JP2020157389A - 研磨用分散液及び研磨シート、並びにこれらの製造方法 - Google Patents
研磨用分散液及び研磨シート、並びにこれらの製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2020157389A JP2020157389A JP2019056463A JP2019056463A JP2020157389A JP 2020157389 A JP2020157389 A JP 2020157389A JP 2019056463 A JP2019056463 A JP 2019056463A JP 2019056463 A JP2019056463 A JP 2019056463A JP 2020157389 A JP2020157389 A JP 2020157389A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- polishing
- dispersion
- resin
- mgkoh
- diamond particles
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000005498 polishing Methods 0.000 title claims abstract description 227
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 title claims abstract description 114
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 27
- 239000007788 liquid Substances 0.000 title abstract description 27
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims abstract description 88
- 239000010432 diamond Substances 0.000 claims abstract description 71
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 claims abstract description 71
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 claims abstract description 38
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 38
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 38
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims abstract description 36
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 claims abstract description 33
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 claims abstract description 21
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims abstract description 16
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 14
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 30
- 239000011164 primary particle Substances 0.000 claims description 25
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 14
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 11
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 abstract description 8
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 abstract description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 abstract description 3
- -1 polyimines Polymers 0.000 description 24
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 22
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 18
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 12
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 12
- KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-6-methylphenol Chemical compound [CH]OC1=CC=CC([CH])=C1O KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000002585 base Substances 0.000 description 10
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 10
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 10
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 9
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 7
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 7
- 229920001568 phenolic resin Polymers 0.000 description 7
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 6
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 6
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 5
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 5
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 5
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 5
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 5
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 4
- PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N bisphenol F Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1CC1=CC=C(O)C=C1 PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N butane-1,4-diol Chemical compound OCCCCO WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 4
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 4
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 4
- XPFVYQJUAUNWIW-UHFFFAOYSA-N furfuryl alcohol Chemical compound OCC1=CC=CO1 XPFVYQJUAUNWIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 4
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 4
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 4
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 4
- 239000011163 secondary particle Substances 0.000 description 4
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 4
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 4
