JP2015148604A - 高さ検出装置、塗布装置および高さ検出方法 - Google Patents
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Abstract
Description
[欠陥修正装置の構成]
図1は、この発明の実施の形態1による高さ測定装置の代表例である欠陥修正装置1の全体構成を示す斜視図である。欠陥修正装置1は、基板7の表面に液状材料を塗布する「塗布装置」を構成する。
図4は、液晶カラーフィルタ基板7の表面を示す図である。図4を参照して、液晶カラーフィルタ基板7は、ガラス基板の表面に形成された複数個の絵素PCを含む。縦横に形成されているブラックマトリックス部BMの交差位置に、絵素PCの始まりDSおよび絵素PCの終わりDEが存在する。また、絵素PCの始まりDSをカラーフィルタの位置と称する。制御用コンピュータ11は、このカラーフィルタの位置を特定する。また、同図において四角で囲まれた絵素PCの始まりDSから終わりDEまでの範囲が絵素PCを構成する。
この工程では、制御用コンピュータ11が欠陥修正装置1を制御し、白欠陥に塗布して硬化させた修正インクからなるインク塗布部の高さを検出する。
以下、第1段階の処理である輝度fi(x,y)の最大値を求める処理の手順について詳細に説明する。
次に、第2段階の処理であるコントラスト値Mi♯が最大となるZステージ8の位置を求める処理の手順について詳細に説明する。第2段階の処理は、探索範囲内のすべての画像のサンプリングが完了した後、中央処理部46によって実行される。
この工程では、塗布前後の画像に基づいてインク塗布部を抽出し、抽出したインク塗布部と基準部との高さを比較する。たとえば特許文献2(特開2009−237086号公報)に記載されているように、塗布前後の画像の明るさを比較し、比較結果に基づいてインク塗布部を抽出する。インク塗布部の抽出結果をb(x,y)とする。b(x,y)は位置(x,y)の画素がインク塗布部ならば1、それ以外なら0を返す関数である。
実施の形態2は、実施の形態1の高さ検出方法の検出精度を高める方法に関するものである。まず、実施の形態1の問題点について説明する。
位相情報は、上記式(9)のαやγの影響なしに求めることができる。ここでは説明を分かり易くするため、中心波長λの光について考える。干渉光波形の位相2π(2s−2h)/λをδとすると、上記式(9)はgλ=α(1+γcosδ)となる。ここで、オイラーの公式より、次式(10)が得られる。
包絡線のピークは雑音の影響で位置ずれが生じる可能性があるが、位相δは理論的には雑音の影響を最小限に止めることが可能であり、包絡線のピークと比較して高精度な検出が可能である。そこで、本実施の形態では、包絡線のピークと位相δの双方を利用してインク塗布部の高さを検出することとした。
上記式(9)の干渉光強度gλはs=hのとき最大となり、包絡線がピークとなる。同時に位相δはδ=2(2s−2h)=2π(2h−2h)/λ=0となる。ただし、位相の周期は2πであるため、位相δが0になる位置(0点とも呼ぶ)も同様に2π毎に出現することから、包絡線のピークに最寄りの位相σの0点を採用することにする。なお、本発明では、包絡線のピークを1次高さと呼び、位相σの0点を2次高さと呼ぶ。
位相飛びが発生する要因は包絡線のピーク点の左右にある位相δの0点の選択ミスであるから、最終的に、どの画素においても左または右のいずれか一方を統一して選択するように修正すればよい。
1回当たりのインク塗布量はインクの粘度によって異なる。高粘度のインクは表面張力が大きいため、低粘度のインクと比較すると厚膜となる。なお、インクの性質に関しては、予め行なうサンプル試験で事前に明らかとなっている場合が多い。
Claims (11)
- 対象物の表面に形成された凹凸部の高さを検出する高さ検出装置であって、
