JP2020069765A - 液体吐出ヘッドの製造方法およびレジストの形成方法 - Google Patents
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Abstract
Description
まず、ウエハ上に配列された液体吐出ヘッドについて説明する。図1(A)は、複数の液体吐出ヘッドが形成されたウエハの上面図である。図1(B)は、図1(A)に示すウエハにおける1つの液体吐出ヘッド(チップ)を示す部分拡大上面図である。なお、ウエハ上に形成されているのは厳密には液体吐出ヘッドとなる前の要素であるが、便宜上、以下の説明においては液体吐出ヘッドと呼ぶ。図1(A)に示すように、シリコン製のウエハ17に複数の液体吐出ヘッド18が形成されている。各液体吐出ヘッド18は、インクを流路15および圧力室12(図3(F)参照)に供給するための供給路3を有している。図1(B)に示すように、供給路3は基板4の中央部分に形成された略長方形の貫通孔である。基板4は、ウエハ17そのものともいえ、ウエハ状の基板4を分割すると、個々の基板4が個々の液体吐出ヘッド18に対応する形状となる。供給路3の開口の長手方向に沿って、インクに吐出のためのエネルギーを与える複数のエネルギー発生素子5が配列している。供給路3とエネルギー発生素子5は、レジスト膜2で囲まれており、レジスト膜2には、貫通孔14が形成されている。貫通孔14はチップ切断ラインに設けられ、後述するように溶解液9の浸透経路となる。
図3(A)から図3(H)を用いて、第1の実施形態に係る液体吐出ヘッド製造方法の各工程について説明する。図3(A)および図3(C)から図3(H)は、液体吐出ヘッドの製造方法の各工程を模式的に示す、図1(B)のA−A線に沿った断面図である。
また、後工程で支持体1をレジスト膜2から剥離し易くするため、支持体1に離型処理を施していてもよい。離型処理は、例えば薄膜を支持体1上に塗布することによって行うことができる。薄膜としては、レジスト膜2が溶解する溶媒と同じ樹脂、撥水性の高いシリコン、フッ素化合物などを用いることができる。一例では、厚み1mmのガラス基板からなる支持体1上に、レジスト膜2をスピンコート法で11μmの厚みで塗布し、90℃のオーブンで乾燥させる。レジスト膜2としては、エポキシ樹脂と光開始剤を溶剤(PGMEA)に溶解させたものを用いる。光開始剤は、後述する工程4においてフォトリソグラフィーを用いてパターン形成する際に光重合を開始させるためのもので、光波長365nmに感度を有している。
次に、図4(A)から図4(H)を用いて、第2の実施形態に係るレジスト形成方法の各工程について説明する。図4(A)から図4(H)は、本実施形態のレジスト形成方法の各工程を模式的に示す断面図である。なお、第1の実施形態と共通する工程については記載を省略または簡略化する場合がある。
また、剛性の高い支持体1を用いることで、供給路3に対するレジスト膜2の入り込みを抑制し、供給路3を高精度に加工することが可能になる。さらに、同様な工程を用いて流路形成部材16を形成することで、吐出口13を高精度に加工することも可能になる。
2 レジスト膜
4 基板
9 溶解液
14 貫通孔
Claims (10)
- 第1の面と前記第1の面の裏面である第2の面とを有する光透過性の支持体の前記第1の面にレジスト膜を形成する工程と、
前記レジスト膜の前記支持体側の面の裏側を、貫通孔を有する基板に、前記貫通孔を塞ぐように接合する工程と、
前記支持体の前記第2の面から前記第1の面に透過する光で前記レジスト膜を露光し、前記レジスト膜に溶解液で除去可能な部分と前記溶解液に対して残存する部分とを形成する工程と、
前記基板と前記露光された前記レジスト膜とを前記溶解液に浸漬し、前記貫通孔に前記溶解液を浸入させ、前記除去可能な部分を除去する工程と、
前記除去可能な部分を除去した前記レジスト膜から前記支持体を剥離する工程と、
を有することを特徴とする、液体吐出ヘッドの製造方法。 - 前記支持体は、前記基板よりも剛性が高い、請求項1に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
- 前記除去可能な部分から、前記貫通孔から供給される液体を充填する流路および圧力室が形成され、前記残存する部分から、前記流路を構成する流路形成部材が形成される、請求項1または2に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
- 前記貫通孔は、前記液体を前記流路および前記圧力室に供給する供給路である、請求項3に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
- 前記貫通孔は、ウエハ上の切断ラインに沿って設けられる、請求項3に記載の液体吐出ヘッド。
- 前記残存する部分と前記支持体との接触面積は前記除去可能な部分と前記支持体との接触面積より小さい、請求項1から5の何れか1項記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
- 前記支持体の前記第1の面に、前記レジスト膜から前記支持体を剥離する離型処理が施される、請求項1から6の何れか1項に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
- 前記支持体は、ガラス基板またはシリコン基板である請求項1から7の何れか1項に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
- 第1の面と前記第1の面の裏面である第2の面とを有する光透過性の支持体の前記第1の面に所定の溶媒に溶解する光透過性の溶解層を形成する工程と、
前記溶解層の前記支持体側の面の裏側にレジスト膜を形成する工程と、
前記レジスト膜の前記溶解層が形成された面の裏面に基板を接合する工程と、
前記支持体の前記第2の面から前記第1の面に透過しさらに前記溶解層を透過する光で前記レジスト膜を露光し、前記レジスト膜に溶解液で除去可能な部分と前記溶解液に対して残存する部分とを形成する工程と、
前記基板と前記露光された前記レジスト膜と前記溶解層を溶解液に浸漬し、前記溶解層を前記溶解液で溶解させ前記溶解液を前記支持体と前記レジスト膜との間に浸入させることによって前記除去可能な部分と前記溶解層を除去する工程と、
前記除去可能な部分と前記溶解層を除去した前記レジスト膜から前記支持体を剥離する工程と、
を有することを特徴とする、レジストの形成方法。 - 前記溶解液は、前記溶解層に予め形成された溝に沿って浸入する、請求項9に記載のレジストの形成方法。
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