JP2020047828A - 基板処理装置および基板処理方法 - Google Patents
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Abstract
Description
まず、第1実施形態に係る基板処理システムの構成について図1を参照して説明する。図1は、第1実施形態に係る基板処理システムの構成を示す図である。
次に、第2実施形態に係る処理液供給系の構成について図5を参照して説明する。図5は、第2実施形態に係る処理液供給系の構成を示す図である。
上述した第1実施形態および第2実施形態では、1つの処理ユニット16に対してIPAを供給する場合の処理液供給系の構成例について説明した。これに限らず、処理液供給系は、複数の処理ユニット16に対してIPAを供給する構成であってもよい。そこで、第3実施形態では、複数の処理ユニット16に対してIPAを供給する処理液供給系の構成例について図6を参照して説明する。図6は、第3実施形態に係る処理液供給系の構成を示す図である。
第3実施形態に係る処理液供給系70Bでは、冷却部129が分岐ライン1022ごとに設けられる場合の例について説明した。これに限らず処理液供給系は、複数の分岐ライン1022に対して1つの冷却部を備える構成であってもよい。
上述した各実施形態では、タンク101よりも上流側に冷却部が設けられる場合の例について説明した。これに限らず、冷却部は、タンク101よりも下流側に設けられてもよい。
処理液供給系は、フィルタ122を冷却する冷却部をさらに備えていてもよい。図10は、第6実施形態に係る処理液供給系の構成を示す図である。
上述した各実施形態では、処理液供給系がタンク101を備える場合の例について説明したが、処理液供給系は、必ずしもタンク101を備えることを要しない。この場合の処理液供給系は、たとえば、循環ライン102,102Bに対して補充ライン105が直接接続された構成を有していてもよい。制御部18は、供給ライン104を介して処理ユニット16に供給されたIPAの量を流量計等によって測定する。そして、制御部18は、測定結果に応じた時間だけ開閉弁152を開くことによって、処理ユニット16に供給されたIPAの量と同等またはそれ以上の量のIPAを補充ライン105から循環ライン102に供給する。
1 基板処理システム
16 処理ユニット
18 制御部
70 処理液供給系
101 タンク
102 循環ライン
103 戻りライン
104 供給ライン
105 補充ライン
121 ポンプ
122 フィルタ
123 第1接続点
124 流量計
125 流量調整部
126 加熱部
127 第2接続点
128 開閉弁
129 冷却部
Claims (8)
- 処理液を循環させる循環ラインと、
前記循環ラインに設けられ、前記処理液から異物を除去するフィルタと、
前記循環ラインにおいて前記フィルタよりも下流側に設けられ、前記処理液を加熱する加熱部と、
前記フィルタおよび前記加熱部よりも下流側において前記循環ラインに接続され、前記処理液を基板に供給する供給ラインと、
前記循環ラインにおいて前記フィルタ、前記加熱部および前記供給ラインとの接続点よりも下流側に設けられ、前記処理液を冷却する冷却部と
を備える、基板処理装置。 - 前記循環ラインにおいて前記フィルタ、前記加熱部および前記接続点よりも下流側に設けられ、前記処理液を貯留する貯留部
をさらに備え、
前記冷却部は、
前記フィルタ、前記加熱部および前記接続点よりも下流側、且つ、前記貯留部よりも上流側に設けられる、請求項1に記載の基板処理装置。 - 複数の前記供給ラインと、
複数の前記冷却部と
を備え、
前記循環ラインは、
前記貯留部および前記フィルタが設けられる本ラインと、
前記フィルタよりも下流側において前記本ラインから分岐するとともに前記貯留部よりも上流側において前記本ラインに合流し、中途部に前記接続点が設けられる複数の分岐ライン
を備え、
複数の前記冷却部の各々は、
前記分岐ラインにおいて前記接続点よりも下流側に設けられる、請求項2に記載の基板処理装置。 - 複数の前記供給ライン
を備え、
前記循環ラインは、
前記貯留部および前記フィルタが設けられる本ラインと、
前記フィルタよりも下流側において前記本ラインから分岐するとともに前記貯留部よりも上流側において前記本ラインに合流し、中途部に前記接続点が設けられる複数の分岐ラインと
を備え、
前記冷却部は、
前記複数の分岐ラインにおける各前記接続点よりも下流側に設けられ、前記複数の分岐ラインを流れる前記処理液を冷却する、請求項2に記載の基板処理装置。 - 前記循環ラインにおいて前記フィルタ、前記加熱部および前記接続点よりも下流側に設けられ、前記処理液の流れを形成するポンプ
をさらに備え、
前記冷却部は、
前記ポンプよりも下流側であって、前記ポンプと前記フィルタとの間に設けられる、請求項1に記載の基板処理装置。 - 前記フィルタを冷却するフィルタ冷却部
をさらに備える、請求項1〜5のいずれか一つに記載の基板処理装置。 - 前記処理液は、有機溶剤である、請求項1〜6のいずれか一つに記載の基板処理装置。
- 循環ラインを用いて処理液を循環させつつ、前記循環ラインに設けられたフィルタを用いて前記処理液から異物を除去し、前記循環ラインに設けられた加熱部を用いて前記処理液を加熱する循環工程と、
前記循環工程において前記異物が除去され且つ加熱された前記処理液を供給ラインから取り出して基板に供給する供給工程と、
前記循環工程において前記異物が除去され且つ加熱された前記処理液を当該処理液が前記フィルタに戻る前に冷却する冷却工程と
を含む、基板処理方法。
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