JP2020116742A - 車載用電子制御装置の製造方法 - Google Patents
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Description
少なくとも一面上に複数の電子部品が搭載された配線基板を、封止用成形材料を用いて封止する車載用電子制御装置の製造方法であって、
前記配線基板を金型の成形空間中に配置するとともに、前記配線基板の前記一面および前記一面とは反対側の他面の少なくとも一方をピンで固定する配置工程と、
溶融状態の前記封止用成形材料を前記金型のゲートから注入して、前記成形空間を充填する充填工程と、
前記成形空間内に充填された前記封止用成形材料を加熱加圧して、前記封止用成形材料により前記配線基板を封止する封止工程と、
を含む、車載用電子制御装置の製造方法が提供される。
本実施形態の車載用電子制御装置の製造方法は、少なくとも一面(上面20)上に複数の電子部品16が搭載された配線基板12を、封止用成形材料を用いて封止するものである。
この車載用電子制御装置の製造方法は、配線基板12を金型100の成形空間102中に配置するとともに、配線基板12の一面(上面20)および一面とは反対側の他面(下面22)の少なくとも一方をピン104で固定する配置工程と、溶融状態の封止用成形材料を金型100のゲート110から注入して、成形空間102を充填する充填工程と、成形空間102内に充填された封止用成形材料を加熱加圧して、封止用成形材料により配線基板12を封止する封止工程と、を含む。
配線基板に反りが生じると、配線基板上に搭載された素子などの電子部品においてダメージが生じる恐れがあることが分かった。また、使用環境下が高温の場合や高温と低温とを繰り返し変動する場合など、このような配線基板の反りによる影響が大きくなる。
そこで、このような事情を踏まえ鋭意検討した結果、配線基板の少なくとも一面をピンで固定しつつ、封止用成形材料を充填し、加熱加圧して封止することにより、配線基板に発生する反りを抑制できることが見出された。これにより、信頼性に優れた車載用電子制御装置が製造できる。
本実施形態における成形方法としては、公知のものが用いられるが、例えば、トランスファー成形、インジェクション成形、またはコンプレッション成形などが使用でき、好ましくはトランスファー成形またはインジェクション成形を使用できる。
トランスファー成形の場合、上記成形空間102にかかる内圧の上限値は、例えば、6MPa以下、好ましくは5MPa以下、より好ましくは4MPa以下である。成形圧を比較的低圧とすることで、基板の反りを抑制できる。
また、インジェクション成形の場合、上記成形空間102にかかる内圧の上限値は、例えば、50MPa以下、好ましくは10MPa以下、より好ましくは6MPa以下である。成形圧を比較的低圧とすることで、基板の反りを抑制できる。
一方、上記成形空間102にかかる内圧の下限値は、特に限定されないが、例えば、0.5MPa以上、好ましくは1.0MPa以上、より好ましくは2.0MPa以上でもよい。これにより、封止用成形材料の成形性を向上できる。
本実施形態の一例に係る車載用電子制御装置10は、例えば、配線基板12と、配線基板12の少なくとも一面に搭載された複数の電子部品16と、電子部品16を封止する封止樹脂部材14と、配線基板12に設けられた外部と接続するための接続端子18と、を備えるものである。封止樹脂部材14は、上記封止用成形材料の硬化物で構成される。
上記ソルダーレジスト層は、半導体装置の分野において通常使用されるソルダーレジスト形成用樹脂組成物を用いて形成することができる。たとえば配線基板12の一面および他面にソルダーレジスト層を設けることができる。
次に、本実施形態の封止用成形材料について説明する。
本実施形態の封止用成形材料は、熱硬化性樹脂を含む熱硬化性樹脂組成物を用いてもよい。
上記フェノール類の一例としては、特に限定されないが、例えば、フェノール;オルソクレゾール、メタクレゾール、パラクレゾール等のクレゾール;2、3−キシレノール、2、4−キシレノール、2、5−キシレノール、2、6−キシレノール、3、5−キシレノール等のキシレノール;2,3,5−トリメチルフェノール、2−エチルフェノール、4−エチルフェノール、2−イソプロピルフェノール、4−イソプロピルフェノール、n−ブチルフェノール、イソブチルフェノール、tert−ブチルフェノール、ヘキシルフェノール、オクチルフェノール、ノニルフェノール、フェニルフェノール、ベンジルフェノール、クミルフェノール、アリルフェノール、カルダノール、ウルシオール、ラッコール等のアルキルフェノール;1−ナフトール、2−ナフトール等のナフトール;フルオロフェノール、クロロフェノール、ブロモフェノール、ヨードフェノール等のハロゲン化フェノール、p−フェニルフェノール、アミノフェノール、ニトロフェノール、ジニトロフェノール、トリニトロフェノール等の1価フェノール置換体;ビスフェノールS、ビスフェノールF、ビスフェノールA、ビスフェノールC、ビスフェノールZ、ビスフェノールE等のビスフェノール;レゾルシン、アルキルレゾルシン、ピロガロール、カテコール、アルキルカテコール、ハイドロキノン、アルキルハイドロキノン、フロログルシン、ジヒドロキシナフタリン、ナフタレン等の多価フェノール;などが挙げられる。これらを単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。これらの中でも、フェノール類は、フェノール、クレゾール、キシレノール、アルキルフェノールおよびビスフェノールからなる群より選ばれる1種以上を含むことができ、安価な観点から、フェノール、クレゾール、ブチルフェノール、ビスフェノールAを用いることができる。
