JP2019536894A - 高強度アルミニウム合金バッキングプレート及び製造方法 - Google Patents

高強度アルミニウム合金バッキングプレート及び製造方法 Download PDF

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Abstract

高強度アルミニウム合金を形成する方法。本方法は、スカンジウムを含むアルミニウム材料を、アルミニウム材料の溶体化温度まで加熱することで、アルミニウム材料全体にスカンジウムが分散されて、アルミニウム合金を形成することを含む。本方法は、高強度アルミニウム合金が、少なくとも1時間、約300℃〜約400℃の温度におかれた後に、約40ksiを超える降伏強度を有するように、等チャネル角押出でアルミニウム合金を押出成形して、高強度アルミニウム合金を形成することを更に含む。【選択図】図1

Description

関連出願の相互参照
本出願は、2016年9月30日に出願された米国仮特許出願第62/402,267号に対する優先権を主張するものであり、その開示内容は、参照によりその全体が本明細書に明確に組み込まれる。
本開示は、例えばスパッタリングターゲットアセンブリにおいて使用され得る、高強度アルミニウム合金に関する。より具体的には、本開示は、熱的に安定であり、スパッタリングターゲットアセンブリ内のバッキングプレートとして使用され得る高強度アルミニウム合金に関する。高強度アルミニウム合金、高強度バッキングプレート、及びターゲットアセンブリを形成する方法もまた記載される。
物理蒸着法(physical vapor deposition、「PVD」)は、様々な基板の表面に材料の薄膜を形成するために広く使用されている。様々な金属及び合金は、PVD技術を使用して蒸着することができ、例えば、アルミニウム(Al)、チタン(Ti)、銅(Cu)、タンタル(Ta)、ニッケル(Ni)、モリブデン(Mo)、金(Au)、銀(Ag)、白金(Pt)、及びこれらの元素の合金が挙げられる。スパッタ蒸着又はスパッタリングとして知られる1つのPVD処理では、粒子は、プラズマなどのガスイオンを用いた衝撃によって、スパッタリングターゲットの表面から排出される。そのため、スパッタリングターゲットは、半導体ウェハなどの基板上に蒸着される材料の供給源である。
例示的なスパッタリングアセンブリ10の一部の線図を、図1に示す。スパッタリングアセンブリ10は、結合されたスパッタリングターゲット14を有するバッキングプレート12を備える。半導体材料ウェハ18は、アセンブリ10内にあり、ターゲット14のスパッタリング表面16から離間して設けられる。動作中、粒子又はスパッタリングされた材料22は、ターゲット14の表面16から離れ、ウェハ18にコーティング(つまり薄膜)20を形成するために使用される。図1に示されるスパッタリングアセンブリ10は、例えば、ターゲットとバッキングプレートの両方が任意の好適なサイズ又は形状であり得るため、例示的な構成であることを理解されたい。
スパッタリングターゲットは、バッキングプレートに取り付けられ、又は付着されてもよい。バッキングプレートは、スパッタリング処理中にスパッタリングターゲットを支持することができ、例えば、スパッタリングターゲットの反りを低減することができる。スパッタリングターゲットをバッキングプレートに付着する1つの方法は、熱間等方加圧(「ヒッピング(HIPing)」又は「ヒッピング(hipping)」)である。ヒッピングを使用して、スパッタリングターゲットとバッキングプレートとをヒッピング温度に加熱した後に互いに押し付けることによって、スパッタリングターゲットをバッキングプレートに結合することができる。
いくつかの実施形態では、バッキングプレート12は、例えば、高ヤング率(E)及び高降伏引張強度(YS)を含む高い機械的強度と、ターゲット材料の熱膨張係数と同等の熱膨張係数と、良好な熱伝導率と、ターゲット材料と同様の電気的及び磁気的特性とを有し得る。
降伏強度又はヤング率は、材料において特定量の塑性変形が生じる応力を決定する。スパッタリングターゲット材料と同等の熱膨張係数を有することにより、スパッタリング中にバッキングプレート12及びスパッタリングターゲット14が剥離するリスクが低減される。良好な熱伝導率は、冷却効率を向上させる。ターゲット材料と同様の電気的及び磁気的特性を有することにより、スパッタリング中にスパッタリングアセンブリ10を通る磁束及び電束を最適化する。
半導体ウェハの製造技術における進歩は、特に300mm〜450mmサイズのウェハの製造のために、ますます大きなターゲットに対する需要をもたらしてきた。ターゲットサイズが大きいほど、ターゲットの反りを最小限に抑える又は回避するために、より高い強度のバッキングプレート材料を必要とする。バッキングプレート材料において改善がなされてきたが、特に、スループット、フィルム品質、及び均一性を改善するために使用される高スパッタリング電力の増加を考慮して、より大きなターゲット寸法を支持するための十分な強度を提供するために、ますます強力な材料が必要とされている。
バッキングプレートは、現在、アルミニウム、銅、アルミニウム合金、及び銅合金から最も多く形成されている。Cu合金は高い強度及び熱安定性を提供する一方で、Al合金は、より安価で軽量であるという利点を有する。しかしながら、ほとんどの市販のAl合金は、通常250℃よりも高く、かつ多くの場合300℃に近い、ヒッピング温度付近でピーク強度を失う。したがって、高い温度安定性及び降伏強度を有する高強度のバッキングプレートが必要とされている。
本明細書では、高強度アルミニウム合金を形成する方法が開示される。本方法は、アルミニウム材料の溶体化温度までスカンジウムを含むアルミニウム材料を加熱することで、アルミニウム材料全体にスカンジウムが分散されてアルミニウム合金を形成することを含む。本方法は、高強度アルミニウム合金が、少なくとも1時間、約300℃〜約400℃の温度でおかれた後に、40ksiを超える降伏強度を有するように、等チャネル角押出でアルミニウム合金を押出成形して、高強度アルミニウム合金を形成することを更に含む。いくつかの実施形態において、方法は、高強度アルミニウム合金を、スカンジウムの少なくとも一部分が高強度アルミニウム合金全体にわたって分散質を形成するように、少なくとも1時間、約300℃〜約400℃の温度で時効処理することを更に含む。
