JP2020129606A - ガス供給部材、プラズマ処理装置、及びコーティング膜の形成方法 - Google Patents
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Abstract
Description
図1は、実施形態にかかるプラズマ処理装置1の構成の一例を模式的に示す断面図である。プラズマ処理装置1は、例えば基板としてのウェハ100をプラズマエッチング処理するRIE(Reactive Ion Etching)装置として構成されている。
次に、図2を用いて、実施形態のシャワーヘッド31の構成例について更に詳細に説明する。図2は、実施形態にかかるシャワーヘッド31の吐出口33付近を拡大して示す断面図である。
次に、図3を用いて、シャワーヘッド31が備えるイットリア膜30の形成処理の例について説明する。図3は、実施形態にかかるイットリア膜30の形成処理の手順の一例を示すフロー図である。
プラズマ処理装置においては、プラズマ処理ガスとしてCF系の腐食性ガスが用いられることがある。このような腐食性ガスのプラズマからチャンバ内のパーツを保護し、パーツ寿命を延長するため、チャンバ内パーツにはイットリア等の保護膜がコーティングされる場合がある。
次に、図5を用いて、実施形態の変形例のシャワーヘッド131について説明する。図5は、実施形態の変形例にかかるシャワーヘッド131の吐出口133付近を拡大して示す断面図である。変形例のシャワーヘッド131は、吐出口133の形状が実施形態のシャワーヘッド31とは異なる。
上述の実施形態等では、イットリア膜30,130をプラズマ溶射により形成するものとしたがこれに限られない。イットリア膜は、例えばCVD(Chemical Vapor Deposition)、エアロゾルデポジション(Aerosol Deposition)、コールドスプレイ、ガスデポジション、静電微粒子衝撃コーティング、衝撃焼結等の他の手法によっても形成することができる。
Claims (5)
- 上流側から下流側へとガスを流通可能なガス流路、
前記ガス流路の下流側に前記ガス流路の延在方向と交わる向きに配置された主面、及び、
前記ガス流路と前記主面とを接続する吐出口、を有する母材と、
イットリア、オキシフッ化イットリウム、フッ化イットリウム、アルミナ、及び窒化アルミニウムの少なくとも1種を含有し、前記母材の前記主面および前記吐出口の表面を覆う膜と、を備え、
前記膜は、
前記膜の表面が前記主面の法線に対して45°以上75°以下で法線が交わる面方位部分を有することなく、前記主面および前記吐出口の表面を覆っている、
ガス供給部材。 - 上流側から下流側へとガスを流通可能なガス流路、
前記ガス流路の下流側に前記ガス流路の延在方向と交わる向きに配置された主面、及び、
前記ガス流路と前記主面とを接続する吐出口、を有する母材と、
イットリア、オキシフッ化イットリウム、フッ化イットリウム、アルミナ、及び窒化アルミニウムの少なくとも1種を含有し、前記母材の前記主面および前記吐出口の表面を覆う膜と、を備え、
前記吐出口の表面は、
前記主面の法線に対して45°以上75°以下で法線が交わる面方位部分を有し、
前記膜の膜厚は、
前記吐出口の表面の前記主面の法線に対して45°以上75°以下で法線が交わる面方位部分のうちの少なくとも1つの部分上で最大となる、
ガス供給部材。 - 前記吐出口は、
前記主面から前記ガス流路へと至る曲面状または平面状の表面を有し、
前記吐出口の表面を覆う前記膜は、
前記主面に沿う方向に延在する第1の面と、
前記ガス流路の延在方向に沿う方向に延在する第2の面と、
前記第1の面と前記第2の面とが交わって形成される頂角と、を有する、
請求項1または請求項2に記載のガス供給部材。 - 基板を処理する処理容器と、
前記処理容器内に電力を供給してプラズマを生成する電源と、
前記基板が載置される基板載置台と、
前記基板載置台に対向して配置される、請求項1乃至請求項3のいずれか1項に記載のガス供給部材と、を備える、
プラズマ処理装置。 - ガスを流通可能なガス流路と、
前記ガス流路の延在方向と交わる向きに配置された主面と、
前記ガス流路と前記主面とを接続する吐出口と、を有する母材に対し、
イットリア、オキシフッ化イットリウム、フッ化イットリウム、アルミナ、及び窒化アルミニウムの少なくとも1種を含有し、前記母材の前記主面および前記吐出口の表面を覆う膜を形成するコーティング膜の形成方法であって、
イットリア、オキシフッ化イットリウム、フッ化イットリウム、アルミナ、及び窒化アルミニウムの少なくとも1種を含有し、前記吐出口の表面上の膜厚が前記主面上の膜厚より厚い第1の膜を形成し、
イットリア、オキシフッ化イットリウム、フッ化イットリウム、アルミナ、及び窒化アルミニウムの少なくとも1種を含有し、前記主面上の膜厚が前記吐出口の表面上の膜厚より厚い第2の膜を前記第1の膜上に形成し、
前記主面側の膜の表面が前記主面に沿う方向に延在して形成されるように、前記第1の膜および前記第2の膜を前記主面側から研磨する、
コーティング膜の形成方法。
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