JP2020013955A - 半導体装置、および、抵抗素子 - Google Patents
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Abstract
【課題】抵抗素子と電力用半導体素子とを内蔵する半導体装置において、実装面積を小さくすることが可能な技術を提供することにある。【解決手段】半導体装置は、第1電極と第2電極とを有する電力用半導体素子が形成された半導体チップと、抵抗素子と、前記半導体チップと前記抵抗素子とを封止する封止体と、前記第1電極に接続された第1外部端子と、前記第2電極に、前記抵抗素子を介して、接続された第2外部端子と、を含む。前記抵抗素子に流れる電流の方向は、前記半導体チップの裏面に対して垂直な方向である。【選択図】図2
Description
本開示は、半導体装置に関し、特に、抵抗素子を内蔵するパワーデバイス等の半導体装置に適用可能である。
半導体装置の1つとして、モーター駆動やバッテリの充放電を制御するための、電力用の半導体素子(パワーデバイス)がある。電力用の半導体素子としては、パワーMOSFET(Metal Oxide Semiconductor Field Efect Transistor)、絶縁ゲートバイポーラトランジスタ(IGBT:Insulated Gate Bipolar Transistor)、バイポーラトランジスタ、サイリスタ、トライアックなどがある。電力用の半導体素子を用いる電子装置(以下、電子システムともいう)は、状態の制御や監視、システム保護などの目的で、パワーデバイスに流れる電流値を検出用の抵抗素子でモニタすることが行われる。
たとえば、特開2012−226410号公報(特許文献1)は、バッテリの充電電流及び放電電流を電流検出用素子であるシャント抵抗によって検出する例を開示する。
本発明者らは、抵抗素子と電力用半導体素子とを1つのパッケージに内蔵させた半導体装置を検討した。その結果、抵抗素子の実装面積の小型化が必要であることが分かった。また、抵抗素子の低抵抗化や高放熱化が必要であることも分かった。
本開示の課題は、抵抗素子と電力用半導体素子とを内蔵する半導体装置において、実装面積を小さくすることが可能な技術を提供することにある。
その他の課題と新規な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかになるであろう。
本開示のうち代表的なものの概要を簡単に説明すれば下記の通りである。
すなわち、半導体装置は、第1電極と第2電極とを有する電力用半導体素子が形成された半導体チップと、抵抗素子と、前記半導体チップと前記抵抗素子とを封止する封止体と、前記第1電極に接続された第1外部端子と、前記第2電極に、前記抵抗素子を介して、接続された第2外部端子と、を含む。前記抵抗素子に流れる電流の方向は、前記半導体チップの裏面に対して垂直な方向である。
上記半導体装置によれば、実装面積を小さくすることができる。
以下、実施例、比較例および応用例について、図面を用いて説明する。ただし、以下の説明において、同一構成要素には同一符号を付し繰り返しの説明を省略することがある。なお、図面は説明をより明確にするため、実際の態様に比べ、模式的に表される場合があるが、あくまで一例であって、本発明の解釈を限定するものではない。
なお、以下の説明では、電力用の半導体素子として、パワーMOSFETを例として説明するが、それに限定されない。電力用の半導体素子は、IGBT、パワーバイポーラトランジスタ、SiC(炭化ケイ素)MOSFET、トライアック、サイリスタ、ダイオード等でもよい。
図1は、実施例1に係る半導体装置の透視的な平面図である。図2は、図1のA−A’線に沿った半導体装置の断面図である。図3は、図1に示すソース板状導電部材5を取り除いた状態の半導体装置の平面図である。図4は、図1の半導体装置の回路図である。図5は、抵抗素子の効果を説明する図である。以下、図1〜図5を用いて、半導体装置1の構成を説明する。
半導体装置1は、タブ露出型の半導体装置の一例として、矩形の平面形状を成す封止体4の下面において、チップ搭載部(TAB)および複数の外部リード(TG、TS、KE1、KE2)が露出する半導体パッケージに適用した実施形態について説明する。封止体(樹脂体)4は例えば、エポキシ系の熱硬化性樹脂を用いることができる。
半導体装置1は、電流検出用のシャント抵抗としての抵抗素子2と、電力用半導体素子としてのパワーMOSFET3、を含む。半導体装置1は、図1に示すように、X方向の長さL1は、たとえば、6.0mmであり、Y方向の長さL2は、たとえば、5.0mmである。また、半導体装置1は、図2に示すように、高さL3は、たとえば、1.0mmである。
