓ−Ｒ３−Ｓ−ＣＨ２−ＣＨ＝ＣＨ２［ＸＬ］
［式中、Ｒ３は、本明細書に記載の通りのものである。］。更に、ジチオールのチオール基を逆マルコフニコフ則により安定化ジエンモノマーの不飽和基に付加することで、式ＸＸＩで表されるポリマー主鎖中に二価の基が提供され得る：
−Ｓ−Ｒ２１−Ｓ−ＣＨ（ＣＨ３）−ＣＨ２−Ｓ− ［ＸＸＩ］
［式中、Ｒ２１は、２〜１２個の炭素原子、０〜５個のエーテル酸素原子、及び０〜５個のチオエーテル硫黄原子を含む、直鎖、分岐鎖、又は環式であってよい二価の基から選択される。］。逆マルコフニコフ則による付加は不利であることから、これらの実施形態では、ポリマー中の安定化ジエンモノマーの量を増量すべきである。
ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＨ２−Ｓ−Ｒ３−Ｓ−ＣＨ２−ＣＨ＝ＣＨ２［ＸＬ］
［式中、Ｒ３は、本明細書に記載の通りのものである。］。更に、ジチオールのチオール基を逆マルコフニコフ則により安定化ジエンモノマーの不飽和基に付加することで、式ＸＸＩで表されるポリマー主鎖中に二価の基が提供され得る：
−Ｓ−Ｒ２１−Ｓ−ＣＨ（ＣＨ３）−ＣＨ２−Ｓ− ［ＸＸＩ］
［式中、Ｒ２１は、２〜１２個の炭素原子、０〜５個のエーテル酸素原子、及び０〜５個のチオエーテル硫黄原子を含む、直鎖、分岐鎖、又は環式であってよい二価の基から選択される。］。逆マルコフニコフ則による付加は不利であることから、これらの実施形態では、ポリマー中の安定化ジエンモノマーの量を増量すべきである。
シーラントの配合
本開示のシーラントは、本開示のポリチオエーテル及び硬化剤を含む。いくつかの実施形態では、ポリチオエーテル及び硬化剤は、２成分系又は多成分系の２つの別個の構成成分中に存在する。いくつかの実施形態では、ポリチオエーテル及び硬化剤は、同じ組成物中に存在する。使用時に、ポリチオエーテル及び硬化剤を混合してからシーラントを硬化させてシールを形成する。
本開示のシーラントは、本開示のポリチオエーテル及び硬化剤を含む。いくつかの実施形態では、ポリチオエーテル及び硬化剤は、２成分系又は多成分系の２つの別個の構成成分中に存在する。いくつかの実施形態では、ポリチオエーテル及び硬化剤は、同じ組成物中に存在する。使用時に、ポリチオエーテル及び硬化剤を混合してからシーラントを硬化させてシールを形成する。
いくつかの実施形態では、硬化剤は、架橋剤である。いくつかの実施形態では、硬化剤はポリエポキシドを含み、典型的には、各種実施形態において、ポリチオエーテルポリマーはチオール末端ポリマーである。上記のものなどの任意の好適なポリエポキシドを使用できる。
接着剤組成物
本開示のポリチオエーテルを接着剤組成物に利用することもできる。いくつかの実施形態では、接着剤組成物は、エポキシ系接着剤組成物の一部であり得る。かかる組成物は、数日間に及ぶ保存安定性（粘度安定性）、伸張性の向上、落下耐性／衝撃耐性の向上、及び望ましい硬化サイクル（例えば、６５℃で１５分）などの１つ以上の利点を示し得る。これらの特性は、例えば、ハンドヘルドデバイスなどといった電子工学領域を含む、多くの用途領域において望ましい。
本開示のポリチオエーテルを接着剤組成物に利用することもできる。いくつかの実施形態では、接着剤組成物は、エポキシ系接着剤組成物の一部であり得る。かかる組成物は、数日間に及ぶ保存安定性（粘度安定性）、伸張性の向上、落下耐性／衝撃耐性の向上、及び望ましい硬化サイクル（例えば、６５℃で１５分）などの１つ以上の利点を示し得る。これらの特性は、例えば、ハンドヘルドデバイスなどといった電子工学領域を含む、多くの用途領域において望ましい。
選択実施形態
文字及び数字により説明される以下の実施形態は、本開示を更に例示することを意図するものであり、本開示を過度に制限するものとして解釈すべきでない。
文字及び数字により説明される以下の実施形態は、本開示を更に例示することを意図するものであり、本開示を過度に制限するものとして解釈すべきでない。
Ｍ１． 式Ｉで表される化合物：
ＣＨ２＝ＣＲ１−ＣＨＲ２−Ｓ−Ｒ３−Ｓ−ＣＨＲ４−ＣＲ５＝ＣＨ２ ［Ｉ］
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ４、及びＲ５は、独立して、−Ｈ、−ＣＨ３、又は−Ｃ２Ｈ５から選択され、
Ｒ３は、２〜１２個の炭素原子、０〜５個のエーテル酸素原子、及び０〜５個のチオエーテル硫黄原子を含む、直鎖、分岐鎖、又は環式であってよい二価の基から選択される。］。
ＣＨ２＝ＣＲ１−ＣＨＲ２−Ｓ−Ｒ３−Ｓ−ＣＨＲ４−ＣＲ５＝ＣＨ２ ［Ｉ］
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ４、及びＲ５は、独立して、−Ｈ、−ＣＨ３、又は−Ｃ２Ｈ５から選択され、
Ｒ３は、２〜１２個の炭素原子、０〜５個のエーテル酸素原子、及び０〜５個のチオエーテル硫黄原子を含む、直鎖、分岐鎖、又は環式であってよい二価の基から選択される。］。
Ｍ２． Ｒ１及びＲ５は同じであり、Ｒ２及びＲ４は同じである、実施形態Ｍ１に記載の化合物。
Ｍ３． Ｒ１、Ｒ２、Ｒ４及びＲ５は、独立して、−Ｈ、又は−ＣＨ３から選択される、実施形態Ｍ１に記載の化合物。
Ｍ４． Ｒ１及びＲ２のうち一方は−Ｈであり、他方は−ＣＨ３であり、Ｒ４及びＲ５のうち一方は−Ｈであり、他方は−ＣＨ３である、実施形態Ｍ１に記載の化合物。
Ｍ５． Ｒ１及びＲ５は−ＣＨ３であり、Ｒ２及びＲ４は−Ｈである、実施形態Ｍ１に記載の化合物。
Ｍ６． Ｒ１及びＲ５は−Ｈであり、Ｒ２及びＲ４は−ＣＨ３である、実施形態Ｍ１に記載の化合物。
Ｍ７． Ｒ１、Ｒ２、Ｒ４及びＲ５は−Ｈである、実施形態Ｍ１に記載の化合物。
Ｍ８． Ｒ３は式ＩＩで表される二価の基である、実施形態Ｍ１〜Ｍ７のいずれか一形態に記載の化合物：
−（（ＣＨ２）ｎ−Ｘ）ｍ−（ＣＨ２）ｎ− ［ＩＩ］
［式中、ｍは０〜５であり、
各ｎは、独立して、２〜６から選択され、
各Ｘは、独立して、Ｏ又はＳから選択される。］。
−（（ＣＨ２）ｎ−Ｘ）ｍ−（ＣＨ２）ｎ− ［ＩＩ］
［式中、ｍは０〜５であり、
各ｎは、独立して、２〜６から選択され、
各Ｘは、独立して、Ｏ又はＳから選択される。］。
Ｍ９． Ｒ３は式ＩＩＩで表される二価の基である、実施形態Ｍ１〜Ｍ７のいずれか一形態に記載の化合物：
−（Ｃ２Ｈ４−Ｘ）ｍ−Ｃ２Ｈ４− ［ＩＩＩ］
［式中、ｍは０〜５であり、
各Ｘは、独立して、Ｏ又はＳから選択される。］。
−（Ｃ２Ｈ４−Ｘ）ｍ−Ｃ２Ｈ４− ［ＩＩＩ］
［式中、ｍは０〜５であり、
各Ｘは、独立して、Ｏ又はＳから選択される。］。
Ｍ１０． ＸはＯである、実施形態Ｍ８又はＭ９に記載の化合物。
Ｍ１１． ＸはＳである、実施形態Ｍ８又はＭ９に記載の化合物。
Ｍ１２． ｍは１〜５である、実施形態Ｍ８〜Ｍ１１のいずれか一形態に記載の化合物。
Ｍ１３． ｍは１〜４である、実施形態Ｍ８〜Ｍ１１のいずれか一形態に記載の化合物。
Ｍ１４． ｍは１〜３である、実施形態Ｍ８〜Ｍ１１のいずれか一形態に記載の化合物。
Ｍ１５． ｍは２である、実施形態Ｍ８〜Ｍ１１のいずれか一形態に記載の化合物。
Ｍ１６． ｍは１である、実施形態Ｍ８〜Ｍ１１のいずれか一形態に記載の化合物。
Ｍ１７． Ｒ３は式ＩＶで表される二価の基である、実施形態Ｍ１〜Ｍ７のいずれか一形態に記載の化合物：
−Ｃ２Ｈ４−Ｏ−Ｃ２Ｈ４−Ｏ−Ｃ２Ｈ４−［ＩＶ］。
−Ｃ２Ｈ４−Ｏ−Ｃ２Ｈ４−Ｏ−Ｃ２Ｈ４−［ＩＶ］。
Ｍ１８． Ｒ３は式Ｖで表される二価の基である、実施形態Ｍ１〜Ｍ７のいずれか一形態に記載の化合物：
−Ｃ２Ｈ４−Ｓ−Ｃ２Ｈ４−［Ｖ］。
−Ｃ２Ｈ４−Ｓ−Ｃ２Ｈ４−［Ｖ］。
ＰＡ１． 実施形態Ｍ１〜Ｍ１５のいずれか一形態に記載の１種以上の化合物と、１種以上のポリチオールとのコポリマーである、ポリチオエーテルポリマー。
ＰＡ２． 実施形態Ｍ１〜Ｍ１５のいずれか一形態に記載の１種以上の化合物と、１種以上のポリチオール及び１種以上のポリエポキシドとのコポリマーである、ポリチオエーテルポリマー。
ＰＡ３． １種以上のポリエポキシドが芳香族である、実施形態ＰＡ２に記載のポリチオエーテルポリマー。
ＰＡ４． １種以上のポリエポキシドが式ＸＸＸで表されるものである、実施形態ＰＡ２に記載のポリチオエーテルポリマー：
［式中、Ｍは、Ｃ２〜１０アルキル基、Ｃ６〜２０アリール基、及び少なくとも１つのＣ１〜８アルキル基、又はＮ若しくはＯヘテロ原子で置換されたＣ６〜２０アリール基から選択され；
Ｒ３１は、水素又はＣ１〜Ｃ４アルキル基から選択され；
Ｒ３２は、１〜１２個の炭素原子、０〜５個のエーテル酸素原子、及び０〜５個のチオエーテル硫黄原子を含む、直鎖、分岐鎖、又は環式であってよい二価の基から選択され；
Ｐは１〜１０である。］。
［式中、Ｍは、Ｃ２〜１０アルキル基、Ｃ６〜２０アリール基、及び少なくとも１つのＣ１〜８アルキル基、又はＮ若しくはＯヘテロ原子で置換されたＣ６〜２０アリール基から選択され；
Ｒ３１は、水素又はＣ１〜Ｃ４アルキル基から選択され；
Ｒ３２は、１〜１２個の炭素原子、０〜５個のエーテル酸素原子、及び０〜５個のチオエーテル硫黄原子を含む、直鎖、分岐鎖、又は環式であってよい二価の基から選択され；
Ｐは１〜１０である。］。
ＰＡ５． Ｍは−Ｐｈ−Ｃ（Ｒ３３）２−Ｐｈ−であり、Ｒ３３は水素又はメチルである、実施形態ＰＡ４に記載のポリチオエーテルポリマー。
ＰＡ６． ポリチオールは式ＶＩで表されるジチオールである、実施形態ＰＡ１〜ＰＡ５のいずれか一形態に記載のポリチオエーテルポリマー：
ＨＳ−Ｒ６−ＳＨ［ＶＩ］
［式中、Ｒ６は、２〜１２個の炭素原子、０〜５個のエーテル酸素原子、及び０〜５個のチオエーテル硫黄原子を含む、直鎖、分岐鎖、又は環式であってよい二価の基から選択される。］。
ＨＳ−Ｒ６−ＳＨ［ＶＩ］
［式中、Ｒ６は、２〜１２個の炭素原子、０〜５個のエーテル酸素原子、及び０〜５個のチオエーテル硫黄原子を含む、直鎖、分岐鎖、又は環式であってよい二価の基から選択される。］。
ＰＡ７． Ｒ６はＲ３と同じ基である、実施形態ＰＡ６に記載のポリチオエーテルポリマー。
ＰＡ８． Ｒ６は、式ＩＩで表される二価の基である、実施形態ＰＡ６に記載のポリチオエーテルポリマー：
−（（ＣＨ２）ｎ−Ｘ）ｍ−（ＣＨ２）ｎ−［ＩＩ］
［式中、ｍは０〜５であり、
各ｎは、独立して、２〜６から選択され、
各Ｘは、独立して、Ｏ又はＳから選択される。］。
−（（ＣＨ２）ｎ−Ｘ）ｍ−（ＣＨ２）ｎ−［ＩＩ］
［式中、ｍは０〜５であり、
各ｎは、独立して、２〜６から選択され、
各Ｘは、独立して、Ｏ又はＳから選択される。］。
ＰＡ９． Ｒ６は、式ＩＩＩで表される二価の基である、実施形態ＰＡ６に記載のポリチオエーテルポリマー：
−（Ｃ２Ｈ４−Ｘ）ｍ−Ｃ２Ｈ４−［ＩＩＩ］
［式中、ｍは０〜５であり、
各Ｘは、独立して、Ｏ又はＳから選択される。］。
−（Ｃ２Ｈ４−Ｘ）ｍ−Ｃ２Ｈ４−［ＩＩＩ］
［式中、ｍは０〜５であり、
各Ｘは、独立して、Ｏ又はＳから選択される。］。
ＰＡ１０． ＸはＯである、実施形態ＰＡ８又はＰＡ９に記載のポリチオエーテルポリマー。
ＰＡ１１． ＸはＳである、実施形態ＰＡ８又はＰＡ９に記載のポリチオエーテルポリマー。
ＰＡ１２． ｍは１〜５である、実施形態ＰＡ８〜ＰＡ１１のいずれか一形態に記載のポリチオエーテルポリマー。
ＰＡ１３． ｍは１〜４である、実施形態ＰＡ８〜ＰＡ１１のいずれか一形態に記載のポリチオエーテルポリマー。
ＰＡ１４． ｍは１〜３である、実施形態ＰＡ８〜ＰＡ１１のいずれか一形態に記載のポリチオエーテルポリマー。
ＰＡ１５． ｍは２である、実施形態ＰＡ８〜ＰＡ１１のいずれか一形態に記載のポリチオエーテルポリマー。
ＰＡ１６． ｍは１である、実施形態ＰＡ８〜ＰＡ１１のいずれか一形態に記載のポリチオエーテルポリマー。
ＰＡ１７． Ｒ６は、式ＩＶで表される二価の基である、実施形態ＰＡ６に記載のポリチオエーテルポリマー：
−Ｃ２Ｈ４−Ｏ−Ｃ２Ｈ４−Ｏ−Ｃ２Ｈ４−［ＩＶ］。
−Ｃ２Ｈ４−Ｏ−Ｃ２Ｈ４−Ｏ−Ｃ２Ｈ４−［ＩＶ］。
ＰＡ１８． Ｒ６は、式Ｖで表される二価の基である、実施形態ＰＡ６に記載のポリチオエーテルポリマー：
−Ｃ２Ｈ４−Ｓ−Ｃ２Ｈ４−［Ｖ］。
−Ｃ２Ｈ４−Ｓ−Ｃ２Ｈ４−［Ｖ］。
ＰＡ１９． チオール末端ポリマーである、実施形態ＰＡ１〜ＰＡ１８のいずれか一形態に記載のポリチオエーテルポリマー。
ＰＡ２０． ビニル末端ポリマーである、実施形態ＰＡ１〜ＰＡ１８のいずれか一形態に記載のポリチオエーテルポリマー。
ＰＡ２１． 実施形態Ｍ１〜Ｍ１５のいずれか一形態に記載の化合物であるモノマーから誘導されたセグメントである安定化単位を含み、前述の安定化単位がポリマーの０．１重量％超を構成する、実施形態ＰＡ１〜ＰＡ２０のいずれか一形態に記載のポリチオエーテルポリマー。
ＰＡ２２． 前述の安定化単位がポリマーの０．６重量％超を構成する、実施形態ＰＡ２１に記載のポリチオエーテルポリマー。
