JP2020111784A - 合金薄帯の製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
ここで、図1(a)〜図1(c)は、本実施形態に係る合金薄帯の製造方法の一例を示す概略工程図である。図2は、図1(c)に示される第2熱処理工程を示す模式図である。図3(a)及び図3(b)は、図1(c)に示される第2熱処理工程による結晶化反応の様子を示す模式図である。図4は、図1に示される合金薄帯の製造方法での積層体における各アモルファス合金薄帯の温度プロファイルを模式的に示すグラフである。図4のグラフには、積層体の積層方向の一方の端から1番目、2番目、及び3番目の合金薄帯を含む各合金薄帯の中心位置の温度プロファイルを一部省略して示す。図5は、示差走査型熱量分析計(DSC)により測定されるアモルファス合金のDSC曲線を示すグラフである。
準備工程においては、複数のアモルファス合金薄帯が積層された積層体を準備する。
第1熱処理工程においては、前記積層体を、前記アモルファス合金薄帯の結晶化開始温度未満の第1温度域に加熱する。具体的には、例えば、積層体における全てのアモルファス合金薄帯の全体の温度が第1温度域となるように、積層体の全体を均熱する。
第2熱処理工程においては、前記第1熱処理工程後、前記積層体の端部を前記結晶化開始温度以上の第2温度域に加熱する。具体的には、第1熱処理工程後、積層体の当該端部以外の部分を結晶化開始温度未満の温度域に維持したまま、積層体の端部を結晶化開始温度以上の第2温度域に加熱し、第2温度域において結晶化に必要な時間保持することにより、積層体の端部のアモルファス合金を結晶化してナノ結晶合金にする。
本実施形態に係る合金薄帯の製造方法においては、前記第1熱処理工程後、前記第2熱処理工程で前記積層体の端部を前記第2温度域に加熱することにより結晶化可能な温度域(以下、「結晶化可能温度域」と略すことがある。)に前記積層体が維持されるように、前記積層体の周囲の雰囲気温度を保持する。言い換えると、第1熱処理工程後においては、第2熱処理工程で積層体の端部を第2温度域に加熱することにより積層体の結晶化が起こり得る温度域に、積層体が維持されるように、積層体の周囲の雰囲気温度を保持する。具体的には、第1熱処理工程後、積層体における合金薄帯の非晶質の部分が結晶化可能温度域に維持されるように、雰囲気温度を保持する。
本実施形態に係る合金薄帯の製造方法においては、前記第1熱処理工程で前記積層体を前記第1温度域に加熱するために必要な熱量をQ1とし、前記第2熱処理工程で前記積層体の端部を前記第2温度域に加熱する場合に前記積層体に与える熱量をQ2とし、前記積層体が結晶化する際に放出する熱量をQ3とし、前記積層体の全体を前記結晶化開始温度にするために必要な熱量をQ4とした場合に、下記式(1)を満たす。下記式(1)を満たさない場合には、積層体の全体を結晶化できないおそれがある。なお、Q4は、より具体的には、第1熱処理工程で積層体がQ1により加熱され、第2熱処理工程で積層体の端部がQ2により加熱され、第2熱処理工程後に積層体がQ3により加熱される場合の積層体の温度履歴において、積層体の全体を、第1熱処理工程でQ1により加熱される前の状態から結晶化開始温度にするために必要な熱量である。Q4は、例えば、上記場合において、特に、Q1及びQ2により加熱される以外に積層体と外部との間の熱移動がない場合の積層体の温度履歴において、積層体の全体を、第1熱処理工程でQ1により加熱される前の状態から結晶化開始温度にするために必要な熱量である。
本実施形態に係る合金薄帯の製造方法においては、積層体を第2温度域に加熱した端部から結晶化することにより、積層体における複数のアモルファス合金薄帯が結晶化した複数のナノ結晶合金薄帯を製造する。