パワーMOSFET3は、たとえば、Nチャネル型MOSFETであり、1つのシリコン単結晶の半導体チップに形成されている。パワーMOSFET3が形成された半導体チップにおいて、半導体チップの主面には、パワーMOSFET3のソース電極(第2電極)Sとゲート電極(第3電極)Gとが設けられており(図2、図3参照)、半導体チップの裏面には、パワーMOSFET3のドレイン電極(第1電極)Dが設けられている(図2参照)。パワーMOSFET3のドレイン電極Dが形成された半導体チップの裏面は、板状導体部材(第3板状導体部材)により構成され、チップ搭載部であるタブTABの主面の上に、はんだ等の金属材料(接続部材)7を介して電気的に接続されている。タブTABの裏面は、封止体4から露出されている。封止体4は、パワーMOSFET3が形成された半導体チップを封止している。これにより、タブTABの裏面はパワーMOSFET3のドレイン電極Dと接続され、半導体パッケージのドレイン端子(第1外部端子)TDとして機能する(図2参照)。パワーMOSFET3のソース電極Sは、ソース板状導電部材(以下、ソースクリップという)5の裏面に、はんだ等の金属材料(接続部材)8を介して電気的に接続されている(図2参照)。パワーMOSFET3のゲート電極Gは、金属ワイヤ9を介して、リードとしてのゲート端子(第4外部端子)TGに電気的に接続されている(図1参照)。
抵抗素子2は、ソース板状導電部材(第2板状導電部材、以下、ソースクリップという)5とリードとしてのソース端子(第2外部端子)TSとの間に電気的に接続されている(図2参照)。ソース端子(TS)は、板状導電部材(第1板状導電部材)により構成されている。
抵抗素子2は、薄い板状に成形された抵抗材料が抵抗体として用いられ、平面視において、たとえば、矩形の形状にされている。なお、平面視における抵抗素子2の形状は、矩形に限定されるわけではなく、種々の形状とされてよい。抵抗素子2を構成する抵抗体は、ソース端子TSを構成する金属板部材の主面(表面)に、重ねられるように設けられる(図1、図3参照)。抵抗素子2の抵抗値は、平面視における抵抗体の表面積によって制御されている。内蔵される抵抗素子2はソース端子TS上に位置しており、抵抗素子2の高さ(厚さ)形状はパワーMOSFET3の半導体チップの高さのように、薄い形状である。パワーMOSFET3の平面視における面積と比較して、抵抗素子2の平面視における面積は小さい(図3参照)。また、抵抗素子2または抵抗素子2を構成する抵抗体は、平面視において、ソース端子TSおよびソースクリップ5と重なるように形成されている。ソース端子TSは、ゲート端子TGよりも平面視において面積が大きく、抵抗素子2または抵抗素子2を構成する抵抗体との接続面積も、ゲート端子TGの面積よりも大きい。抵抗素子2または抵抗素子2を構成する抵抗体は、任意の断面での断面積よりも、平面視における平面積の方が大きくされている。
抵抗素子2を構成する抵抗体は、高精度に電流を検出するためには、抵抗体の抵抗値精度も重要であるが、抵抗体の温度係数が小さいことが重要である。通常の銅の温度係数は、3.9×10-3/℃程度であり、温度が100℃変化すると抵抗値は約39%増加する。同じ電流に対する検出値も+39%になってしまう。抵抗素子2は、その様な温度係数の大きな抵抗材料では無く、温度係数が100〜200ppm/℃位以下のものをさす。抵抗材料として、たとえば、マンガニン等の低抵抗材料を利用することが可能であり、このとき、抵抗素子2の抵抗値は、たとえば、0.1mオーム程度とすることが可能である。
半導体装置1には、さらに、リードとしての2つのケルビン端子KE1、KE2が設けられている。ケルビン端子(第3外部端子)KE1は、図示されないが、ソース板状導電部材(以下、ソースクリップという)5のケルビン端子の接続領域5KEに、はんだ等の金属材料からなる接続部材を介して電気的に接続されている。一方、ケルビン端子KE2は、ソース端子TSに接続される(図3参照)。これにより、ケルビン端子KE1、KE2は、図4に示すように、抵抗素子2の両端に接続される。つまり、ケルビン端子KE1はパワーMOSFET3のソース電極Sと抵抗素子2との間に接続される。ケルビン端子KE2は半導体装置1のソース端子TSと抵抗素子2との間に接続される。したがって、ケルビン端子KE1とケルビン端子KE2と間の電位、または、ケルビン端子KE1とソース端子TSとの間の電位を測定することにより、抵抗素子2に流れる電流を高精度に測定することが可能になる。つまり、ケルビン端子KE1、KE2は、測定端子として機能する。
抵抗素子2は、電力用半導体素子の主電流経路に直列に挿入される。電力用半導体素子の主電流経路に流れる電流によって抵抗素子2の両端に発生する電圧を、ケルビン端子KE1、KE2を用いて測定することで、電力用半導体素子の主電流経路に流れる電流を検出することができる。抵抗素子2に流れる電流の方向は、パワーMOSFET3が形成された半導体チップの表面また裏面に対して垂直な方向である。
電力用半導体素子の主電流経路は、パワーMOSFET3では、ソース電極Sとドレイン電極Dとの間のソース・ドレイン経路である。IGBTやパワーバイポーラトランジスタでは、エミッタ電極とコレクタ電極との間の経路が主電流経路に対応する。ダイオードやサイリスタでは、カソード電極とアノード電極との間の経路が主電流経路に対応する。トライアックでは、電流の流れる第1端子と第2端子との間の経路が主電流経路に対応する。
ソースクリップの構成としては、以下が考えられる。