ＰＡ２３． 前述の安定化単位がポリマーの１．１重量％超を構成する、実施形態ＰＡ２１に記載のポリチオエーテルポリマー。
ＰＡ２４． 前述の安定化単位がポリマーの３．１重量％超を構成する、実施形態ＰＡ２１に記載のポリチオエーテルポリマー。
ＰＡ２５． 前述の安定化単位がポリマーの４．５重量％超を構成する、実施形態ＰＡ２１に記載のポリチオエーテルポリマー。
ＰＡ２６． 前述の安定化単位がポリマーの６．１重量％超を構成する、実施形態ＰＡ２１に記載のポリチオエーテルポリマー。
ＰＡ２７． 実施形態Ｍ１〜Ｍ１５のいずれか一形態に記載の化合物であるモノマーから誘導されたセグメントである安定化単位を含み、前述の安定化単位がポリマーの３０重量％未満を構成する、実施形態ＰＡ１〜ＰＡ２４のいずれか一形態に記載のポリチオエーテルポリマー。
ＰＡ２８． 前述の安定化単位がポリマーの２４重量％未満を構成する、実施形態ＰＡ２７に記載のポリチオエーテルポリマー。
ＰＡ２９． 前述の安定化単位がポリマーの１５重量％未満を構成する、実施形態ＰＡ２７に記載のポリチオエーテルポリマー。
ＰＡ３０． 前述の安定化単位がポリマーの９．５重量％未満を構成する、実施形態ＰＡ２７に記載のポリチオエーテルポリマー。
ＰＡ３１． 前述の安定化単位がポリマーの８．５重量％未満を構成する、実施形態ＰＡ２７に記載のポリチオエーテルポリマー。
ＰＡ３２． 前述の安定化単位がポリマーの７．５重量％未満を構成する、実施形態ＰＡ２７に記載のポリチオエーテルポリマー。
ＰＡ３３． 前述の安定化単位がポリマーの６．５重量％未満を構成する、実施形態ＰＡ２７に記載のポリチオエーテルポリマー。
ＰＡ３４． 前述の安定化単位がポリマーの４．５重量％未満を構成する、実施形態ＰＡ２７に記載のポリチオエーテルポリマー。
ＰＡ３５． ポリエポキシドから誘導されたセグメントであるエポキシ単位を含み、前述のエポキシ単位がポリマーの０．１重量％超を構成する、実施形態ＰＡ１〜ＰＡ３２のいずれか一形態に記載のポリチオエーテルポリマー。
ＰＡ３６． 前述のエポキシ単位がポリマーの０．６重量％超を構成する、実施形態ＰＡ３５に記載のポリチオエーテルポリマー。
ＰＡ３７． 前述のエポキシ単位がポリマーの１．１重量％超を構成する、実施形態ＰＡ３５に記載のポリチオエーテルポリマー。
ＰＡ３８． 前述のエポキシ単位がポリマーの３．１重量％超を構成する、実施形態ＰＡ３５に記載のポリチオエーテルポリマー。
ＰＡ３９． ポリエポキシドから誘導されたセグメントであるエポキシ単位を含み、前述のエポキシ単位がポリマーの２０重量％未満を構成する、実施形態ＰＡ１〜ＰＡ３８のいずれか一形態に記載のポリチオエーテルポリマー。
ＰＡ４０． 前述のエポキシ単位がポリマーの９．５重量％未満を構成する、実施形態ＰＡ３９に記載のポリチオエーテルポリマー。
ＰＡ４１． 前述のエポキシ単位がポリマーの６重量％未満を構成する、実施形態ＰＡ３９に記載のポリチオエーテルポリマー。
ＰＡ４２． 他の反応種よりも１０１／９９超でモル過剰のポリチオールを含む反応混合物から誘導された、実施形態ＰＡ１〜ＰＡ４１のいずれか一形態に記載のポリチオエーテルポリマー。
ＰＡ４３． 他の反応種よりも１０２／９８超でモル過剰のポリチオールを含む反応混合物から誘導された、実施形態ＰＡ１〜ＰＡ４１のいずれか一形態に記載のポリチオエーテルポリマー。
ＰＡ４４． 他の反応種よりも１０３／９７超でモル過剰のポリチオールを含む反応混合物から誘導された、実施形態ＰＡ１〜ＰＡ４１のいずれか一形態に記載のポリチオエーテルポリマー。
ＰＡ４５． 他の反応種よりも１０４／９６超でモル過剰のポリチオールを含む反応混合物から誘導された、実施形態ＰＡ１〜ＰＡ４１のいずれか一形態に記載のポリチオエーテルポリマー。
ＰＢ１． 式ＸＩで表されるポリマー主鎖中に二価の基を含む、ポリチオエーテルポリマー：
−Ｓ−Ｒ１１−Ｓ−ＣＨ２−ＣＨＲ１２−ＣＨＲ１３−Ｓ−［ＸＩ］
［式中、Ｒ１１は、２〜１２個の炭素原子、０〜５個のエーテル酸素原子、及び０〜５個のチオエーテル硫黄原子を含む、直鎖、分岐鎖、又は環式であってよい二価の基から選択され；
Ｒ１２及びＲ１３は、独立して、−Ｈ、−ＣＨ３、又は−Ｃ２Ｈ５から選択され、但し、Ｒ１２及びＲ１３のうち少なくとも１つは−Ｈではない。］。
−Ｓ−Ｒ１１−Ｓ−ＣＨ２−ＣＨＲ１２−ＣＨＲ１３−Ｓ−［ＸＩ］
［式中、Ｒ１１は、２〜１２個の炭素原子、０〜５個のエーテル酸素原子、及び０〜５個のチオエーテル硫黄原子を含む、直鎖、分岐鎖、又は環式であってよい二価の基から選択され；
Ｒ１２及びＲ１３は、独立して、−Ｈ、−ＣＨ３、又は−Ｃ２Ｈ５から選択され、但し、Ｒ１２及びＲ１３のうち少なくとも１つは−Ｈではない。］。
ＰＢ２． 式ＸＩＩで表されるポリマー主鎖中に二価の基を含む、実施形態ＰＢ１に記載のポリチオエーテルポリマー：
−Ｃ（ＯＨ）（Ｒ１４）−ＣＨ２−Ｓ−Ｒ１１−Ｓ−ＣＨ２−ＣＨＲ１２−ＣＨＲ１３−Ｓ−［ＸＩＩ］
［式中、Ｒ１４は、−Ｈ又はＣ１〜４アルキルから選択され；
Ｒ１１、Ｒ１２及びＲ１３は、上記で定義された通りのものである。］。
−Ｃ（ＯＨ）（Ｒ１４）−ＣＨ２−Ｓ−Ｒ１１−Ｓ−ＣＨ２−ＣＨＲ１２−ＣＨＲ１３−Ｓ−［ＸＩＩ］
［式中、Ｒ１４は、−Ｈ又はＣ１〜４アルキルから選択され；
Ｒ１１、Ｒ１２及びＲ１３は、上記で定義された通りのものである。］。
ＰＢ３． Ｒ１４は−Ｈ又はＣＨ３から選択される、実施形態ＰＢ２に記載のポリチオエーテルポリマー。
ＰＢ４． Ｒ１４はＨである、実施形態ＰＢ２に記載のポリチオエーテルポリマー。
ＰＢ５． 式ＸＩＩＩで表されるポリマー主鎖中に二価の基を含む、実施形態ＰＢ１〜ＰＢ４のいずれか一形態に記載のポリチオエーテルポリマー：
−Ｓ−Ｒ１１−Ｓ−ＣＨ２−ＣＨＲ１２−ＣＨＲ１３−Ｓ−Ｒ１５−Ｓ−［ＸＩＩＩ］
［式中、Ｒ１５は、２〜１２個の炭素原子、０〜５個のエーテル酸素原子、及び０〜５個のチオエーテル硫黄原子を含む、直鎖、分岐鎖、又は環式であってよい二価の基から選択され；
Ｒ１１、Ｒ１２及びＲ１３は、上記で定義された通りのものである。］。
−Ｓ−Ｒ１１−Ｓ−ＣＨ２−ＣＨＲ１２−ＣＨＲ１３−Ｓ−Ｒ１５−Ｓ−［ＸＩＩＩ］
［式中、Ｒ１５は、２〜１２個の炭素原子、０〜５個のエーテル酸素原子、及び０〜５個のチオエーテル硫黄原子を含む、直鎖、分岐鎖、又は環式であってよい二価の基から選択され；
Ｒ１１、Ｒ１２及びＲ１３は、上記で定義された通りのものである。］。
ＰＢ６． Ｒ１５はＲ１１と同じ基である、実施形態ＰＢ５に記載のポリチオエーテルポリマー。
ＰＢ７． 式ＸＩＶで表されるポリマー主鎖中に二価の基を更に含む、実施形態ＰＢ１〜ＰＢ６のいずれか一形態に記載のポリチオエーテルポリマー：
−Ｓ−Ｒ１１−Ｓ−Ｃ（ＣＨ３）Ｒ１２−ＣＨＲ１３−Ｓ−［ＸＩＶ］
［式中、Ｒ１１、Ｒ１２及びＲ１３は、上記で定義された通りのものである。］。
−Ｓ−Ｒ１１−Ｓ−Ｃ（ＣＨ３）Ｒ１２−ＣＨＲ１３−Ｓ−［ＸＩＶ］
［式中、Ｒ１１、Ｒ１２及びＲ１３は、上記で定義された通りのものである。］。
ＰＢ８． Ｒ１２及びＲ１３は、独立して、−Ｈ又は−ＣＨ３から選択される、実施形態ＰＢ１〜ＰＢ７のいずれか一形態に記載のポリチオエーテルポリマー。
ＰＢ９． Ｒ１２は−ＣＨ３であり、Ｒ１３は−Ｈである、実施形態ＰＢ１〜ＰＢ７のいずれか一形態に記載のポリチオエーテルポリマー。
ＰＢ１０． Ｒ１２は−Ｈであり、Ｒ１３は−ＣＨ３である、実施形態ＰＢ１〜ＰＢ７のいずれか一形態に記載のポリチオエーテルポリマー。
ＰＢ１１． Ｒ１１は、式ＩＩで表される二価の基である、実施形態ＰＢ１〜ＰＢ１０のいずれか一形態に記載のポリチオエーテルポリマー：
−（（ＣＨ２）ｎ−Ｘ）ｍ−（ＣＨ２）ｎ−［ＩＩ］
［式中、ｍは０〜５であり、
各ｎは、独立して、２〜６から選択され、
各Ｘは、独立して、Ｏ又はＳから選択される。］。
−（（ＣＨ２）ｎ−Ｘ）ｍ−（ＣＨ２）ｎ−［ＩＩ］
［式中、ｍは０〜５であり、
各ｎは、独立して、２〜６から選択され、
各Ｘは、独立して、Ｏ又はＳから選択される。］。
ＰＢ１２． Ｒ１１は、式ＩＩＩで表される二価の基である、実施形態ＰＢ１〜ＰＢ１０のいずれか一形態に記載のポリチオエーテルポリマー：
−（Ｃ２Ｈ４−Ｘ）ｍ−Ｃ２Ｈ４− ［ＩＩＩ］
［式中、ｍは０〜５であり、
各Ｘは、独立して、Ｏ又はＳから選択される。］。
−（Ｃ２Ｈ４−Ｘ）ｍ−Ｃ２Ｈ４− ［ＩＩＩ］
［式中、ｍは０〜５であり、
各Ｘは、独立して、Ｏ又はＳから選択される。］。
ＰＢ１３． ＸはＯである、実施形態ＰＢ１１又はＰＢ１２に記載のポリチオエーテルポリマー。
ＰＢ１４． ＸはＳである、実施形態ＰＡ１１又はＰＢ１２に記載のポリチオエーテルポリマー。
ＰＢ１５． ｍは１〜５である、実施形態ＰＢ１１〜ＰＢ１４のいずれか一形態に記載のポリチオエーテルポリマー。
ＰＢ１６． ｍは１〜４である、実施形態ＰＢ１１〜ＰＢ１４のいずれか一形態に記載のポリチオエーテルポリマー。
ＰＢ１７． ｍは１〜３である、実施形態ＰＢ１１〜ＰＢ１４のいずれか一形態に記載のポリチオエーテルポリマー。
ＰＢ１８． ｍは２である、実施形態ＰＢ１１〜ＰＢ１４のいずれか一形態に記載のポリチオエーテルポリマー。
ＰＢ１９． ｍは１である、実施形態ＰＢ１１〜ＰＢ１４のいずれか一形態に記載のポリチオエーテルポリマー。
ＰＢ２０． Ｒ１１は、式ＩＶで表される二価の基である、実施形態ＰＢ１〜ＰＢ１０のいずれか一形態に記載のポリチオエーテルポリマー：
−Ｃ２Ｈ４−Ｏ−Ｃ２Ｈ４−Ｏ−Ｃ２Ｈ４−［ＩＶ］。
−Ｃ２Ｈ４−Ｏ−Ｃ２Ｈ４−Ｏ−Ｃ２Ｈ４−［ＩＶ］。
ＰＢ２１． Ｒ１１は、式Ｖで表される二価の基である、実施形態ＰＢ１〜ＰＢ１０のいずれか一形態に記載のポリチオエーテルポリマー：
−Ｃ２Ｈ４−Ｓ−Ｃ２Ｈ４−［Ｖ］。
−Ｃ２Ｈ４−Ｓ−Ｃ２Ｈ４−［Ｖ］。
ＰＢ２２． チオール末端ポリマーである、実施形態ＰＢ１〜ＰＢ２１のいずれか一形態に記載のポリチオエーテルポリマー。
ＰＢ２３． ビニル末端ポリマーである、実施形態ＰＢ１〜ＰＢ２１のいずれか一形態に記載のポリチオエーテルポリマー。
ＰＣ１． 式ＸＸＩで表されるポリマー主鎖中に二価の基を含む、ポリチオエーテルポリマー：
−Ｓ−Ｒ２１−Ｓ−ＣＨ（ＣＨ３）−ＣＨ２−Ｓ−［ＸＸＩ］
［式中、Ｒ２１は、２〜１２個の炭素原子、０〜５個のエーテル酸素原子、及び０〜５個のチオエーテル硫黄原子を含む、直鎖、分岐鎖、又は環式であってよい二価の基から選択される。］。
−Ｓ−Ｒ２１−Ｓ−ＣＨ（ＣＨ３）−ＣＨ２−Ｓ−［ＸＸＩ］
［式中、Ｒ２１は、２〜１２個の炭素原子、０〜５個のエーテル酸素原子、及び０〜５個のチオエーテル硫黄原子を含む、直鎖、分岐鎖、又は環式であってよい二価の基から選択される。］。
ＰＣ２． 式ＸＸＩＩで表されるポリマー主鎖中に二価の基を含む、実施形態ＰＣ１に記載のポリチオエーテルポリマー：
−Ｃ（ＯＨ）（Ｒ２２）−ＣＨ２−Ｓ−Ｒ２１−Ｓ−ＣＨ（ＣＨ３）−ＣＨ２−Ｓ−［ＸＸＩＩ］
［式中、Ｒ２２は、−Ｈ又はＣ１〜４アルキルから選択され；
Ｒ２１は、上記で定義された通りのものである。］。
−Ｃ（ＯＨ）（Ｒ２２）−ＣＨ２−Ｓ−Ｒ２１−Ｓ−ＣＨ（ＣＨ３）−ＣＨ２−Ｓ−［ＸＸＩＩ］
［式中、Ｒ２２は、−Ｈ又はＣ１〜４アルキルから選択され；
Ｒ２１は、上記で定義された通りのものである。］。
ＰＣ３． Ｒ２２は−Ｈ又はＣＨ３から選択される、実施形態ＰＣ２に記載のポリチオエーテルポリマー。
ＰＣ４． Ｒ２２は−Ｈである、実施形態ＰＣ２に記載のポリチオエーテルポリマー。
ＰＣ５． 式ＸＸＩＩＩで表されるポリマー主鎖中に二価の基を含む、実施形態ＰＣ１〜ＰＣ４のいずれか一形態に記載のポリチオエーテルポリマー：
−Ｓ−Ｒ２１−Ｓ−ＣＨ（ＣＨ３）−ＣＨ２−Ｓ−Ｒ２３−Ｓ−［ＸＸＩＩＩ］
［式中、Ｒ２３は、２〜１２個の炭素原子、０〜５個のエーテル酸素原子、及び０〜５個のチオエーテル硫黄原子を含む、直鎖、分岐鎖、又は環式であってよい二価の基から選択され；
Ｒ２１は、上記で定義された通りのものである。］。
−Ｓ−Ｒ２１−Ｓ−ＣＨ（ＣＨ３）−ＣＨ２−Ｓ−Ｒ２３−Ｓ−［ＸＸＩＩＩ］
［式中、Ｒ２３は、２〜１２個の炭素原子、０〜５個のエーテル酸素原子、及び０〜５個のチオエーテル硫黄原子を含む、直鎖、分岐鎖、又は環式であってよい二価の基から選択され；
Ｒ２１は、上記で定義された通りのものである。］。
ＰＣ６． Ｒ２３はＲ２１と同じ基である、実施形態ＰＣ５に記載のポリチオエーテルポリマー。
ＰＣ７． Ｒ２１は、式ＩＩで表される二価の基である、実施形態ＰＣ１〜ＰＣ６のいずれか一形態に記載のポリチオエーテルポリマー：
−（（ＣＨ２）ｎ−Ｘ）ｍ−（ＣＨ２）ｎ−［ＩＩ］
［式中、ｍは０〜５であり、
各ｎは、独立して、２〜６から選択され、
各Ｘは、独立して、Ｏ又はＳから選択される。］。
−（（ＣＨ２）ｎ−Ｘ）ｍ−（ＣＨ２）ｎ−［ＩＩ］
［式中、ｍは０〜５であり、
各ｎは、独立して、２〜６から選択され、