本実施形態に係る合金薄帯の製造方法の他の態様について説明する。図10(a)及び図10(b)は、本実施形態に係る合金薄帯の製造方法の他の例を示す概略工程図である。
第2熱処理工程で積層体の積層方向の端部を加熱する合金薄帯の製造方法の実施例を説明する。
上述した合金薄帯の製造方法のCAE(Computer Aided Engineering)を用いたシミュレーションを実施した。以下、具体的に説明する。
本シミュレーションに使用するアモルファス合金薄帯の積層体の計算モデルとして、図11に示される形状を有する積層体の計算モデルM10を作製した。積層体の計算モデルM10は、ステータコアに用いられる積層体のティース部分(計算モデルM10のティース部分M10Tに対応)に位置する対称面(計算モデルM10の対称面MSに対応)で分割した形状を有し、積層体を複数のアモルファス合金薄帯が一体化されたものに簡略化した上で、積層方向に隣接するアモルファス合金薄帯の間の熱移動を考慮してモデル化したものである。
化合物相析出開始温度:530℃
熱伝導率(積層方向):4W/mK
結晶化に伴う放出熱量:90J/g
合金薄帯の外周の一部に対応する部分の長さL1:14mm
合金薄帯の内周の一部に対応する部分の長さL2:9mm
径方向の幅W1:40mm
ティース部分M10Tの径方向の長さLt1:35mm
ティース部分M10Tの間の溝の周方向の幅Wt1:5mm
CAEを用いたシミュレーションは下記条件で実施した。
本シミュレーションにより、第2熱処理工程で積層体の計算モデルM10の積層方向の上端部M10aを結晶化開始温度以上の温度域に加熱した後における積層体の計算モデルM10の各位置の温度変化を解析した。図11は、実施例1−1における上端部を加熱してから400秒経過後における積層体の計算モデルの各位置の温度を画像で示す図である。また、図12は、実施例1−1における積層体の計算モデルの積層方向の上端部、中央部、及び下端部の温度変化を示すグラフである。
上述した合金薄帯の製造方法の実験を実施した。以下、具体的に説明する。
本実験に使用するアモルファス合金薄帯の積層体として、ステータコアに用いられる形状を有する積層体を作製した。
合金薄帯の形状:サイズ(縦×横)が50mm×50mmの矩形
積層枚数:500枚
図13(a)は、実施例1−2における合金薄帯の製造方法の実験設備を示す写真であり、図13(b)は、実施例1−2における合金薄帯の製造方法の実験を示す模式図である。本実験は、図13(a)に示される実験設備100を用いて、図13(b)に模式的に示されるように行った。
本実験により、第2熱処理工程で積層体10の積層方向の上端のアモルファス合金薄帯を加熱した後における積層体10の積層方向の各位置の合金薄帯の温度変化を測定した。図14(a)及び図14(b)は、実施例1−2における積層体の積層方向の上端の合金薄帯及び下端の合金薄帯の温度変化を示すグラフである。
第2熱処理工程で積層体の平面方向の端部を加熱する合金薄帯の製造方法の実施例を説明する。
上述した合金薄帯の製造方法のCAE(Computer Aided Engineering)を用いたシミュレーションを実施した。以下、具体的に説明する。
本シミュレーションに使用するアモルファス合金薄帯の積層体の計算モデルとして、図15に示される形状を有する積層体の計算モデルM12を作製した。積層体の計算モデルM12は、ステータコアに用いられる積層体における1枚のアモルファス合金薄帯のティース部分(計算モデルM12のティース部分M12Tに対応)及びバックヨーク部分(計算モデルM12のバックヨーク部分M12Yに対応)の対称面(計算モデルM12の対称面MSに対応)で分割した形状を有し、その1枚のアモルファス合金薄帯の積層方向の両側にあるアモルファス合金薄帯との間の熱移動を考慮してモデル化したものである。
化合物相析出開始温度:530℃