1)第1のソースクリップの構成:
抵抗素子2とソースクリップ5とを一体構造としたソースクリップ。
2)第2のソースクリップの構成:
抵抗素子2、ソースクリップ5およびソース端子TSを一体構造としたソースクリップ。
3)第3のソースクリップの構成:
抵抗素子2、ソースクリップ5、ソース端子TS、および、ケルビン端子KE1、KE2を一体構造としたソースクリップ。
1)第1のソースクリップの構成:
抵抗素子2とソースクリップ5とを一体構造としたソースクリップ。
2)第2のソースクリップの構成:
抵抗素子2、ソースクリップ5およびソース端子TSを一体構造としたソースクリップ。
3)第3のソースクリップの構成:
抵抗素子2、ソースクリップ5、ソース端子TS、および、ケルビン端子KE1、KE2を一体構造としたソースクリップ。
図5を参照し、パワーMOSFET3がオン状態になると、抵抗素子2には、矢印で示すような電流Iが、断面図の上下方向に流れる。抵抗素子2に流れる電流の方向は、パワーMOSFET3が形成された半導体チップの表面または裏面に対して垂直な方向である。または、抵抗素子2に流れる電流の方向は、回路基板10の表面に対して、垂直な方向である。抵抗素子2がパワーMOSFET3の半導体チップのように薄く大きな面積でソース端子TS上に位置しているので、抵抗素子2での発熱がソース端子TSおよび配線層10aを通して回路基板10に効率良く放熱される。抵抗素子2の発熱は、主に、回路基板10側へ放熱されるので、回路基板10にくらべて熱抵抗の大きい横方向への放熱は少なくできるので、パワーMOSFET3の半導体チップに影響する放熱は少なく出来る。
抵抗素子2およびソースクリップ5を一体構造としたソースクリップの状態(第1のソースクリップの構成)では、抵抗素子2を低抵抗に作成することが容易である。したがって、抵抗素子2の低抵抗化により、抵抗素子2の発熱を下げられるので、半導体装置1の発熱も下げることができる。抵抗素子2、ソースクリップ5およびソース端子TSを一体構造としたソースクリップ(第2のソースクリップの構成)では、半導体装置1のソース側(ソース端子TS)の浮遊抵抗を最小に出来る。
次に、比較例について説明する。
(比較例1)
図6は、比較例1に係るパワーMOSFETを内蔵する半導体装置と抵抗素子とを説明する図である。図6(A)は、パワーMOSFETを内蔵する半導体装置と抵抗素子との平面図である。図6(B)は、パワーMOSFETを内蔵する半導体装置と抵抗素子との断面図である。
図6は、比較例1に係るパワーMOSFETを内蔵する半導体装置と抵抗素子とを説明する図である。図6(A)は、パワーMOSFETを内蔵する半導体装置と抵抗素子との平面図である。図6(B)は、パワーMOSFETを内蔵する半導体装置と抵抗素子との断面図である。
パワーMOSFETを内蔵する半導体装置30は、シャント抵抗としての抵抗素子2が設けられていないこと以外は実施例1の半導体装置1と同じであり、詳しい説明は省略する。半導体装置30の外形も、半導体装置1と同じであり、長さL1は、たとえば、6.0mmであり、長さL2は、たとえば、5.0mmであり、高さL3は、たとえば、1.0mmである。なお、ソースクリップ5は、はんだ等の接続部材を介して、ソース端子TSの上面に電気的に接続されている。
抵抗素子23は、面実装型の抵抗素子であり、シャント抵抗に利用される。抵抗素子23は、抵抗体23aと、抵抗体23aを挟むように設けられた2つの抵抗電極23b、23cとを有する。抵抗電極23cは、図示されないが、半導体装置30のソース端子TSに、回路基板10の表面に形成した配線層を介して電気的に接続されている。
抵抗素子23において、図6(A)に示す長さL4aは、たとえば、6.35mmであり、図6(A)に示す長さL4bは、たとえば3.05mmであり、図6(B)に示す高さL4cは、たとえば、1.15mmである。抵抗素子23において、抵抗値の制御は、抵抗体23aの長さL4dにより制御される。図6(A)に示すように、抵抗素子23の実装面積が大きいのがわかる。抵抗素子23は、その構造に起因して、回路基板10に対する熱抵抗が大きく、抵抗素子23の抵抗体23aで発熱した熱HEは抵抗電極23b、23cの裏面から回路基板10へ放熱される(図6(B)参照)。つまり、抵抗素子23の発熱の回路基板10への放熱が、実施例1の抵抗素子2と比較して、悪い。そのため、抵抗素子23の消費電力が大きくなる。抵抗素子23に流れる電流Iの方向は、図6(B)に示すように、実施例1の抵抗素子2と異なり、回路基板10の上面と平行方向に流れる。
この例では、たとえば、パワーMOSFET3のオン抵抗は0.52mオームであり、抵抗素子23の抵抗値は0.5mオームである。パワーMOSFET3のオン抵抗と抵抗素子23の抵抗値とは、ほぼ同等である。また、抵抗素子23の消費電力は、パワーMOSFET3の消費電力とほぼ同等である。
(比較例2)