各Ｘは、独立して、Ｏ又はＳから選択される。］。
ＰＣ８． Ｒ２１は、式ＩＩＩで表される二価の基である、実施形態ＰＣ１〜ＰＣ６のいずれか一形態に記載のポリチオエーテルポリマー：
−（Ｃ２Ｈ４−Ｘ）ｍ−Ｃ２Ｈ４−［ＩＩＩ］
［式中、ｍは０〜５であり、
各Ｘは、独立して、Ｏ又はＳから選択される。］。
−（Ｃ２Ｈ４−Ｘ）ｍ−Ｃ２Ｈ４−［ＩＩＩ］
［式中、ｍは０〜５であり、
各Ｘは、独立して、Ｏ又はＳから選択される。］。
ＰＣ９． ＸはＯである、実施形態ＰＣ７又はＰＣ８に記載のポリチオエーテルポリマー。
ＰＣ１０． ＸはＳである、実施形態ＰＣ７又はＰＣ８に記載のポリチオエーテルポリマー。
ＰＣ１１． ｍは１〜５である、実施形態ＰＣ７〜ＰＣ１０のいずれか一形態に記載のポリチオエーテルポリマー。
ＰＣ１２． ｍは１〜４である、実施形態ＰＣ７〜ＰＣ１０のいずれか一形態に記載のポリチオエーテルポリマー。
ＰＣ１３． ｍは１〜３である、実施形態ＰＣ７〜ＰＣ１０のいずれか一形態に記載のポリチオエーテルポリマー。
ＰＣ１４． ｍは２である、実施形態ＰＣ７〜ＰＣ１０のいずれか一形態に記載のポリチオエーテルポリマー。
ＰＣ１５． ｍは１である、実施形態ＰＣ７〜ＰＣ１０のいずれか一形態に記載のポリチオエーテルポリマー。
ＰＣ１６． Ｒ２１は、式ＩＶで表される二価の基である、実施形態ＰＣ１〜ＰＣ６のいずれか一形態に記載のポリチオエーテルポリマー：
−Ｃ２Ｈ４−Ｏ−Ｃ２Ｈ４−Ｏ−Ｃ２Ｈ４−［ＩＶ］。
−Ｃ２Ｈ４−Ｏ−Ｃ２Ｈ４−Ｏ−Ｃ２Ｈ４−［ＩＶ］。
ＰＣ１７． Ｒ２１は、式Ｖで表される二価の基である、実施形態ＰＣ１〜ＰＣ６のいずれか一形態に記載のポリチオエーテルポリマー：
−Ｃ２Ｈ４−Ｓ−Ｃ２Ｈ４−［Ｖ］。
−Ｃ２Ｈ４−Ｓ−Ｃ２Ｈ４−［Ｖ］。
ＰＣ１８． チオール末端ポリマーである、実施形態ＰＣ１〜ＰＡ１７のいずれか一形態に記載のポリチオエーテルポリマー。
ＰＣ１９． ビニル末端ポリマーである、実施形態ＰＣ１〜ＰＣ１７のいずれか一形態に記載のポリチオエーテルポリマー。
Ｓ１．
ａ） 実施形態ＰＡ１〜ＰＡ４５、ＰＢ１〜ＰＢ２３、又はＰＣ１〜ＰＣ１９のいずれか一形態に記載のポリチオエーテルポリマー；及び
ｂ） 硬化剤
を含む、シーラント。
ａ） 実施形態ＰＡ１〜ＰＡ４５、ＰＢ１〜ＰＢ２３、又はＰＣ１〜ＰＣ１９のいずれか一形態に記載のポリチオエーテルポリマー；及び
ｂ） 硬化剤
を含む、シーラント。
Ｓ２． 硬化剤は架橋剤である、実施形態Ｓ１に記載のシーラント。
Ｓ３． 硬化剤はポリエポキシドを含む、実施形態Ｓ１に記載のシーラント。
Ｓ４． ポリチオエーテルポリマーはチオール末端ポリマーであり、硬化剤がポリエポキシドを含む、実施形態Ｓ１に記載のシーラント。
Ｓ５． 硬化剤は芳香族ポリエポキシドを含む、実施形態Ｓ１に記載のシーラント。
Ｓ６． ポリチオエーテルポリマーはチオール末端ポリマーであり、硬化剤は芳香族ポリエポキシドを含む、実施形態Ｓ１に記載のシーラント。
ＣＳ１． 実施形態Ｓ１〜Ｓ６のいずれか一形態に記載のシーラントを硬化させることにより得られる材料。
本開示の目的及び利点は、以下の実施例により更に例示されることとなるが、これらの実施例において記載されている具体的な材料及びその量、並びにその他条件及び詳細を、本開示を過度に制限するものとして解釈すべきでない。
実施例
別途記載のない限り、すべての試薬はＳｉｇｍａ−Ａｌｄｒｉｃｈ Ｃｏｍｐａｎｙ（Ｓｔ．Ｌｏｕｉｓ，Ｍｉｓｓｏｕｒｉ）から得たか又は入手可能であり、あるいは既知の手法により合成可能である。別途報告のない限り、すべての割合は重量％によるものである。
別途記載のない限り、すべての試薬はＳｉｇｍａ−Ａｌｄｒｉｃｈ Ｃｏｍｐａｎｙ（Ｓｔ．Ｌｏｕｉｓ，Ｍｉｓｓｏｕｒｉ）から得たか又は入手可能であり、あるいは既知の手法により合成可能である。別途報告のない限り、すべての割合は重量％によるものである。
実施例を説明するに当たり、以下の略記を使用する：
℃： セ氏温度
°Ｆ： カ氏温度
ｃｍ： センチメートル
Ｋｇ−ｌｃｍ： キログラム毎リニアセンチメートル（linearcentimeter）
ｋＰａ： キロパスカル
ＭＷ： 分子量
ｍＬ： ミリリットル
ｍｍ： ミリメートル
Ｐ−ｌｉ： ポンド毎リニアインチ（linearinch）
ｐｓｉ： ポンド毎平方インチ
Ｔｇ： ガラス転移温度
℃： セ氏温度
°Ｆ： カ氏温度
ｃｍ： センチメートル
Ｋｇ−ｌｃｍ： キログラム毎リニアセンチメートル（linearcentimeter）
ｋＰａ： キロパスカル
ＭＷ： 分子量
ｍＬ： ミリリットル
ｍｍ： ミリメートル
Ｐ−ｌｉ： ポンド毎リニアインチ（linearinch）
ｐｓｉ： ポンド毎平方インチ
Ｔｇ： ガラス転移温度
材料。
実施例に使用する材料についての略記は以下の通りである：
Ａ−１８７：商品名「ＳＩＬＱＵＥＳＴ Ａ１８７」で、Ｍｏｍｅｎｔｉｖｅ（Ｃｏｌｕｍｂｕｓ，Ｏｈｉｏ）から得た、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン。
ＡＣ−１６０：商品名「ＡＤＨＥＳＩＯＮ ＰＲＯＭＯＴＥＲ ＡＣ−１６０」で、３Ｍ Ｃｏｍｐａｎｙ（Ｓｔ，Ｐａｕｌ，Ｍｉｎｎｅｓｏｔａ）から得た、水性接着促進剤。
ＣＢ：３−クロロ−１−ブテン。
ＣＢ−Ｒ４１０：商品名「ＲＡＶＥＮ ４１０」で、Ｃｏｌｕｍｂｉａ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ（Ｍａｒｉｅｔｔａ，Ｇｅｏｒｇｉａ）から得た、カーボンブラック顔料。
ＣＭＰ：３−クロロ−２−メチル−１−プロペン。
ＤＡＢＣＯ：商品名「ＤＡＢＣＯ」で、Ａｉｒ Ｐｒｏｄｕｃｔｓ＆Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ，Ｉｎｃ．（Ａｌｌｅｎｔｏｗｎ，Ｐｅｎｎｓｙｌｖａｎｉａ）から得た、トリエチレンジアミン。
ＤＡＢＣＯ−３３ＬＶ：商品名「ＤＡＢＣＯ−３３ＬＶ」で、Ａｉｒ Ｐｒｏｄｕｃｔｓ＆Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ，Ｉｎｃ．から得た、３３％トリエチレンジアミン及び６７％ジプロピレングリコールの溶液。
ＤＭＤＯ：Ａｒｋｅｍａ，Ｉｎｃ．（Ｋｉｎｇ ｏｆ Ｐｒｕｓｓｉａ，Ｐｅｎｎｓｙｌｖａｎｉａ）から得た、１，８−ジメルカプト−３，６−ジオキサオクタン。
ＤＭＤＯ−ＡＣジエン：以下のモノマー例２に記載の通りに調製した安定化ジエン、４，１３−ジチア−７，１０−ジオキサ−ヘキサデシル−１，１５−ジエン。
ＤＭＤＯ−ＣＭＰジエン：以下のモノマー例１に記載の通りに調製した安定化ジエン、４，１３−ジチア−７，１０−ジオキサ−２，１５−ジメチルヘキサデシル−１，１５−ジエン。
ＤＭＤＳ：Ｎｉｓｓｏ／ＹＳＫ（Ｊａｐａｎ）から得た、ビス（２−メルカプトエチル）スルフィド。
ＤＭＤＳ−ＣＭＰジエン：以下のモノマー例３に記載の通りに調製した安定化ジエン、４，７，１０−トリチア−２，１２−ジメチルドデカ−１，１２−ジエン。
ＤＶＥ−３：商品名「ＲＡＰＩ−ＣＵＲＥ ＤＶＥ−３」でＡｓｈｌａｎｄ Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ Ｉｎｇｒｅｄｉｅｎｔｓ（Ｗｉｌｍｉｎｇｔｏｎ，Ｄｅｌａｗａｒｅ）から得た、トリエチレングリコールジビニルエーテル。
Ｅ−８２２０：商品名「ＥＰＡＬＬＯＹ ８２２０」でＥｍｅｒａｌｄ Ｐｅｒｆｏｒｍａｎｃｅ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ，ＬＬＣ（Ｃｕｙａｈｏｇａ Ｆａｌｌｓ，Ｏｈｉｏ）から得た、ビスフェノールＦのジグリシジルエーテル。
ＪＲＦ１：Ｃｈｅｖｒｏｎ−Ｐｈｉｌｌｉｐｓ（Ｔｈｅ Ｗｏｏｄｌａｎｄｓ，Ｔｅｘａｓ）から得られた、ＳＡＥ Ｓｔａｎｄａｒｄ ＡＭＳ２６２９により定義される通りのＪｅｔ Ｒｅｆｅｒｅｎｃｅ Ｆｌｕｉｄ Ｔｙｐｅ １組成物。
ＮＣＣ：商品名「ＳＯＣＡＬ ３２２」でＳｏｌｖａｙ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ，Ｉｎｃ．（Ｈｏｕｓｔｏｎ，Ｔｅｘａｓ）から得た、炭酸カルシウムナノ粒子。
ＰＳＢ：商品名「Ｐｏｌｃａｒｂ ＳＢ」でＩｍｅｒｙｓ Ｐｅｒｆｏｒｍａｎｃｅ＆Ｆｉｌｔｒａｔｉｏｎ Ｍｉｎｅｒａｌｓ（Ｃｏｒｎｗａｌｌ，Ｕ．Ｋ．）から得た、炭酸カルシウム。
Ｒ−２０２：商品名「ＡＥＲＯＳＩＬ Ｒ２０２」でＥｖｏｎｉｋ Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅｓ，ＡＧ（Ｅｓｓｅｎ，Ｇｅｒｍａｎｙ）から得た、表面改質したフュームドシリカ。
タルク：商品名「ＴＡＬＣＲＯＮ ＭＰ１０−５２」でＳｐｅｃｉａｌｔｙ Ｍｉｎｅｒａｌｓ（Ｂｅｔｈｌｅｈｅｍ，Ｐｅｎｎｓｙｌｖａｎｉａ）から得た、タルク。
ＴＣ−３００：商品名「ＴＨＩＸＯＣＡＲＢ ３００」でＳｐｅｃｉａｌｔｙ Ｍｉｎｅｒａｌｓから得た、沈降炭酸カルシウム。
ＴＭＰ−ＴＧＥ：商品名「ＥＲＩＳＹＳ ＧＥ−３０」でＥｍｅｒａｌｄ Ｐｅｒｆｏｒｍａｎｃｅ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ Ｃｏｍｐａｎｙから得た、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル。
ＴＰ−Ｒ９００：商品名「ＴＩＰＵＲＥ Ｒ９００」でＥ．Ｉ．ｄｕ ＤｕＰｏｎｔ ｄｅ Ｎｅｍｏｕｒｓ ａｎｄ Ｃｏｍｐａｎｙ（Ｗｉｌｍｉｎｇｔｏｎ，Ｄｅｌａｗａｒｅ）から得た、二酸化チタン。
ＴＶＣＨ：ＢＡＳＦ Ｃｏｒｐ．（Ｆｌｏｒｈａｍ Ｐａｒｋ，Ｎｅｗ Ｊｅｒｓｅｙ）から得た１，２，４−トリビニルシクロヘキサン。
ＵＬＴＲＡ−ＰＦＬＥＸ：Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ Ｍｉｎｅｒａｌｓから「ＵＬＴＲＡ−ＰＦＬＥＸ」として得た沈降炭酸カルシウム。
ＶＡＺＯ ５２：Ｅ．Ｉ．ｄｕ ＤｕＰｏｎｔ ｄｅ Ｎｅｍｏｕｒｓ ａｎｄ Ｃｏｍｐａｎｙから商品名「ＶＡＺＯ ５２」で得た２，２’−アゾビス（２，４−ジメチル−ペンタンニトリル）。
ＶＡＺＯ ６７：Ｅ．Ｉ．ｄｕ ＤｕＰｏｎｔ ｄｅ Ｎｅｍｏｕｒｓ ａｎｄ Ｃｏｍｐａｎｙから商品名「ＶＡＺＯ ６７」で得た２，２’アゾビス−（２−メチルブチロニトリル）。
実施例に使用する材料についての略記は以下の通りである：
Ａ−１８７：商品名「ＳＩＬＱＵＥＳＴ Ａ１８７」で、Ｍｏｍｅｎｔｉｖｅ（Ｃｏｌｕｍｂｕｓ，Ｏｈｉｏ）から得た、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン。
ＡＣ−１６０：商品名「ＡＤＨＥＳＩＯＮ ＰＲＯＭＯＴＥＲ ＡＣ−１６０」で、３Ｍ Ｃｏｍｐａｎｙ（Ｓｔ，Ｐａｕｌ，Ｍｉｎｎｅｓｏｔａ）から得た、水性接着促進剤。
ＣＢ：３−クロロ−１−ブテン。
ＣＢ−Ｒ４１０：商品名「ＲＡＶＥＮ ４１０」で、Ｃｏｌｕｍｂｉａ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ（Ｍａｒｉｅｔｔａ，Ｇｅｏｒｇｉａ）から得た、カーボンブラック顔料。
ＣＭＰ：３−クロロ−２−メチル−１−プロペン。
ＤＡＢＣＯ：商品名「ＤＡＢＣＯ」で、Ａｉｒ Ｐｒｏｄｕｃｔｓ＆Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ，Ｉｎｃ．（Ａｌｌｅｎｔｏｗｎ，Ｐｅｎｎｓｙｌｖａｎｉａ）から得た、トリエチレンジアミン。
ＤＡＢＣＯ−３３ＬＶ：商品名「ＤＡＢＣＯ−３３ＬＶ」で、Ａｉｒ Ｐｒｏｄｕｃｔｓ＆Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ，Ｉｎｃ．から得た、３３％トリエチレンジアミン及び６７％ジプロピレングリコールの溶液。
ＤＭＤＯ：Ａｒｋｅｍａ，Ｉｎｃ．（Ｋｉｎｇ ｏｆ Ｐｒｕｓｓｉａ，Ｐｅｎｎｓｙｌｖａｎｉａ）から得た、１，８−ジメルカプト−３，６−ジオキサオクタン。
ＤＭＤＯ−ＡＣジエン：以下のモノマー例２に記載の通りに調製した安定化ジエン、４，１３−ジチア−７，１０−ジオキサ−ヘキサデシル−１，１５−ジエン。
ＤＭＤＯ−ＣＭＰジエン：以下のモノマー例１に記載の通りに調製した安定化ジエン、４，１３−ジチア−７，１０−ジオキサ−２，１５−ジメチルヘキサデシル−１，１５−ジエン。
ＤＭＤＳ：Ｎｉｓｓｏ／ＹＳＫ（Ｊａｐａｎ）から得た、ビス（２−メルカプトエチル）スルフィド。
ＤＭＤＳ−ＣＭＰジエン：以下のモノマー例３に記載の通りに調製した安定化ジエン、４，７，１０−トリチア−２，１２−ジメチルドデカ−１，１２−ジエン。
