JP2020042255A - 露光装置、および物品の製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
[露光装置の構成]
本発明に係る第1実施形態について説明する。図1は、本実施形態の露光装置100の全体構成を示す図である。本実施形態の露光装置100は、原版Mと基板Wとを走査しながら基板Wを露光することで、原版Mのパターンを基板上に転写するステップ・アンド・スキャン方式の露光装置である。このような露光装置100は、走査露光装置やスキャナとも呼ばれる。本実施形態では、原版Mは、例えば石英製のマスク(レチクル)であり、基板Wにおける複数のショット領域の各々に転写されるべき回路パターンが形成されている。また、基板Wは、フォトレジストが塗布されたウェハであり、例えば単結晶シリコン基板等が用いられうる。
一般に、露光装置に用いられる原版Mは、例えば原版Mの周囲に存在する雰囲気中の酸や塩基、有機不純物と反応することによって曇ることが知られている。また、そのような原版Mの曇りは、雰囲気中の水分によって加速されることも知られている。このように原版Mの曇りが生じると、露光量不足などの不具合が生じ、原版Mのパターンを基板上に精度よく転写することが困難となりうる。そのため、露光装置では、原版Mが配置されている空間を、不純物や湿度を調整(低減)したパージガスで充満させることが好ましい。さらに、露光装置では、ランニングコスト等の観点から、パージガスの使用量を低減することが望まれる。そこで、本実施形態の露光装置100は、原版Mが配置されている空間をパージガスで充満させ、且つ、その際のパージガスの使用量を低減することができるように構成されている。ここで、パージガスとは、酸や塩基、有機不純物、更には湿度も低減するように調整された気体のことであり、例えばクリーンドライエアーや窒素ガスが用いられうる。
第2プレート7は、照明光学系1から射出された光の光軸方向と垂直な第2面70を有する部材であり、当該第2面70が、原版ステージ2(第1プレート)の第1面20に対向するように、原版ステージ2の上方に、原版ステージ2から離間して配置される。第2プレート7は、例えば、原版ステージ2と共に移動しないように照明光学系1またはその他の構造体に設けられ、本実施形態の場合、照明光学系1に固定されている。
図3は、走査露光時における原版ステージ2(第1凹部20a、第2凹部20b)へのパージガスの供給を説明するための図である。まず、原版ステージ2は、図3(a)に示すように、−X方向側の第2凹部20b1が、+X方向側の吹出口71bの下方に配置されるように駆動される。このとき、−X方向側の第2凹部20b1には、供給部8aによって吹出口71bからパージガスが供給され、該第2凹部20b1は、パージガスで満たされるとともに、原版ステージ2の外部気圧より高い気圧を有する状態となる。この状態では、第2凹部20b1に供給されたパージガスが、第1面20と第2面70との隙間から徐々に抜け出るため、該隙間を通って流入する外気を防ぐことができる。また、この状態において原版ステージ2を−X方向に移動させると、原版ステージ2の移動に伴って第1面20と第2面70との隙間から外気が侵入しうるが、その外気は第2凹部20bに流入して薄まってから、第1凹部20aに流入しうる。つまり、第1凹部20aへの外気の流入を低減(防止)することができる。
次に、原版ステージ2の周囲構成の具体例について説明する。例えば、原版ステージ2の移動速度は、100mm/sのような低速から、10000mm/sのような高速まであり、原版ステージ2の移動ストロークは、数10mmから数mまである。第1面20と第2面70との間隔は、数ミクロンから数ミリである。また、原版ステージ2の垂直方向の幅は、数10mmから約1mである。供給部8aから吹出口71を介して供給されるパージガスの流量は、数10L/minから数1000L/minである。