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 4
- 229920006337 unsaturated polyester resin Polymers 0.000 description 4
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 4
- KJCVRFUGPWSIIH-UHFFFAOYSA-N 1-naphthol Chemical compound C1=CC=C2C(O)=CC=CC2=C1 KJCVRFUGPWSIIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 2-methylphenol;3-methylphenol;4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1.CC1=CC=CC(O)=C1.CC1=CC=CC=C1O QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 3
- 150000001733 carboxylic acid esters Chemical class 0.000 description 3
- 230000008859 change Effects 0.000 description 3
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 3
- 229930003836 cresol Natural products 0.000 description 3
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 3
- 230000001186 cumulative effect Effects 0.000 description 3
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N diglycidyl ether Chemical compound C1OC1COCC1CO1 GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000004780 naphthols Chemical class 0.000 description 3
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 3
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 3
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 3
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 3
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 3
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JWAZRIHNYRIHIV-UHFFFAOYSA-N 2-naphthol Chemical compound C1=CC=CC2=CC(O)=CC=C21 JWAZRIHNYRIHIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 4-Butyrolactone Chemical compound O=C1CCCO1 YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DLFVBJFMPXGRIB-UHFFFAOYSA-N Acetamide Chemical compound CC(N)=O DLFVBJFMPXGRIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 2
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 2
- FBPFZTCFMRRESA-KVTDHHQDSA-N D-Mannitol Chemical compound OC[C@@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-KVTDHHQDSA-N 0.000 description 2
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004640 Melamine resin Substances 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AMQJEAYHLZJPGS-UHFFFAOYSA-N N-Pentanol Chemical compound CCCCCO AMQJEAYHLZJPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PMDCZENCAXMSOU-UHFFFAOYSA-N N-ethylacetamide Chemical compound CCNC(C)=O PMDCZENCAXMSOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ATHHXGZTWNVVOU-UHFFFAOYSA-N N-methylformamide Chemical compound CNC=O ATHHXGZTWNVVOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 2
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 2
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 2
- 239000004734 Polyphenylene sulfide Substances 0.000 description 2
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N Succinic acid Natural products OC(=O)CCC(O)=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N Urea Chemical compound NC(N)=O XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001807 Urea-formaldehyde Polymers 0.000 description 2
- 238000005411 Van der Waals force Methods 0.000 description 2
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 2
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 2
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 2
- HUMNYLRZRPPJDN-UHFFFAOYSA-N benzaldehyde Chemical compound O=CC1=CC=CC=C1 HUMNYLRZRPPJDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N butanedioic acid Chemical compound O[14C](=O)CC[14C](O)=O KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N 0.000 description 2
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- YCIMNLLNPGFGHC-UHFFFAOYSA-N catechol Chemical compound OC1=CC=CC=C1O YCIMNLLNPGFGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N diphenyl Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007849 furan resin Substances 0.000 description 2
- GAEKPEKOJKCEMS-UHFFFAOYSA-N gamma-valerolactone Chemical compound CC1CCC(=O)O1 GAEKPEKOJKCEMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 2
- VKYKSIONXSXAKP-UHFFFAOYSA-N hexamethylenetetramine Chemical compound C1N(C2)CN3CN1CN2C3 VKYKSIONXSXAKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZSIAUFGUXNUGDI-UHFFFAOYSA-N hexan-1-ol Chemical compound CCCCCCO ZSIAUFGUXNUGDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 2
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 2
- QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N isophthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(C(O)=O)=C1 QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 2
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012778 molding material Substances 0.000 description 2
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 2
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002492 poly(sulfone) Polymers 0.000 description 2
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 2
- 229920001707 polybutylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 2
- 229920000069 polyphenylene sulfide Polymers 0.000 description 2
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 2
- 150000007519 polyprotic acids Polymers 0.000 description 2
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 2
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 2
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 2
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 2
- SMQUZDBALVYZAC-UHFFFAOYSA-N salicylaldehyde Chemical compound OC1=CC=CC=C1C=O SMQUZDBALVYZAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 150000003457 sulfones Chemical class 0.000 description 2
- HHVIBTZHLRERCL-UHFFFAOYSA-N sulfonyldimethane Chemical compound CS(C)(=O)=O HHVIBTZHLRERCL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 2
- DNIAPMSPPWPWGF-VKHMYHEASA-N (+)-propylene glycol Chemical compound C[C@H](O)CO DNIAPMSPPWPWGF-VKHMYHEASA-N 0.000 description 1
- XLSXKCPCBOMHON-UHFFFAOYSA-N 1,1-dimethoxypropan-1-ol Chemical compound CCC(O)(OC)OC XLSXKCPCBOMHON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JJNFHWKVZWAKEB-UHFFFAOYSA-N 1,3,4-trimethylimidazolidin-2-one Chemical compound CC1CN(C)C(=O)N1C JJNFHWKVZWAKEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NYCCIHSMVNRABA-UHFFFAOYSA-N 1,3-diethylimidazolidin-2-one Chemical compound CCN1CCN(CC)C1=O NYCCIHSMVNRABA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NFJSYLMJBNUDNG-UHFFFAOYSA-N 1,3-dipropylimidazolidin-2-one Chemical compound CCCN1CCN(CCC)C1=O NFJSYLMJBNUDNG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YPFDHNVEDLHUCE-UHFFFAOYSA-N 1,3-propanediol Substances OCCCO YPFDHNVEDLHUCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MODAACUAXYPNJH-UHFFFAOYSA-N 1-(methoxymethyl)-4-[4-(methoxymethyl)phenyl]benzene Chemical group C1=CC(COC)=CC=C1C1=CC=C(COC)C=C1 MODAACUAXYPNJH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OEYNWAWWSZUGDU-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropane-1,2-diol Chemical compound COC(O)C(C)O OEYNWAWWSZUGDU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YBJCDTIWNDBNTM-UHFFFAOYSA-N 1-methylsulfonylethane Chemical compound CCS(C)(=O)=O YBJCDTIWNDBNTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HECLRDQVFMWTQS-RGOKHQFPSA-N 1755-01-7 Chemical compound C1[C@H]2[C@@H]3CC=C[C@@H]3[C@@H]1C=C2 HECLRDQVFMWTQS-RGOKHQFPSA-N 0.000 description 1
- BLBVJHVRECUXKP-UHFFFAOYSA-N 2,3-dimethoxy-1,4-dimethylbenzene Chemical group COC1=C(C)C=CC(C)=C1OC BLBVJHVRECUXKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CDAWCLOXVUBKRW-UHFFFAOYSA-N 2-aminophenol Chemical compound NC1=CC=CC=C1O CDAWCLOXVUBKRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RDKKQZIFDSEMNU-UHFFFAOYSA-N 2-ethylsulfonylpropane Chemical compound CCS(=O)(=O)C(C)C RDKKQZIFDSEMNU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SLAMLWHELXOEJZ-UHFFFAOYSA-N 2-nitrobenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1[N+]([O-])=O SLAMLWHELXOEJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IQUPABOKLQSFBK-UHFFFAOYSA-N 2-nitrophenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1[N+]([O-])=O IQUPABOKLQSFBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YEYKMVJDLWJFOA-UHFFFAOYSA-N 2-propoxyethanol Chemical compound CCCOCCO YEYKMVJDLWJFOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AFPHTEQTJZKQAQ-UHFFFAOYSA-N 3-nitrobenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC([N+]([O-])=O)=C1 AFPHTEQTJZKQAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTZZCYNQPHTPPL-UHFFFAOYSA-N 3-nitrophenol Chemical compound OC1=CC=CC([N+]([O-])=O)=C1 RTZZCYNQPHTPPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VPWNQTHUCYMVMZ-UHFFFAOYSA-N 4,4'-sulfonyldiphenol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(O)C=C1 VPWNQTHUCYMVMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGUJJOYLOCXENZ-UHFFFAOYSA-N 4-[2-[4-(oxiran-2-ylmethoxy)phenyl]propan-2-yl]phenol Chemical compound C=1C=C(OCC2OC2)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 DGUJJOYLOCXENZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OTLNPYWUJOZPPA-UHFFFAOYSA-N 4-nitrobenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1 OTLNPYWUJOZPPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BTJIUGUIPKRLHP-UHFFFAOYSA-N 4-nitrophenol Chemical compound OC1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1 BTJIUGUIPKRLHP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930185605 Bisphenol Natural products 0.000 description 1