熱伝導率:10W/mK
結晶化に伴う放出熱量:90J/g
積層方向の両側に隣接するアモルファス合金薄帯との間の熱伝達係数:50W/(m2K)
合金薄帯の外周の一部に対応する部分の長さL3:7mm
合金薄帯の内周の一部に対応する部分の長さL4:3mm
径方向の幅W2:35mm
ティース部分M12Tの径方向の長さLt2:20mm
ティース部分M12Tの間の溝の周方向の幅Wt2:2mm
CAEを用いたシミュレーションは実施例1−1と同一の条件で実施した。
本シミュレーションにより、第2熱処理工程で積層体の計算モデルM12の平面方向の内周側端部M12aを結晶化開始温度以上の温度域に加熱した後における積層体の計算モデルM12の各位置の温度変化を解析した。図15は、実施例2−1における内周側端部を加熱してから20秒経過後における積層体の計算モデルの各位置の温度を画像で示す図である。また、図16は、実施例2−1における積層体の計算モデルの平面方向の中央部の温度変化を示すグラフである。
上述した合金薄帯の製造方法の実験を実施した。以下、具体的に説明する。
本実験に使用するアモルファス合金薄帯の積層体として、ステータコアに用いられる形状を有する積層体を作製した。
合金薄帯の形状:サイズ(縦×横)が50mm×50mmの矩形
積層枚数:500枚
図17(a)及び図17(b)は、実施例2−2における合金薄帯の製造方法の実験を示す模式図である。
本実験により、第2熱処理工程で積層体10の平面方向の一方の端部を加熱した後における積層体10の合金薄帯の平面方向の各位置の温度変化を測定した。図18は、実施例2−2における積層体の合金薄帯の平面方向の中央部の温度変化を示すグラフである。
本実施形態の参考のために、均熱処理により積層体の結晶化に必要な熱量を与える合金薄帯の製造方法の参考例を説明する。
10 積層体
20 加熱炉
20a 第1加熱炉
20b 第2加熱炉
30 高温熱源
40 放熱用部材
Claims (5)
- 複数のアモルファス合金薄帯が積層された積層体を準備する準備工程と、
前記積層体を、前記アモルファス合金薄帯の結晶化開始温度未満の第1温度域に加熱する第1熱処理工程と、
前記第1熱処理工程後、前記積層体の端部を前記結晶化開始温度以上の第2温度域に加熱する第2熱処理工程と、
を備え、
前記第1熱処理工程後、前記第2熱処理工程で前記積層体の端部を前記第2温度域に加熱することにより結晶化可能な温度域に前記積層体が維持されるように、前記積層体の周囲の雰囲気温度を保持し、
前記第1熱処理工程で前記積層体を前記第1温度域に加熱するために必要な熱量をQ1とし、前記第2熱処理工程で前記積層体の端部を前記第2温度域に加熱する場合に前記積層体に与える熱量をQ2とし、前記積層体が結晶化する際に放出する熱量をQ3とし、前記積層体の全体を前記結晶化開始温度にするために必要な熱量をQ4とした場合に、下記式(1)を満たすことを特徴とする合金薄帯の製造方法。
Q1+Q2+Q3≧Q4 (1) - 前記第2熱処理工程においては、前記端部として、前記積層体の積層方向の端部を加熱することを特徴とする請求項1に記載の合金薄帯の製造方法。
- 前記第2熱処理工程においては、前記積層体を前記積層方向に加圧した状態で前記積層方向の前記端部を加熱することを特徴とする請求項1に記載の合金薄帯の製造方法。
- 前記第2熱処理工程においては、前記端部として、前記積層体の平面方向の端部を加熱することを特徴とする請求項1から3のいずれか一項に記載の合金薄帯の製造方法。
- 前記積層体における前記端部とは反対側の端に放熱用部材を接触させた状態とする放熱工程をさらに備えることを特徴とする請求項1から4のいずれか一項に記載の合金薄帯の製造方法。
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