JP2020092140A - 位置測定装置、及び、位置測定方法 - Google Patents
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【課題】少ないプロセスで測定対象の3次元位置を測定する技術を提供する。【解決手段】例示的実施形態に係る位置測定装置は測定対象の位置を測定する。位置測定装置は撮像装置と測距装置とを備える。撮像装置は予め設定された測定位置に配置された測定対象の平面像を取得する。測距装置は平面像の平面に交差する方向における位置であって測定位置に配置された測定対象の位置を測距する。撮像装置及び測距装置は測定位置に配置された測定対象に同時に対向するように設けられている。【選択図】図1
Description
本開示の例示的実施形態は、位置測定装置、及び、位置測定方法に関する。
プローブ装置に配置されるウエハの電極等の位置を検出する技術の一例が、特許文献1等に開示されている。特許文献1には検査装置および位置ずれ量取得方法に係る技術が開示されている。特許文献1の技術では、既存の針痕が形成されたパッドにプローブが接触した後に、基板を撮像してパッドを含む領域を示す接触後画像を取得する。画像記憶部は、プローブのパッドへの接触前のパッドを含む領域を示す接触前画像を、予め記憶する。最新針痕位置取得部は、接触前画像と接触後画像とを比較することによって、パッド上の複数の針痕にそれぞれ対応する接触後画像中の複数の針痕領域のうちプローブのパッドへの接触による最新の針痕領域の位置を取得する。
本開示は、少ないプロセスで測定対象の3次元位置を測定する技術を提供する。
例示的実施形態において、位置測定装置が提供される。位置測定装置は、測定対象の位置を測定する。位置測定装置は、撮像装置と測距装置とを備える。撮像装置は、予め設定された測定位置に配置された測定対象の平面像を取得する。測距装置は、平面像の平面に交差する方向における位置であって測定位置に配置された測定対象の位置を測距する。撮像装置及び測距装置は、測定位置に配置された測定対象に同時に対向するように設けられている。
例示的実施形態によれば、少ないプロセスで測定対象の3次元位置を測定し得る。
最初に本開示の種々の例示的実施形態を列記して説明する。例示的実施形態において、位置測定装置が提供される。位置測定装置は、測定対象の位置を測定する。位置測定装置は、撮像装置と測距装置とを備える。撮像装置は、予め設定された測定位置に配置された測定対象の平面像を取得する。測距装置は、平面像の平面(XY面という)に交差する方向(Z軸方向という)における位置であって測定位置に配置された測定対象の位置を測距する。撮像装置及び測距装置は、測定位置に配置された測定対象に同時に対向するように設けられている。従って、測定対象が測定位置に配置されている場合に、当該測定対象について、撮像装置によって取得される平面像によってXY面内の位置が測定され、測距装置による測距によって取得される位置によってZ軸方向における位置が測定され得る。このように、測定対象を一の測定位置に配置すれば、測定対象の3次元位置の測定プロセスを例えばXY面内の位置の測定プロセスとZ軸方向の位置の測定プロセスとに分けることなく、測定対象の3次元位置の測定を単一のプロセスで行い得る。
例示的実施形態は、レチクルを更に備える。レチクルは、撮像装置の焦点位置と撮像装置の光学系との間に配置される。レチクルを用いることによって、測定対象の平面位置がより正確に測定可能となる。
例示的実施形態において、位置測定方法が提供される。位置測定方法は、測定対象の位置を位置測定装置によって測定する。位置測定装置は撮像装置及び測距装置を備える。撮像装置は予め設定された測定位置に配置された測定対象の平面像を取得する。測距装置は平面像の平面(XY面という)に交差する方向(Z軸方向という)における位置であって測定位置に配置された測定対象の位置を測距する。撮像装置及び測距装置は測定位置に配置された測定対象に同時に対向するように設けられる。位置測定方法は、測定位置に測定対象が配置された状態で、撮像装置による測定対象の撮像と測距装置による上記方向における測定対象の位置の測距とを行う。従って、測定対象が測定位置に配置されている場合に、当該測定対象について、撮像装置によって取得される平面像によってXY面内の位置が測定され、測距装置による測距によって取得される位置によってZ軸方向における位置が測定され得る。このように、測定対象を一の測定位置に配置すれば、測定対象の3次元位置の測定プロセスを例えばXY面内の位置の測定プロセスとZ軸方向の位置の測定プロセスとに分けることなく、測定対象の3次元位置の測定を単一のプロセスで行い得る。
以下、図面を参照して種々の例示的実施形態について詳細に説明する。なお、各図面において同一または相当の部分に対しては同一の符号を附すこととする。図1を参照して、位置測定機構(プローバ装置)100の構成の一例を説明する。図2を参照して、図1に示す位置測定装置3の構成について説明する。