図7は、比較例2に係る半導体装置を説明する図である。比較例2は、比較例1に示されたような面実装型の抵抗素子23を、パワーMOSFETを有する半導体装置30aの内部に、比較的単純に内蔵させた構成例である。図7(A)は、半導体装置の透過的な平面図である。図7(B)は、半導体装置の断面図である。図7(A)および図7(B)において、パワーMOSFET3、ソースクリップ5、およびドレイン端子TD(タブTAB)の構成は、実施例1と同じであるので、説明は省略する。以下、実施例1および比較例1と異なる部分を主に説明する。
図7は、比較例2に係る半導体装置を説明する図である。比較例2は、比較例1に示されたような面実装型の抵抗素子23を、パワーMOSFETを有する半導体装置30aの内部に、比較的単純に内蔵させた構成例である。図7(A)は、半導体装置の透過的な平面図である。図7(B)は、半導体装置の断面図である。図7(A)および図7(B)において、パワーMOSFET3、ソースクリップ5、およびドレイン端子TD(タブTAB)の構成は、実施例1と同じであるので、説明は省略する。以下、実施例1および比較例1と異なる部分を主に説明する。
半導体装置30aは、抵抗素子23の抵抗電極23cと、ソースクリップ5とに接続される端子TRSを含む。ソースクリップ5は、はんだ等の接続部材25を介して、端子TRSの上面に電気的に接続されている。また、抵抗素子23の抵抗電極23cは、はんだ等の接続部材26を介して、端子TRSの上面に電気的に接続されている。抵抗素子23の抵抗電極23bは、はんだ等の接続部材27を介して、ソース端子TSの上面に電気的に接続されている。パワーMOSFET3のゲート電極Gは、金属ワイヤ9を介して、リードとしてのゲート端子TG1に電気的に接続されるが、抵抗素子23の内蔵化の影響のため、ゲート端子TG1の長さは、実施例1のゲート端子TGと比較して、長くなる。このため、長いゲート端子TG1に寄生する浮遊インダクタンスが増加するので、半導体装置30a内のパワーMOSFET3のスイッチング特性に悪影響が生じる。
なお、半導体装置30aにおいて、長さL1aは、たとえば、9.9mmであり、長さL2は、たとえば、5.0mmであり、高さL3aは、たとえば、1.4mmである。
半導体装置30aの高さL3aを、半導体装置1の高さL3と同じ、1.0mmと同等にすることを考えた場合、抵抗素子23の高さ(厚さ)を薄くすればよい。しかし、この方法によると、半導体装置30a内の抵抗素子23の抵抗値が増加し、これにより半導体装置30a内の抵抗素子23の発熱が増加し、半導体装置30aの発熱も増加する。そのため、半導体装置30aに内蔵されたパワーMOSFET3の定格を下げて、半導体装置30aの発熱を低減させる必要がある。
実施例1によれば、以下の効果を得ることができる。
1)抵抗素子2をパワーMOSFET3の半導体チップの様な薄い形状として、抵抗素子2を半導体装置1のソース端子TSの上に形成する。これにより、抵抗素子2とパワーMOSFET3とを内蔵する半導体装置1の実装面積を小さくすることができる。
2)抵抗素子2の抵抗値を、抵抗体の断面積ではなく、平面視における表面積によって制御するので、抵抗素子2の低抵抗化を実現できる。
3)抵抗素子2の発熱は、主に、回路基板10へ放熱されるので、抵抗素子2を内蔵した半導体装置の低消費電力化を行うことが出来る。
4)抵抗素子2は低抵抗化されるので、抵抗素子2の発熱は少なくできる。これにより、抵抗素子2を内蔵した半導体装置1の発熱を減少させることができる。
5)半導体装置1に測定用端子(KE1,KE2)を設けるので、抵抗素子2の両端(ソース端子TSとソースクリップ5との間)に発生する電圧を高精度に測定することができる。
図8は、実施例2に係る半導体装置の透視的な平面図である。図9は、図8のA−A’線に沿った半導体装置の断面図である。実施例2は、実施例1に対して、抵抗素子2がソースクリップ5と一体構造にされている点が異なる。つまり、図9に示すように、抵抗素子2が、ソースクリップ5と抵抗下部電極2bとの間に挟まれるように設けられる。抵抗下部電極2bはソース端子TSの上面にはんだ等の接続部材を介して電気的に接続されている。他の構成は、実施例1と同じであるので、説明は省略する。
実施例2において、半導体装置1aの組立ては、抵抗素子2と抵抗下部電極2bとが設けられた一体構造のソースクリップ5(第4のソースクリップの構成)を、パワーMOSFET3の半導体チップとリードフレームに、はんだ等の接続部材7、8で電気的に接続する。なお、リートフレームには、ソース端子TSと、ゲート端子TGと、ケルビン端子KE1、KE2およびタブTABとが連結されて設けられている。
実施例2によれば、実施例1と同様な効果を得ることができる。
さらに、抵抗素子2とソースクリップ5とソース端子TSの一体構造の抵抗体内蔵のソースクリップ(第2のソースクリップの構成)と比較して、抵抗素子2と抵抗下部電極2bとが設けられた一体構造のソースクリップ5(第4のソースクリップの構成)の製造は容易である。
抵抗素子2とソースクリップ5とソース端子TSの一体構造の抵抗体内蔵のソースクリップと比較して、抵抗素子2と抵抗下部電極2bとが設けられた一体構造のソースクリップ5を用いた半導体装置の組立ては容易である。