本発明に係る第2実施形態について説明する。図4は、本実施形態の露光装置200における原版ステージ2の周辺構成を示す図である。図4(a)は、露光装置200における原版ステージ2の周辺構成(XZ断面)を示す図であり、照明光学系1、原版ステージ2、投影光学系3、第2プレート7、供給部8aが図示されている。また、図4(b)は、本実施形態の原版ステージ2を上方(+Z方向側)から見た図である。なお、以下の説明で特に言及されていない箇所については、第1実施形態と同様である。
本発明に係る第3実施形態について説明する。図5は、本実施形態の露光装置300における原版ステージ2の周辺構成を示す図である。図5(a)は、露光装置300における原版ステージ2の周辺構成(XZ断面)を示す図であり、照明光学系1、原版ステージ2、投影光学系3、第2プレート7、供給部8aが図示されている。また、図5(b)は、本実施形態の原版ステージ2を上方(+Z方向側)から見た図である。なお、以下の説明で特に言及されていない箇所については、第1実施形態と同様である。
本発明に係る第4実施形態について説明する。図6は、本実施形態の露光装置400における原版ステージ2の周辺構成を示す図である。図6(a)は、露光装置に400おける原版ステージ2の周辺構成(XZ断面)を示す図であり、照明光学系1、原版ステージ2、投影光学系3、第2プレート7、供給部8aが図示されている。また、図6(b)は、本実施形態の原版ステージ2を上方(+Z方向側)から見た図である。なお、以下の説明で特に言及されていない箇所については、第1実施形態および第2実施形態と同様である。
本発明に係る第5実施形態について説明する。図7は、本実施形態の露光装置500における原版ステージ2の周辺構成を示す図である。図7(a)は、露光装置500における原版ステージ2の周辺構成(XZ断面)を示す図であり、照明光学系1、原版ステージ2、投影光学系3、第2プレート7、供給部8aが図示されている。また、図7(b)は、本実施形態の原版ステージ2を上方(+Z方向側)から見た図である。なお、以下の説明で特に言及されていない箇所については第1実施形態と同様である。また、原版ステージ2の構成は、第1実施形態で説明した構成に限られず、第2〜第4実施形態で説明した構成を適用してもよい。
本発明に係る第6実施形態について説明する。図8は、本実施形態の露光装置600における原版ステージ2の周辺構成を示す図である。図8(a)は、露光装置600における原版ステージ2の周辺構成のXZ断面を示す図であり、照明光学系1、原版ステージ2、投影光学系3、第2プレート7、供給部8aが図示されている。また、図8(b)は、本実施形態の原版ステージ2を上方(+Z方向側)から見た図である。なお、以下の説明で特に言及されていない箇所については第5実施形態と同様である。また、原版ステージ2の構成は、第1実施形態で説明した構成に限られず、第2〜第4実施形態で説明した構成を適用してもよい。
本発明に係る第7実施形態について説明する。第1〜第6実施形態では、第2面70を有する部材(第2プレート7)を原版ステージ2の照明光学系側に設け、原版ステージ2の上面を第1面20として第1凹部20aおよび第2凹部20bを設けた例について説明した。その一方、露光装置では、原版ステージ2の下面を第1面20として第1凹部20aおよび第2凹部20bを設け、その第1面20に対抗する第2面を有する部材を原版ステージ2の投影光学系側に設けた構成であってもよい。この構成の露光装置では、例えば、図2〜図7に示すように、例えば、第2面としての面90を有する部材(プレート9)が原版ステージ2の投影光学系側に設けられる。そして、原版ステージ2は、図2〜図7に示す構成に対し、上下を反転した構成となる。つまり、原版ステージ2は、第1凹部20aおよび第2凹部20bが設けられた第1面20が、投影光学系に設けられたプレート9の面90に対面するように構成されうる。このような構成においても、第1〜第6実施形態と同様の効果を得ることができる。
<物品の製造方法の実施形態>