スパッタリングアセンブリバッキングプレートに使用するためのアルミニウム合金を形成する方法がまた、本明細書で開示される。本方法は、スカンジウムを溶融アルミニウムに添加して、アルミニウム材料を形成することと、アルミニウム材料を鋳造することとを含む。本方法は、アルミニウム材料を約8時間〜約120時間、約500℃〜約650℃の温度に加熱して、それにより、スカンジウムの少なくとも一部分がアルミニウム材料全体に溶解してアルミニウム合金を形成することと、スカンジウムがアルミニウム合金全体に溶解されたままであるように、アルミニウム合金を急冷することとを更に含む。本方法は、アルミニウム合金を等チャネル角押出にかけて、高強度アルミニウム合金を形成することと、スカンジウムの少なくとも一部分が高強度アルミニウム合金全体に分散質を形成するように、少なくとも1時間、約300℃〜約400℃の温度でアルミニウムを時効処理することとを更に含む。高強度アルミニウム合金は、少なくとも1時間、約300℃〜約400℃の温度におかれた後に、40ksiを超える降伏強度を有する。
アルミニウム合金を含むバッキングプレートを備えたスパッタリングアセンブリがまた、本明細書に開示される。アルミニウム合金は、アルミニウムを主成分とする金属マトリックスを形成し、アルミニウム合金の重量により、約0.1重量%〜約15.0重量%の重量パーセントで存在するスカンジウムを含有するアルミニウム材料を含む。スカンジウムの少なくとも一部分は、アルミニウム合金全体にわたって分散される分散質を形成し、アルミニウム合金は、アルミニウム合金が少なくとも1時間、約300℃〜約400℃の温度におかれた後に、少なくとも40ksiの降伏強度を有する。
多数の実施形態が開示されるが、それでもなお当業者には、本発明の例示的実施形態を示し、説明する以下の詳細な説明から、本発明の他の実施形態が明らかになるであろう。したがって、図面及び詳細な説明は、制限的なものではなく、本質的に実例とみなされるべきである。
物理蒸着装置の一部の線図である。 等チャネル角押出(equal channel angular extrusion、ECAE)装置の一部の概略図である。 いくつかの実施形態による、Al合金を形成する方法のフロー図である。 例示的なアルミニウム材料についての降伏強度とブリネル硬度の比較図である。 特定のアルミニウム合金の降伏強度と温度を比較するグラフである。 例示的なアルミニウム合金の降伏強度と温度を比較するグラフである。 特定のアルミニウム合金の降伏強度と温度を比較するグラフである。 様々な温度における特定のアルミニウム材料の硬度を比較するグラフである。 特定のアルミニウム材料の組成と熱安定性を比較するグラフである。 特定のアルミニウム材料の組成と硬度を比較するグラフである。 様々な温度における1時間のアニーリングの関数としての特定のアルミニウム材料の硬度を比較するグラフである。 様々な温度における1時間のアニーリングの関数としての特定のアルミニウム材料の硬度を比較するグラフである。 光学顕微鏡で撮られた様々なアルミニウム合金の顕微鏡写真である。 光学顕微鏡で撮られた様々なアルミニウム合金の顕微鏡写真である。 光学顕微鏡で撮られた様々なアルミニウム合金の顕微鏡写真である。 光学顕微鏡で撮られた様々なアルミニウム合金の顕微鏡写真である。 光学顕微鏡で撮られた様々なアルミニウム合金の顕微鏡写真である。 光学顕微鏡で撮られた様々なアルミニウム合金の顕微鏡写真である。 光学顕微鏡で撮られた様々なアルミニウム合金の顕微鏡写真である。 様々なアルミニウム合金の強度を比較するグラフである。 様々なアニーリング温度の関数としての特定のアルミニウム合金の硬度を比較するグラフである。 様々なアニーリング温度の関数としての特定のアルミニウム合金の硬度を比較するグラフである。 様々なアニール時間及び温度の関数としての特定のアルミニウム合金の硬度を比較するグラフである。 様々な持続時間にわたって加熱された後の特定のアルミニウム合金の硬度を比較するグラフである。 様々な温度で加熱された後の特定のアルミニウム合金の硬度を比較するグラフである。 光学顕微鏡で撮影した、様々な温度まで加熱した後のアルミニウム合金の顕微鏡写真である。 光学顕微鏡で撮影した、様々な温度まで加熱した後のアルミニウム合金の顕微鏡写真である。 光学顕微鏡で撮影した、様々な温度まで加熱した後のアルミニウム合金の顕微鏡写真である。 光学顕微鏡で撮影した、様々な温度まで加熱した後のアルミニウム合金の顕微鏡写真である。 光学顕微鏡で撮影した、様々な温度まで加熱した後のアルミニウム合金の顕微鏡写真である。 光学顕微鏡で撮影した、様々な温度まで加熱した後のアルミニウム合金の顕微鏡写真である。 光学顕微鏡で撮影した、様々な温度まで加熱した後のアルミニウム合金の顕微鏡写真である。 光学顕微鏡で撮影した、様々な温度まで加熱した後のアルミニウム合金の顕微鏡写真である。 様々な温度における特定のアルミニウム合金の硬度を比較するグラフである。
高強度及び熱安定性を有するアルミニウム(Al)合金バッキングプレート、並びにその製造方法が、本明細書で開示される。より具体的には、バッキングプレートを少なくとも1時間、約300℃〜約400℃の温度においた後に、40ksiより大きい降伏強度及び/又は直径が約1ミクロン未満の粒径を有するAl合金バッキングプレートが、本明細書で開示される。他の実施形態では、Al合金は、バッキングプレートが少なくとも1時間、約300℃〜約400℃の温度におかれた後に、約40ksi〜約50ksi又は約40ksi〜約65ksiの降伏強度を有し得る。いくつかの実施形態では、Al合金バッキングプレートは、スカンジウム(Sc)を含有し、例えば、Sc及びAlを含有する分散質を含有してもよい。いくつかの実施形態では、Al合金バッキングプレートは、Sc及びジルコニウム(Zr)を含有してもよく、Al及びSc及び/又はZrを含有する分散質を形成してもよい。等チャネル角押出(ECAE)により含まれる高強度Al合金を形成する方法も開示される。