ＤＶＥ−３：商品名「ＲＡＰＩ−ＣＵＲＥ ＤＶＥ−３」でＡｓｈｌａｎｄ Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ Ｉｎｇｒｅｄｉｅｎｔｓ（Ｗｉｌｍｉｎｇｔｏｎ，Ｄｅｌａｗａｒｅ）から得た、トリエチレングリコールジビニルエーテル。
Ｅ−８２２０：商品名「ＥＰＡＬＬＯＹ ８２２０」でＥｍｅｒａｌｄ Ｐｅｒｆｏｒｍａｎｃｅ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ，ＬＬＣ（Ｃｕｙａｈｏｇａ Ｆａｌｌｓ，Ｏｈｉｏ）から得た、ビスフェノールＦのジグリシジルエーテル。
ＪＲＦ１：Ｃｈｅｖｒｏｎ−Ｐｈｉｌｌｉｐｓ（Ｔｈｅ Ｗｏｏｄｌａｎｄｓ，Ｔｅｘａｓ）から得られた、ＳＡＥ Ｓｔａｎｄａｒｄ ＡＭＳ２６２９により定義される通りのＪｅｔ Ｒｅｆｅｒｅｎｃｅ Ｆｌｕｉｄ Ｔｙｐｅ １組成物。
ＮＣＣ：商品名「ＳＯＣＡＬ ３２２」でＳｏｌｖａｙ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ，Ｉｎｃ．（Ｈｏｕｓｔｏｎ，Ｔｅｘａｓ）から得た、炭酸カルシウムナノ粒子。
ＰＳＢ：商品名「Ｐｏｌｃａｒｂ ＳＢ」でＩｍｅｒｙｓ Ｐｅｒｆｏｒｍａｎｃｅ＆Ｆｉｌｔｒａｔｉｏｎ Ｍｉｎｅｒａｌｓ（Ｃｏｒｎｗａｌｌ，Ｕ．Ｋ．）から得た、炭酸カルシウム。
Ｒ−２０２：商品名「ＡＥＲＯＳＩＬ Ｒ２０２」でＥｖｏｎｉｋ Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅｓ，ＡＧ（Ｅｓｓｅｎ，Ｇｅｒｍａｎｙ）から得た、表面改質したフュームドシリカ。
タルク：商品名「ＴＡＬＣＲＯＮ ＭＰ１０−５２」でＳｐｅｃｉａｌｔｙ Ｍｉｎｅｒａｌｓ（Ｂｅｔｈｌｅｈｅｍ，Ｐｅｎｎｓｙｌｖａｎｉａ）から得た、タルク。
ＴＣ−３００：商品名「ＴＨＩＸＯＣＡＲＢ ３００」でＳｐｅｃｉａｌｔｙ Ｍｉｎｅｒａｌｓから得た、沈降炭酸カルシウム。
ＴＭＰ−ＴＧＥ：商品名「ＥＲＩＳＹＳ ＧＥ−３０」でＥｍｅｒａｌｄ Ｐｅｒｆｏｒｍａｎｃｅ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ Ｃｏｍｐａｎｙから得た、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル。
ＴＰ−Ｒ９００：商品名「ＴＩＰＵＲＥ Ｒ９００」でＥ．Ｉ．ｄｕ ＤｕＰｏｎｔ ｄｅ Ｎｅｍｏｕｒｓ ａｎｄ Ｃｏｍｐａｎｙ（Ｗｉｌｍｉｎｇｔｏｎ，Ｄｅｌａｗａｒｅ）から得た、二酸化チタン。
ＴＶＣＨ：ＢＡＳＦ Ｃｏｒｐ．（Ｆｌｏｒｈａｍ Ｐａｒｋ，Ｎｅｗ Ｊｅｒｓｅｙ）から得た１，２，４−トリビニルシクロヘキサン。
ＵＬＴＲＡ−ＰＦＬＥＸ：Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ Ｍｉｎｅｒａｌｓから「ＵＬＴＲＡ−ＰＦＬＥＸ」として得た沈降炭酸カルシウム。
ＶＡＺＯ ５２：Ｅ．Ｉ．ｄｕ ＤｕＰｏｎｔ ｄｅ Ｎｅｍｏｕｒｓ ａｎｄ Ｃｏｍｐａｎｙから商品名「ＶＡＺＯ ５２」で得た２，２’−アゾビス（２，４−ジメチル−ペンタンニトリル）。
ＶＡＺＯ ６７：Ｅ．Ｉ．ｄｕ ＤｕＰｏｎｔ ｄｅ Ｎｅｍｏｕｒｓ ａｎｄ Ｃｏｍｐａｎｙから商品名「ＶＡＺＯ ６７」で得た２，２’アゾビス−（２−メチルブチロニトリル）。
モノマー例
本開示のモノマー例を以下に記載の通りに調製した。但し、例４のみは仮想例である。
本開示のモノマー例を以下に記載の通りに調製した。但し、例４のみは仮想例である。
モノマー例１
４，１３−ジチア−７，１０−ジオキサ−２，１５−ジメチルヘキサデシル−１，１５−ジエン（ＤＭＤＯ−ＣＭＰジエン）の合成
撹拌子、温度計、水冷凝縮器、及び等圧滴下漏斗を取り付けた５００ｍＬの四ツ口丸底フラスコに、２０６．５４ｇの２０％水酸化ナトリウム（１．０３３ｍｏｌｅ）水溶液を入れた。このフラスコに、撹拌しながら９４．０８ｇ（０．５１ｍｏｌｅ）のＤＭＤＯを滴下したあと、混合物を約２１℃に放冷させた。激しく撹拌しながら９６．４ｇ（１．０６５ｍｏｌｅ）のＣＭＰを滴下し、更に２時間撹拌を継続した。次に、混合物を２１℃で約１６時間保持したあと、１５０ｇの透明な層をデカントした。ＮＭＲ分析により、透明な層がＣＭＰジエンであることを確認した。
４，１３−ジチア−７，１０−ジオキサ−２，１５−ジメチルヘキサデシル−１，１５−ジエン（ＤＭＤＯ−ＣＭＰジエン）の合成
撹拌子、温度計、水冷凝縮器、及び等圧滴下漏斗を取り付けた５００ｍＬの四ツ口丸底フラスコに、２０６．５４ｇの２０％水酸化ナトリウム（１．０３３ｍｏｌｅ）水溶液を入れた。このフラスコに、撹拌しながら９４．０８ｇ（０．５１ｍｏｌｅ）のＤＭＤＯを滴下したあと、混合物を約２１℃に放冷させた。激しく撹拌しながら９６．４ｇ（１．０６５ｍｏｌｅ）のＣＭＰを滴下し、更に２時間撹拌を継続した。次に、混合物を２１℃で約１６時間保持したあと、１５０ｇの透明な層をデカントした。ＮＭＲ分析により、透明な層がＣＭＰジエンであることを確認した。
モノマー例２
４，１３−ジチア−７，１０−ジオキサ−ヘキサデシル−１，１５−ジエン（ＤＭＤＯ−ＡＣジエン）の合成
撹拌子、水冷凝縮器、等圧漏斗、温度計、及び窒素導入管を取り付けた２５０ｍＬの丸底フラスコに、１１４．４ｇの２０％水酸化ナトリウム（０．５７ｍｏｌｅ）水溶液を入れた。フラスコに窒素を吹き込んだあと、撹拌しながら、５２．１ｇのＤＭＤＯ（０．２９ｍｏｌｅ）を滴下し、混合物を約２１℃に放冷した。撹拌しながら、このフラスコに４５．１ｇの塩化アリル（０．５７ｍｏｌｅ）をゆっくりと加え、撹拌を数時間継続した。次に、混合物を数時間静置した。上層を除去し、ロータリーエバポレーターで約７０℃で１０分間溶媒を蒸発させた。約６５ｇの材料を得た。
４，１３−ジチア−７，１０−ジオキサ−ヘキサデシル−１，１５−ジエン（ＤＭＤＯ−ＡＣジエン）の合成
撹拌子、水冷凝縮器、等圧漏斗、温度計、及び窒素導入管を取り付けた２５０ｍＬの丸底フラスコに、１１４．４ｇの２０％水酸化ナトリウム（０．５７ｍｏｌｅ）水溶液を入れた。フラスコに窒素を吹き込んだあと、撹拌しながら、５２．１ｇのＤＭＤＯ（０．２９ｍｏｌｅ）を滴下し、混合物を約２１℃に放冷した。撹拌しながら、このフラスコに４５．１ｇの塩化アリル（０．５７ｍｏｌｅ）をゆっくりと加え、撹拌を数時間継続した。次に、混合物を数時間静置した。上層を除去し、ロータリーエバポレーターで約７０℃で１０分間溶媒を蒸発させた。約６５ｇの材料を得た。
モノマー例３
４，７，１０−トリチア−２，１２−ジメチルドデカ−１，１２−ジエン（ＤＭＤＳ−ＣＭＰジエン）の合成
撹拌子、温度計、水冷凝縮器、及び等圧滴下漏斗を取り付けた５００ｍＬの四ツ口丸底フラスコに、２０６．５４ｇの２０％水酸化ナトリウム水溶液（１．０３３ｍｏｌｅ）を入れた。このフラスコに、撹拌しながら７８．７ｇ（０．５１ｍｏｌｅ）のＤＭＤＳを滴下したあと、混合物を約２１℃に放冷させた。激しく撹拌しながら９６．４ｇ（１．０６５ｍｏｌｅ）のＣＭＰを滴下し、更に２時間撹拌を継続した。次に、混合物を２１℃で約１６時間保持したあと、１４０ｇの透明な層をデカントした。
４，７，１０−トリチア−２，１２−ジメチルドデカ−１，１２−ジエン（ＤＭＤＳ−ＣＭＰジエン）の合成
撹拌子、温度計、水冷凝縮器、及び等圧滴下漏斗を取り付けた５００ｍＬの四ツ口丸底フラスコに、２０６．５４ｇの２０％水酸化ナトリウム水溶液（１．０３３ｍｏｌｅ）を入れた。このフラスコに、撹拌しながら７８．７ｇ（０．５１ｍｏｌｅ）のＤＭＤＳを滴下したあと、混合物を約２１℃に放冷させた。激しく撹拌しながら９６．４ｇ（１．０６５ｍｏｌｅ）のＣＭＰを滴下し、更に２時間撹拌を継続した。次に、混合物を２１℃で約１６時間保持したあと、１４０ｇの透明な層をデカントした。
モノマー例４（仮想例）
４，１３−ジチア−７，１０−ジオキサ−３，１４−ジメチルヘキサデシル−１，１５−ジエン（ＤＭＤＯ−ＣＢジエン）の合成
撹拌子、温度計、水冷凝縮器、及び等圧滴下漏斗を取り付けた５００ｍＬの四ツ口丸底フラスコに、２０６．５４ｇの２０％水酸化ナトリウム水溶液（１．０３３ｍｏｌｅ）を入れる。このフラスコに、撹拌しながら９４．０８ｇ（０．５１ｍｏｌｅ）のＤＭＤＯを滴下したあと、混合物を約２１℃に放冷させる。激しく撹拌しながら９６．４ｇ（１．０６５ｍｏｌｅ）のＣＢを滴下し、更に３時間撹拌を継続する。次に、混合物を２１℃で約２４時間保持したあと、生成物の透明な層をデカントする。
４，１３−ジチア−７，１０−ジオキサ−３，１４−ジメチルヘキサデシル−１，１５−ジエン（ＤＭＤＯ−ＣＢジエン）の合成
撹拌子、温度計、水冷凝縮器、及び等圧滴下漏斗を取り付けた５００ｍＬの四ツ口丸底フラスコに、２０６．５４ｇの２０％水酸化ナトリウム水溶液（１．０３３ｍｏｌｅ）を入れる。このフラスコに、撹拌しながら９４．０８ｇ（０．５１ｍｏｌｅ）のＤＭＤＯを滴下したあと、混合物を約２１℃に放冷させる。激しく撹拌しながら９６．４ｇ（１．０６５ｍｏｌｅ）のＣＢを滴下し、更に３時間撹拌を継続する。次に、混合物を２１℃で約２４時間保持したあと、生成物の透明な層をデカントする。
ポリチオエーテル例
本開示のポリチオエーテル例を以下の通りに調製した。
本開示のポリチオエーテル例を以下の通りに調製した。
ポリチオエーテル例１
エア駆動式撹拌子、温度計、及び滴下漏斗を取り付けた１００ｍＬの丸底フラスコに、３９．６４ｇ（０．２２ｍｏｌｅ）のＤＭＤＯ及び４．１０ｇ（０．０１２５ｍｏｌｅ）のＥ−８２２０を入れた。この混合物に０．０２ｇのＤＡＢＣＯを加えた。系に窒素を吹き込んだあと、混合し、６０〜７０℃で１．５時間加熱した。８．８９ｇ（．０３４ｍｏｌｅ）のＤＭＤＯ−ＣＭＰジエンと、続いて約０．０１ｇのＶＡＺＯ ５２とを加えた。撹拌を継続しながら、混合物を６０℃で約１．５時間維持した。０．８３ｇ（０．００５ｍｏｌｅ）のＴＶＣＨを加え、温度を更に１．５時間維持した。３１．８０ｇ（０．１５７ｍｏｌｅ）のＤＶＥ−３を、温度を約７０℃に維持して、４５〜６０分かけてゆっくりとフラスコに加えた。合計約０．４ｇの追加のＶＡＺＯ ５２を、約１６時間かけて約０．０１ｇずつ添加した。温度を１００℃に上昇させ、材料を約１０分間脱気した。得られたポリチオエーテルは約３２００ＭＷであり、２．２官能性であった。
エア駆動式撹拌子、温度計、及び滴下漏斗を取り付けた１００ｍＬの丸底フラスコに、３９．６４ｇ（０．２２ｍｏｌｅ）のＤＭＤＯ及び４．１０ｇ（０．０１２５ｍｏｌｅ）のＥ−８２２０を入れた。この混合物に０．０２ｇのＤＡＢＣＯを加えた。系に窒素を吹き込んだあと、混合し、６０〜７０℃で１．５時間加熱した。８．８９ｇ（．０３４ｍｏｌｅ）のＤＭＤＯ−ＣＭＰジエンと、続いて約０．０１ｇのＶＡＺＯ ５２とを加えた。撹拌を継続しながら、混合物を６０℃で約１．５時間維持した。０．８３ｇ（０．００５ｍｏｌｅ）のＴＶＣＨを加え、温度を更に１．５時間維持した。３１．８０ｇ（０．１５７ｍｏｌｅ）のＤＶＥ−３を、温度を約７０℃に維持して、４５〜６０分かけてゆっくりとフラスコに加えた。合計約０．４ｇの追加のＶＡＺＯ ５２を、約１６時間かけて約０．０１ｇずつ添加した。温度を１００℃に上昇させ、材料を約１０分間脱気した。得られたポリチオエーテルは約３２００ＭＷであり、２．２官能性であった。
ポリチオエーテル例２
エア駆動式撹拌子、温度計、及び滴下漏斗を取り付けた２５０ｍＬの丸底フラスコに、９９．４８ｇ（０．５５ｍｏｌｅ）のＤＭＤＯ及び１０．２４ｇ（０．０３ｍｏｌｅ）のＥ−８２２０を入れた。この混合物に０．０４ｇのＤＡＢＣＯを加えた。系に窒素を吹き込んだあと、混合し、６０〜７０℃で１．５時間加熱した。３．６６ｇ（．０１２５ｍｏｌｅ）のＤＭＤＯ−ＡＣジエンと、続いて約０．０３ｇのＶＡＺＯ ５２とを加えた。撹拌を継続しながら、混合物を６０℃で約１．５時間維持した。２．００ｇ（０．０１２ｍｏｌｅ）のＴＶＣＨを加え、温度を更に１．５時間維持した。７９．４２ｇ（０．３９ｍｏｌｅ）のＤＶＥ−３を、温度を約７０℃に維持して、４５〜６０分かけてゆっくりとフラスコに加えた。合計約０．６ｇの追加のＶＡＺＯ ５２を、約１６時間かけて約０．０３ｇずつ添加した。温度を１００℃に上昇させ、材料を約１０分間脱気した。得られたポリチオエーテルは約３２００ＭＷであり、２．２官能性であった。
エア駆動式撹拌子、温度計、及び滴下漏斗を取り付けた２５０ｍＬの丸底フラスコに、９９．４８ｇ（０．５５ｍｏｌｅ）のＤＭＤＯ及び１０．２４ｇ（０．０３ｍｏｌｅ）のＥ−８２２０を入れた。この混合物に０．０４ｇのＤＡＢＣＯを加えた。系に窒素を吹き込んだあと、混合し、６０〜７０℃で１．５時間加熱した。３．６６ｇ（．０１２５ｍｏｌｅ）のＤＭＤＯ−ＡＣジエンと、続いて約０．０３ｇのＶＡＺＯ ５２とを加えた。撹拌を継続しながら、混合物を６０℃で約１．５時間維持した。２．００ｇ（０．０１２ｍｏｌｅ）のＴＶＣＨを加え、温度を更に１．５時間維持した。７９．４２ｇ（０．３９ｍｏｌｅ）のＤＶＥ−３を、温度を約７０℃に維持して、４５〜６０分かけてゆっくりとフラスコに加えた。合計約０．６ｇの追加のＶＡＺＯ ５２を、約１６時間かけて約０．０３ｇずつ添加した。温度を１００℃に上昇させ、材料を約１０分間脱気した。得られたポリチオエーテルは約３２００ＭＷであり、２．２官能性であった。