上記アルカリ性触媒としては、特に限定はされないが、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化リチウム、水酸化カリウム、アンモニア水、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、メチルエチルアミン、トリエチルアミンなどのアミン、カルシウム、マグネシウム、バリウムなどのアルカリ土類金属の酸化物及び水酸化物、炭酸ナトリウム、ヘキサメチレンテトラミンなどのアルカリ性物質を用いることができる。これらを単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。例えば、水酸化ナトリウムを用いてもよい。
上記亜鉛系触媒としては、特に限定されず、二価金属塩触媒であればいずれも使用できるが、例えば、酢酸亜鉛や蟻酸亜鉛等を用いることができる。これらを単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。例えば、酢酸亜鉛の水和物を用いてもよい。
上記無機充填材としては、例えば、タルク、焼成クレー、未焼成クレー、マイカ、酸化チタン、アルミナ、シリカ、炭酸カルシウム、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、硫酸バリウム、硫酸カルシウム、亜硫酸カルシウム、ホウ酸亜鉛、メタホウ酸バリウム、ホウ酸アルミニウム、ホウ酸カルシウム、ホウ酸ナトリウム、窒化アルミニウム、窒化ホウ素、窒化ケイ素等が用いられる。これらを単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。
上記シリカ粒子の平均粒子径d50は、例えば、3μm〜50μm、好ましくは5μm〜40μm、より好ましくは10μm〜30μmである。適切な平均粒子径d50とすることで、幅狭領域に対する封止用成形材料の充填性を高めることができる。
実質的に含まないとは、無機充填材全体(100質量%)に対する含有量が、0.1質量%以下、好ましくは0質量%以下を意味する。
上記硬化促進剤としては、アミン系硬化剤を用いることができる。
上記アミン系硬化剤としては、例えば、エチレンジアミン(EDA)、ジエチレントリアミン(DETA)、トリエチレンテトラミン(TETA)、メンセンジアミン(MDA)、4,4−ジアミノジフェニルメタン(DDM)、メタフェニレンジアミン(DPDA)、ジアミノジフェニルスルフォン(DDS)、トリエチルアミン、ベンジルジメチルアミン、1,8−ジアザビスシクロ(5,4,0)ウンデセン−1(DBU)、ピラゾール、ベンゾトリアゾール、トリアゾールなどが挙げられる。また、2−メチルイミダゾール、2−ウンデシルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール、2−フェニル−4−メチルイミダゾール、2,4’−ジアミノ−6−[2’−エチル−4’−メチルイミダゾリル−(1’)]エチル−s−トリアジン、2−メチルイミダゾール・イソシアヌル酸付加物、2−メチルイミダゾール・トリメリット酸付加物等のイミダゾール系化合物が用いられる。これらを単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。
上記硬化促進剤としては、酸化マグネシウム、水酸化カルシウム等が用いられる。これらを単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。
上記離型剤としては、例えば、カルナバワックス等の天然ワックス、モンタン酸エステルワックス等の合成ワックス、ステアリン酸亜鉛等の高級脂肪酸およびその金属塩類、ならびにパラフィン等を用いることができる。