位置測定機構100は、ウエハWの表面に設けられた電極等の測定対象の位置を測定する装置である。以下、位置測定の測定対象は、本実施形態において、ウエハWの表面に設けられた電極であるとする。
位置測定機構100は、ウエハアライメントユニット1、上カメラ1A、ステージ2、下カメラ2A、位置測定装置3、照明部4、制御回路Cnt、移動機構Traを備える。なお、位置測定機構100は、位置測定装置3を、複数のプローブを備えたプローブカードに代えれば、プローブ装置として用いられ得る。
ウエハアライメントユニット1には、上カメラ1Aが設けられている。ウエハアライメントユニット1は、ステージ2に対面している。
ステージ2は、ウエハアライメントユニット1の下方に配置されている。ステージ2の表面には、ウエハWが載置され得る。ウエハWの表面には、位置測定の対象である電極等が形成されている。
ウエハWが載置されるステージ2の表面は、ウエハアライメントユニット1に対面している。ステージ2には、下カメラ2Aが設けられている。
位置測定装置3は、支持板3A、撮像装置3B、測距装置3Cを備える。測距装置3Cは、撮像装置3Bに固定されている。支持板3Aは、撮像装置3B及び測距装置3Cを支持している。なお、位置測定装置3には、基準位置を示すマーク等が設けられおり、このマーク等は下カメラ2Aから認識可能になっている。このマークを下カメラ2Aで認識することにより、下カメラ2Aと位置測定装置3の相対位置が確定される。
撮像装置3Bは、予め設定された測定位置CFに配置された測定対象の平面像を、取得する。測定位置CFは、ステージ2と位置測定装置3との間にあり、撮像装置3B及び測距装置3Cの近傍にある。測定位置CFは、撮像装置3Bの焦点位置FPを含み得る。
撮像装置3Bは、光学系3Dを備える。光学系3Dは、対物レンズ等を備える。測定対象が焦点位置FPに配置されている場合、光学系3Dには、焦点位置FPから伝搬する測定対象の光像L1が入射する。撮像装置3Bは、この光像L1を用いて、測定対象の平面像である撮像画像を取得する。
位置測定装置3は、レチクル3Fを備えても良い。レチクル3Fは、焦点位置FPと光学系3Dとの間に配置される。レチクル3Fには、位置測定用のマークが設けられている。レチクル3Fに設けられた位置測定用のマークは、例えば、光透過率の分布(濃淡、色等)を用いて表された四角形状、十文字形状等の図形であり得る。
一実施形態においては、撮像される測定対象には、レチクル3Fに設けられた位置測定用のマークと同様の(または相似形の)位置測定用のマークが設けられ得る。測定対象に設けられた位置測定用のマークの光透過率の分布は、レチクル3Fに設けられた位置測定用のマークの光透過率の分布とは逆の分布(相補的な分布)を有してもよい。この場合、測定対象に設けられた位置測定用のマークと、レチクル3Fに設けられた位置測定用のマークとの重なり具合によって、測定対象と焦点位置FPとの平面内における位置ずれがより明確になり得る。
このように、位置測定用のマークが設けられたレチクル3Fを用いることによって、測定対象の平面位置がより正確に測定可能となる。
測距装置3Cは、撮像装置3Bによって取得される測定対象の平面像の平面に交差する方向(Z軸方向)における位置であって測定位置CFに配置された測定対象の位置を測距する。測距装置3Cは、測定光であるレーザ光L2を用いて、測定対象までの距離を測距する。測定対象の平面位置を移動させ、その都度Z方向における位置を測定することで、各測定箇所の相対位置(平行度や撓み等)を確認することも可能となっている。測距装置3Cと撮像装置3Bとは、測定位置CFに配置された測定対象に同時に対向するように設けられている。
測距装置3Cは、撮像装置3Bに接続(例えば、固定)されている。測距装置3Cは、光反射部材3Eを備える。
光反射部材3Eは、レーザ光L2を反射する機能を有しており、レーザ光L2の進路方向は、光反射部材3Eによって変えられる。測距に用いられるレーザ光L2は、測距装置3Cと測定位置CFにある測定対象との間を、光反射部材3Eを介して進路方向を変えつつ、往復する。光反射部材3Eの材料は、レーザ光L2を反射し得る材料であり、例えば、ミラー等であり得る。
光反射部材3Eによって、撮像装置3Bと測距装置3Cとの間の距離によらずに、レーザ光L2を焦点位置FPのより近傍に照射可能となる。このように光反射部材3Eを用いれば、撮像装置3Bと測距装置3Cとの間の距離によらずに、測定対象のXY面内の位置とZ軸方向の位置とを同じタイミングで取得し得る。XY面は、一実施形態において、例えば水平面を表す。Z軸方向は、一実施形態において、例えば鉛直方向(鉛直下方)を表す。
特に、焦点位置FPを含む比較的に狭い領域の測定位置CFに測定対象がある場合であっても、ハーフミラーである光反射部材3Eを光学系3Dと焦点位置FPとの間に配置すれば、測定対象のXY面内の位置及びZ軸方向の位置を同じタイミングで取得し得る。