- NTOXAXQNZZXUQQ-UHFFFAOYSA-N C1(OC(=C(C)C)O1)=O Chemical compound C1(OC(=C(C)C)O1)=O NTOXAXQNZZXUQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002284 Cellulose triacetate Polymers 0.000 description 1
- JYFHYPJRHGVZDY-UHFFFAOYSA-N Dibutyl phosphate Chemical compound CCCCOP(O)(=O)OCCCC JYFHYPJRHGVZDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000196324 Embryophyta Species 0.000 description 1
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KMTRUDSVKNLOMY-UHFFFAOYSA-N Ethylene carbonate Chemical compound O=C1OCCO1 KMTRUDSVKNLOMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HYBBIBNJHNGZAN-UHFFFAOYSA-N Furaldehyde Natural products O=CC1=CC=CO1 HYBBIBNJHNGZAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000106 Liquid crystal polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000004977 Liquid-crystal polymers (LCPs) Substances 0.000 description 1
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SUAKHGWARZSWIH-UHFFFAOYSA-N N,N‐diethylformamide Chemical compound CCN(CC)C=O SUAKHGWARZSWIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OHLUUHNLEMFGTQ-UHFFFAOYSA-N N-methylacetamide Chemical compound CNC(C)=O OHLUUHNLEMFGTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004696 Poly ether ether ketone Substances 0.000 description 1
- 229930182556 Polyacetal Natural products 0.000 description 1
- 239000004695 Polyether sulfone Substances 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002472 Starch Polymers 0.000 description 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N Trioxochromium Chemical compound O=[Cr](=O)=O WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N [(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-diacetyloxy-3-[(2s,3r,4s,5r,6r)-3,4,5-triacetyloxy-6-(acetyloxymethyl)oxan-2-yl]oxy-6-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5,6-triacetyloxy-2-(acetyloxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-2-yl]methyl acetate Chemical compound O([C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O)O[C@H]1[C@@H]([C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@@H](COC(C)=O)O1)OC(C)=O)COC(=O)C)[C@@H]1[C@@H](COC(C)=O)O[C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N 0.000 description 1
- XECAHXYUAAWDEL-UHFFFAOYSA-N acrylonitrile butadiene styrene Chemical compound C=CC=C.C=CC#N.C=CC1=CC=CC=C1 XECAHXYUAAWDEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000122 acrylonitrile butadiene styrene Polymers 0.000 description 1
- 239000004676 acrylonitrile butadiene styrene Substances 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 125000003172 aldehyde group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 238000007611 bar coating method Methods 0.000 description 1
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 1
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 description 1
- LLEMOWNGBBNAJR-UHFFFAOYSA-N biphenyl-2-ol Chemical compound OC1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 LLEMOWNGBBNAJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001400 block copolymer Polymers 0.000 description 1
- 150000001639 boron compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000004202 carbamide Substances 0.000 description 1
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 229910000423 chromium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- HNEGQIOMVPPMNR-IHWYPQMZSA-N citraconic acid Chemical compound OC(=O)C(/C)=C\C(O)=O HNEGQIOMVPPMNR-IHWYPQMZSA-N 0.000 description 1
- 229940018557 citraconic acid Drugs 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 150000003950 cyclic amides Chemical class 0.000 description 1