ポリチオエーテル比較例Ａ
比較用のポリチオエーテルは、ＤＭＤＯ−ＣＭＰジエンを含めず、及びＥ−８２２０及びＤＶＥ−３をそれぞれ４．１６ｇ（０．０１３ｍｏｌｅ）及び３４．９１ｇ（０．１７３ｍｏｌｅ）に増量して、ポリチオエーテル例１に記載の基本手順の通りに調製した。
比較用のポリチオエーテルは、ＤＭＤＯ−ＣＭＰジエンを含めず、及びＥ−８２２０及びＤＶＥ−３をそれぞれ４．１６ｇ（０．０１３ｍｏｌｅ）及び３４．９１ｇ（０．１７３ｍｏｌｅ）に増量して、ポリチオエーテル例１に記載の基本手順の通りに調製した。
ポリチオエーテル例３
エア駆動式撹拌子、温度計、及び滴下漏斗を取り付けた１００ｍＬの丸底フラスコに、３６．６８ｇ（０．２０ｍｏｌｅ）のＤＭＤＯ及び４．１７ｇ（０．０１２７ｍｏｌｅ）のＥ−８２２０を入れた。この混合物に０．０２ｇのＤＡＢＣＯを加えた。系に窒素を吹き込んだあと、混合し、６０〜７０℃で１．５時間加熱した。２３．９２ｇ（０．０８２ｍｏｌｅ）のＤＭＤＯ−ＣＭＰジエンと、続いて約０．０１ｇのＶＡＺＯ ５２とを加えた。撹拌を継続しながら、追加の０．１３ｇのＶＡＺＯ ５２を加え、混合物を６０℃で更に４．５時間維持した。次に、０．８１ｇのＴＶＣＨ（０．００５ｍｏｌｅ）と、追加の０．０２ｇのＶＡＺＯ ５２とを共に加え、６０℃で更に１．５時間維持した。次に、１４．４４ｇ（０．０７ｍｏｌｅ）のＤＶＥ−３を、温度を約７０℃に維持して、１５分かけてフラスコに滴下した。合計約０．４ｇの追加のＶＡＺＯ ５２を、約１６時間かけて約０．０１ｇずつ添加した。温度を１００℃に上昇させ、材料を約１０分間脱気した。得られたポリチオエーテルは約３２００ＭＷであり、２．２官能性であった。
エア駆動式撹拌子、温度計、及び滴下漏斗を取り付けた１００ｍＬの丸底フラスコに、３６．６８ｇ（０．２０ｍｏｌｅ）のＤＭＤＯ及び４．１７ｇ（０．０１２７ｍｏｌｅ）のＥ−８２２０を入れた。この混合物に０．０２ｇのＤＡＢＣＯを加えた。系に窒素を吹き込んだあと、混合し、６０〜７０℃で１．５時間加熱した。２３．９２ｇ（０．０８２ｍｏｌｅ）のＤＭＤＯ−ＣＭＰジエンと、続いて約０．０１ｇのＶＡＺＯ ５２とを加えた。撹拌を継続しながら、追加の０．１３ｇのＶＡＺＯ ５２を加え、混合物を６０℃で更に４．５時間維持した。次に、０．８１ｇのＴＶＣＨ（０．００５ｍｏｌｅ）と、追加の０．０２ｇのＶＡＺＯ ５２とを共に加え、６０℃で更に１．５時間維持した。次に、１４．４４ｇ（０．０７ｍｏｌｅ）のＤＶＥ−３を、温度を約７０℃に維持して、１５分かけてフラスコに滴下した。合計約０．４ｇの追加のＶＡＺＯ ５２を、約１６時間かけて約０．０１ｇずつ添加した。温度を１００℃に上昇させ、材料を約１０分間脱気した。得られたポリチオエーテルは約３２００ＭＷであり、２．２官能性であった。
ポリチオエーテル例４
エア駆動式撹拌子、温度計、及び滴下漏斗を取り付けた１００ｍＬの丸底フラスコに、３９．７８ｇ（０．２１６ｍｏｌｅ）のＤＭＤＯ及び４．１５ｇ（０．０１３ｍｏｌｅ）のＥ−８２２０を入れた。この混合物に０．０２ｇのＤＡＢＣＯを加えた。系に窒素を吹き込んだあと、混合し、６０〜７０℃で１．５時間加熱した。３．２８ｇ（０．０１２ｍｏｌｅ）のＤＭＤＳ−ＣＭＰジエンと、続いて約０．０１ｇのＶＡＺＯ ５２とを加えた。撹拌を継続しながら、０．８１ｇ（０．００５ｍｏｌｅ）のＴＶＣＨ及び追加の０．１３ｇのＶＡＺＯ ５２を加えたあと、混合物を６０℃に加熱し、この温度で更に１．５時間保持した。次に、３１．９８ｇ（０．１５８ｍｏｌｅ）のＤＶＥ−３を、温度を約７０℃に維持しながら、４５〜６０分かけてフラスコに滴下した。合計約０．４ｇの追加のＶＡＺＯ ５２を、約１６時間かけて約０．０１ｇずつ添加した。温度を１００℃に上昇させ、材料を約１０分間脱気した。得られたポリチオエーテルは約３２００ＭＷであり、２．２官能性であった。
エア駆動式撹拌子、温度計、及び滴下漏斗を取り付けた１００ｍＬの丸底フラスコに、３９．７８ｇ（０．２１６ｍｏｌｅ）のＤＭＤＯ及び４．１５ｇ（０．０１３ｍｏｌｅ）のＥ−８２２０を入れた。この混合物に０．０２ｇのＤＡＢＣＯを加えた。系に窒素を吹き込んだあと、混合し、６０〜７０℃で１．５時間加熱した。３．２８ｇ（０．０１２ｍｏｌｅ）のＤＭＤＳ−ＣＭＰジエンと、続いて約０．０１ｇのＶＡＺＯ ５２とを加えた。撹拌を継続しながら、０．８１ｇ（０．００５ｍｏｌｅ）のＴＶＣＨ及び追加の０．１３ｇのＶＡＺＯ ５２を加えたあと、混合物を６０℃に加熱し、この温度で更に１．５時間保持した。次に、３１．９８ｇ（０．１５８ｍｏｌｅ）のＤＶＥ−３を、温度を約７０℃に維持しながら、４５〜６０分かけてフラスコに滴下した。合計約０．４ｇの追加のＶＡＺＯ ５２を、約１６時間かけて約０．０１ｇずつ添加した。温度を１００℃に上昇させ、材料を約１０分間脱気した。得られたポリチオエーテルは約３２００ＭＷであり、２．２官能性であった。
ポリチオエーテル例５
ＤＭＤＳ−ＣＭＰジエンの量を倍の６．５６ｇ（０．０２５ｍｏｌｅ）に増量し、ＤＭＤＯ及びＤＶＥ−３の量をそれぞれ３９．４２ｇ及び２９．０６ｇにして、ポリチオエーテル例４の合成に関し概要を記した手順を繰り返した。得られたポリチオエーテルは約３２００ＭＷであり、２．２官能性であった。
ＤＭＤＳ−ＣＭＰジエンの量を倍の６．５６ｇ（０．０２５ｍｏｌｅ）に増量し、ＤＭＤＯ及びＤＶＥ−３の量をそれぞれ３９．４２ｇ及び２９．０６ｇにして、ポリチオエーテル例４の合成に関し概要を記した手順を繰り返した。得られたポリチオエーテルは約３２００ＭＷであり、２．２官能性であった。
ポリチオエーテル例６
エポキシ及びアミンを含めず、ポリチオエーテル例１に概要を記した手順によってポリチオエーテルを調製した。ＤＭＤＯ−ＣＭＰジエンの量は４．６重量％とした。
エポキシ及びアミンを含めず、ポリチオエーテル例１に概要を記した手順によってポリチオエーテルを調製した。ＤＭＤＯ−ＣＭＰジエンの量は４．６重量％とした。
ポリチオエーテル例７
エポキシ及びアミンを含めず、ポリチオエーテル例２に概要を記した一般手順によってポリチオエーテルを調製した。ＤＭＤＯ−ＡＣジエンの量は４．１重量％とした。
エポキシ及びアミンを含めず、ポリチオエーテル例２に概要を記した一般手順によってポリチオエーテルを調製した。ＤＭＤＯ−ＡＣジエンの量は４．１重量％とした。
ポリチオエーテル例８
本開示の末端がオレフィンのポリチオエーテル例を以下の通りに調製した。エア駆動式撹拌子、温度計、及び滴下漏斗を取り付けた１００ｍＬの丸底フラスコに、１７１．９３ｇ（０．９４ｍｏｌｅ）のＤＭＤＯ及び２０．５２ｇ（０．０６ｍｏｌｅ）のＥ−８２２０を入れた。この混合物に０．１０ｇのＤＡＢＣＯを加えた。系に窒素を吹き込んだあと、混合し、６０〜７０℃で１．５時間加熱した。１８．１５ｇ（０．６ｍｏｌｅ）のＤＭＤＯ−ＣＭＰジエンと、続いて約０．１０ｇのＶＡＺＯ ５２とを加えた。撹拌を継続しながら、４．０９ｇ（０．０２５ｍｏｌｅ）のＴＶＣＨを加え、混合物を６０℃で更に１．５時間維持した。次に、１８５．５４ｇのＤＶＥ−３（０．０．９２ｍｏｌｅ）を、温度を約７０℃に維持しながら、４５〜６０分かけてフラスコに滴下した。合計約０．６ｇの追加のＶＡＺＯ ５２を、約１６時間かけて約０．１ｇずつ添加した。温度を１００℃に上昇させ、材料を約１０分間脱気した。得られたポリチオエーテルは約３２００ＭＷであり、２．２官能性であった。
本開示の末端がオレフィンのポリチオエーテル例を以下の通りに調製した。エア駆動式撹拌子、温度計、及び滴下漏斗を取り付けた１００ｍＬの丸底フラスコに、１７１．９３ｇ（０．９４ｍｏｌｅ）のＤＭＤＯ及び２０．５２ｇ（０．０６ｍｏｌｅ）のＥ−８２２０を入れた。この混合物に０．１０ｇのＤＡＢＣＯを加えた。系に窒素を吹き込んだあと、混合し、６０〜７０℃で１．５時間加熱した。１８．１５ｇ（０．６ｍｏｌｅ）のＤＭＤＯ−ＣＭＰジエンと、続いて約０．１０ｇのＶＡＺＯ ５２とを加えた。撹拌を継続しながら、４．０９ｇ（０．０２５ｍｏｌｅ）のＴＶＣＨを加え、混合物を６０℃で更に１．５時間維持した。次に、１８５．５４ｇのＤＶＥ−３（０．０．９２ｍｏｌｅ）を、温度を約７０℃に維持しながら、４５〜６０分かけてフラスコに滴下した。合計約０．６ｇの追加のＶＡＺＯ ５２を、約１６時間かけて約０．１ｇずつ添加した。温度を１００℃に上昇させ、材料を約１０分間脱気した。得られたポリチオエーテルは約３２００ＭＷであり、２．２官能性であった。
ポリチオエーテル例９
本開示のポリチオエーテルは、ＤＭＤＯ−ＣＭＰジエンの量を４．６重量％から９．１重量％に増量し、ＤＶＥ−３を４４．０重量％から４０．１０重量％に減量して、ポリチオエーテル例６に記載の基本手順によって調製した。
本開示のポリチオエーテルは、ＤＭＤＯ−ＣＭＰジエンの量を４．６重量％から９．１重量％に増量し、ＤＶＥ−３を４４．０重量％から４０．１０重量％に減量して、ポリチオエーテル例６に記載の基本手順によって調製した。
ポリチオエーテル例１０
本開示のポリチオエーテルは、ポリチオエーテル例２の量を４．１重量％から９．１重量％に増量し、ＤＶＥ−３を４４．２重量％から３９．８重量％に減量して、ポリチオエーテル例７に記載の基本手順によって調製した。
本開示のポリチオエーテルは、ポリチオエーテル例２の量を４．１重量％から９．１重量％に増量し、ＤＶＥ−３を４４．２重量％から３９．８重量％に減量して、ポリチオエーテル例７に記載の基本手順によって調製した。
結晶化評価
選択したポリチオエーテル実施例及び比較例の小型ガラスバイアルを４０°Ｆ（４．４℃）に温度制御した室内に配置し、固体の形成について一週間モニターした。ポリチオエーテル結晶化度を、バイアル内に形成された固体形成の体積として主観的に５％単位で記録した。結果を表１に掲載する。
選択したポリチオエーテル実施例及び比較例の小型ガラスバイアルを４０°Ｆ（４．４℃）に温度制御した室内に配置し、固体の形成について一週間モニターした。ポリチオエーテル結晶化度を、バイアル内に形成された固体形成の体積として主観的に５％単位で記録した。結果を表１に掲載する。
シーラント例
シーラント例１
本開示の充填（filled）ポリチオエーテルを以下の通りに調製した。３６ｇのポリチオエーテル例１を２４ｇのＰＳＢと混合し、０．３６ｇのＤＡＢＣＯ ３３ＬＶを触媒として、重量比８０：２０のＥ−８２２０及びＴＭＰ−ＴＧＥのブレンドで硬化した。２１℃で１６時間の硬化後、サンプルを、１４０°Ｆ（６０℃）に設定した炉に移し、２時間かけて硬化を確実に完了させた。
シーラント例１
本開示の充填（filled）ポリチオエーテルを以下の通りに調製した。３６ｇのポリチオエーテル例１を２４ｇのＰＳＢと混合し、０．３６ｇのＤＡＢＣＯ ３３ＬＶを触媒として、重量比８０：２０のＥ−８２２０及びＴＭＰ−ＴＧＥのブレンドで硬化した。２１℃で１６時間の硬化後、サンプルを、１４０°Ｆ（６０℃）に設定した炉に移し、２時間かけて硬化を確実に完了させた。
シーラント例２
ポリマー例１を同量のポリマー例２で置き換え、ポリチオエーテル例６に概要を記したプロセスによって、本開示の充填ポリチオエーテルを調製し、硬化させた。
ポリマー例１を同量のポリマー例２で置き換え、ポリチオエーテル例６に概要を記したプロセスによって、本開示の充填ポリチオエーテルを調製し、硬化させた。
シーラント比較例Ｂ
ポリチオエーテル例１を同量の比較ポリマーＡで置き換え、ポリマー例６に概要を記した手順によって、比較用の充填ポリチオエーテルを調製し、硬化させた。
ポリチオエーテル例１を同量の比較ポリマーＡで置き換え、ポリマー例６に概要を記した手順によって、比較用の充填ポリチオエーテルを調製し、硬化させた。
硬化充填したポリチオエーテル例６と７及びポリチオエーテル比較例Ｂを、ＳＡＥ Ｓｔａｎｄａｒｄ ＡＭＳ２６２９に定義される通りのＪｅｔ Ｒｅｆｅｒｅｎｃｅ Ｆｌｕｉｄ Ｔｙｐｅ １（ＪＲＦ１）に６０℃で７日間浸漬したあと、試料の膨張率（％）及び重量増加率（％）を決定した。ジェット燃料耐性についてのデータ及び物理特性を表２に掲載する。
シーラント例３〜５
本開示のシーラントの更なる例を以下の通りに調製した。ベース組成物及び触媒組成物を、手作業で２１℃で混合することによって調製した。構成成分の量及び順序（sequences）を表３Ａ及び３Ｂに掲載する。
本開示のシーラントの更なる例を以下の通りに調製した。ベース組成物及び触媒組成物を、手作業で２１℃で混合することによって調製した。構成成分の量及び順序（sequences）を表３Ａ及び３Ｂに掲載する。
シーラント例３
