JP2020042255A5 - - Google Patents
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- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 13
- 238000010926 purge Methods 0.000 claims description 12
- 238000007664 blowing Methods 0.000 claims description 3
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims 9
- 238000005286 illumination Methods 0.000 claims 3
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Description
上記目的を達成するために、本発明の一側面としての露光装置は、原版と基板とを走査しながら前記基板を露光する露光装置であって、パージガスが供給される第１凹部および第２凹部が形成された第１面を有し、前記原版を保持して移動可能なステージと、前記第１面に対向する第２面を有する部材と、前記部材の前記第１面に設けられた吹出口からパージガスを吹き出すことにより、前記第１凹部および前記第２凹部にパージガスを供給する供給部と、走査方向に前記ステージを移動することにより前記基板の露光を制御する制御部と、を含み、前記第１凹部は、前記原版が配置される第１空間を規定するように前記ステージの前記第１面に設けられ、前記第２凹部は、前記第１空間より小さい容積を有する第２空間を規定するように、前記ステージの前記第１面に設けられており、前記第１凹部と前記第２凹部とは前記走査方向に並んで配置されている、ことを特徴とする。
Claims (18)
- 原版と基板とを走査しながら前記基板を露光する露光装置であって、
パージガスが供給される第１凹部および第２凹部が形成された第１面を有し、前記原版を保持して移動可能なステージと、
前記第１面に対向する第２面を有する部材と、
前記部材の前記第１面に設けられた吹出口からパージガスを吹き出すことにより、前記第１凹部および前記第２凹部にパージガスを供給する供給部と、
走査方向に前記ステージを移動することにより前記基板の露光を制御する制御部と、
を含み、
前記第１凹部は、前記原版が配置される第１空間を規定するように前記ステージの前記第１面に設けられ、
前記第２凹部は、前記第１空間より小さい容積を有する第２空間を規定するように、前記ステージの前記第１面に設けられており、
前記第１凹部と前記第２凹部とは前記走査方向に並んで配置されている、ことを特徴とする露光装置。 - 前記走査方向における前記第２凹部の長さは、前記走査方向と垂直で前記第１面に平行な方向における前記第２凹部の長さより短い、ことを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
- 前記走査方向と垂直で前記第１面に平行な方向において、前記第２凹部の長さは、前記第１凹部の長さ以上である、ことを特徴とする請求項１又は２に記載の露光装置。
- 前記第１面と前記第２面との間隔は、前記走査方向における前記第２凹部の長さより短い、ことを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の露光装置。
- 前記ステージの前記第１面は、前記走査方向に垂直な方向側に配置され前記第２凹部に連続した溝部を有する、ことを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の露光装置。
- 前記ステージの前記第１面において、前記第２凹部の外側の領域は、前記第１面と前記第２面との間隔が最も狭くなる部分を有する、ことを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の露光装置。
- 前記第１凹部および前記第２凹部は、前記原版の厚さ以上の深さを有する、ことを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載の露光装置。
- 前記第２凹部の深さは、前記第１凹部の深さ以下である、ことを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載の露光装置。
- 前記第１面には、第３凹部が前記第１凹部より小さい容積を有する空間を規定するように配置され、
前記第２凹部と前記第３凹部とは前記走査方向に並んで配置されている、ことを特徴とする請求項１乃至８のいずれか１項に記載の露光装置。 - 前記供給部は、前記部材の前記第１面に設けられた前記吹出口から前記パージガスを吹き出すことにより、前記ステージの移動中に前記第１凹部および前記第２凹部に前記パージガスを供給する、ことを特徴とする請求項１乃至９のいずれか１項に記載の露光装置。
- 前記ステージに設けられ、前記第２凹部にパージガスを供給する第２供給部を更に含む、ことを特徴とする請求項１乃至１０のいずれか１項に記載の露光装置。
- 前記ステージに設けられ、前記第１凹部にパージガスを供給する第３供給部を更に含む、ことを特徴とする請求項１１に記載の露光装置。
- 前記原版を照明する照明光学系を更に含み、
前記部材は、前記ステージの前記照明光学系側に設けられている、ことを特徴とする請求項１乃至１２のいずれか１項に記載の露光装置。 - 前記原版のパターンを前記基板上に投影する投影光学系を更に含み、
前記部材は、前記ステージの前記投影光学系側に設けられている、ことを特徴とする請求項１乃至１２のいずれか１項に記載の露光装置。 - 前記原版を照明する照明光学系又は前記原版のパターンを前記基板に投影する投影光学系である光学系をさらに含み、
前記部材は、前記ステージの前記光学系側に設けられ、前記吹出口は前記部材の前記第２面において前記光学系の外側に設けられている、ことを特徴とする請求項１乃至１２のいずれか１項に記載の露光装置。 - 前記制御部は、前記走査方向に前記ステージを移動させて前記基板の露光を行う前に前記第２凹部を前記吹出口の前記走査方向の位置に配置して、前記吹出口から吹き出された前記パージガスを前記第２凹部に供給するように、前記ステージの移動を制御する、ことを特徴とする請求項１乃至１５のいずれか１項に記載の露光装置。
- 前記ステージを前記走査方向に移動させて前記基板の露光を行っている状態で、前記吹出口から吹き出された前記パージガスを前記第１凹部に供給する、ことを特徴とする請求項１６に記載の露光装置。