- KTHXBEHDVMTNOH-UHFFFAOYSA-N cyclobutanol Chemical compound OC1CCC1 KTHXBEHDVMTNOH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IFDVQVHZEKPUSC-UHFFFAOYSA-N cyclohex-3-ene-1,2-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1CCC=CC1C(O)=O IFDVQVHZEKPUSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QSAWQNUELGIYBC-UHFFFAOYSA-N cyclohexane-1,2-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1CCCCC1C(O)=O QSAWQNUELGIYBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HPXRVTGHNJAIIH-UHFFFAOYSA-N cyclohexanol Chemical compound OC1CCCCC1 HPXRVTGHNJAIIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XCIXKGXIYUWCLL-UHFFFAOYSA-N cyclopentanol Chemical compound OC1CCCC1 XCIXKGXIYUWCLL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 description 1
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 1
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 1
- 238000007865 diluting Methods 0.000 description 1
- 239000000539 dimer Substances 0.000 description 1
- 239000002612 dispersion medium Substances 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 1
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 238000007730 finishing process Methods 0.000 description 1
- ANAGEECPKFGKEL-UHFFFAOYSA-N furan-2-carbaldehyde;phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1.O=CC1=CC=CO1 ANAGEECPKFGKEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920005546 furfural resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004312 hexamethylene tetramine Substances 0.000 description 1
- 235000010299 hexamethylene tetramine Nutrition 0.000 description 1
- 230000000887 hydrating effect Effects 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 1
- YAMHXTCMCPHKLN-UHFFFAOYSA-N imidazolidin-2-one Chemical compound O=C1NCCN1 YAMHXTCMCPHKLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005470 impregnation Methods 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 239000000944 linseed oil Substances 0.000 description 1
- 235000021388 linseed oil Nutrition 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 1
- JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N melamine Chemical compound NC1=NC(N)=NC(N)=N1 JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 239000000113 methacrylic resin Substances 0.000 description 1
- WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N methanone Chemical compound O=[14CH2] WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- AJFDBNQQDYLMJN-UHFFFAOYSA-N n,n-diethylacetamide Chemical compound CCN(CC)C(C)=O AJFDBNQQDYLMJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KERBAAIBDHEFDD-UHFFFAOYSA-N n-ethylformamide Chemical compound CCNC=O KERBAAIBDHEFDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NXPPAOGUKPJVDI-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,2-diol Chemical compound C1=CC=CC2=C(O)C(O)=CC=C21 NXPPAOGUKPJVDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 description 1
- 150000002828 nitro derivatives Chemical class 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QNGNSVIICDLXHT-UHFFFAOYSA-N para-ethylbenzaldehyde Natural products CCC1=CC=C(C=O)C=C1 QNGNSVIICDLXHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WVDDGKGOMKODPV-ZQBYOMGUSA-N phenyl(114C)methanol Chemical compound O[14CH2]C1=CC=CC=C1 WVDDGKGOMKODPV-ZQBYOMGUSA-N 0.000 description 1
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 1
- 150000003016 phosphoric acids Chemical class 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- 238000007517 polishing process Methods 0.000 description 1
- 229920003207 poly(ethylene-2,6-naphthalate) Polymers 0.000 description 1
- 229920000747 poly(lactic acid) Polymers 0.000 description 1
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920006122 polyamide resin Polymers 0.000 description 1
- 229920001610 polycaprolactone Polymers 0.000 description 1
- 239000004632 polycaprolactone Substances 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 1
- 229920006267 polyester film Polymers 0.000 description 1
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 1
- 229920006393 polyether sulfone Polymers 0.000 description 1
- 229920002530 polyetherether ketone Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 239000011112 polyethylene naphthalate Substances 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 1
- 239000004626 polylactic acid Substances 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 239000002954 polymerization reaction product Substances 0.000 description 1
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 1
- 229920006324 polyoxymethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001955 polyphenylene ether Polymers 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 229920000166 polytrimethylene carbonate Polymers 0.000 description 1
- 229920002215 polytrimethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 229920005749 polyurethane resin Polymers 0.000 description 1
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 230000002250 progressing effect Effects 0.000 description 1
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RUOJZAUFBMNUDX-UHFFFAOYSA-N propylene carbonate Chemical compound CC1COC(=O)O1 RUOJZAUFBMNUDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 1
- GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N resorcinol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1 GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960001755 resorcinol Drugs 0.000 description 1
- 125000000467 secondary amino group Chemical group [H]N([*:1])[*:2] 0.000 description 1
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003549 soybean oil Substances 0.000 description 1
- 235000012424 soybean oil Nutrition 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 239000008107 starch Substances 0.000 description 1
- 235000019698 starch Nutrition 0.000 description 1
- 150000003462 sulfoxides Chemical class 0.000 description 1
- 125000001302 tertiary amino group Chemical group 0.000 description 1
- UFDHBDMSHIXOKF-UHFFFAOYSA-N tetrahydrophthalic acid Natural products OC(=O)C1=C(C(O)=O)CCCC1 UFDHBDMSHIXOKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002725 thermoplastic elastomer Polymers 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
- 229920006305 unsaturated polyester Polymers 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Polishing Bodies And Polishing Tools (AREA)
Abstract
Description
しかしながら、当該方法では、十分に二次粒子を一次粒子に分解することはできず、かつ、一度一次粒子の状態にしても保存安定性が悪いために短期間のうちに再凝集してしまう問題がある。したがって、当該研磨塗料で作製した研磨テープは、ダイヤモンド粒子が再凝集した二次粒子を含有しているため、被研磨面に凹凸や傷が発生してしまい、十分な研磨性能が得られない欠点があった。
本発明の研磨用分散液の製造方法は、有機溶媒に、一次粒子のメディアン径0.1μmから5.0μmであるダイヤモンド粒子と、アミン価が1.0〜50mgKOH/gである塩基性官能基を有するポリマーと、を含有させて混合液を得る工程と、前記混合液に超音波を照射させる工程と、を含むことを特徴とする研磨用分散液の製造方法である。
本発明に用いるダイヤモンド粒子は、単結晶のダイヤモンド粒子でも、多結晶のダイヤモンド粒子でもよい。本発明に用いるダイヤモンド粒子は、研磨速度の向上の観点から、単結晶のダイヤモンド粒子を用いることが好ましく挙げられる。
本発明に用いるダイヤモンド粒子の一次粒子のメディアン径は、0.1〜5.0μmの範囲にある単結晶又は多結晶のダイヤモンド粒子である。
)は、下記式で算出されるものである。
STD.DEV.=(d84%−d16%)/2
上記式中のd84%は、粉体の集団の全体積を100%として累積カーブを求めたとき
、その累積カーブが84%となるときの粒子径を表し、d16%は累積カーブが16%と
なるときの粒子径を表す。
本発明に用いる塩基性官能基を有するポリマーのアミン価は、1.0mg〜50mgKOH/gであることが好ましく、5mg〜40mgKOH/gであることがさらに好ましく挙げられる。このような塩基性官能基を有するポリマーを用いることで、研磨用分散液中のダイヤモンド粒子が一次粒子の状態で、長期にわたり分散させることのできる研磨用分散液を得ることができる。
このような範囲であれば、ダイヤモンド粒子の分散安定性に特に優れる研磨用分散液を得ることができる。
本発明に用いる有機溶媒は、研磨用分散液の分散媒としての役割を有する。
本発明の研磨用分散液には、ダイヤモンド粒子及び塩基性官能基を有するポリマー以外に、添加剤を含有させてもよい。添加剤としては、ポリエチレングリコール、ポリビニルアルコール、ジブチルリン酸又は亜リン酸のリン酸化合物、ホウ酸、マンニット、ホウ酸とマンニット、ソルビット等の錯化合物やホウ酸とエチレングリコール、グリセリン等の多価アルコールとの錯化合物等のホウ素化合物、o−ニトロ安息香酸、m−ニトロ安息香酸、p−ニトロ安息香酸、o−ニトロフェノール、m−ニトロフェノール、p−ニトロフェノール等のニトロ化合物が挙げられる。
本発明の製造方法は、前記混合液に超音波を照射させる工程を含むことを特徴としている。前記混合液に超音波を照射させることで、ダイヤモンド粒子の一次粒子のメディアン径が0.1μmから5.0μmであるダイヤモンド粒子と、アミン価が0.1〜50mgKOH/gである塩基性官能基を有するポリマーと、を含有させて混合液に超音波を照射させることで、ダイヤモンド粒子の凝集体のファンデルワールス力を解除させるだけではなく、ダイヤモンド粒子同士を研磨させることで、ダイヤモンド粒子の形状が球形に近づき、大きさが均一なダイヤモンド粒子を得ることができる。
5分未満では、ダイヤモンド粒子の凝集体のファンデルワールス力を十分に解除することができない可能性があり、10時間超では、ダイヤモンド粒子自体の研磨が進み、所望する粒径が得られない可能性がある。
研磨用分散液自体を研磨用途として使用する方法としては、例えば、一般的な研磨装置に研磨対象物をセットし、研磨装置の研磨パッドを通じて研磨対象物の表面に研磨用分散液を供給する。研磨用分散液を連続的に供給しつつ、研磨対象物の表面に研磨パッドを押し付けて両者を相対的に回転移動させることで研磨対象物の研磨を行うことができる。
上述した研磨用分散液と、樹脂と、を混合させて研磨用樹脂組成物を得る工程と、可撓性基材上に研磨用樹脂組成物を塗布した後、研磨用樹脂組成物中の溶媒を除去して研磨層を形成させる工程と、を含むことを特徴とする研磨シートの製造方法である。
本発明に用いる樹脂は、熱可塑性樹脂又は熱硬化性樹脂を用いることができる。
また、さらに好ましくは、化石資源使用量削減の観点から、植物由来の熱可塑性樹脂であることが好ましく挙げられる。具体的には、ポリ乳酸、エステル化澱粉、ポリヒドロキシアルカン酸、ポリトリメチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、コハク酸、イタコン酸や1,3−プロパンジオール、1,4−ブタンジオールなどをモノマーとして合成されるポリエステル樹脂等が使用でき、1種を単独で用いても2種以上を併用してもよい。
研磨用分散液と樹脂とを混合させて研磨用樹脂組成物を得る方法としては、研磨用分散液と樹脂とを直接混合させて研磨用樹脂組成物を作製してもよく、あらかじめ樹脂と有機溶媒を混合させた後に、研磨用分散液と混合させて研磨用樹脂組成物を作製してもよい。
研磨シートを研磨対象物の研磨対象面へ押し付けて使用する際の研磨対象面への追従性及び適度な引っ張り強度といった性能が求められている。研磨シートの形状としては、テープ状やディスク状が好ましく挙げられる。
これらの中でも特に簡単に均一な厚さの層を形成させることが出来る点より、バーコート法が好ましく挙げられる。