白色光を出力する照明装置と、前記照明装置から出射された白色光を二光束に分離して、一方を対象物表面に照射するとともに他方を参照面に照射し、これら両面からの反射光を干渉させ干渉光を得るための対物レンズと、前記干渉光を観察する観察光学系と、前記観察光学系を介して前記干渉光を撮影する撮像装置とを含むヘッド部と、
前記ヘッド部または前記対物レンズと前記対象物とを相対移動させる位置決め装置と、
前記位置決め装置および前記撮像装置を制御し、前記凹凸部と前記ヘッド部または前記対物レンズとを上下方向に相対移動させながら画像を撮影し、撮影した画像を構成する複数の画素の各々について焦点位置を求め、求めた焦点位置に基づいて前記凹凸部の高さを検出する高さ検出部とを備え、
前記高さ検出部は、
前記撮像装置の撮影周期内において、前記撮影した画像を構成する複数の画素の各々について、前記撮影した画像の輝度が最大になる前記位置決め装置の位置を焦点の候補位置とする第1段階の処理と、
前記撮像装置が全ての画像を撮像した後、画像を構成する複数の画素の各々について、前記第1段階の処理によって求められた前記焦点の候補位置の前後で撮影された画像の複数の輝度を基に求めたコントラスト値に基づいて焦点位置を求め、当該焦点位置に基づいて前記凹凸部の高さを検出する第2段階の処理とを実行する、高さ検出装置。 - 前記高さ検出部は、前記第2段階の処理において、前記コントラスト値がピークとなるときの前記位置決め装置の位置を当該画素の焦点位置とする、請求項1に記載の高さ検出装置。
- 前記高さ検出部は、前記第2段階の処理において、
前記コントラスト値がピークとなるときの前記位置決め装置の位置を1次高さとし、
さらに前記第1段階の処理によって求められた前記焦点の候補位置の近傍の画像の前記輝度を基に位相を求め、位相が0となる複数の前記位置決め装置の位置のうち、前記1次高さに最寄りの位相が0となる前記位置決め装置の位置を2次高さとし、
さらに前記1次高さと前記2次高さとを比較して位相飛びの発生を検出し、位相飛びが検出された場合は前記2次高さを修正し、位相飛びが修正された3次高さを検出する、請求項2に記載の高さ検出装置。 - 前記高さ検出部は、
前記3次高さを算出する際、しきい値を設け、画像を構成する複数の画素の各々について、前記2次高さから前記1次高さを減算した値と前記しきい値とを比較し、減算結果が前記しきい値を下回っているとき現在の前記2次高さに対して位相が2πだけ増加した前記位置決め装置の位置を修正後の前記2次高さとし、前記修正後の2次高さについて、各画素について、隣接画素との差分値を計算して前記複数の画素の差分値の総和を求め、
前記複数の画素の差分値の総和を求める処理を、予め定められた修正量ずつ合計M回前記しきい値を修正しながら繰り返し実行するとともに、前記しきい値ごとに前記差分値の総和を保持し、
前記修正後の2次高さのうち、前記差分値の総和が最小となる前記しきい値で修正された前記2次高さを前記3次高さとする、請求項3に記載の高さ検出装置。 - 前記照明装置は、白色LEDであり、
前記照明装置と前記対物レンズとの間に設けられ、前記白色LEDの発光スペクトルが有する2つのピークのうち、長波長側の白色光を選択的に透過させるためのフィルタをさらに備える、請求項1から4のいずれか1項に記載の高さ検出装置。 - 基板の表面に液状材料を塗布する塗布装置であって、
白色光を出力する照明装置と、前記照明装置から出射された白色光を二光束に分離して、一方を対象物表面に照射するとともに他方を参照面に照射し、これら両面からの反射光を干渉させ干渉光を得るための対物レンズと、前記干渉光を観察する観察光学系と、前記観察光学系を介して前記干渉光を撮影する撮像装置とを含むヘッド部と、
前記ヘッド部または前記対物レンズと前記基板とを相対移動させる位置決め装置と、
前記位置決め装置および前記撮像装置を制御し、前記液状材料の塗布部と前記ヘッド部または前記対物レンズとを上下方向に相対移動させながら画像を撮影し、撮影した画像を構成する複数の画素の各々について焦点位置を求め、求めた焦点位置に基づいて前記塗布部の高さを検出する高さ検出部とを備え、
前記高さ検出部は、