Al合金は、Alから形成された金属マトリックス、金属マトリックス全体に分散された分散質、及び任意選択的な追加の元素を含む。金属マトリックスはAlから形成される。すなわち、金属マトリックスは、主成分としてのAlで形成される。例えば、出発材料は、高純度Al及び微量元素であってもよい。いくつかの実施形態では、Al合金をまた使用して、金属マトリックスを作製してもよい。金属マトリックスを形成するための出発材料として使用され得る好適なAl合金としては、Al5083及びAl5456が含まれる。
金属マトリックスは、結晶構造に配置された主成分の金属原子から形成される材料本体である。すなわち、Al金属マトリックスは、結晶構造に配置されたAl原子を含む。金属マトリックスは、材料本体のベース結晶構造を形成する完全に純粋な、又は高純度の金属であってもよい。金属マトリックス結晶構造に添加剤を導入してもよい。添加剤(複数可)が金属マトリックス中に十分低い濃度で存在する場合、添加剤(複数可)は、添加剤(複数可)の個々の原子が、マトリックスを形成する主成分の原子間のいずれかで、又は主成分の原子を置換することによって、結晶構造全体に広がるように金属マトリックス全体に分散されてもよい。
高降伏強度を有するAl合金は、Alマトリックス全体に分散質を形成するのに好適なSc及び/又は追加の添加剤の濃度を有する。分散質は、第1の物質中に分布又は分散された第2の物質の微粒子である。冶金では、分散質は、Scなどの特定の元素と組み合わされたAlから形成され得る。いくつかの実施形態では、Al合金は、Al合金の総重量の約0.05重量%〜約20重量%の重量パーセントでAl中の少なくとも1つの材料と組み合わされたAlで形成された分散質を含有する。いくつかの実施形態では、Alに添加される材料は、クロム(Cr)、鉄(Fe)、ハフニウム(Hf)、マンガン(Mn)、ニオブ(Nb)、ニッケル(Ni)、スカンジウム(Sc)、チタン(Ti)、バナジウム(V)、ジルコニウム(Zr)、イットリウム(Y)、リチウム(Li)、タンタル(Ta)、モリブデン(Mo)、又は、周期律表のランタニド系列の元素(すなわち、ランドタン(La)、セリウム(Ce)、プラセオジム(Pr)、ネオジム(Nd)、プロメチウム(Pm)、サマリウム(Sm)、ユーロピウム(Eu)、ガドリニウム(Gd)、テルビウム(Tb)、ジスプロシウム(Dy)、ホルミウム(Ho)、エルビウム(Er)、サリム(Tm)、イッテルビウム(Yb)、及びルテチウム(Lu))であり得る。例えば、好適な分散質は、式AlXを有してもよく、式中、「n」≧3であり、Xは、Cr、Fe、Hf、Mn、Nb、Ni、Sc、Ti、V、Zr、Y、Li、Ta、Mo、La、Ce、Pr、Nd、Pm、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、又はLuのうちの少なくとも1つである。分散質中に存在するいくつかのX要素を有することも可能であり、例えば、分散質は、形態Al(X1、X2)であり得、式中、「n」及び「m」は正の整数であり、X1及びX2は上記のリストから取られた要素であり、「n」対「m」の比は≧3である。全てのX要素は、特定のAl組成を有し、ここにおいて、「n」対「m」の比は、最も高い可能性がある(例えば、最大Al含有量を有し、Al合金中の要素Xの濃度が低い場合に形成される最初の1つの相である)。Al合金は、Al合金中に約0.1重量%〜約1.0重量%の重量パーセントで存在する、Sc及びCr、Fe、Hf、Mg、Mn、Nb、Ni、Ti、V、Zr、Y、Li、Ta、Mo、La、Ce、Pr、Nd、Pm、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、又はLuのうちの少なくとも1つと組み合わされたAlから形成された分散質を含んでもよい。いくつかの実施形態では、Scを含有する分散質に加えて、Al合金はまた、溶融中に添加され得る酸化物、ケイ化物及び炭化物(例えば、グラフェン、ナノチューブ)から形成された分散質を含んでもよい。
いくつかの実施形態では、安定した主相又は安定した主粒子は、式Al(X)を有する材料であってもよく、式中、「n」及び「m」は正の整数であり、Xは、Cr、Fe、Hf、Mn、Nb、Ni、Sc、Ti、V、Zr、Y、Li、Ta、Mo、La、Ce、Pr、Nd、Pm、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、又はLuのうちの少なくとも1つである。典型的には、鋳造中の溶融合金の冷却中に、かつX要素の濃度が、所与の組成及び溶融及び冷却の処理条件について、アルミニウムマトリックス中のその元素の最大溶解度を上回ったときに、Al(X)は形成される。主相は、溶融及び冷却処理中に形成され、Al合金溶融点より低い温度で後続の熱処理中に安定したままである相であり得ることに留意されたい。対照的に、二次相(時には析出物又は二次粒子とも呼ばれる)は、溶体化、急冷、又は低温時効処理(以下に更に記載される)などの後続の熱処理中に形成される。
分散質の好適な濃度は、分散質を含まない同じAl合金と比較して、Al合金の強度を増大させることができる。いくつかの実施形態では、低濃度の分散質は、分散質を含まない同じAl合金と比較して、Al合金の強度を増大させるのに十分であり得る。低濃度要件は、分散質が限定された利用可能性を有し得るSc又は希土類元素などの元素を含む場合、特に有益であり得る。いくつかの実施形態では、分散質はAl金属マトリックスとコヒーレントである。すなわち、分散質が最小であるとき、Al格子内にわずかな格子不整合が存在し得る。
いくつかの実施形態では、Al合金のサブミクロン構造の安定性は、分散質を含有する合金の粒又は粒子のサイズを測定することによることを含む様々な方法によって定量化され得る。いくつかの実施形態では、ScをAl合金に添加することにより、Al合金がより大きな粒に再結晶化することを抑制する。いくつかの実施形態では、Al合金中の粒及び/又はAl合金中の分散質を含有する粒子の微細かつ均一なサイズは、Al合金降伏強度の1つの予測要因である。いくつかの実施形態では、特定の温度まで微細かつ均一な粒径を維持するAl合金は、その特定の温度で高い降伏強度を維持すると予測される。