本発明の実施形態にかかる物品の製造方法は、例えば、半導体デバイス等のマイクロデバイスや微細構造を有する素子等の物品を製造するのに好適である。本実施形態の物品の製造方法は、基板に塗布された感光剤に上記の露光装置を用いて潜像パターンを形成する工程(基板を露光する工程)と、かかる工程で潜像パターンが形成された基板を現像(加工)する工程とを含む。更に、かかる製造方法は、他の周知の工程(酸化、成膜、蒸着、ドーピング、平坦化、エッチング、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージング等)を含む。本実施形態の物品の製造方法は、従来の方法に比べて、物品の性能・品質・生産性・生産コストの少なくとも1つにおいて有利である。
Claims (16)
- 原版と基板とを走査しながら前記基板を露光する露光装置であって、
パージガスが供給される第1凹部および第2凹部が形成された第1面を有し、前記原版を保持して移動可能なステージと、
前記第1面に対向する第2面を有する部材と、
を含み、
前記第1凹部は、前記原版が配置される第1空間を規定するように前記ステージの前記第1面に設けられ、
前記第2凹部は、前記第1空間より小さい容積を有する第2空間を規定するように、前記ステージの前記第1面における前記第1凹部の外側に少なくとも1つ設けられている、ことを特徴とする露光装置。 - 前記第2凹部は、前記第1凹部に対し、走査露光中における前記ステージの走査方向側に設けられている、ことを特徴とする請求項1に記載の露光装置。
- 前記走査方向における前記第2凹部の長さは、前記走査方向と垂直な方向における前記第2凹部の長さより短い、ことを特徴とする請求項2に記載の露光装置。
- 前記走査方向と垂直な方向において、前記第2凹部の長さは、前記第1凹部の長さ以上である、ことを特徴とする請求項2又は3に記載の露光装置。
- 前記第1面と前記第2面との間隔は、前記走査方向における前記第2凹部の長さより短い、ことを特徴とする請求項2乃至4のいずれか1項に記載の露光装置。
- 前記第2凹部は、前記第2面において、前記第1凹部の外側を取り囲むように設けられている、ことを特徴とする請求項1に記載の露光装置。
- 前記ステージの前記第1面において、前記第2凹部の外側の領域は、前記第1面と前記第2面との間隔が最も狭くなる部分を有する、ことを特徴とする請求項1乃至6のいずれか1項に記載の露光装置。
- 前記第1凹部および前記第2凹部は、前記原版の厚さ以上の深さを有する、ことを特徴とする請求項1乃至7のいずれか1項に記載の露光装置。
- 前記第2凹部の深さは、前記第1凹部の深さ以下である、ことを特徴とする請求項1乃至8のいずれか1項に記載の露光装置。
- 前記第1面には、前記第1凹部の外側に前記第1凹部より小さい容積を有する第2凹部が複数設けられている、ことを特徴とする請求項1乃至9のいずれか1項に記載の露光装置。
- 前記部材の前記第1面に設けられた吹出口からパージガスを吹き出すことにより、前記ステージの移動中に前記第1凹部および前記第2凹部にパージガスを供給する供給部を更に含む、ことを特徴とする請求項1乃至10のいずれか1項に記載の露光装置。
- 前記ステージに設けられ、前記第2凹部にパージガスを供給する第2供給部を更に含む、ことを特徴とする請求項1乃至11のいずれか1項に記載の露光装置。
- 前記ステージに設けられ、前記第1凹部にパージガスを供給する第3供給部を更に含む、ことを特徴とする請求項12に記載の露光装置。
- 前記原版を照明する照明光学系を更に含み、
前記部材は、前記ステージの前記照明光学系側に設けられている、ことを特徴とする請求項1乃至13のいずれか1項に記載の露光装置。 - 前記原版のパターンを前記基板上に投影する投影光学系を更に含み、
前記部材は、前記ステージの前記投影光学系側に設けられている、ことを特徴とする請求項1乃至13のいずれか1項に記載の露光装置。 - 請求項1乃至15のいずれか1項に記載の露光装置を用いて基板を露光する工程と、
前記工程で露光を行われた前記基板を現像する工程と、を含み、
現像された前記基板から物品を製造することを特徴とする物品の製造方法。
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