制御回路Cntは、CPUと、ROM、RAM等のメモリを備える。CPUがメモリに格納された各種のコンピュータプログラムを実行することによって、制御回路Cntは位置測定機構100の各部(例えば、上カメラ1A、下カメラ2A、ウエハアライメントユニット1、ステージ2、位置測定装置3)の動作を統括的に制御する。制御回路Cntは、測定対象に対する位置測定の実行時に当該測定対象が測定位置CFに配置されるように、ウエハWが載置されたステージ2を、移動機構Traを用いて位置測定装置3に近付ける。
制御回路Cntは、測定位置CFに測定対象が配置された状態で撮像装置3Bによって取得された測定対象の平面像に基づいて、測定対象の平面位置(水平面であるXY面内における位置)を測定する。制御回路Cntは、測定位置CFに測定対象が配置された状態で測距装置3Cによって行われる測距の結果に基づいて、測定対象のZ軸方向における位置を測定する。制御回路Cntは、撮像装置3Bと測距装置3Cとを用いて、測定対象の3次元位置(X軸、Y軸、Z軸の各々における位置)の測定を、略同一のタイミングで行い得る。
照明部4は、位置測定機構100に設けられた複数のライト(図示略)を介して、ステージ2上に載置されるウエハWを照明可能である。位置測定機構100に設けられた上記の複数のライトは、例えば、上カメラ1Aのレンズの近傍、下カメラ2Aのレンズの近傍等に設けられ得る。
移動機構Traは、ウエハアライメントユニット1及びステージ2等を移動可能である。移動機構Traは、特に、ステージ2をX、Y、Z及びθ方向に移動させ得る。
以上説明した構成を備える位置測定装置3によれば、例えば以下の効果を一例として奏し得る。すなわち、測定対象が測定位置CFに配置されている場合に、当該測定対象について、撮像装置3Bによって取得される平面像によってXY面内の位置が測定され、測距装置3Cによる測距によって取得される位置によってZ軸方向における位置が測定され得る。このように、測定対象を一の測定位置に配置すれば、測定対象の3次元位置の測定プロセスを例えばXY面内の位置の測定プロセスとZ軸方向の位置の測定プロセスとに分けることなく、測定対象の3次元位置の測定を単一のプロセスで行い得る。これにより、従来では難しかったステージ2によりウエハWをプローブとの接触想定位置に配置した際の実際のウエハWの3次元位置を同時に位置測定装置3により測定することが可能となる。また、位置測定装置3による位置測定により、実際のプローブと接触位置確認用のウエハとを使った接触位置の確認を行うことなくプローブとウエハ上の電極との接触位置の精度を確認・向上させることが可能となる。
上述において種々の例示的実施形態について説明してきたが、上述した例示的実施形態に限定されることなく、様々な省略、置換、及び変更がなされてもよい。また、異なる例示的実施形態における要素を組み合わせて他の例示的実施形態を形成することが可能である。
以上の説明から、本開示の種々の例示的実施形態は本明細書で説明されており、本開示の範囲及び主旨から逸脱することなく種々の変更をなし得ることが、理解されるであろう。したがって、本明細書に開示した種々の例示的実施形態は限定することを意図しておらず、真の範囲と主旨は、添付の特許請求の範囲によって示される。
1…ウエハアライメントユニット、100…位置測定機構、1A…上カメラ、2…ステージ、2A…下カメラ、3…位置測定装置、3A…支持板、3B…撮像装置、3C…測距装置、3D…光学系、3E…光反射部材、3F…レチクル、4…照明部、CF…測定位置、Cnt…制御回路、FP…焦点位置、L1…光像、L2…レーザ光、Tra…移動機構、W…ウエハ。
Claims (3)
- 測定対象の位置を測定する位置測定装置であって、
予め設定された測定位置に配置された前記測定対象の平面像を取得する撮像装置と、
前記平面像の平面に交差する方向における位置であって前記測定位置に配置された前記測定対象の位置を測距する測距装置と、
を備え、
前記撮像装置及び前記測距装置は、前記測定位置に配置された前記測定対象に同時に対向するように設けられている、
位置測定装置。 - レチクルを更に備え、
前記レチクルは、前記撮像装置の焦点位置と該撮像装置の光学系との間に配置される、
請求項1に記載の位置測定装置。 - 測定対象の位置を位置測定装置によって測定する位置測定方法であって、該位置測定装置は撮像装置及び測距装置を備え、該撮像装置は予め設定された測定位置に配置された該測定対象の平面像を取得し、該測距装置は該平面像の平面に交差する方向における位置であって該測定位置に配置された該測定対象の位置を測距し、該撮像装置及び該測距装置は該測定位置に配置された該測定対象に同時に対向するように設けられ、該方法は、
前記測定位置に前記測定対象が配置された状態で、前記撮像装置による該測定対象の撮像と前記測距装置による前記方向における該測定対象の位置の測距とを行う、
位置測定方法。
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