実施例3の説明前に、発明者らにより検討された事項を説明する。
バッテリ制御基板において、比較例1に示すようなパワーMOSFET3を内蔵する半導体装置30を2ケ並列に接続して使用する場合がある。このとき、電流検出用のシャント抵抗(23)も2ケ並列に接続して使用する。実施例1または実施例2の半導体装置1、1aは、シャント抵抗に用いる抵抗素子2の抵抗値は低抵抗化されており、上記のように、シャント抵抗に用いる抵抗素子2を2ケ並列に接続して使用する必要は無い。しかし、パワーMOSFET3は、2ケ並列接続させた値のオン抵抗Ronが必要である。
したがって、パワーMOSFET3の2chip分を、1個の内蔵シャント抵抗で接続するのが一番効率的である。しかし、実施例1または実施例2の半導体装置1、1aだけでは、内蔵する抵抗素子2の表面積がまだ小さく、接続抵抗が増加すると考えられる。実施例3では、上記の課題を解決する。
図10は、実施例3に係る半導体装置の透視的な平面図である。図11は、図10のA−A’線に沿った半導体装置の断面図である。図12は、図10に示すソース板状導電部材を取り除いた状態の半導体装置の平面図である。以下、実施例1および実施例2と異なる部分を主に説明する。実施例1および実施例2と同一の部分については、説明を省略する。
実施例3の半導体装置1bでは、実施例1および実施例2のパワーMOSFET3の2ケを並列接続させた値のオン抵抗Ronを得るため、パワーMOSFET3bのY方向の長さを長くする。それにより、半導体装置1bのY方向の長さL2bは、たとえば、8.8mmのようにされる(図10参照)。なお、長さL1は、6.0mmであり、高さL3は、1.0mmであり、実施例1、実施例2と同一である(図10、図11参照)。
実施例3では、実施例1、実施例2の半導体装置(1、1a)に内蔵する抵抗素子(2)の表面積よりも、半導体装置1bに内蔵する抵抗素子(2a)の表面積を大きくする。そのため、ソース端子TSbは、平面視において、実施例1、実施例2の半導体装置(1、1a)のソース端子TSと比較して、広い面積にされている(図12参照)。
また、実施例1、実施例2の抵抗素子2は、低抵抗化が可能なマンガニン等の低抵抗材料を使用するが、実施例3では、抵抗素子2aの抵抗材料として、クロメル等の高抵抗材料を使用して、抵抗素子2aを構成する。
これにより、たとえば、バッテリ制御基板において、1つの半導体装置1bを用いるだけでよく、半導体装置の実装面積を、実施例1および実施例2の半導体装置(1、1a)を2ケ使った場合と比較して、少なくできる。
実施例1〜3では、抵抗素子とパワーMOSFETとを内蔵する半導体装置(1、1a、1b)について説明した。実施例4では、1つの抵抗素子(2d)の構成を説明する。図13は、実施例4に係る抵抗素子2dを説明する斜視図である。
図13に示すように、抵抗素子2dは、上部電極50と、抵抗体51と、下部電極52と、を含む。抵抗体51の下面は下部電極52の上面に電気的に接続され、抵抗体51の上面は上部電極50の一端501側の下面に電気的に接続される。下部電極52の下面は、たとえば、はんだ等の接続部材60を介して、回路基板10に設けられた配線層10aに電気的に接続可能にされている。上部電極50の他端502側の下面は、たとえば、はんだ等の接続部材70を介して、回路基板10に設けられた配線層10bに電気的に接続可能にされている。上部電極50の他端502側の下面と下部電極52の下面とは、ほぼ同一の平面上に位置している。
実施例1の図5で説明されたと同様に、抵抗素子2dに流れる電流Iは、断面図の上下方向に、または、回路基板10の表面に対して垂直方向に、流れる。
抵抗素子2dの高さLHは、たとえば、1.15mmであり、抵抗素子2dの幅LWは、たとえば、3.1mmである。抵抗素子2dの長さLLは、抵抗素子2dに要求される抵抗値に基づいて決定することができる。
抵抗体51で発生した熱は、下部電極52から回路基板10側へ放熱させ、また、上部電極50から回路基板10側へ放熱させることが可能である。主に、下部電極52からの放熱が、上部電極50からの放熱より、良好である。
なお、抵抗素子2dをシャント抵抗として利用する場合において、高精度に抵抗素子2dにながれた電流をセンスするために上部電極50もしくは、上部電極50および下部電極52の両方にセンス用端子を備えても良い。
実施例4によれば、以下の効果を得ることができる。
1)抵抗素子2dの発熱の回路基板10への放熱を良くすることが出来る。
2)抵抗素子2dのサイズを小さくすることが出来る。
3)抵抗素子2dの長さLLを調整することで、低抵抗の抵抗素子2dの製造が容易になる。
実施例5は、実施例4の抵抗素子2dを、半導体装置のリードと一体化して設けた構成例である。実施例5では、電力用半導体素子(パワーMOSFET)のパッケージとして利用可能なTO252型パッケージを例に用いて説明する。ただし、これに限定されるわけではなく、他のパッケージタイプの半導体装置にも適用可能である。