１００重量部のシーラントベースＳＢ−１と、１１．２重量部の触媒Ｃ−１とを、２１℃にて均質になるまで混合した。混合物を２１℃で約１６時間硬化させたあと、１４０°Ｆ（６０℃）に設定した炉で２時間保持した。
１００重量部のシーラントベースＳＢ−１と、１１．２重量部の触媒Ｃ−１とを、２１℃にて均質になるまで混合した。混合物を２１℃で約１６時間硬化させたあと、１４０°Ｆ（６０℃）に設定した炉で２時間保持した。
シーラント例４
１００重量部のシーラントベースＳＢ−１と、１１．２重量部の触媒Ｃ−１とを、２１℃にて均質になるまで混合した。混合物を２１℃で約１６時間硬化させたあと、１４０°Ｆ（６０℃）に設定した炉で２時間、その後４２０°Ｆ（２１５．６℃）で更に２時間保持した。
１００重量部のシーラントベースＳＢ−１と、１１．２重量部の触媒Ｃ−１とを、２１℃にて均質になるまで混合した。混合物を２１℃で約１６時間硬化させたあと、１４０°Ｆ（６０℃）に設定した炉で２時間、その後４２０°Ｆ（２１５．６℃）で更に２時間保持した。
シーラント例５
１００重量部のシーラントベースＳＢ−２と、１０．０重量部の触媒Ｃ−２とを、２１℃にて均質になるまで混合した。混合物を２１℃で約１６時間硬化させたあと、１４０°Ｆ（６０℃）に設定した炉で２時間保持した。
１００重量部のシーラントベースＳＢ−２と、１０．０重量部の触媒Ｃ−２とを、２１℃にて均質になるまで混合した。混合物を２１℃で約１６時間硬化させたあと、１４０°Ｆ（６０℃）に設定した炉で２時間保持した。
シーラント例３に関し、硬化材料の試料を、Ｊｅｔ Ｒｅｆｅｒｅｎｃｅ Ｆｌｕｉｄ Ｔｙｐｅ １（ＪＲＦ１）に６０℃で７日間浸漬したあと、試料の膨張率％及び重量増加率％を決定した。ＪＲＦ１組成物は、ＳＡＥ Ｓｔａｎｄａｒｄ ＡＭＳ２６２９によって定義される。膨張は、ＪＲＦ１では１７．６％であると決定されたのに対し、脱イオン水では１３．７％であると決定された。
３Ｍ社から得られた接着促進剤ＡＣ−１６０を使用する（シーラント例３と４）、及び接着促進剤を使用しない（シーラント例５）、シーラント例３〜５は、プライマーＡＭＳ−Ｃ−２７７２５でコートしたアルミニウムパネルに対し、良好な接着性を示した。引張強さ測定値を表４に掲載する。
本開示の範囲及び原理から逸脱しない、本開示の様々な変更及び改変が当業者には明らかであろうし、本開示は、上記の例示的な実施形態に過度に制限を受けないことを理解されたい。
Claims (25)
- 式Ｉで表される化合物。
ＣＨ２＝ＣＲ１−ＣＨＲ２−Ｓ−Ｒ３−Ｓ−ＣＨＲ４−ＣＲ５＝ＣＨ２ ［Ｉ］
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ４、及びＲ５は、独立して、−Ｈ、−ＣＨ３、又は−Ｃ２Ｈ５から選択され、Ｒ３は、２〜１２個の炭素原子、０〜５個のエーテル酸素原子、及び０〜５個のチオエーテル硫黄原子を含む、直鎖、分岐鎖、又は環式であってよい二価の基から選択される。］ - Ｒ１及びＲ５が同じであり、かつ−Ｈ及び−ＣＨ３から選択され、Ｒ２及びＲ４が同じであり、かつ−Ｈ及び−ＣＨ３から選択される、請求項１に記載の化合物。
- Ｒ１及びＲ５が−ＣＨ３であり、Ｒ２及びＲ４が−Ｈである、請求項１に記載の化合物。
- Ｒ３が式ＩＩで表される二価の基である、請求項１〜３のいずれか一項に記載の化合物。
−（（ＣＨ２）ｎ−Ｘ）ｍ−（ＣＨ２）ｎ−［ＩＩ］
［式中、ｍは０〜５であり、各ｎは、独立して、２〜６から選択され、各Ｘは、独立して、Ｏ又はＳから選択される。］ - 請求項１〜４のいずれか一項に記載の１種以上の化合物と、１種以上のポリチオールと、のコポリマーである、ポリチオエーテルポリマー。
- 請求項１〜４のいずれか一項に記載の１種以上の化合物と、１種以上のポリチオール及び１種以上のポリエポキシドと、のコポリマーである、ポリチオエーテルポリマー。
- 前記ポリチオールが式ＶＩで表されるジチオールである、請求項５又は６に記載のポリチオエーテルポリマー。
ＨＳ−Ｒ６−ＳＨ［ＶＩ］
［式中、Ｒ６は、２〜１２個の炭素原子、０〜５個のエーテル酸素原子、及び０〜５個のチオエーテル硫黄原子を含む、直鎖、分岐鎖、又は環式であってよい二価の基から選択される。］ - Ｒ６がＲ３と同じ基である、請求項７に記載のポリチオエーテルポリマー。
- Ｒ６が式ＩＩで表される二価の基である、請求項７又は８に記載のポリチオエーテルポリマー。
−（（ＣＨ２）ｎ−Ｘ）ｍ−（ＣＨ２）ｎ−［ＩＩ］
［式中、ｍは０〜５であり、各ｎは、独立して、２〜６から選択され、各Ｘは、独立して、Ｏ又はＳから選択される。］ - チオール末端ポリマーである、請求項５〜９のいずれか一項に記載のポリチオエーテルポリマー。
- 請求項１〜４のいずれか一項に記載の化合物であるモノマーから誘導されたセグメントである安定化単位を含み、前記安定化単位が前記ポリマーの１．１重量％超かつ前記ポリマーの２４重量％未満を構成する、請求項５〜１０のいずれか一項に記載のポリチオエーテルポリマー。
- ポリエポキシドから誘導されたセグメントであるエポキシ単位を含み、前記エポキシ単位が前記ポリマーの１．１重量％超かつ前記ポリマーの２０重量％未満を構成する、請求項５〜１１のいずれか一項に記載のポリチオエーテルポリマー。
- 他の反応種よりも１０１／９９超でモル過剰のポリチオールを含む反応混合物から誘導された、請求項５〜１２のいずれか一項に記載のポリチオエーテルポリマー。
- 式ＸＩで表される二価の基をポリマー主鎖中に含む、ポリチオエーテルポリマー。
−Ｓ−Ｒ１１−Ｓ−ＣＨ２−ＣＨＲ１２−ＣＨＲ１３−Ｓ−［ＸＩ］
［式中、Ｒ１１は、２〜１２個の炭素原子、０〜５個のエーテル酸素原子、及び０〜５個のチオエーテル硫黄原子を含む、直鎖、分岐鎖、又は環式であってよい二価の基から選択され、Ｒ１２及びＲ１３は、独立して、−Ｈ、−ＣＨ３、又は−Ｃ２Ｈ５から選択され、Ｒ１２及びＲ１３のうち少なくとも１つは−Ｈではない。］ - 式ＸＩＩで表される二価の基をポリマー主鎖中に含む、請求項１４に記載のポリチオエーテルポリマー。
−Ｃ（ＯＨ）（Ｒ１４）−ＣＨ２−Ｓ−Ｒ１１−Ｓ−ＣＨ２−ＣＨＲ１２−ＣＨＲ１３−Ｓ−［ＸＩＩ］
［式中、Ｒ１４は、−Ｈ又はＣ１〜４アルキルから選択され、Ｒ１１、Ｒ１２及びＲ１３は、上記で定義された通りである。］ - 式ＸＩＩＩで表される二価の基をポリマー主鎖中に含む、請求項１４又は１５に記載のポリチオエーテルポリマー。
−Ｓ−Ｒ１１−Ｓ−ＣＨ２−ＣＨＲ１２−ＣＨＲ１３−Ｓ−Ｒ１５−Ｓ−［ＸＩＩＩ］
［式中、Ｒ１５は、２〜１２個の炭素原子、０〜５個のエーテル酸素原子、及び０〜５個のチオエーテル硫黄原子を含む、直鎖、分岐鎖、又は環式であってよい二価の基から選択され、Ｒ１１、Ｒ１２及びＲ１３は、上記で定義された通りである。］ - Ｒ１５がＲ１１と同じ基である、請求項１６に記載のポリチオエーテルポリマー。
- Ｒ１２が−ＣＨ３であり、Ｒ１３が−Ｈである、請求項１４〜１７のいずれか一項に記載のポリチオエーテルポリマー。
- Ｒ１１が式ＩＩで表される二価の基である、請求項１４〜１８のいずれか一項に記載のポリチオエーテルポリマー。
−（（ＣＨ２）ｎ−Ｘ）ｍ−（ＣＨ２）ｎ−［ＩＩ］
［式中、ｍは０〜５であり、各ｎは、独立して、２〜６から選択され、各Ｘは、独立して、Ｏ又はＳから選択される。］ - チオール末端ポリマーである、請求項１４〜１９のいずれか一項に記載のポリチオエーテルポリマー。
- 式ＸＸＩで表される二価の基をポリマー主鎖中に含む、ポリチオエーテルポリマー。
−Ｓ−Ｒ２１−Ｓ−ＣＨ（ＣＨ３）−ＣＨ２−Ｓ−［ＸＸＩ］
［式中、Ｒ２１は、２〜１２個の炭素原子、０〜５個のエーテル酸素原子、及び０〜５個のチオエーテル硫黄原子を含む、直鎖、分岐鎖、又は環式であってよい二価の基から選択される。］ - 式ＸＸＩＩＩで表される二価の基をポリマー主鎖中に含む、請求項２１に記載のポリチオエーテルポリマー。
−Ｓ−Ｒ２１−Ｓ−ＣＨ（ＣＨ３）−ＣＨ２−Ｓ−Ｒ２３−Ｓ−［ＸＸＩＩＩ］
［式中、Ｒ２３はＲ２１と同じ基である。］ - ａ）請求項５〜２２のいずれか一項に記載のポリチオエーテルポリマー、及び
ｂ）硬化剤
を含む、シーラント。 - 前記硬化剤がポリエポキシドを含む、請求項２３に記載のシーラント。
- 請求項２３又は２４に記載のシーラントを硬化させることにより得られる材料。
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US201562116019P | 2015-02-13 | 2015-02-13 | |
| US62/116,019 | 2015-02-13 | ||
| JP2017542145A JP6715853B2 (ja) | 2015-02-13 | 2016-02-10 | 耐寒性シーラント及びその構成成分 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2017542145A Division JP6715853B2 (ja) | 2015-02-13 | 2016-02-10 | 耐寒性シーラント及びその構成成分 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2020158778A true JP2020158778A (ja) | 2020-10-01 |
| JP6972238B2 JP6972238B2 (ja) | 2021-11-24 |
Family
ID=55587328
Family Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2017542145A Active JP6715853B2 (ja) | 2015-02-13 | 2016-02-10 | 耐寒性シーラント及びその構成成分 |
| JP2020100997A Active JP6972238B2 (ja) | 2015-02-13 | 2020-06-10 | 耐寒性シーラント及びその構成成分 |
Family Applications Before (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2017542145A Active JP6715853B2 (ja) | 2015-02-13 | 2016-02-10 | 耐寒性シーラント及びその構成成分 |
Country Status (8)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US10287466B2 (ja) |
| EP (1) | EP3256512B1 (ja) |
| JP (2) | JP6715853B2 (ja) |
| KR (1) | KR20170116114A (ja) |
| CN (1) | CN107207426B (ja) |
| BR (1) | BR112017017414A2 (ja) |
| CA (1) | CA2976436A1 (ja) |
| WO (1) | WO2016130673A1 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2022065159A1 (ja) | 2020-09-23 | 2022-03-31 | サトーホールディングス株式会社 | Ｒｆｉｄラベル及びｒｆｉｄラベルの使用方法 |
Families Citing this family (20)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP3347406B1 (en) | 2015-09-10 | 2019-07-03 | 3M Innovative Properties Company | Polymerizable compositions, polymerized compositions, and methods of making and using the same |
| JP6875519B2 (ja) * | 2016-11-04 | 2021-05-26 | ピーアールシー−デソト インターナショナル，インコーポレイティド | 硫黄含有ポリ（アルケニル）エーテル、硫黄含有ポリエーテル（アルケニル）エーテルを包含するプレポリマー及びその使用 |
| US11584823B2 (en) | 2016-12-13 | 2023-02-21 | 3M Innovative Properties Company | Epoxy stabilization using substituted barbituric acids |
| EP3555169A1 (en) | 2016-12-13 | 2019-10-23 | 3M Innovative Properties Company | Epoxy stabilization using acid-coated nitrogen-containing catalysts, particles, and methods |