前記撮像装置の撮影周期内において、前記撮影した画像を構成する複数の画素の各々について、前記撮影した画像の輝度が最大になる前記位置決め装置の位置を焦点の候補位置とする第1段階の処理と、
前記撮像装置が全ての画像を撮像した後、画像を構成する複数の画素の各々について、前記第1段階の処理によって求められた前記焦点の候補位置の前後で撮影された画像の複数の輝度を基に求めたコントラスト値に基づいて焦点位置を求め、当該焦点位置に基づいて前記塗布部を検出する第2段階の処理とを実行する、塗布装置。 - 前記高さ検出部は、前記第2段階の処理において、前記コントラスト値がピークとなるときの前記位置決め装置の位置を当該画素の焦点位置とする、請求項6に記載の塗布装置。
- 前記高さ検出部は、前記第2段階の処理において、
前記コントラスト値がピークとなるときの前記位置決め装置の位置を1次高さとし、
さらに前記第1段階の処理によって求められた前記焦点の候補位置の近傍の画像の前記輝度を基に位相を求め、位相が0となる複数の前記位置決め装置の位置のうち、前記1次高さに最寄りの前記Zステージの位置を2次高さとし、
さらに前記1次高さと前記2次高さとを比較して位相飛びの発生を検出し、位相飛びが検出された場合は前記2次高さを修正し、位相飛びが修正された3次高さを検出する、請求項7に記載の塗布装置。 - 前記高さ検出部は、
前記3次高さを算出する際、しきい値を設け、画像を構成する複数の画素の各々について、前記2次高さから前記1次高さを減算した値と前記しきい値とを比較し、減算結果が前記しきい値を下回っているとき現在の前記2次高さに対して位相が2πだけ増加した前記位置決め装置の位置を修正後の前記2次高さとし、前記修正後の2次高さについて、各画素について、隣接画素との差分値を計算して前記複数の画素の差分値の総和を求め、
前記複数の画素の差分値の総和を求める処理を、予め定められた修正量ずつ合計M回前記しきい値を修正しながら繰り返し実行するとともに、前記しきい値ごとに前記差分値の総和を保持し、
前記修正後の2次高さのうち、前記差分値の総和が最小となる前記しきい値で修正された前記2次高さを前記3次高さとする、請求項8に記載の塗布装置。 - 前記照明装置は、白色LEDであり、
前記照明装置と前記対物レンズとの間に設けられ、前記白色LEDの発光スペクトルが有する2つのピークのうち、長波長側の白色光を選択的に透過させるためのフィルタをさらに備える、請求項6から9のいずれか1項に記載の塗布装置。 - 対象物の表面に形成された凹凸部の高さを検出する高さ検出方法であって、
白色光を出力する照明装置と、前記照明装置から出射された白色光を二光束に分離して、一方を対象物表面に照射するとともに他方を参照面に照射し、これら両面からの反射光を干渉させ干渉光を得るための対物レンズと、前記干渉光を観察する観察光学系および前記観察光学系を介して前記干渉光を撮影する撮像装置とを含むヘッド部、または前記対物レンズと、前記対象物とを相対移動させるステップと、
前記凹凸部と前記ヘッド部または前記対物レンズとを上下方向に相対移動させながら画像を撮影し、撮影した画像を構成する複数の画素の各々について焦点位置を求め、求めた焦点位置に基づいて前記凹凸部の高さを検出するステップとを備え、
前記凹凸部の高さを検出するステップは、
前記撮像装置の撮影周期内において、前記撮影した画像を構成する複数の画素の各々について、前記撮影した画像の輝度が最大になる前記画像の撮影位置をに基づいて焦点の候補位置とするを求める第1段階の処理を行なうステップと、
前記撮像装置が全ての画像を撮像した後、画像を構成する複数の画素の各々について、前記第1段階の処理によって求められた前記焦点の候補位置の前後で撮影された画像の複数の輝度を基に求めたコントラスト値に基づいて焦点位置を求め、当該焦点位置に基づいて前記凹凸部の高さを検出する第2段階の処理を行なうステップとを含む、高さ検出方法。
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