図14は、実施例5に係る半導体装置の平面図である。図15は、実施例5に係る半導体装置の斜視図である。図14に示すように、半導体装置1cは、パワーMOSFETの半導体チップ(不図示)が搭載され、パワーMOSFETのドレイン電極が電気的に接続されるタブTAB(ドレイン端子TD)と、パワーMOSFETのソース電極が電気的に接続されるソース端子(ソースリード)TSと、パワーMOSFETのゲート電極が電気的に接続されるゲート端子(ゲートリード)TGと、を含む。ソース端子TSの先端TSaには、ソース端子TSの先端TSaら延在して設けられた、測定用端子としてのケルビン端子KEが設けられている。封止体4は、パワーMOSFETの半導体チップ、ゲート端子TGの一部、ソース端子TSの一部、タブTAB(ドレイン端子TD)の上面を覆うように、設けられる。タブTAB(ドレイン端子TD)の裏面は、封止体4から露出している。
図15に示すように、ソース端子TSの先端TSaの裏面(下面)には、抵抗素子2dを構成する抵抗体51が設けられる。ソース端子TSの先端TSaと抵抗体51とは電気的に接続されており、ソース端子TSの先端TSaは抵抗素子2dの上部電極の機能を有する。抵抗体51の裏面(下面)には、抵抗素子2dの下部電極(下部端子)52が設けられる。抵抗体51と下部電極52とは電気的に接続されている。ソース端子TSの先端TSaには、ケルビン端子KEが設けられている。ケルビン端子KEの裏面、下部電極52の裏面と、ゲート端子(ゲートリード)TGの先端の裏面とは、同一の平面上に位置するようになっている。
これにより、抵抗体51に発生する電位は、下部電極52とケルビン端子KEとの間の電位を計測することで検出することが可能である。
実施例5によれば、以下の効果を得ることができる。
1)シャント抵抗(抵抗素子2d)とパワーMOSFETを構成する半導体装置1cの実装サイズを小さくすることが出来る。
2)抵抗素子2dの抵抗体51に発生した発熱は、下部電極52を介して、回路基板へ効率よく放熱することができる。
3)抵抗素子2dの抵抗体51に発生した発熱は、主に、回路基板へ効率よく放熱されるので、半導体装置1cのパワーMOSFETが形成された半導体チップ側への熱の放熱は比較的少なくできる。これにより、半導体チップへの熱の影響を最小限にすることができる。
4)半導体装置1cの消費電力を小さくすることができる。
5)抵抗素子2dと一体化された半導体装置1cと回路基板の主電流経路のはんだ接続点は、4点(シャント抵抗の両端の2点と、半導体装置のドレイン端子とソース端子の2点(図6(B)参照))から2点(半導体装置1cのドレイン端子TDと下部電極52との2点(図2、図5参照))に低減することができる。これにより、回路基板の接続はんだの劣化による故障率が低減できる。
図16および図17を用いて、応用例を説明する。
図16は、バッテリ制御装置を有する電子システムを示す図である。
図16に示すように、電子システムSYS1は、電池であるバッテリBATと、バッテリBATの充放電を制御するバッテリ制御装置BCNTと、バッテリBATにより駆動される電子装置EDEVと、を有する。
バッテリ制御装置BCNTは、バッテリBATの正側端子(+)と電子装置EDEVの電源側端子(VDD)との間に設けられた温度フューズFUSと、実施例3の半導体装置1bと、半導体装置1bに接続された制御回路CNTICと、を含む。半導体装置1bのソース端子TSbはバッテリBATの負側端子(−)に接続され、半導体装置1bのドレイン端子TDは電子装置EDEVの接地側端子(VSS)に接続される。制御回路CNTICは、半導体装置1bのゲート端子TGに接続された駆動端子DVRと、半導体装置1bのケルビン端子KE1に接続された電流検出端子IDETと、半導体装置1bのケルビン端子KE2に接続された接地端子GNDと、を有する。
制御回路CNTICは、電流検出端子IDETと接地端子GNDとの間の電圧を測定することで、シャント抵抗である抵抗素子2aの電圧を計測し、抵抗素子2aに流れた電流を計測する。制御回路CNTICは、計測された電流に基づいて、パワーMOSFET3bのゲート端子TGを制御する。
実施例3で述べたように、電子システムSYS1では、抵抗素子2aとパワーMOSFET3bとを内蔵する半導体装置1bを利用することで、電子システムSYS1における半導体装置1bの実装面積を低減できる。
図17は、モーター制御システムを示す図である。なお、図17において、図面の簡素化のため、駆動制御回路DRVCと6つの半導体装置1のおのおののゲート端子TGとの間の信号配線の一部が描かれていない。実際には、駆動制御回路DRVCと6つの半導体装置1のおのおののゲート端子TGとの間は、すべて信号配線が設けられている。また、実施例1の半導体装置1を適用した構成を例示的に説明するが、実施例2の半導体装置1a、実施例5の半導体装置1cも適用可能である。