| WO2018112130A1 (en) | 2016-12-14 | 2018-06-21 | 3M Innovative Properties Company | Sealant tape |
| EP3688068B1 (en) | 2017-09-26 | 2022-06-01 | 3M Innovative Properties Company | Curable sealant compositions, seal cap, and methods of making and using the same |
| US11396583B2 (en) | 2017-12-07 | 2022-07-26 | Nouryon Chemicals International B.V. | Process for the preparation of a polythioethersulfide |
| WO2019123260A2 (en) | 2017-12-19 | 2019-06-27 | 3M Innovative Properties Company | Multi-part composition having staged viscosity prior to hardening |
| US20210017432A1 (en) | 2018-03-16 | 2021-01-21 | 3M Innovative Properties Company | Compositions, method of bonding, and bonded assembly |
| US20210024793A1 (en) | 2018-03-16 | 2021-01-28 | 3M Innovative Properties Company | Compositions, method of bonding, and assembly |
| CN112262014A (zh) | 2018-06-15 | 2021-01-22 | 3M创新有限公司 | 组件和制备垫片的方法 |
| CN112714775A (zh) | 2018-09-25 | 2021-04-27 | 3M创新有限公司 | 可热固化的单件型组合物 |
| US20210317258A1 (en) | 2018-09-25 | 2021-10-14 | 3M Innovative Properties Company | Polymeric material including uretdione-containing material, polythiol, and acidic stabilizer, two-part compositions, and methods |
| WO2020095153A1 (en) | 2018-11-09 | 2020-05-14 | 3M Innovative Properties Company | Curable sealant compositions, seal cap, and methods of making and using the same |
| JP2022544023A (ja) | 2019-07-25 | 2022-10-17 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | アセンブリにシムを入れる方法 |
| US20220372290A1 (en) | 2019-11-15 | 2022-11-24 | 3M Innovative Properties Company | Curable compositions and methods of making and using the same |
| US20220396658A1 (en) | 2019-12-19 | 2022-12-15 | 3M Innovative Properties Company | Two-Part Compositions Including a Uretdione-Containing Material and Inorganic Filler, Products, and Methods |
| CN113913150B (zh) * | 2021-11-18 | 2023-03-14 | 中国航发北京航空材料研究院 | 用于飞机钣金件的贴合面密封剂 |
| WO2023180880A1 (en) | 2022-03-21 | 2023-09-28 | 3M Innovative Properties Company | Curable composition, coated abrasive article containing the same, and methods of making and using the same |
| WO2023180877A1 (en) | 2022-03-21 | 2023-09-28 | 3M Innovative Properties Company | Curable composition, treated backing, coated abrasive articles including the same, and methods of making and using the same |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000509758A (ja) * | 1997-02-19 | 2000-08-02 | コートールズ エアロスペース，インコーポレイティド | 優れた低温柔軟性を有する耐燃料油性液状ポリチオエーテルポリマーを製造するための組成物及び方法 |
| JP2004502826A (ja) * | 2000-06-30 | 2004-01-29 | ピーアールシー−ディゾート インターナショナル インコーポレイテッド | ポリチオールとポリビニルエーテルモノマーとの反応によって調製されるメルカプト末端ポリマーを含むシーラント及び注封配合物 |
| JP2006526693A (ja) * | 2003-06-05 | 2006-11-24 | ピーアールシー−ディーイー ソト インターナショナル， インコーポレイテッド | 低温液体のポリチオエーテルポリマー |
| JP2007520439A (ja) * | 2003-07-11 | 2007-07-26 | ピーアールシー−ディーイー ソト インターナショナル， インコーポレイテッド | エポキシキャップ化ポリチオエーテル |
| WO2016106352A1 (en) * | 2014-12-23 | 2016-06-30 | 3M Innovative Properties Company | Dual cure polythioether |
Family Cites Families (32)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2664414A (en) | 1952-03-08 | 1953-12-29 | Shell Dev | Monomers and polymers of unsaturated thioethers |
| GB1276362A (en) | 1968-05-21 | 1972-06-01 | Aquitaine Petrole | Synthesis of halogenated thioethers |
| CH628074A5 (de) | 1977-03-10 | 1982-02-15 | Ciba Geigy Ag | Haertbare mischungen auf basis von epoxidverbindungen. |
| US4366307A (en) | 1980-12-04 | 1982-12-28 | Products Research & Chemical Corp. | Liquid polythioethers |
| US4609762A (en) | 1984-01-30 | 1986-09-02 | Products Research & Chemical Corp. | Thioethers having a high sulfur content and method therefor |
| JPH0477576A (ja) * | 1990-07-13 | 1992-03-11 | Tatsuta Electric Wire & Cable Co Ltd | 圧電ブザー及びその電極形成用塗料 |
| US5415794A (en) * | 1990-12-28 | 1995-05-16 | Institut Francais Du Petrole | New sulfured compounds, their preparation and their use as additives for lubricating oils |
| FR2671080B1 (fr) * | 1990-12-28 | 1994-05-27 | Inst Francais Du Petrole | Nouveaux composes sulfures, leur preparation et leur utilisation comme additifs pour huile lubrifiantes. |
| US5225472A (en) | 1992-05-19 | 1993-07-06 | Courtaulds Aerospace, Inc. | Low viscosity polythiol and method therefor |
| EP0594133B1 (en) | 1992-10-22 | 1998-05-06 | Ajinomoto Co., Inc. | Polythiol epoxy resin composition with extended working life |
| US5464910A (en) | 1993-12-22 | 1995-11-07 | Shikoku Chemicals Corporation | Epoxy resin adduct combined with a borate ester and phenolic compound |
| US5593795A (en) | 1995-05-01 | 1997-01-14 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Polymer electrolyte composition based upon thiol-ene chemistry |
| US6372849B2 (en) | 1997-02-19 | 2002-04-16 | Prc-Desoto International, Inc. | Sealants and potting formulations including polymers produced by the reaction of a polythiol and polyvinyl ether monomer |
| US5912319A (en) | 1997-02-19 | 1999-06-15 | Courtaulds Aerospace, Inc. | Compositions and method for producing fuel resistant liquid polythioether polymers with good low temperature flexibility |
| US6509418B1 (en) | 1997-02-19 | 2003-01-21 | Prc-Desoto International, Inc. | Sealants and potting formulations including mercapto-terminated polymers produced by the reaction of a polythiol and polyvinyl ether monomer |
| US5959071A (en) | 1998-03-31 | 1999-09-28 | Courtaulds Aerospace, Inc. | Composition and method for producing polythioethers having pendent methyl chains |
| AU4710400A (en) | 1999-05-10 | 2000-11-21 | 3M Innovative Properties Company | Compositions for making ene-thiol elastomers |
