JP2020004923A - 画像処理装置、実装装置、画像処理方法、プログラム - Google Patents
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Abstract
Description
30:搭載ヘッド
34:高さ計測部(計測部)
39:ディスプレイ
40:画像処理装置
41:第1の取得部
42:第2の取得部
43:照合部
44:表示制御部
45:切り出し部
46:検出部
47:算出部
50:基板画像
51:部品画像
60:基板
61:多面取り基板
62:単位基板
P :部品
Claims (10)
- 表面に回路パターンを形成した基板が撮像されて、当該基板に対する部品の搭載位置をディスプレイに指定可能に表示させる画像処理装置であって、
基板表面を撮像した基板画像を取得する第1の取得部と、
部品底面を撮像した部品画像を取得する第2の取得部と、
部品画像の特徴点を基板画像の回路パターンに照合する照合部と、
基板画像上の照合箇所を搭載位置として強調表示する表示制御部とを備えたことを特徴とする画像処理装置。 - 前記表示制御部は、前記照合部の照合結果で相関が高い方から上位数箇所を搭載位置の候補として強調表示することを特徴とする請求項1に記載の画像処理装置。
- 前記表示制御部は、部品の底面認識用のテンプレート画像を表裏反転させて、当該テンプレート画像を搭載位置に重ねることで照合箇所を強調表示することを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の画像処理装置。
- 基板が同一回路パターンの複数の単位基板から成る多面取り基板であり、
一の単位基板の回路パターンに対する他の単位基板の回路パターンのオフセット量を検出する検出部と、
一の単位基板の搭載位置と回路パターンのオフセット量から他の単位基板の搭載位置を求める算出部とを備えることを特徴とする請求項1から請求項3のいずれかに記載の画像処理装置。 - 前記検出部は、多面取り基板の2つの基板画像を縦横方向にシフトしながら回路パターンの相関を求め、相関がある箇所に基づいて回路パターンのオフセット量を検出することを特徴とする請求項4に記載の画像処理装置。
- 前記検出部は、多面取り基板の2つの基板画像を回転方向にシフトしながら回路パターンの相関を求め、相関がある箇所に基づいて回路パターンのオフセット角を検出することを特徴とする請求項4又は請求項5に記載の画像処理装置。
- 計測部によって多面取り基板を横切りながら計測された高さデータに基づいて基板画像を切り出す切り出し部を備え、
前記検出部は、切り出し後の2つの基板画像をシフトしながら回路パターンの相関を求めることを特徴とする請求項4から請求項6のいずれかに記載の画像処理装置。 - 請求項1から請求項7のいずれかに記載の画像処理装置と、
前記画像処理装置で指定された搭載位置に部品を搭載する搭載ヘッドとを備えたことを特徴とする実装装置。 - 表面に回路パターンを形成した基板が撮像されて、当該基板に対する部品の搭載位置をディスプレイに指定可能に表示させる画像処理方法であって、
基板表面を撮像した基板画像を取得するステップと、
部品底面を撮像した部品画像を取得するステップと、
部品画像の特徴点を基板画像の回路パターンに照合するステップと、
基板画像上の照合箇所を搭載位置として強調表示するステップとを有することを特徴とする画像処理方法。 - 表面に回路パターンを形成した基板が撮像されて、当該基板に対する部品の搭載位置をディスプレイに指定可能に表示させる画像処理装置のプログラムであって、
基板表面を撮像した基板画像を取得するステップと、
部品底面を撮像した部品画像を取得するステップと、
部品画像の特徴点を基板画像の回路パターンに照合するステップと、
基板画像上の照合箇所を搭載位置として強調表示するステップとを前記画像処理装置に実行させることを特徴とするプログラム。
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