図17に示すように、モーター制御システムSYS2は、3相モーターMと、3相モーターMを駆動する駆動回路である6つの半導体装置1と、6つの半導体装置1のおのおののゲート端子TGに駆動信号を供給する駆動制御回路DRVCと、6つの半導体装置1のおのおののケルビン端子KE1に接続された電流検出回路IDECと、を有する。電流検出回路IDECは、6つの半導体装置1のおのおののケルビン端子KE1の電圧を計測して、6つの半導体装置1に内蔵された各MOSFET3に流れる電流を計測する。これにより、6つの半導体装置1の駆動制御による3相モーターの回転制御や6つの半導体装置1の異常検出を行うことができる。この例では、実施例1の抵抗素子2を内蔵する半導体装置1を駆動回路に利用するので、駆動回路の実装面積を低減することが可能である。
次に、実施例1、実施例2で説明したソースクリップの一体構造の製造方法を説明する。
(抵抗体の製造方法)
まず、必要なサイズになる抵抗材料を選択し、選択した抵抗材料を圧延で伸ばして、高精度な厚さの薄板を作成する。
まず、必要なサイズになる抵抗材料を選択し、選択した抵抗材料を圧延で伸ばして、高精度な厚さの薄板を作成する。
次に、作成した薄板を、必要な抵抗値が得られる表面積サイズとなるように、個辺に切断し、個辺の抵抗体を形成する。個辺への切断において、切断型によって切断を行う場合、切断サイズのバラツキが小さく、コストも安く出来る。ただし、切断後の抵抗バラツキは制御が難しい課題がある。薄板の製造時に、薄板の抵抗率データを取得し、取得した抵抗率データに基づいて、薄板を水流ジェットもしくはレーザーにより個辺へ切断するのが良い。抵抗率データを使用して切断するサイズの微調整をおこなって薄板を個辺化できるので、個辺化された抵抗体の抵抗精度を向上することできる。あるいは、個辺化された抵抗体の完成後に、2電流キャリブレーションを実施すれば、抵抗体の抵抗精度はそれ程問題とならない。
(ソースクリップの製造方法)
抵抗体とソースクリップ5の一体構造のソースクリップの製造方法は、通常の抵抗素子の製造方法と同じく、抵抗体とソースクリップ5とが電気溶接を用いて接続される。この場合、電気溶接用の治具を用い、ソースクリップ5側と抵抗体の下部電極とに、放熱性の良い大きな電極を介して電流を流す。抵抗体の発熱で、抵抗体とソースクリップ5と抵抗体の下部電極とを溶接する。
抵抗体とソースクリップ5の一体構造のソースクリップの製造方法は、通常の抵抗素子の製造方法と同じく、抵抗体とソースクリップ5とが電気溶接を用いて接続される。この場合、電気溶接用の治具を用い、ソースクリップ5側と抵抗体の下部電極とに、放熱性の良い大きな電極を介して電流を流す。抵抗体の発熱で、抵抗体とソースクリップ5と抵抗体の下部電極とを溶接する。
なお、抵抗素子の抵抗体での微小電圧を精度良く検出するためには、熱起電力差を無くす必要がある。このため、抵抗素子の抵抗体と検出する半導体装置等の端子までの金属層構成を同じにするのが良い。
抵抗体の上のソースクリップ5のケルビン端子用の接続領域5KEをリードフレーム側のケルビン端子KE1にはんだ等により接続する時は、抵抗体の下部電極のリードフレーム側のケルビン端子KE1にもはんだ接続する。
ソース端子TSをソースクリップ5と一体構造とする場合、抵抗体の下部電極は抵抗体に直接接続されているので、抵抗体の上部電極であるソースクリップ5のケルビン端子用の接続領域5KEとリードフレーム側のケルビン端子KE1とを電気溶接で接続する。あるいは、ケルビン端子KE1を、ソースクリップ5のケルビン端子用の接続領域5KEに先に接続して、ケルビン端子KE1とソースクリップ5とを一体構造で作成する。
ソース端子TSをソースクリップ5と一体構造とする時も、ソース端子TSに、リードフレーム側のケルビン端子KE1をはんだ接続するための端子を追加すれば、抵抗体の上下のケルビン端子をリードフレーム側のケルビン端子KE1にはんだを介して接続できる。これによれば、電圧検出の高精度化が可能であり、一体構造のソースクリップの作成が容易になり、製造コストも下がる。
抵抗体一体型のソースクリップを用いて半導体装置1を組立てる場合、通常のパワーMOSFETの製造方法と同様に、パワーMOSFET3の半導体チップのソース電極S(ソースエリア)とリードフレームのソース端子TS上とに、インジェクタもしくは印刷を用いて、はんだを塗布して、ソースクリップ5をソース電極Sおよびソース端子TSを覆うように搭載する。その後、リードフレーム、パワーMOSFET3の半導体チップおよびソースクリップ5をリフロー炉で加熱して、ソースクリップ5をソース端子TSおよびパワーMOSFET3の半導体チップのソース電極Sにはんだ付けする。
ソース端子TSまで一体成型したソースクリップを使用して半導体装置を組み立てる時は、少し工夫が必要になる。つまり、リードフレームを通常より少し延長して、ソース端子TS一体型のソース端子TS部分とかみ合わせ等を作って位置決め精度を良くする。モールド完成後にその部分を切断することで外部に露出するソース端子TSを規定サイズにすることが可能である。
以上、本発明者によってなされた発明を実施例に基づき具体的に説明したが、本発明は、上記実施形態および実施例に限定されるものではなく、種々変更可能であることはいうまでもない。
1:半導体装置
2:抵抗素子
3:パワーMOSFET(電力用半導体素子)
4:封止体(熱硬化性樹脂)
5:ソース板状導電部材(ソースクリップ)
7、8:接続部材(はんだ)
10:回路基板