| DE60111370T2 (de) | 2000-03-09 | 2005-11-10 | Advanced Chemistry and Technology, Inc., Garden Grove | Hochfeste polymere und raumfahrtversiegelungen daraus |
| US7622548B2 (en) | 2003-07-11 | 2009-11-24 | Prc Desoto International, Inc. | Epoxy- or amine/hydroxy-capped polythioethers |
| JP4569129B2 (ja) | 2004-03-04 | 2010-10-27 | 三菱化学株式会社 | リチウム二次電池用非水系電解液及びそれを用いたリチウム二次電池 |
| US7390859B2 (en) | 2005-02-08 | 2008-06-24 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Compositions and methods of making compositions exhibiting fuel resistance |
| US8349951B2 (en) | 2005-05-31 | 2013-01-08 | Prc Desoto International, Inc. | Polythioether polymers and curable compositions containing them |
| US20070096396A1 (en) | 2005-10-27 | 2007-05-03 | Sawant Suresh G | Dimercaptan terminated polythioether polymers and methods for making and using the same |
| WO2007131155A2 (en) | 2006-05-05 | 2007-11-15 | Prc-Desoto International, Inc. | : sealant and electrical potting formulations comprising thioether-functional oligometric polythiols |
| US8889731B2 (en) | 2007-03-28 | 2014-11-18 | Contech Enterprises Inc. | Compounds, compositions and methods for repelling blood-feeding arthropods and deterring their landing and feeding |
| US7879955B2 (en) | 2007-05-01 | 2011-02-01 | Rao Chandra B | Compositions including a polythioether |
| US7875666B2 (en) | 2008-04-24 | 2011-01-25 | Prc-De Soto International, Inc. | Thioethers, methods for their preparation, and compositions including such thioethers |
| KR101089540B1 (ko) | 2008-11-07 | 2011-12-05 | 요코하마 고무 가부시키가이샤 | 1액형 열경화성 에폭시 수지 조성물 |
| TWI586749B (zh) | 2010-11-19 | 2017-06-11 | 漢高日本股份有限公司 | 單組分環氧樹脂組成物 |
| CN103282401A (zh) | 2011-01-05 | 2013-09-04 | 纳美仕有限公司 | 树脂组合物 |
| US9056949B2 (en) * | 2013-06-21 | 2015-06-16 | Prc-Desoto International, Inc. | Michael addition curing chemistries for sulfur-containing polymer compositions employing bis(sulfonyl)alkanols |
| US9062139B2 (en) * | 2013-03-15 | 2015-06-23 | Prc-Desoto International, Inc. | Sulfone-containing polythioethers, compositions thereof, and methods of synthesis |
-
2016
- 2016-02-10 BR BR112017017414-6A patent/BR112017017414A2/pt not_active Application Discontinuation
- 2016-02-10 JP JP2017542145A patent/JP6715853B2/ja active Active
- 2016-02-10 WO PCT/US2016/017347 patent/WO2016130673A1/en active Application Filing
- 2016-02-10 EP EP16711038.6A patent/EP3256512B1/en active Active
- 2016-02-10 CA CA2976436A patent/CA2976436A1/en not_active Abandoned
- 2016-02-10 US US15/545,849 patent/US10287466B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2016-02-10 CN CN201680009517.4A patent/CN107207426B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2016-02-10 KR KR1020177025323A patent/KR20170116114A/ko unknown
-
2019
- 2019-05-01 US US16/400,092 patent/US10544339B2/en active Active
-
2020
- 2020-06-10 JP JP2020100997A patent/JP6972238B2/ja active Active
Patent Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000509758A (ja) * | 1997-02-19 | 2000-08-02 | コートールズ エアロスペース，インコーポレイティド | 優れた低温柔軟性を有する耐燃料油性液状ポリチオエーテルポリマーを製造するための組成物及び方法 |
| JP2004502826A (ja) * | 2000-06-30 | 2004-01-29 | ピーアールシー−ディゾート インターナショナル インコーポレイテッド | ポリチオールとポリビニルエーテルモノマーとの反応によって調製されるメルカプト末端ポリマーを含むシーラント及び注封配合物 |
| JP2006526693A (ja) * | 2003-06-05 | 2006-11-24 | ピーアールシー−ディーイー ソト インターナショナル， インコーポレイテッド | 低温液体のポリチオエーテルポリマー |
| JP2007520439A (ja) * | 2003-07-11 | 2007-07-26 | ピーアールシー−ディーイー ソト インターナショナル， インコーポレイテッド | エポキシキャップ化ポリチオエーテル |
| WO2016106352A1 (en) * | 2014-12-23 | 2016-06-30 | 3M Innovative Properties Company | Dual cure polythioether |
| JP2018501356A (ja) * | 2014-12-23 | 2018-01-18 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | ２系統硬化のポリチオエーテル |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2022065159A1 (ja) | 2020-09-23 | 2022-03-31 | サトーホールディングス株式会社 | Ｒｆｉｄラベル及びｒｆｉｄラベルの使用方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2018506543A (ja) | 2018-03-08 |
| CN107207426A (zh) | 2017-09-26 |
| CA2976436A1 (en) | 2016-08-18 |
| BR112017017414A2 (pt) | 2018-04-03 |
| CN107207426B (zh) | 2020-02-14 |
| US20190256752A1 (en) | 2019-08-22 |
| US10287466B2 (en) | 2019-05-14 |
| EP3256512A1 (en) | 2017-12-20 |
| KR20170116114A (ko) | 2017-10-18 |
| WO2016130673A1 (en) | 2016-08-18 |
| JP6715853B2 (ja) | 2020-07-01 |
| JP6972238B2 (ja) | 2021-11-24 |
| EP3256512B1 (en) | 2022-07-20 |
| US20180016480A1 (en) | 2018-01-18 |
| US10544339B2 (en) | 2020-01-28 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP6972238B2 (ja) | 耐寒性シーラント及びその構成成分 | |
| RU2360937C2 (ru) | Отверждаемая композиция, способ ее получения и применения | |
| JP6286492B2 (ja) | ポリチオエーテル、湿分硬化型組成物ならびにそれらの製造及び使用のための方法 | |
| US6486297B2 (en) | High strength polymers and aerospace sealants therefrom | |
| AU2016344324B2 (en) | Non-chromate corrosion inhibiting polythioether sealants | |
| JPH0699560B2 (ja) | 液体重合体組成物及びその製法 | |
| KR102280565B1 (ko) | 금속 리간드-함유 접착 촉진 부가물, 이의 조성물 및 이의 용도 | |
| WO2006005386A1 (en) | Curable compositions with an improved adhesion performance |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20200610 |
|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20200610 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20210518 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20210525 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20210825 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20211005 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20211102 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6972238 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |