JP2020131301A - 加工方法及び加工装置 - Google Patents
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Abstract
Description
上記の目的を達成するために、本発明の加工方法は、光透過性を有する金属酸化物で構成された加工部材を被加工物と接触させ、接触部位に水やアルカリ性溶液を含有するオゾンガスを供給すると共に、前記加工部材の前記被加工物と接触する面とは反対の面側から紫外光を同被加工物に照射しながら、前記加工部材を前記被加工物に接触させた状態で変位させる工程を備える。
なお、水やアルカリ性溶液を含有するオゾンガスとしては、蒸気圧を有する水を含有するオゾンガスや、水やアルカリ性溶液のミストを同伴するオゾンガスが挙げられる。
なお、紫外光の波長が短い場合には、紫外光が加工部材や空気に吸収されやすくなり、被加工物への紫外線の照射が不十分となるため、紫外光の波長は200nm以上のものを含むことが好ましい。
また、上記の目的を達成するために、本発明に係る加工装置は、光透過性を有する金属酸化物で構成された加工部材と、所定の被加工物を前記加工部材と接触させて保持する保持機構と、前記加工部材及び前記被加工物との接触部位に、水やアルカリ性溶液を含有するオゾンガスを供給するオゾンガス供給部と、前記加工部材の前記被加工物と接触する面とは反対の面側から紫外光を同被加工物に照射する紫外光照射部と、前記加工部材と前記被加工物を接触させた状態で、前記加工部材を変位させる駆動部とを備える。
なお、水やアルカリ性溶液を含有するオゾンガスとしては、蒸気圧を有する水を含有するオゾンガスや、水やアルカリ性溶液のミストを同伴するオゾンガスが挙げられる。
以下、本発明を実施するための形態(以下、「発明の実施の形態」と称する)について説明する。
図1は本発明を適用した加工装置を説明するための模式図であり、ここで示す加工装置1は、加工テーブル2と、合成石英定盤3と、被加工物であるGaN基板5を保持する試料ホルダー4を有している。なお、合成石英定盤3は加工部材の一例であり、GaN基板5は被加工物の一例である。
本発明を適用した加工方法及び加工装置は、水やアルカリ性溶液を含有するオゾンガスを、加工部材と被加工物の接触部位に供給すると共に、被加工物の被加工面に紫外光を照射することで、線状の隆起形状の形成を抑止しながら、安定的かつ高い加工精度と高能率な加工を実現しうるものとなっている。
本発明の実施例1の加工方法として、以下の条件で加工を行った。先ず、本発明の実施例1の加工方法として、ソーダ石灰ガラス定盤に、被加工物としてGaN(10mm×10mm)を0.5kgの荷重で押圧し、ソーダ石灰ガラス定盤を回転数200rpm、揺動距離3mm、揺動速度0.1mm/sの条件で回転させると共に、試料ホルダーを31.25rpmで回転させた。また、オゾン供給部よりソーダ石灰ガラス定盤とGaNとの接触部位に、KOH水溶液(0.1mol/L、pH12.6)を含有したオゾンガス(5L/min)を供給した。また、紫外光照射部より紫外光(UV照射距離22mm、UV照度1075mW/cm2)を、GaNの被加工面の一定範囲に向けて照射した。この様な状況で1時間の加工を行った。
上記の実施例1について、加工後のGaNの表面粗さを金属顕微鏡により観察及び非接触形状測定機(走査型白色干渉計、Zygo社、NewView7300)による測定を行い、評価を行った。図2において、左図は、UV照射領域とUV未照射領域を識別するための図であり、右図は、Slope画像(微分画像)である。
本発明の実施例2の加工方法では、加工部材の種類を、実施例1のソーダ石灰ガラスから合成石英定盤に変更して、加工を行った。なお、実施例2における加工の条件は、実施例1の加工の条件から、加工部材の種類が変更になった点、紫外光のUV照度が1332mW/cm2となった点である。なお、実施例2の紫外光のUV照度が、実施例1の紫外光のUV照度に比べて高いのは、ソーダ石灰ガラス定盤と、合成石英定盤の紫外光の透過率の違いに起因している。
上記の実施例2について、加工後のGaNの表面粗さを金属顕微鏡により観察及び非接触形状測定機による測定を行い、評価を行った。図4において、左図は、UV照射領域とUV未照射領域を識別するための図であり、右図は、Slope画像(微分画像)である。
実施例3の加工後のUV照射範囲の加工領域である図7(c)から明らかなように、UV照射範囲において、実施例3の加工により、被加工物の加工面が、非常に精度高く加工され、被加工面の測定範囲における算術平均粗さ(Ra)の値は0.169nmであり、線状の隆起形状の形成が確認されず、平滑に加工されていたことが分かった。また、比較例1の結果である図7(a)及び比較例2の結果である図7(b)から明らかなように、KOH水溶液を含有したオゾンガスの供給を行わず、紫外光の照射を行った加工、または、KOH水溶液を含有したオゾンガスの供給を行い、紫外光の照射を行わない加工では、高精度な表面が得られなかった。
2 加工テーブル
3 合成石英定盤
4 試料ホルダー
5 GaN基板
6 オゾン供給部
7 紫外光照射部
Claims (20)
- 光透過性を有する金属酸化物で構成された加工部材を被加工物と接触させ、接触部位に水またはアルカリ性溶液を含有するオゾンガスを供給すると共に、前記加工部材の前記被加工物と接触する面とは反対の面側から紫外光を同被加工物に照射しながら、前記加工部材を前記被加工物に接触させた状態で変位させる工程を備える
加工方法。 - 前記加工部材は、Al2O3から構成される単結晶状態のサファイア、コランダム、サファイアガラス、サファイアクリスタル、SiO2を主成分とするガラスのうちいずれか1つからなり、
前記被加工物は、SiC、GaN、AlN、ダイヤモンド、多結晶ダイヤモンド、CVDダイヤモンド、DLC膜のうちいずれか1つからなる
請求項1に記載の加工方法。 - 前記加工部材は、合成石英からなる
請求項1または請求項2に記載の加工方法。 - 前記被加工物は、GaNからなる
請求項1から3のいずれかに記載の加工方法。 - 前記オゾンガスが、水またはアルカリ性溶液のミストを同伴するオゾンガスである
請求項1から4のいずれかに記載の加工方法。 - 前記アルカリ性溶液がKOH水溶液である
請求項1から5のいずれかに記載の加工方法。 - 前記紫外光は、前記被加工物のバンドギャップ以上のエネルギーを有する
請求項1から6のいずれかに記載の加工方法。 - 前記紫外光は、365nmの波長において、照度10mW/cm2以上を有する
請求項1から7のいずれかに記載の加工方法。 - 前記被加工物は、GaNからなり、
前記紫外光は、波長365nm以下のものを含む
請求項1から8のいずれかに記載の加工方法。 - 前記加工部材の表面及び前記被加工物の表面における親水化処理を促進させるために、前記オゾンガスから原子状酸素を生成して、同原子状酸素を、同加工部材と同被加工物の接触部位に供給する
請求項1から9のいずれかに記載の加工方法。 - 光透過性を有する金属酸化物で構成された加工部材と、
所定の被加工物を前記加工部材と接触させて保持する保持機構と、
前記加工部材及び前記被加工物との接触部位に、水またはアルカリ性溶液を含有するオゾンガスを供給するオゾンガス供給部と、
前記加工部材の前記被加工物と接触する面とは反対の面側から紫外光を同被加工物に照射する紫外光照射部と、
前記加工部材と前記被加工物を接触させた状態で、前記加工部材を変位させる駆動部とを備える
加工装置。 - 前記加工部材は、Al2O3から構成される単結晶状態のサファイア、コランダム、サファイアガラス、サファイアクリスタル、SiO2を主成分とするガラスのうちいずれか1つからなり、
前記被加工物は、SiC、GaN、AlN、ダイヤモンド、多結晶ダイヤモンド、CVDダイヤモンド、DLC膜のうちいずれか1つからなる
請求項11に記載の加工装置。 - 前記加工部材は、合成石英からなる
請求項11または請求項12に記載の加工装置。 - 前記被加工物は、GaNからなる
請求項11から13のいずれかに記載の加工装置。 - 前記オゾンガスが、水またはアルカリ性溶液のミストを同伴するオゾンガスである
請求項11から14のいずれかに記載の加工装置。 - 前記アルカリ性溶液がKOH水溶液である
請求項11から15のいずれかに記載の加工装置。 - 前記紫外光は、前記被加工物のバンドギャップ以上のエネルギーを有する
請求項11から16のいずれかに記載の加工装置。 - 前記紫外光は、365nmの波長において、照度10mW/cm2以上を有する
請求項11から17のいずれかに記載の加工装置。 - 前記被加工物は、GaNからなり、
前記紫外光は、波長365nm以下のものを含む
請求項11から18のいずれかに記載の加工装置。 - 前記加工部材の表面及び前記被加工物の表面における親水化処理を促進させるために、前記オゾンガスから原子状酸素を生成して、同原子状酸素を、同加工部材と同被加工物の接触部位に供給する
請求項11から19のいずれかに記載の加工装置。
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WO2022190458A1 (ja) * | 2021-03-12 | 2022-09-15 | 住友電気工業株式会社 | 炭化珪素基板および炭化珪素基板の製造方法 |
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