Al合金に添加される特定の元素は、Al合金の強度に寄与し、約300℃〜約400℃、より具体的には約300℃〜約350℃のヒッピング温度まで熱的に安定であるサブミクロン構造の作製に寄与するAlを有する分散質を形成することが分かっている。
いくつかの実施形態では、Al合金への分散質の添加を強塑性変形に組み合わせることにより、バッキングプレート及びバッキングプレート材料に好適な高強度Al合金を形成することができる。1つの好適な強塑性変形処理は、等チャネル角押出(ECAE)である。いくつかの実施形態では、最適な数のECAEパスは、少なくとも1回のパス、いくつかの実施形態では、最大4回のパスを含み得る。いくつかの実施形態では、Al合金の強塑性変形は、Al合金に好適な降伏強化を提供し、また、約300℃〜約400℃、又は約300℃〜約350℃のヒッピング温度まで熱的に安定であるサブミクロン構造を作製する。いくつかの実施形態では、より高い降伏強度及びブリネル硬度は、ECAEなどの強塑性変形を圧延及び/又は鍛造などの塑性変形によってもたらされる強度と組み合わせることによって達成され得る。
Al合金は、任意選択的に、特定の遷移元素を含んでもよい。好適な遷移元素としては、0.5重量%より大きい、3.0重量%より大きい、5.0重量%より大きい濃度におけるFe、Cu、Zn、Co、Ni、Cr、Mo、V、Zr、Mn、Mg、Ti、Y、Si、Li、ホウ素(B)、鉛(Pb)、ビスマス(Bi)が含まれ得る。Sc及び追加の遷移元素を含むAl合金は、Sc及び遷移元素を含まない、又はScを含むが遷移元素を含まないAl合金と比較して強度の改善に寄与し得る。分散質を添加することに加えて、遷移元素を使用する重質合金化は、改善された強度及び熱安定性に寄与し得る。遷移元素は、Alマトリックス中に溶質(例えば、固溶体中の格子間原子又は置換原子)として存在してもよく、又は溶融及び冷却中の不溶性相若しくは初期融解及び冷却後の後続の熱処理中の可溶性二次相のいずれかを形成してもよい。
合金化処理中、Scは、Alの格子パラメータに近い格子パラメータを有する特定のLl結晶構造を有するAlマトリックス中にAlSc分散質を形成する。AlSc分散質の析出硬化の温度範囲は、275℃〜350℃であり、300℃の辺りにピーク強度特性を有する。対照的に、市販のAl合金中での析出硬化に使用される従来の元素は、85℃〜200℃の析出のためのより低い温度範囲を有する。AlSc分散質のピーク時効処理は、少なくとも1時間後に約300℃で実現され、分散質は、1時間より長く、8時間より長く、又は24時間より長くこれらの温度の周囲で安定したままであることが見出された。275℃未満の温度は、Al合金全体にわたって好適な量のAlSc分散質を分布させて強度を大幅に増加させるための十分なエネルギーを提供せず、350℃を超える温度では、AlSc分散質は、集合及び合体を開始して、大きな析出物を形成し、又は直径が100nmよりも大きいサイズを有するより大きな分散質を形成する。400℃を超える温度に上げると、最終的に、直径が1ミクロンを超える分散質粒子のサイズまで増加し、これは粗すぎる材料をもたらし、機械的効果が低下する。
Al中に分散質を形成する他の元素としては、Cr、Fe、Hf、Mn、Nb、Ni、Ti、V、Zr、Y、Li、Ta、Mo、La、Ce、Pr、Nd、Pm、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、及びLuが含まれる。いくつかの実施形態では、これらの元素は、Al及びScと結合して、より複雑な組成を有する分散質を形成することができる。例えば、Scを含有するAl材料にZrを添加することにより、形態Al(Sc、Zr)を有する分散質を有するAl合金を形成して、Sc中により豊かな分散質コア及びZr中により豊かな外側表面(シェルとしてまた言及される)を形成する。いくつかの実施形態では、このコア/シェル構造は、Al(Sc、Zr)分散質を説明するために使用され得る。いくつかの実施形態では、Al材料を通じたSc拡散は、早期核生成及びAlScの成長を制御し、Zrと結合して、後の段階でAl(Sc、Zr)分散質を形成し得る。これは、Scと比較してAl中のZrの拡散率がはるかに低いことによって説明され、かつコア/シェル構造をもたらし、AlScコアの核生成及び初期成長は、Sc拡散によって制御され、Al(Sc、Zr)シェルの後期成長及び粗大化段階は、Zr拡散によって制御される。この種類のコア/シェルAl(Sc、Zr)構造は、より安定かつより微細な分散質を提供することによって、分散質の制御に対する利点を有することができる。
いくつかの実施形態では、Al合金は、2つ以上の元素と組み合わされたAlで形成された分散質を含み、最適化された粒径及び粒径分布のピーク時効温度及び時間は、1時間より長く、8時間より長く、又は24時間より長く275℃〜350℃のままである。いくつかの実施形態では、Sc及び1つの更なる元素と組み合わされたAlで形成された分散質を含有するAl合金は、300℃超、350℃超、及び400℃超の温度で粒径成長を遅くするのに特に好適であり、熱安定性に寄与する安定した粒構造を提供することができる。形成可能な分散質の更なる例としては、Al(Zr、RE)が挙げられ、REは、周期律表のランタニド系中の元素などの希土類元素である。一例として、Yb及びErは、Ll2構造を500℃までの温度に均一に維持する高い熱安定性を有するAl(Zr、Er)及びAl(Zr、Yb)分散質を形成し得る。例えば、(Al、Cr)(Zr、Yb)分散質の形成をもたらす、Cr又はMnなどの第4の周期遷移元素で三元分散質を安定化させることも可能である。
材料マトリックスの析出又は合体などの二次相を形成することなく、第1の材料中に存在し得る第2の材料の最大原子数は、最大溶解度と呼ばれ、温度に強く依存する。一般に、温度が高いほど、所与の要素の最大溶解度が大きくなる。例えば、室温でのAl中のScの最大溶解度は、0.01重量%未満であるが、平衡状態(例えば、十分な時間後)において、660℃(Alの固相化温度)付近で0.38重量%であってもよい。温度並びに/又は加熱速度及び冷却速度を変化させることによって、第1の材料における第2の材料(すなわち、特定の要素)の最大溶解度を制御することが可能である。
標準的な金属鋳造に関しては、鋳造部品の熱処理は、多くの場合、鋳造部品の固相化温度(すなわち溶体化)付近で行われ、続いて鋳造片を急速に冷却して、鋳造片を室温に急冷する。この処理は、室温でAl合金中のその元素の平衡濃度よりも高い濃度で鋳造片に溶解した任意の元素を保持する。急冷後、鋳造片は、第2の材料で過飽和していると表され、室温で非平衡状態(すなわち、準安定状態)である。第2の材料は、固体温度(すなわちAlについて約660℃)付近の温度よりもはるかに低い熱処理温度及び時間で、鋳造片から新しい相に析出する傾向がある。Al中のScに関して、約0.38重量%(0.23at.%)の最大溶解度は、ソリダス付近の高温処理及び油又は水中の標準的な急冷(低冷却速度)を使用することによって、室温で過飽和溶液中に保持することができる。例えば、早い冷却速度又は「非従来型鋳造」若しくは「非従来型インゴット冶金」と呼ばれる技術を使用して、鋳造処理を調節することによって、過飽和溶液に対してより高い最大溶解度を達成することが可能である。
材料マトリックス中に分散質を形成する元素の量が、その要素の最大溶解度よりも高い場合、溶体化及び急冷中に最大の可溶な量までのみが溶液に入り、過剰量のその元素は安定した主相に留まる。例えば、Scが0.38重量%を超えてAl中に存在し、標準的な鋳造及び冷却方法が使用される場合、溶体化及び急冷中に0.38重量%のScのみが溶液に入る。過剰なScは、影響を受けないままであり、溶融及び冷却中に形成される様々な安定な主相(AlScなど)に留まる。主相で形成された粒子は、典型的には、均一に分布しておらずにかなり粗く(直径が数ミクロン)、AlScとは異なる組成、格子不整合、及び/又は結晶構造を有することができる。安定な主相は、溶体化、急冷、及び300℃での低温時効処理などの後続の熱処理による影響を受けない。溶液中の0.38重量%のScのみが、熱処理による影響を受け、分散質を形成する。したがって、主相中に過剰に存在するScは、Al合金の最終強度に比較的低い影響を有する。
高重量パーセントの分散質形成元素(例えば、約5重量%又は約15.0重量%のSc)を添加し、分散質形成元素を含有し、Al合金に追加的な強度をもたらす、多数の個別の粗安定主相粒子を作製することが可能である。しかしながら、一般に、スカンジウムなどの元素及び周期律表のランタニド系の元素(La、Ce、Pr、Nd、Pm、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Lu)の利用可能性が限定されること、並びに過剰量の分散質形成元素を含有する主相の粗粒径により、これらの元素をそれらの最大溶解限度よりも過度に高い濃度で添加することは、極めて有効ではない。その代わりに、添加される量の最大有効性を達成するために、特定の分散質形成元素の溶解限度に近い量の分散型形成要素をAl合金に加えることがより好適である。
従来の熱機械処理は、不適当な低いレベルの塑性変形を提供し、粗粒構造及び不均質な粒構造、又は1ミクロンを超えるサイズを有する二次相をもたらす。Sc含有分散質を含有するAl合金を強塑性変形に供することにより、高い強度のAl合金が生じることが分かっている。
強塑性変形を含む製造方法を使用した強度の増加
本開示は、金属マトリックスへの分散質の添加を強塑性変形と組み合わせることによって、高強度Alを形成する方法を含む。これらの方法は、バッキングプレート材料での使用に好適であるような、十分に高い降伏強度又はブリネル硬度を有するAl合金を提供することが見出されている。いくつかの実施形態では、使用される強塑性変形の形態は、ECAEを含む。本明細書に記載のECAE方法は追加的に、Al合金の降伏強度又はブリネル硬度を更に高めるために、標準塑性変形と組み合わせてもよい。いくつかの実施形態では、本明細書に開示される方法は、分散質並びに従来の析出物を有するAl合金の溶液及び/又は析出硬化を含み得る。本開示はまた、スパッタリングターゲットバッキングプレート結合用途に適用され得る最適なサーマル熱処理も提供する。
いくつかの実施形態では、Al合金は、Al合金が少なくとも1時間、少なくとも250℃の温度におかれた後、40ksi超、45ksi超、又は50ksi超の降伏強度を有してバッキングプレート材料用に形成されてもよい。これらの結果は、圧延及び/又は鍛造などの塑性変形によってもたらされる強度を、ECAEなどの強塑性変形と組み合わせることによって得ることができる。最適な数のECAEパスは、少なくとも1回のパス、いくつかの実施形態では、最大4回のパスを含み得ることが発見されている。Al合金の強塑性変形を使用することは、Al合金に好適な降伏強度を提供し、また、約300℃〜約350℃のヒッピング温度まで熱的に安定であるサブミクロン構造を製作することが分かっている。
ECAEは、実質的に90°〜140°、典型的には90°を含む特定の角度で接触するほぼ等しい断面の2つのチャネルからなる押出成形技術である。図2は、例示的なECAEデバイス40の概略図である。図2に示すように、例示的なECAEデバイス40は、一対の交差するチャネル44及び46を画定する金型アセンブリ42を含む。交差するチャネル44及び46は、断面が同一であるか、又は少なくとも実質的に同一であり、「実質的に同一」という用語は、チャネルがECAE装置の許容可能な寸法公差内で同一であることを示す。動作中、材料48はチャネル44及び46を通じて押出成形される。このような押出は、チャネルの横断面に位置する薄いゾーンにおいて、層後の単純な剪断によって材料48の塑性変形をもたらす。いくつかの実施形態では、チャネル44及び46は、約90°の角度で交差する。しかしながら、代替のツール角度を使用することができること(図示せず)が理解されるべきである。約90°のツール角度は、典型的には、最適な変形、すなわち真の剪断ひずみを生成するために使用される。すなわち、90°のツール角度を使用すると、真ひずみは1.17である。
グレイン精密化は、3つの主要な要因:(i)単純な剪断力、(ii)強い変形、及び(iii)マルチパスECAEを使用することが可能な様々なひずみ経路の利用を制御することによって、ECAEで有効化される。ECAEの典型的な処理特性がパスごとの高い変形であるため、複数パスのECAE(マルチパスECAE)を組み合わせて使用して、各パス後のビレットの形状及び容積を変化させることなく、極端なレベルの変形に到達することができる。各パス間でビレットを回転又は反転させることにより、様々なひずみ経路を達成することができる。これにより、合金粒の結晶学的テクスチャの形成、及び粒、粒子、相、鋳造欠陥又は析出物などの様々な構造的特徴の形状を制御することができる。
本明細書に開示されるように、ECAEを使用して、金属及び合金に強塑性変形を付与し、それらの材料に更なる強度を与えることができる。ECAE中の強化のための2つの主要なメカニズムが存在する。第1に、材料セル、副結晶粒、及びサブミクロンレベルの粒などの構造単位の精密化である。これは、粒径又はホールペッチ強化とも呼ばれ、式1を使用して定量化することができる。
Figure 2019536894
式中、σは降伏応力であり、σは転位移動の開始応力(又は格子の転位運動に対する抵抗)の材料定数であり、kは、強化係数(各材料に特有の定数)であり、dは平均粒径である。
式1によって開示されるように、ホールペッチ強化は、d<1ミクロンのときに特に有効となる。この効果は、サブマイクロメートル及びナノメートルサイズの粒(d<1ミクロンである)が、遷移材料で形成された粒(典型的にはdが10〜100ミクロンに近い)と比較してはるかに多くの粒界を有するためである。これらの粒界は、転位の移動を効果的に遮断し、遅延させる。ECAEとともに導入される追加の強化メカニズムは、転位硬化である。ECAEによって材料に導入される高ひずみにより、多数の転位が作り出され、それらを複合して、セル、粒子、副結晶粒、又はサブミクロン粒を含む粒内の転位の複雑な網状組織を形成する。
一般に、いくつかの従来のAl合金(例えば、Al1xxx〜Al8xxxシリーズ)については、ECAEから得られる特定の利益は、250℃未満の温度でのみ実現される。換言すれば、これらのAl合金では、ECAEで得られたサブミクロン粒径は、Al合金が数時間、250℃を超える温度に供された後に安定ではない。これは、250℃を超える温度では、粒径が不連続的に成長し、粒が1μmを超える直径を有する粒に再結晶化し、わずかな強度の増加のみをもたらすからである。しかしながら、ECAEのサブミクロン粒径は、ECAE処理前に、特定の分散質元素又は材料がAl合金に添加されたとき、少なくとも300℃の温度までより熱的に安定であることが見出された。いくつかの実施形態では、425℃までの温度で安定した降伏強度、硬度、及び/又は粒構造を有するAl合金が作製されている。これらの結果は、Scを単独で、又はZr、Ti、Nb、Ni、Y、Li、Hf、V、Fe、Mn、Cr、Ta、La、Ce、Pr、Nd、Pm、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、及びLuと組み合わせた場合などの分散質元素を使用する場合に達成されている。したがって、分散質、粒径制御、及びECAEを使用した転位硬化を組み合わせることにより、以前に達成された、及び300℃で維持された場合よりも高い降伏強度及び硬度を有するAl合金を形成することが可能であることが見出された。
降伏強度及び硬度のこの増加のための1つのメカニズムは、250℃〜275℃周囲の温度でのナノサイズのAl(X及び/又はX)分散質の核形成及び低速成長である。X1、などは、分散質をAl、例えばSc又はZrで形成する要素を指す。分散質は、サブミクロン粒の内部全体にわたって、及び粒界に沿って均一に分布される。結果として、分散質は、粒界をピンダウンし、Al合金が加熱されるにつれて、サブミクロン粒の成長及びその後のより大きな粒へのそれらの再結晶化を効果的に遅延させる。同様に、転位が分散質によってピンダウンされてもよく、その結果、転位の移動が高温で停止又は遅延される。最適な熱処理(すなわち、ピーク時効処理)の温度及び時間は、数時間、300℃近くに低下し、微細(直径約100nm未満)及び均質な分散質によって囲まれたサブミクロン粒をもたらし、最適な機械的特性を与えることが観察されている。
分散質を含有するAl合金にECAEを適用することは、粒子精密化だけでなく、少なくとも2つの他の方法で分散質の析出にも影響を及ぼすことも見出されている。第1に、ECAEは、ECAE後のアニーリング(例えば、時効処理)中の分散質の核形成を速めるという結果をもたらす。これは、サブミクロンのECAE材料に貯蔵された粒界及びより高い機械的エネルギーの体積の増加によるものである。この増加により、分散質核形成及び成長に関連する拡散処理が強化され、最も安定なものをも含む分散質のピーク時効処理に達するのに必要な時間を低減する。この効果の1つの利点は、ECAEが、熱処理動作を利用するために必要とされる時間及びエネルギーを低減し、ひいては生産コストを低減し得ることである。第2に、ECAEはより均一かつより微細な析出物をもたらす。すなわち、非常に微細な分散質(例えば、1μm未満、通常はピーク時効処理時に100nm未満)のより均一な分布をもたらす。非常に微細な分散質のこの均一な分布は、多数の角度境界が核形成処理を容易にするため、ECAEサブミクロン構造で達成することができる。したがって、分散質は、粒内部及び粒界を通って均一に分布され、それによってそれらのAl合金内での装飾及びピン転位が可能となる。したがって、分散質のより微細かつより均一な析出は強化に有益である。
非分散質形成元素を使用した強度の増加
分散質形成元素又は材料の溶解限度よりもはるかに高い分散質形成元素又は材料を添加することは、分散質、特にSc並びにLa、Ce、Pr、Nd、Pm、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、及びLuなどの希土類元素などの分散質を形成するために使用される特定の元素の利用可能性が限定されるため、不適切であり得る。
Zn、Mg、Mn、Si、Cu、Ni、B、Co、Fe、Cr、Li及びVを含む元素を加えることによって、Al合金の最終強度を高めることができることが見出された。この添加は、最終強度を約5%〜20%増加させることが見出された。いくつかの場合では、これらの元素のうちの特定のものは、AlX分散質を形成することができるが、更に反応して、AlX分散質以外の二次相を形成してもよいことに留意されたい。これらの元素は、溶液中に溶解されてもよく、又は不溶性相又は可溶性二次相のいずれかを形成することができる。
Zn、Mg、Mn、Si、Cu、Ni、B、Co、Fe、Cr、Li及びVなどの特定の元素をAl合金中で使用して、全体的な強度を高め得る1つのメカニズムは、固溶体強化によるものである。固体Al合金に溶解したままである合金元素は、格子構造を強化し、転位の移動を遅らせ、全体的な強度に寄与する。添加される量が固体元素の溶解度の限界内にある場合、二次相は形成されず、硬化は、マトリックス中の溶液中に個々の原子として存在する元素のみに起因する(すなわち、固溶体強化)。多くの場合、これらの組成は、純粋なAlと同様に見える。開始Al合金が、例えば、Si、Cu、Mn、Mg、Zn、Fe、Ni、Li、又はCrからなる二次相を有し、次いで、Al合金が、約300℃〜350℃の温度範囲に加熱される場合、元々二次相中にあった元素の一部は、二次相から離れてAlマトリックスに溶解して、固溶体強化をもたらし得る。
追加の例として、Zn、Mg、Mn、Si、Cu、Fe、Cr、V、Ni、又はLiなどの特定の元素を使用して市販のAl合金を形成してもよく、Al合金内に可溶性二次相又は不溶性相のいずれかを形成してもよい。可溶性二次相(析出物とも呼ばれる)は、溶体化、急冷、及びピーク時効処理によって熱処理して、「析出硬化」と呼ばれるメカニズムによって強度を高めることができるものである。析出硬化では、可溶性二次相は転位の移動を遮断及び遅延させる。しかしながら、これらの可溶性相は、それらの最適なサイズに到達し、それに対応して、より低い温度、典型的には80℃〜225℃でのみピーク強度に寄与し得る。約300℃では、これらの元素は、粒径1.0ミクロンを十分に超える粒子を形成するように成長及び合体した二次相の粒子を形成する。これが生じると、合金のピーク強度の大部分が失われる。しかしながら、より粗い可溶性相は、全体的な強度にわずかに依然として寄与する。場合によっては、300℃以上の温度では、可溶性の大きな二次相材料は、前述したように、溶液に部分的に溶解し、固溶体強化による金属マトリックスの強度に寄与し得る。対照的に、可溶性二次相には、溶解中に不溶性相が形成され、溶体化、急冷、及び時効処理などの後続の熱処理によって制御可能でない。これらの相は、通常、サイズが大きい(1ミクロンを十分に超える)。これらの不溶性相は、転位移動に対する障害物を提供するのに好適な十分に多量のものが存在する場合、強化に寄与し得る。したがって、いくつかの実施形態では、十分に多量のこれらの二次相形成元素を使用することが重要である。例えば、全体で0.5重量%を超えることは、全体的な強度に十分な寄与を有するために好適であり得る。
Zn、Mg、Mn、Si、Cu、Fe、Cr、V、Li、NiなどのAl合金中の特定の元素との不溶性相を有することは、先に説明したように、所与の元素の最大溶解限度を超える量で存在する場合の分散質形成元素に生じる状況と同様である。過剰な元素の材料は、特に多数の主相粒子が存在する場合、全体的な強度にある程度寄与し得る安定な主相を形成する。これらの相のうちのいくつかは、AlX相とは異なり得、概してより粗大であり、Al金属マトリックスの格子とのより大きな視差を有し、この両方の要因がより効率的に強化効果に寄与しなくなることに留意されたい。
前述したように、析出硬化は、Zn、Mg、Mn、Si、Cu、Fe、Cr、V、Ni、及びLiなどのより一般的なAl合金元素のうちのいくつかが、最適なサイズ及び分布を有する可溶性二次相を生成して転位の移動を遮断又は遅延させることによって、強化に寄与するという事実を使用する処理技術である。これらの元素を含有するAl合金における強度を増加させるために、3つの工程の手順を使用することができ、それらは以下のとおりである。
高温での溶液アニーリング(溶体化):高温での溶解度が高い合金元素は、金属マトリックスに溶解され、固溶体に結合され得る。これらの元素が析出物である場合、析出物もマトリックス中に拡散し、溶解する。
急冷:溶液アニーリング後、材料を水又は油中で急速に冷却して、マトリックス中の可溶性元素の最大量を維持する。その場合、これらの元素は不安定であり、室温での溶解限度を上回るため、非平衡である。
時効処理又は時効硬化(溶液アニーリングよりも低温における):安定していない合金元素は、低温で熱処理(析出又は「時効処理」)によって溶液から除去される。物理的に合金元素が固体溶液から析出して、離散粒子を形成する。ピーク時効処理は、最適な強度のための最良の粒径及び分布を得るために最適な温度及び時間の条件を定義することに対応する。この実施は、導電性を損なうことなくマトリックスを強化する金属全体にわたる析出物を生成する。Zn、Mg、Mn、Si、Cu、Fe、Cr、V、Ni、Liなどの元素を含む熱処理可能なAl合金(すなわち、2000、6000若しくは7000シリーズ、又はAl−Li)に関して、最適な析出硬化のための温度領域は、約85℃〜200℃である。この温度範囲で数時間アニーリングすることにより、析出物の結果として得られたサイズ及び分布に起因する好適な強度がもたらされる。しかしながら、200℃〜225℃を超えると、及び場合によっては300℃では、析出硬化による強度が損なわれる。強度損失は、300℃で50%より多くあり得る。損失の主な原因は、約200℃より高い温度での析出物の成長及び最終的な溶解である。
サンプル組成