本発明の研磨シートは、可撓性基材の表面にダイヤモンド粒子を含有する研磨層から構成されている。
本発明の研磨シートは、ダイヤモンド粒子が一次粒子の状態で均一に分散している特長を有している。そのため、本発明の研磨シートを用いて研磨対象物を研磨することで、研磨対象物に凹凸や傷を生じさせなくすることが可能となる。従って、本発明の研磨シートは磁気ディスク、精密機器、精密部品及びプリント基板の仕上げ加工等に用いる研磨テープとして好適に用いることができ、特にシリコンウェーハの端面仕上げ工程の研磨用として好適に用いることができる。
このような範囲にすることで、短時間で対象物を平滑に研磨することができる。
メチルエチルケトン300部に分散剤(DISPERBYK−2013、ビック・ケミージャパン株式会社製、アミン価18mgKOH/g、酸価8mgKOH/g)15部を加え、25℃にて10分間攪拌混合し、分散剤を均一に溶解させた溶液を得た。得られた溶液に、ダイヤモンド粒子(1/4、テクノライズ株式会社製、一次粒子メディアン径0.22〜0.28μm)135部を加え、超音波洗浄器SU−2TH(柴田科学株式会社製)を用いて超音波を30分間照射し、ダイヤモンド粒子を分散させた分散液450部を得た。得られた分散液を0.5μmのメンブレンフィルターを通して、不純物や異物、残存凝集粒子を除去し、研磨用分散液1を得た。なお、研磨用分散液1中におけるダイヤモンド粒子の含有量は30質量%である。
研磨用分散液1中ダイヤモンド粒子のメディアン径は、Microtrac Nanotrac150(日機装株式会社製、粒度分布測定器)を用いて下記条件により測定した。ダイヤモンド粒子のメディアン径と標準偏差を表1に示す。
測定時間:180秒
溶媒:メチルエチルケトン(屈折率(20℃)1.378)
粒子屈折率:ダイヤモンド(屈折率 2.42)
粒子密度:3.5 g/cc
透過性:透過
形状:非球状
製造した研磨用分散液1を50部、40℃の温度環境下で1週間保存した後、メディアン径を測定した後、1.0μmのメンブレンフィルターを用いて凝集物を得た。この凝集物の質量を測定し、分散安定性を評価した。分散安定性の評価結果を表1に示す。
実施例1において、「分散剤(DISPERBYK−2013、ビック・ケミージャパン株式会社製、アミン価18mgKOH/g、酸価8mgKOH/g)」を、「分散剤(DISPERBYK−2012、ビック・ケミージャパン株式会社製、アミン価7mgKOH/g、酸価7mgKOH/g」に代えた以外は実施例1と同様にして研磨用分散液2を作製し、研磨用分散液2の分散安定性を評価した。
実施例1において、「分散剤(DISPERBYK−2013、ビック・ケミージャパン株式会社製、アミン価18mgKOH/g、酸価8mgKOH/g)」を、「分散剤(DISPERBYK−2001、ビック・ケミージャパン株式会社製、アミン価29mgKOH/g、酸価19mgKOH/g」に代えた以外は実施例1と同様にして研磨用分散液3を作製し、研磨用分散液3の分散安定性を評価した。
実施例1において、「分散剤(DISPERBYK−2013、ビック・ケミージャパン株式会社製、アミン価18mgKOH/g、酸価8mgKOH/g)」を、「分散剤(DISPERBYK−2025、ビック・ケミージャパン株式会社製、アミン価37mgKOH/g、酸価38mgKOH/g」に代えた以外は実施例1と同様にして研磨用分散液4を作製し、研磨用分散液4の分散安定性を評価した。
実施例1において、「分散剤(DISPERBYK−2013、ビック・ケミージャパン株式会社製、アミン価18mgKOH/g、酸価8mgKOH/g)」を、「分散剤(DISPERBYK−142、ビック・ケミージャパン株式会社製、アミン価43mgKOH/g、酸価46mgKOH/g」に代えた以外は実施例1と同様にして研磨用分散液5を作製し、研磨用分散液5の分散安定性を評価した。
実施例1において、「分散剤(DISPERBYK−2013、ビック・ケミージャパン株式会社製、アミン価18mgKOH/g、酸価8mgKOH/g)」を、「分散剤(DISPERBYK−162、ビック・ケミージャパン株式会社製、アミン価13mgKOH/g)」に代えた以外は実施例1と同様にして研磨用分散液6を作製し、研磨用分散液6の分散安定性を評価した。
実施例1において、「分散剤(DISPERBYK−2013、ビック・ケミージャパン株式会社製、アミン価18mgKOH/g、酸価8mgKOH/g)」を、「分散剤(BYK−9077、ビック・ケミージャパン株式会社製、アミン価48mgKOH/g)」に代えた以外は実施例1と同様にして研磨用分散液7を作製し、研磨用分散液7の分散安定性を評価した。
実施例1において、超音波洗浄器SU−2TH(柴田科学株式会社製)を用いて超音波を30分間照射しなかった以外は、実施例1と同様にして研磨用分散液8を作製し、研磨用分散液8の分散安定性を評価した。
実施例1において、超音波洗浄器SU−2TH(柴田科学株式会社製)を用いて超音波を30分間照射せず、ビーズミルによりダイヤモンド粒子を30分間分散させた以外は、実施例1と同様にして研磨用分散液9を作製し、研磨用分散液9の分散安定性を評価した。
実施例1において、「分散剤(DISPERBYK−2013、ビック・ケミージャパン株式会社製、アミン価18mgKOH/g、酸価8mgKOH/g)」を、「分散剤(DISPERBYK−174、ビック・ケミージャパン株式会社製、酸価22mgKOH/g)」に代えた以外は実施例1と同様にして研磨用分散液10を作製し、研磨用分散液10の分散安定性を評価した。
実施例1において、「分散剤(DISPERBYK−2013、ビック・ケミージャパン株式会社製、アミン価18mgKOH/g、酸価8mgKOH/g)」を、「分散剤(DISPERBYK−108、ビック・ケミージャパン株式会社製、アミン価71mgKOH/g」に代えた以外は実施例1と同様にして研磨用分散液11を作製し、研磨用分散液11の分散安定性を評価した。
実施例1において、「分散剤(DISPERBYK−2013、ビック・ケミージャパン株式会社製、アミン価18mgKOH/g、酸価8mgKOH/g)」を、「分散剤(DISPERBYK−140、ビック・ケミージャパン株式会社製、アミン価76mgKOH/g、酸価73mgKOH/g」に代えた以外は実施例1と同様にして研磨用分散液12を作製し、研磨用分散液12の分散安定性を評価した。
実施例1において、「分散剤(DISPERBYK−2013、ビック・ケミージャパン株式会社製、アミン価18mgKOH/g、酸価8mgKOH/g)」を、「分散剤(DISPERBYK−2150、ビック・ケミージャパン株式会社製、アミン価57mgKOH/g」に代えた以外は実施例1と同様にして研磨用分散液13を作製し、研磨用分散液13の分散安定性を評価した。
また、40℃の温度環境下で1週間保存した研磨用分散液中には、ダイヤモンド粒子の凝集体は少ないため、保存安定性に優れていることがわかる。
比較例1〜6において超音波を照射せずに分散液を製造した場合、ダイヤモンド粒子の分散が十分に進行せず、製造時の濾過で多くの粒子が濾別され、ダイヤモンド粒子の一次粒子径と比較してメディアン径も大きく、保存安定性も劣ることが確認できた。また、酸価のみを有するポリマーや塩基性官能基を有するポリマーのアミン価及び酸価が50mgKOH/g以上で含む場合も同様にメディアン径が大きく、保存安定性が悪いことが確認された。
これより、実施例1〜7の研磨分散液は、良好な粒度分布と保存安定性を有していることが確認された。
実施例1〜7、比較例1〜6の分散液のSEM写真(倍率:1万倍)を日本電子株式会社製のMP−Z08181Tを用いてクライオSEM法により撮影した。実施例1〜7の分散液では単一粒子が非常に多く観察され合格であった。一方、比較例1〜6の分散液では粒子が会合している様子であり不合格であった。
シクロヘキサノン100部にポリエステル樹脂(エリーテルUE−9200、ユニチカ株式会社製)43部を加え、25℃にて1時間以上攪拌混合し、樹脂を均一に溶解させた溶液を得た。得た溶液143部に製造した研磨用分散液1を415部混合し、ポリエステルフィルム(厚さ50μm)にバーコーターを用いて均一に塗布し、送風乾燥機に入れ、温度100℃で1分間乾燥させ、乾燥後、研磨層の膜厚が3μmの研磨シートを得た。
作製した研磨シートを用いて、予め粗研磨を施してある半導体デバイス用の4インチシリコン基板の表面を回転させながら研磨し、平均表面粗さ(Ra)の測定と外観の観察を実施した。
シリコン基板の平均表面粗さ(Ra)は、触針式表面形状測定器(Dektak6M、アルバック株式会社製)を用いて下記条件により測定した。
触針半径:12.5μm
測定距離:1000μm
測定時間:20秒
触針圧 :5mg
測定範囲:6.5μm
研磨前のシリコン基板の平均表面粗さ(Ra):31.6nm
シリコン基板回転数:500回転
テープ押付圧力:1kg/cm2
変化率は以下の式により計算した。
変化率=[(研磨後の平均表面粗さ)−(研磨前の平均表面粗さ)]/(研磨前の平均表面粗さ)
実施例9から実施例14及び比較例7から比較例12はそれぞれ実施例1中の研磨用分散液1の代わりに研磨用分散液2から研磨用分散液13を用いた以外は、実施例1と同様に研磨シートを作製して評価した。評価結果を表2に示す。
一方で、比較例7〜12の研磨シートはダイヤモンド粒子のメディアン径が大きく、凝集し易いため、研磨試験後、研磨前のシリコン基板の表面粗さが増加(悪化)しており、精密研磨が進んでいないことが確認された。
本発明に係わる実施例8〜14の研磨シートは、良好な研磨性能を有し、凝集粒子による凹凸や不良傷の発生がないことが確認された。