上記シランカップリング剤としては、例えば、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシランなどのエポキシ基含有アルコキシシラン化合物;γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリエトキシシランなどのメルカプト基含有アルコキシシラン化合物;γ−ウレイドプロピルトリエトキシシラン、γ−ウレイドプロピルトリメトキシシラン、γ−(2−ウレイドエチル)アミノプロピルトリメトキシシランなどのウレイド基含有アルコキシシラン化合物;γ−イソシアナトプロピルトリエトキシシラン、γ−イソシアナトプロピルトリメトキシシラン、γ−イソシアナトプロピルメチルジメトキシシラン、γ−イソシアナトプロピルメチルジエトキシシラン、γ−イソシアナトプロピルエチルジメトキシシラン、γ−イソシアナトプロピルエチルジエトキシシラン、γ−イソシアナトプロピルトリクロロシランなどのイソシアナト基含有アルコキシシラン化合物;γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−(2−アミノエチル)アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−(2−アミノエチル)アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシランなどのアミノ基含有アルコキシシラン化合物;γ−ヒドロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−ヒドロキシプロピルトリエトキシシランなどの水酸基含有アルコキシシラン化合物などが挙げられる。これらを単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。
上記顔料としては、例えば、カーボンブラック、ニグロシンを用いることができる。
ラボプラストミルを用いて、回転数30rpm、測定温度150℃の条件で、当該封止用成形材料のトルク値を経時的に測定する。
図3に示すように、ラボプラストミル測定の測定開始点をP1とし、トルク値が最低トルク値となる点をP3とし、P1からP3に至る間においてトルク値が最低トルク値の2倍となる点をP2とし、P3を経た後にトルク値が最低トルク値の2倍となる点をP4とする。
ラボプラストミル測定の測定開始点P1は、ラボプラストミルに材料を投入し、急激にトルクが立ち上がった後、トルクが下がり始める点とする。
P3からP4までの時間を、トルク値が最低トルク値の2倍以下である時間T1とする。
まず、表1に示す配合に従って、各成分を、室温状態に設定したヘンシェルミキサー(容量200リットル、回転数900rpm)で20分間予備混合した。次いで、得られた混合物を、連続式回転ボールミル(日本コークス工業(株)製ダイナミックミルMYD25、スクリュー回転数500rpm、アルミナ製ボール径10mm、装置容積に対するボールの体積充填率50%)を用いて、材料供給量200kg/hrで材料温度を30℃以下に保ちながら微粉砕した。次いで、微粉砕された混合物を、単軸押出混練機(スクリュー径D=46mm、押出機長さ=500mm、溶融混練部長さ=7D、スクリュー回転数200rpm、吐出量30kg/hr)を用いて溶融混練した。次いで、混練後の混合物を冷却し、粉砕して封止用成形材料を得た。なお、ヘンシェルミキサーによる予備混合から、封止用成形材料を得るまでの各工程は、連続的に行った。
・レゾール型フェノール樹脂1:レゾール型フェノール樹脂(住友ベークライト社製、R−25)
・レゾール型フェノール樹脂2:レゾール型フェノール樹脂(住友ベークライト社製、PR−51723)
・ノボラック型フェノール樹脂1:ノボラック型フェノール樹脂(住友ベークライト社製、PR−51470)
・硬化助剤1:消石灰
・無機充填材1:球状シリカ(電気化学工業社製、FB−950、平均粒子径D50=26μm)
・無機充填材2:破砕シリカ(龍森製社製、RD−8、平均粒子径D50=15μm)
・無機充填材3:炭酸カルシウム(日東粉化社製)
・離型剤1:モンタン酸エステルワックス(クラリアントジャパン社製、リコルブWE−4)
・シランカップリング剤1:γ−アミノプロピルトリエトキシシラン(信越化学工業社製、KBE−903)
・顔料1:カーボンブラック(三菱化学社製、#5)
ラボプラストミル(東洋精機製作所社製、4C150)を用いて、回転数30rpm、測定温度150℃の条件で、得られた封止用成形材料のトルク値を経時的に測定した。
図3に示すように、ラボプラストミル測定の測定開始点をP1とし、トルク値が最低トルク値となる点をP3とし、P1からP3に至る間においてトルク値が最低トルク値の2倍となる点をP2とし、P3を経た後にトルク値が最低トルク値の2倍となる点をP4とした。
ラボプラストミル測定の測定開始点P1は、ラボプラストミルに材料を投入し、急激にトルクが立ち上がった後、トルクが下がり始める点とした。P3からP4までの時間を、トルク値が最低トルク値の2倍以下である時間T1とした。結果を表1に示す。時間T1の単位は秒であり、最低トルク値の単位はN・mである。
(実施例1)
ガラスエポキシ銅張積層板(パナソニック(株)製、R−1705、基板厚み1.6mm)にソルダーレジスト((株)タムラ製作所製、DSR−2200S66−11)を印刷、硬化して得た(縦130mm、幅80mm)を準備した。また、上側ゲートおよび下側ゲートの2つのゲート、10つのピンを備える金型(図1(a)、(b))を準備した。
準備した基板を、金型中の成形空間内に配置し、基板の上面と下面とをそれぞれ5カ所ずつ、合計10カ所ピンで固定した。