KE1、KE2:ケルビン端子(測定端子)
TS:ソース端子
TG:ゲート端子
TD:ドレイン端子
TAB:タブ(チップ搭載部)
S:ソース電極
G:ゲート電極
D:ドレイン電極
2:抵抗素子
3:パワーMOSFET(電力用半導体素子)
4:封止体(熱硬化性樹脂)
5:ソース板状導電部材(ソースクリップ)
7、8:接続部材(はんだ)
10:回路基板
KE1、KE2:ケルビン端子(測定端子)
TS:ソース端子
TG:ゲート端子
TD:ドレイン端子
TAB:タブ(チップ搭載部)
S:ソース電極
G:ゲート電極
D:ドレイン電極
Claims (18)
- 第1電極と第2電極とを有する電力用半導体素子が形成された半導体チップと、
抵抗素子と、
前記半導体チップと前記抵抗素子とを封止する封止体と、
前記第1電極に接続された第1外部端子と、
前記第2電極に、前記抵抗素子を介して、接続された第2外部端子と、を含み、
前記抵抗素子に流れる電流の方向は、前記半導体チップの裏面に対して垂直な方向である、
半導体装置。 - 請求項1の半導体装置において、
前記抵抗素子は、平面視における平面積が、任意の断面での断面積よりも広い、半導体装置。 - 請求項2の半導体装置において、
前記抵抗素子の抵抗値は、平面視における前記平面積によって制御される、半導体装置。 - 請求項2の半導体装置において、
前記第2電極に電気的に接続された第3外部端子を有する、半導体装置。 - 請求項4の半導体装置において、
前記電力用半導体素子は、パワーMOSFETを含み、
前記第1電極は、前記パワーMOSFETのドレイン電極であり、
前記第2電極は、前記パワーMOSFETのソース電極であり、
前記パワーMOSFETは、さらに、ゲート電極を含み、
前記半導体装置は、さらに、前記ゲート電極に接続された第4外部端子を含む、半導体装置。 - 請求項5の半導体装置において、
前記第2外部端子は、第1板状導電部材を含み、
前記抵抗素子は、平面視において、前記第1板状導電部材に重なるように配置される、半導体装置。 - 請求項6の半導体装置において、
前記抵抗素子と前記ソース電極との間に接続された第2板状導電部材を含み、
前記抵抗素子は、平面視において、前記第1板状導電部材と前記第2板状導電部材とに重なるように設けられる、半導体装置。 - 請求項7の半導体装置において、
前記第3外部端子は、前記第2板状導電部材に接続され、前記第2板状導電部材を介して、前記ソース電極に接続される、半導体装置。 - 請求項8の半導体装置において、
前記抵抗素子は、前記第2板状導電部材と一体構造にされている、半導体装置。 - 請求項9の半導体装置において、
前記抵抗素子の下部に、前記抵抗素子の下部電極を有する、半導体装置。 - 請求項8の半導体装置において、
前記第1板状導電部材と前記抵抗素子とは、前記第2板状導電部材と一体構造にされている、半導体装置。 - 請求項8の半導体装置において、
前記第1板状導電部材、前記抵抗素子、および前記第3外部端子は、前記第2板状導電部材と一体構造にされている、半導体装置。 - 一端と他端とを有する上部電極と、
下部電極と、
前記上部電極の前記一端の下面と前記下部電極の上面との間に設けられた抵抗体と、を含み、
前記下部電極は、基板に接続可能にされた下面を有し、
前記上部電極の前記他端の下面は、前記基板に接続可能にされている、
抵抗素子。 - 請求項13の抵抗素子において、
前記下部電極の前記下面と前記上部電極の前記他端の前記下面とは、同一の平面上に位置する、抵抗素子。 - 請求項13の抵抗素子において、
前記抵抗体は、平面視における平面積が、任意の断面での断面積よりも広く、
前記抵抗体の抵抗値は、平面視における前記平面積によって制御される、抵抗素子。 - ドレイン電極と、ソース電極と、ゲート電極とを有する電力用半導体素子が形成された半導体チップと、
前記半導体チップを封止する封止体と、
前記ドレイン電極に接続されたドレイン端子と、
前記ソース電極に接続されたソース端子と、
前記ゲート電極に接続されたゲート端子と、
前記ソース端子の先端に設けられた測定端子と、
前記ソース端子の前記先端の裏面に設けられた抵抗体と、
前記抵抗体の裏面に設けられた下部端子と、を含み、
前記測定端子の裏面と前記下部端子の裏面とは、同一の平面上に位置する、
半導体装置。 - 請求項16において、
前記ドレイン端子は、前記封止体から露出している、半導体装置。 - 請求項16において、
前記ゲート端子の先端の裏面は、前記測定端子の前記裏面および前記下部端子の前記裏面と、同一の平面上に位置する、半導体装置。
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-
2018
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CN116093058B (zh) * | 2023-02-28 | 2024-01-09 | 中科华艺(天津)科技有限公司 | 一种氮化镓半导体抗干扰封装结构 |
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