JP2020109786A5 - - Google Patents

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Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7195841B2 (ja) * 2018-09-21 2022-12-26 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス 基板処理装置
JP7190900B2 (ja) * 2018-12-28 2022-12-16 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス 基板処理装置、キャリア搬送方法およびキャリアバッファ装置
JP7114456B2 (ja) * 2018-12-28 2022-08-08 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス 基板処理装置および基板搬送方法
JP7571498B2 (ja) * 2020-11-25 2024-10-23 東京エレクトロン株式会社 基板処理装置及び基板処理方法
JP7545890B2 (ja) * 2020-12-28 2024-09-05 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス 基板処理システムおよび基板処理方法
US12237179B2 (en) * 2021-08-12 2025-02-25 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. Fittings for wafer cleaning systems
TWI854473B (zh) * 2023-02-04 2024-09-01 矽品精密工業股份有限公司 半導體封裝製程之工作系統及其運作方法
JP2025004974A (ja) 2023-06-27 2025-01-16 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス 基板処理システム

Family Cites Families (24)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW297910B (https=) 1995-02-02 1997-02-11 Tokyo Electron Co Ltd
JP3483693B2 (ja) * 1995-02-02 2004-01-06 東京エレクトロン株式会社 搬送装置，搬送方法及び処理システム
TW333658B (en) * 1996-05-30 1998-06-11 Tokyo Electron Co Ltd The substrate processing method and substrate processing system
JP4021118B2 (ja) * 1999-04-28 2007-12-12 東京エレクトロン株式会社 基板処理装置
SG106599A1 (en) * 2000-02-01 2004-10-29 Tokyo Electron Ltd Substrate processing apparatus and substrate processing method
KR100542630B1 (ko) * 2004-04-28 2006-01-11 세메스 주식회사 반도체 제조 설비
KR20070023191A (ko) * 2005-08-23 2007-02-28 삼성전자주식회사 멀티챔버시스템 및 이를 사용한 공정제어방법
JP4667252B2 (ja) 2006-01-16 2011-04-06 株式会社Sokudo 基板処理装置
JP2007191235A (ja) * 2006-01-17 2007-08-02 Murata Mach Ltd 天井走行車システム
JP4744427B2 (ja) * 2006-12-27 2011-08-10 大日本スクリーン製造株式会社 基板処理装置
JP4473343B2 (ja) 2007-11-09 2010-06-02 キヤノンアネルバ株式会社 インライン型ウェハ搬送装置
KR100921638B1 (ko) * 2007-12-26 2009-10-14 주식회사 케이씨텍 습식 세정 장치
JP5318005B2 (ja) 2010-03-10 2013-10-16 株式会社Ｓｏｋｕｄｏ 基板処理装置、ストッカー装置および基板収納容器の搬送方法
US8985929B2 (en) * 2011-09-22 2015-03-24 Tokyo Electron Limited Substrate processing apparatus, substrate processing method and storage medium
JP5385965B2 (ja) 2011-12-05 2014-01-08 大日本スクリーン製造株式会社 基板処理装置
JP5880247B2 (ja) * 2012-04-19 2016-03-08 東京エレクトロン株式会社 基板処理装置、基板処理方法及び記憶媒体
JP2014003164A (ja) 2012-06-19 2014-01-09 Tokyo Electron Ltd 半導体装置の製造方法及び半導体装置並びに半導体装置の製造システム
CN105917019A (zh) 2014-02-04 2016-08-31 应用材料公司 用于有机材料的蒸发源、具有用于有机材料的蒸发源的设备、具有带有用于有机材料的蒸发源的蒸发沉积设备的系统以及用于操作用于有机材料的蒸发源的方法
JP6803701B2 (ja) * 2016-08-23 2020-12-23 東京エレクトロン株式会社 基板処理装置、基板処理方法及び記録媒体
JP7190900B2 (ja) * 2018-12-28 2022-12-16 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス 基板処理装置、キャリア搬送方法およびキャリアバッファ装置
JP7114456B2 (ja) * 2018-12-28 2022-08-08 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス 基板処理装置および基板搬送方法
JP7181081B2 (ja) * 2018-12-28 2022-11-30 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス 基板処理装置および基板搬送方法
JP7175191B2 (ja) * 2018-12-28 2022-11-18 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス 基板処理装置および基板搬送方法
JP7221048B2 (ja) * 2018-12-28 2023-02-13 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス 基板処理装置および基板搬送方法

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