JP2020001365A - ソーラーチップモジュール用透光処理システムおよび透光処理方法 - Google Patents
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Abstract
Description
透明基板と、前記透明基板の上面に積層されたチップ層とを含む前記チップモジュールの上面に、紫外線(UV)インクを用いて所定パターンを印刷することで、前記チップモジュールの上面において、前記パターンに覆われた箇所にUVインク層を形成し、前記パターンに覆われていない箇所にくり抜き領域を形成するように構成されるインク印刷手段と、
前記チップモジュール上に印刷された前記UVインクをUV光で硬化させてUVインク保護膜を形成するように構成される硬化手段と、
前記透明基板における、前記くり抜き領域に対応する部分を露出させるように、前記チップ層における、前記くり抜き領域に対応する部分を除去する層除去手段と、
を含む透光処理システムを提供する。
実施形態において、前記化学洗浄手段はシーズニング装置を含む。
100:チップ層
101:透明基板
102:第一の層
103:第二の層
104:第三の層
105:UVインク層
105’:UVインク保護膜
106:透光パターン
107:スクライブ線
108:くり抜き領域
109:封止層
110:透明基板
10:インク印刷手段
11:スクリーン印刷装置
12:CCD画像位置決め装置
13:材料供給台
14:初期位置決め装置
20:硬化手段
30:層除去手段
31:ブラスト装置
32:ブラスト位置決め装置
33:エアナイフパージ装置
40:化学洗浄手段
50:搬送ライン
Claims (16)
- ソーラーチップモジュールを処理するための透光処理システムであり、
透明基板と、前記透明基板の上面に積層されたチップ層とを含む前記チップモジュールの上面に、紫外線(UV)インクを用いて所定パターンを印刷することで、前記チップモジュールの上面において、前記パターンに覆われた箇所にUVインク層を形成し、前記パターンに覆われていない箇所にくり抜き領域を形成するように構成されるインク印刷手段と、
前記チップモジュール上に印刷された前記UVインクをUV光で硬化させてUVインク保護膜を形成するように構成される硬化手段と、
前記透明基板の上面における、前記くり抜き領域に対応する部分を露出させるように、前記チップ層における、前記くり抜き領域に対応する部分を除去する層除去手段と、
を含む透光処理システム。 - 前記透光処理システムは、前記チップモジュールが前記インク印刷手段、前記硬化手段及び前記層除去手段に順次搬送されるように構成される搬送ラインをさらに含む
請求項1に記載の透光処理システム。 - 前記層除去手段は、前記チップ層における、前記くり抜き領域に対応する部分が除去されるよう、前記UVインク保護膜が形成された前記チップモジュールの上面をブラスト処理するように構成されるブラスト装置を含む
請求項1に記載の透光処理システム。 - 前記インク印刷手段は、ポリエステルスクリーンをスクリーン版として用いるスクリーン印刷装置を含む
請求項1〜3のいずれか一項に記載の透光処理システム。 - 前記インク印刷手段は、前記スクリーン版と前記チップモジュールを位置決めするように構成される電荷結合素子(CCD)画像位置決め装置をさらに含む
請求項4に記載の透光処理システム。 - 前記チップモジュール上に形成された前記UVインク保護膜を剥がすために、前記層除去手段によって処理された前記チップモジュールを化学洗浄するように構成される化学洗浄手段をさらに含む
請求項1〜3のいずれか一項に記載の透光処理システム。 - a.透明基板と、前記透明基板の上面に積層されたチップ層とを含む前記チップモジュールの上面に、UVインクを用いて所定パターンを印刷することで、前記チップモジュールの上面において、前記パターンに覆われた箇所にUVインク層を形成し、前記パターンに覆われていない箇所にくり抜き領域を形成するステップと、
b.前記チップモジュール上に印刷された前記UVインクをUV光で硬化させてUVインク保護膜を形成するステップと、
c.前記透明基板における、前記くり抜き領域に対応する部分を露出させるように、前記チップ層における、前記くり抜き領域に対応する部分を除去するステップと、
を含むソーラーチップモジュールに用いられる透光処理方法。 - 前記ステップcは、前記チップ層における、前記くり抜き領域に対応する部分が除去されるよう、前記UVインク保護膜が形成された前記チップモジュールの上面をブラスト処理することを含む
請求項7に記載の透光処理方法。 - 前記ブラスト処理で用いるブラスト粒子は300〜500メッシュのホワイトアランダムであり、ブラスト圧力は3〜4バールであり、前記ブラスト処理を実施するブラスト装置のノズルの直径は8mmである
請求項8に記載の透光処理方法。 - 前記ステップaは、スクリーン印刷技術を用い、ポリエステルスクリーンをスクリーン版とし、一回の印刷成形により、前記UVインクのパターンを印刷し、印刷された前記UVインクのパターンの厚さは60〜70μmであることを含む
請求項7〜9のいずれか一項に記載の透光処理方法。 - 前記ステップaの前に、CCD画像位置決め装置を用いて前記スクリーン版と前記チップモジュールを位置決めすることをさらに含む
請求項10に記載の透光処理方法。 - 前記ステップcの後に、前記チップモジュール上に形成された前記UVインク保護膜を剥がすために前記チップモジュールを化学洗浄することをさらに含む
請求項7〜9のいずれか一項に記載の透光処理方法。 - 前記UVインク保護膜を剥がすために用いられる化学洗浄試薬は、濃度が0.3%〜0.5%のKOH又は0.3%〜0.5%のNaOH溶液であり、前記UVインク保護膜を剥がす剥離時間は120秒〜130秒である
請求項12に記載の透光処理方法。 - 前記ステップbは、光強度を800mJ/cm2〜1500mJ/cm2とするUV光を用いて前記UVインクを硬化させ、硬化時間は30秒〜90秒であることを含む
請求項7〜9のいずれか一項に記載の透光処理方法。 - 前記ステップaは、スクリーン印刷技術を用い、ポリエステルスクリーンをスクリーン版とし、一回の印刷成形により、前記UVインクのパターンを印刷し、印刷された前記UVインクのパターンの厚さは30〜60μmであることを含む
請求項7に記載の透光処理方法。 - 前記ステップcは、前記チップ層における、前記くり抜き領域に対応する部分が除去されるよう、前記チップモジュール上面の前記くり抜き領域に対応する部分へ腐食剤を噴射することを含む
請求項7に記載の透光処理方法。
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