実施例8〜14、比較例7〜12の研磨シートにおける研磨層表面のSEM写真(倍率:3万倍)をFE−SEM(電界放射型走査電子顕微鏡、Carl Zeiss製 ULTRA55)により撮影した。実施例8〜14の研磨シートでは粒子が密に分布しており合格であった。一方、比較例7〜12の研磨シートでは粒子が疎に分布しており不合格であった。
Claims (6)
- 有機溶媒と、ダイヤモンド粒子と、アミン価が1.0〜50mgKOH/gである塩基性官能基を有するポリマーと、を少なくとも含有することを特徴とする研磨用分散液と、樹脂と、を混合させて研磨用樹脂組成物を得る工程と、
可撓性基材上に研磨用樹脂組成物を塗布した後、研磨用樹脂組成物中の有機溶媒を除去して研磨層を形成させる工程と、を含むことを特徴とする研磨シートの製造方法。 - 前記ダイヤモンド粒子の一次粒子のメディアン径が、0.1〜5.0μmであることを特徴とする請求項1に記載の研磨シートの製造方法
- 前記塩基性官能基を有するポリマーの酸価が、1.0〜50mgKOH/gであることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の研磨シートの製造方法。
- 可撓性基材上に研磨層を有する研磨シートにおいて、
研磨層が、一次粒子のメディアン径が0.1〜5.0μmであるダイヤモンド粒子と、アミン価が1.0〜50mgKOH/gである塩基性官能基を有するポリマーと、樹脂と、を少なくとも含有することを特徴とする研磨シート。 - 前記塩基性官能基を有するポリマーの酸価が、1.0〜50mgKOH/gであることを特徴とする請求項4に記載の研磨シート。
- 前記研磨層の表面の算術平均粗さが0.05〜3.0μmであることを特徴とする請求項4又は請求項5に記載の研磨シート。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019056463A JP2020157389A (ja) | 2019-03-25 | 2019-03-25 | 研磨用分散液及び研磨シート、並びにこれらの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019056463A JP2020157389A (ja) | 2019-03-25 | 2019-03-25 | 研磨用分散液及び研磨シート、並びにこれらの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2020157389A true JP2020157389A (ja) | 2020-10-01 |
JP2020157389A5 JP2020157389A5 (ja) | 2022-03-23 |
Family
ID=72641019
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019056463A Pending JP2020157389A (ja) | 2019-03-25 | 2019-03-25 | 研磨用分散液及び研磨シート、並びにこれらの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2020157389A (ja) |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05309571A (ja) * | 1992-05-13 | 1993-11-22 | Fuji Photo Film Co Ltd | 研磨テープ |
JP2005518953A (ja) * | 2002-03-05 | 2005-06-30 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | 被覆ダイヤモンド研磨スラリーのための配合物 |
JP2009072832A (ja) * | 2007-09-18 | 2009-04-09 | Bando Chem Ind Ltd | 研磨シートおよびその製造方法 |
JP2010149253A (ja) * | 2008-12-26 | 2010-07-08 | Bando Chem Ind Ltd | 研磨シート |
JP2013037059A (ja) * | 2011-08-04 | 2013-02-21 | Kao Corp | カラーフィルター用顔料分散体の製造方法 |
US20130219800A1 (en) * | 2008-11-04 | 2013-08-29 | Olivier L. Guiselin | Methods for Producing a Coated Abrasive Article for Polishing or Lapping Applications |
-
2019
- 2019-03-25 JP JP2019056463A patent/JP2020157389A/ja active Pending
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05309571A (ja) * | 1992-05-13 | 1993-11-22 | Fuji Photo Film Co Ltd | 研磨テープ |
JP2005518953A (ja) * | 2002-03-05 | 2005-06-30 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | 被覆ダイヤモンド研磨スラリーのための配合物 |
JP2009072832A (ja) * | 2007-09-18 | 2009-04-09 | Bando Chem Ind Ltd | 研磨シートおよびその製造方法 |
US20130219800A1 (en) * | 2008-11-04 | 2013-08-29 | Olivier L. Guiselin | Methods for Producing a Coated Abrasive Article for Polishing or Lapping Applications |
JP2010149253A (ja) * | 2008-12-26 | 2010-07-08 | Bando Chem Ind Ltd | 研磨シート |
JP2013037059A (ja) * | 2011-08-04 | 2013-02-21 | Kao Corp | カラーフィルター用顔料分散体の製造方法 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TWI294331B (en) | Method of forming structured abrasive article | |
CN102863635B (zh) | 具有助黏附层的磨料物品 | |
TWI677477B (zh) | 可固化樹脂組合物 | |
TW581797B (en) | Inorganic/organic compositions | |
JP2017501099A (ja) | 中空シリカ粒子の製造方法、中空シリカ粒子及びそれらを含む組成物、並びに断熱シート | |
WO2017104244A1 (ja) | アルミニウムキレート系潜在性硬化剤の製造方法及び熱硬化型エポキシ樹脂組成物 | |
KR20110110246A (ko) | 평탄화 코팅을 갖는 기재 및 그의 제조 방법 | |
WO2019065214A1 (ja) | セラミックグリーンシート製造用離型フィルム | |
JP2020161531A (ja) | 研磨用分散液及び研磨シート、並びにこれらの製造方法 | |
CN114369389A (zh) | 一种哑光uv油墨及其制备方法 | |
JP4711721B2 (ja) | 潜在性硬化剤の製造方法 | |
JP2020157389A (ja) | 研磨用分散液及び研磨シート、並びにこれらの製造方法 | |
US20080236412A1 (en) | Nano-imprinting method using material having surface energy | |
JP5887706B2 (ja) | アルミナナノ粒子分散液、及びこれを含む樹脂組成物 | |
CN104662099A (zh) | 硅酮薄雾抑制剂 | |
JP2017101164A (ja) | アルミニウムキレート系潜在性硬化剤、その製造方法及び熱硬化型エポキシ樹脂組成物 | |
JP5289687B2 (ja) | 研磨材用砥粒及びその製造方法、並びに研磨材 | |
JP5360378B2 (ja) | 潜在性硬化剤の製造方法、及び接着剤の製造方法 | |
JP2022023701A (ja) | 研磨シート | |
JP2022057070A (ja) | 研磨シート及びその製造方法 | |
CN113801539A (zh) | 一种石墨烯环氧树脂涂料的制备方法 | |
JP6915671B2 (ja) | アルミニウムキレート系潜在性硬化剤、その製造方法及び熱硬化型エポキシ樹脂組成物 | |
JP6928166B2 (ja) | ポリエチレンテレフタレート系樹脂粒子 | |
JP2014227505A (ja) | 接着剤組成物および積層体 | |
JP2020059777A (ja) | 塗装下地処理材組成物および部品 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20220314 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20220323 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20230125 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20230125 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20230719 |