続いて、上記で得られた封止用成形材料を用いて、東洋機械金属(株)製80ton電動トランスファー成形機により、金型温度165℃、保圧時間250秒、硬化時間300秒として成形し、成形物を得た。このとき、上側ゲートおよび下側ゲートの両方のゲートから、表1に示す注入速度で封止用成形材料を成形空間内に充填し、表1に示す成形圧(成形空間にかかる内圧)で加熱加圧を行った。
得られた成形物の封止樹脂部は、縦120mm、幅90mm、厚さ9.6mmであり、基板の縦105mmまでが封止樹脂中に封入され、一辺から基板の縦15mmが露出していた。また、基板上面側・下面側の樹脂厚みはともに4mmであった。
表1に示す封止用成形材料、および成形条件を用いた以外は、実施例1と同様にして、成形物を得た。
(反り測定方法)
得られた成形物中の基板の反りについて、測定装置:ヤマト科学株式会社製TDM1000H−II(2K)を使用して測定した。
このときの測定条件は次の通りであった。X線を使用し、X線管電圧:45kV,X線管電流:0.09mAを採用した。スキャンパラメータとしては1回転当たりのビュー数を1000とし、フレーム平均数/ビュー数を5とした。
基板反りの評価部位としては、ゲートから樹脂が流入する方向の基板断面を対象とした。この基板断面におけるエッジ部の基板反りを評価した。
基板反り量は、上記の基板断面において、基板底面の両末端におけるZ位置の差を測定する事で算出した。反り量が200μm以下の場合を〇、200μm超え400μm以下の場合を△、400μm超えの場合を×とした。評価結果を表1に示す。
12 配線基板
14 封止樹脂部材
16 電子部品
18 接続端子
20 上面
22 下面
100 金型
102 成形空間
104 ピン
106 上側ゲート
108 下側ゲート
110 ゲート
120 スルーホール
Claims (8)
- 少なくとも一面上に複数の電子部品が搭載された配線基板を、封止用成形材料を用いて封止する車載用電子制御装置の製造方法であって、
前記配線基板を金型の成形空間中に配置するとともに、前記配線基板の前記一面および前記一面とは反対側の他面の少なくとも一方をピンで固定する配置工程と、
溶融状態の前記封止用成形材料を前記金型のゲートから注入して、前記成形空間を充填する充填工程と、
前記成形空間内に充填された前記封止用成形材料を加熱加圧して、前記封止用成形材料により前記配線基板を封止する封止工程と、
を含む、車載用電子制御装置の製造方法。 - 請求項1に記載の車載用電子制御装置の製造方法であって、
前記充填工程において、前記金型は複数の前記ゲートを備えるものであり、前記成形空間内に配置された前記配線基板の上側に位置する上側ゲートと、その下側に位置する下側ゲートとの両方のゲートを介して、前記成形空間内に前記封止用成形材料を注入する、車載用電子制御装置の製造方法。 - 請求項1または2に記載の車載用電子制御装置の製造方法であって、
前記配置工程において、前記配線基板の前記一面および前記他面のそれぞれを、複数の前記ピンで固定する、車載用電子制御装置の製造方法。 - 請求項1〜3のいずれか一項に記載の車載用電子制御装置の製造方法であって、
前記充填工程において、前記封止用成形材料の注入速度が、5cm3/s以上50cm3/s以下である、車載用電子制御装置の製造方法。 - 請求項1〜4のいずれか一項に記載の車載用電子制御装置の製造方法であって、
前記封止工程において、前記成形空間にかかる内圧が、0.5MPa以上である、車載用電子制御装置の製造方法。 - 請求項1〜5のいずれか一項に記載の車載用電子制御装置の製造方法であって、
ラボプラストミルを用いて、回転数30rpm、測定温度150℃の条件で測定される、前記封止用成形材料の最低トルク値が0.5N・m以上4.5N・m以下である、
車載用電子制御装置の製造方法 - 請求項1〜6のいずれか一項に記載の車載用電子制御装置の製造方法であって、
下記の手順で測定される、前記封止用成形材料のトルク値が最低トルク値の2倍以下である時間T1が5秒以上50秒以下である、
車載用電子制御装置の製造方法。
(手順)
ラボプラストミルを用いて、回転数30rpm、測定温度150℃の条件で、当該封止用成形材料のトルク値を経時的に測定する。
ラボプラストミル測定の測定開始点をP1とし、トルク値が最低トルク値となる点をP3とし、P1からP3に至る間においてトルク値が最低トルク値の2倍となる点をP2とし、P3を経た後にトルク値が最低トルク値の2倍となる点をP4とする。
ラボプラストミル測定の測定開始点P1は、ラボプラストミルに材料を投入し、急激にトルクが立ち上がった後、トルクが下がり始める点とする。
P3からP4までの時間を、トルク値が最低トルク値の2倍以下である時間T1とする。 - 請求項1〜7のいずれか一項に記載の車載用電子制御装置の製造方法であって、
トランスファー成形またはインジェクション成形を用いる、車載用電子制御装置の製造方法。
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