- 請求項１乃至１７のいずれか１項に記載の露光装置を用いて基板を露光する工程と、
前記工程で露光を行われた前記基板を現像する工程と、を含み、
現像された前記基板から物品を製造することを特徴とする物品の製造方法。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| EP19192535.3A EP3620858B1 (en) | 2018-09-10 | 2019-08-20 | Exposure apparatus and method of manufacturing article |
| TW108129976A TWI764034B (zh) | 2018-09-10 | 2019-08-22 | 曝光裝置及製造物品的方法 |
| KR1020190107888A KR102537182B1 (ko) | 2018-09-10 | 2019-09-02 | 노광 장치 및 물품 제조 방법 |
| US16/559,789 US10725388B2 (en) | 2018-09-10 | 2019-09-04 | Exposure apparatus and method of manufacturing article |
| CN201910836678.6A CN110888304B (zh) | 2018-09-10 | 2019-09-05 | 曝光设备和制造制品的方法 |
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2018169120 | 2018-09-10 | ||
| JP2018169120 | 2018-09-10 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2020042255A JP2020042255A (ja) | 2020-03-19 |
| JP2020042255A5 true JP2020042255A5 (ja) | 2022-05-18 |
| JP7299755B2 JP7299755B2 (ja) | 2023-06-28 |
Family
ID=69798189
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2019096250A Active JP7299755B2 (ja) | 2018-09-10 | 2019-05-22 | 露光装置、および物品の製造方法 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP7299755B2 (ja) |
| KR (1) | KR102537182B1 (ja) |
| TW (1) | TWI764034B (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP7033168B2 (ja) | 2020-06-30 | 2022-03-09 | キヤノン株式会社 | 露光装置、および物品の製造方法 |
Family Cites Families (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5997963A (en) * | 1998-05-05 | 1999-12-07 | Ultratech Stepper, Inc. | Microchamber |
| TW480372B (en) * | 1999-11-05 | 2002-03-21 | Asm Lithography Bv | Lithographic projection apparatus, method of manufacturing a device using the apparatus, and device manufactured according to the method |
| TW563002B (en) | 1999-11-05 | 2003-11-21 | Asml Netherlands Bv | Lithographic projection apparatus, method of manufacturing a device using a lithographic projection apparatus, and device manufactured by the method |
| JP2001358056A (ja) | 2000-06-15 | 2001-12-26 | Canon Inc | 露光装置 |
| JP2002151400A (ja) * | 2000-11-15 | 2002-05-24 | Canon Inc | 露光装置、その保守方法並びに同装置を用いた半導体デバイス製造方法及び半導体製造工場 |
| NL2006243A (en) | 2010-03-19 | 2011-09-20 | Asml Netherlands Bv | A lithographic apparatus, an illumination system, a projection system and a method of manufacturing a device using a lithographic apparatus. |
| NL2008345A (en) | 2011-03-28 | 2012-10-01 | Asml Holding Nv | Lithographic apparatus and device manufacturing method. |
| NL2012291A (en) | 2013-02-20 | 2014-08-21 | Asml Netherlands Bv | Gas flow optimization in reticle stage environment. |
-
2019
- 2019-05-22 JP JP2019096250A patent/JP7299755B2/ja active Active
- 2019-08-22 TW TW108129976A patent/TWI764034B/zh active
- 2019-09-02 KR KR1020190107888A patent/KR102537182B1/ko active IP Right Grant
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