JP2020040139A - 加工装置及び被加工物の加工方法 - Google Patents
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 13
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims abstract description 19
- 238000003754 machining Methods 0.000 claims description 4
- 238000012986 modification Methods 0.000 claims 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 claims 1
- 238000003672 processing method Methods 0.000 claims 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 26
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 15
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 15
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 13
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 7
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 3
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 229910001218 Gallium arsenide Inorganic materials 0.000 description 1
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006061 abrasive grain Substances 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 239000003566 sealing material Substances 0.000 description 1
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
Abstract
Description
4 基台
4a 開口
6 支持構造
8 X軸移動機構
8a X軸移動テーブル
10 防塵防滴カバー
12 操作パネル
14 チャックテーブル
14a 保持面
14b 溝
14c 貫通孔
16 Z軸移動機構
18 Z軸ガイドレール
20 Z軸移動プレート
22 Z軸ボールネジ
24 Z軸パルスモータ
26 支持具
28 加工ユニット
30 スピンドルハウジング
32 スピンドル
34 ホイールマウント
36 バイトホイール
38 ホイール基台
40 バイト工具
40a 切り刃
50 吸引領域
50a 吸引面
50b 支持ピン
50c 底部
52 外周領域
54 吸引路
56 バルブ
58 吸引源
60 シールユニット
62 チューブ
62a 開口部
62b 閉塞部
64 チューブ形状制御ユニット
66 流路
68 バルブ
70 バルブ
11 被加工物
13 基板
13a 表面
13b 裏面
15 樹脂層(モールド樹脂)
Claims (2)
- 被加工物を保持面で保持するチャックテーブルと、該保持面で保持された該被加工物を加工する加工ユニットと、を備え、該保持面を該加工ユニットで削ることにより該保持面の形状を修正可能な加工装置であって、
該チャックテーブルは、
該保持面で該被加工物を吸引する吸引面と、
該保持面と該被加工物の外周部との隙間を埋めるシールユニットと、を有し、
該シールユニットは、
該吸引面を囲繞し該被加工物の外周部に対応して該チャックテーブルの該保持面側に形成された溝にはめ込まれたチューブと、
該チューブの内部の圧力を制御することにより該チューブの形状を制御し、該チューブの上端が該溝から突出した状態と、該チューブが該溝に埋没した状態と、を切り替えるチューブ形状制御ユニットと、を備えることを特徴とする加工装置。 - 請求項1記載の加工装置を用いて反りを有する被加工物の表面を加工する被加工物の加工方法であって、
該チューブの内部に負圧を作用させて該チューブを該溝に埋没させるチューブ変形ステップと、
チューブ変形ステップの実施後、該保持面を該加工ユニットで削って該保持面の形状を修正する保持面修正ステップと、
該保持面修正ステップの実施後、該チューブの内部を大気開放し該チューブの変形を解除するチューブ変形解除ステップと、
該チューブ変形解除ステップの実施後、該保持面の形状が修正された該チャックテーブルによって、該被加工物の反りを矯正しつつ該保持面で該被加工物を吸引保持する保持ステップと、
該保持ステップの実施後、該チャックテーブルによって保持された該被加工物の表面を該加工ユニットで削る加工ステップと、を備えることを特徴とする被加工物の加工方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018167891A JP7134565B2 (ja) | 2018-09-07 | 2018-09-07 | 加工装置及び被加工物の加工方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018167891A JP7134565B2 (ja) | 2018-09-07 | 2018-09-07 | 加工装置及び被加工物の加工方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2020040139A true JP2020040139A (ja) | 2020-03-19 |
JP7134565B2 JP7134565B2 (ja) | 2022-09-12 |
Family
ID=69797139
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018167891A Active JP7134565B2 (ja) | 2018-09-07 | 2018-09-07 | 加工装置及び被加工物の加工方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7134565B2 (ja) |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0584682A (ja) * | 1991-03-29 | 1993-04-06 | Hitachi Ltd | 真空チヤツク装置 |
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JP2004237405A (ja) * | 2003-02-07 | 2004-08-26 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 薄板保持装置および薄板保持方法並びに基板の製造方法 |
US7238083B2 (en) * | 2004-03-05 | 2007-07-03 | Strasbaugh | Wafer carrier with pressurized membrane and retaining ring actuator |
-
2018
- 2018-09-07 JP JP2018167891A patent/JP7134565B2/ja active Active
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0584682A (ja) * | 1991-03-29 | 1993-04-06 | Hitachi Ltd | 真空チヤツク装置 |
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US7238083B2 (en) * | 2004-03-05 | 2007-07-03 | Strasbaugh | Wafer carrier with pressurized membrane and retaining ring actuator |
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JP7134565B2 (ja) | 2022-09-12 |
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