いくつかの実施形態では、Al合金は、約0.05重量%〜約20.0重量%、約0.05重量%〜約10.0重量%、約0.05重量%〜約1.0重量%、若しくは約0.05重量%〜約0.5重量%、又は約0.1重量%〜約0.5重量%のScを含有して形成され得る。
いくつかの実施形態では、Al合金は、Sc以外の分散質形成元素、例えば、Zr、Ti、Nb、Ni、Y、Li、Hf、V、Fe、Mn、Cr、Ta、又はLa、Ce、Pr、Nd、Pm、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、及びLuを含む希土類元素を含有して形成されてもよい。いくつかの実施形態では、追加の分散質形成元素(複数可)は、Scを含有するAl合金に添加されてもよい。いくつかの実施形態では、特定の分散質形成元素(複数可)は、Scの代わりにAl合金に添加されてもよい。いくつかの実施形態では、分散質形成元素(複数可)は、単独で分散質形成材料の組み合わされた重量パーセントで、又は約0.05重量%〜約20.0重量%、約0.05重量%〜約10.0重量%、約0.05重量%〜約1.0重量%、若しくは約0.05重量%〜約0.5重量%、又は約0.1重量%〜約0.5重量%のAl合金中のScとの組み合わせで形成される量でAl合金に添加されてもよい。
いくつかの実施形態では、Al合金は、Sc及びMg、Mn、Si、Cu、Ni、Mo、Cr、Zn、Li、V、Fe、B、Zr、Li、Bi、Pbなどの追加の強化元素を有して形成されてもよい。いくつかの実施形態では、Al合金は、Sc、追加の分散質形成元素(複数可)、及び追加の強化元素を有して形成されてもよい。いくつかの実施形態では、1つの追加の強化元素が添加されてもよい。いくつかの実施形態では、2つ以上の追加の強化元素が添加されてもよい。いくつかの実施形態では、追加の強化元素の総量は、Al合金の0.1重量%超、0.3重量%超、0.5重量%超、又は1.0重量%超で構成される。
いくつかの実施形態では、Al合金は、タングステン(W)、炭素(C)、酸素(O)、モリブデン(Mo)、コバルト(Co)、銀(Ag)、炭化ケイ素(SiC)、並びにナノチューブ、セラム、酸化物、炭化物、ケイ化物及びフラーレンなどの他の形態のナノ粒子などのAl合金のためのより従来的ではない添加物を有して形成されてもよい。いくつかの実施形態では、Al合金は、Scと、W、C、O、Mo、Co、Ag、SiC、並びにナノチューブ、セラム、酸化物、炭化物、ケイ化物及びフラーレンなどの他の形態のナノ粒子などのAl合金のためのより従来的ではない添加物と、を有して形成されてもよい。いくつかの実施形態では、Al合金は、Scと、追加の分散質形成元素(複数可)と、W、C、O、Mo、Co、Ag、並びにナノチューブ、セラム、酸化物、SiCなどの炭化物、ケイ化物及びフラーレンなどの分散質形成材料などのAl合金のためのより従来的ではない添加物と、を有して形成されてもよい。
いくつかの実施形態では、ScはAl合金に添加されて、Al(Sc)分散質を形成し、Al合金は、直径1ミクロン未満、又は直径100nm未満の平均粒径(すなわち、コヒーレントL1、コヒーレント析出物、通常は立方相)を有する。いくつかの実施形態では、Scは、Scと結合して、AL(Sc、X)の形態で安定した分散質を形成する1つ以上の分散質形成元素とともにAl合金に添加され、ここで「X」は、Sc以外の分散質形成元素を示す。一般にScは、Scと結合して、Al(Sc、Xi)の形態で安定した分散質を形成する1つ以上の分散質形成元素とともにAl合金に添加されてもよく、ここで「n」の「m」に対する比は≧3である。いくつかの実施形態では、Scは、Scと結合して、少なくとも300℃の温度で1.0ミクロン未満の平均粒径を有するAl(Sc、X)の形態で安定した分散質を形成する1つ以上の分散質形成元素とともにAl合金に添加される。
いくつかの実施形態では、Al合金は、300℃を超える温度で安定した粒径及び粒径分布を維持する。いくつかの実施形態では、粒径は、1時間より長く、2時間より長く、又は3時間より長く、300℃を超える温度で安定したままである。
いくつかの実施形態では、本明細書に開示される材料及び方法を使用して、少なくとも40ksiの降伏強度を維持し、かつ少なくとも30分間、少なくとも1時間、又は少なくとも2時間、少なくとも300℃周囲の温度で安定しているAl合金を作製することができる。いくつかの実施形態では、本明細書に開示される材料及び方法を使用すると、Al合金は、92HB超えるブリネル硬度を維持し、かつ少なくとも30分間、少なくとも1時間、又は少なくとも2時間、少なくとも300℃周囲の温度で安定する。いくつかの実施形態では、本明細書に開示される材料及び方法を使用すると、Al合金は、1ミクロン未満の粒径を維持し、かつ少なくとも30分間、少なくとも1時間、又は少なくとも2時間、少なくとも300℃周囲の温度で安定する。
アルミニウム合金バッキングプレートを形成するサンプル方法
図3は、本明細書に開示される様々な技術の一部又は全てを含む、サンプル方法100の全体フロー図を含む。図3に示すように、いくつかの実施形態において、方法100は、ベース硬化工程104及び任意選択の追加の硬化工程106を含み得る。図3に示されるように、方法100全体は、鋳造などの初期処理110、続いて、溶体化112、急冷114、及びECAEなどの強塑性変形116を用い得る。ベース硬化工程104に続いて、追加の硬化工程106をベース硬化工程104と組み合わせて使用してもよい。いくつかの実施形態において、追加の硬化工程106は、圧延又は鍛造118及び熱処理工程120を含む。熱処理工程120は、時効硬化又は時効処理を含んでもよい。いくつかの実施形態において、ベース硬化工程104及び追加の硬化工程106の後に、方法100を使用して形成された材料の調製又は結合122が行われ得る。いくつかの実施形態では、熱処理工程120は、結合工程122と同時に実行されてもよい。各工程の更なる詳細を以下に説明する。
初期処理(鋳造)
図3に示すように、方法100は、Al材料又はAl合金を鋳造するなどの初期処理110を含んでもよい。最初に従来の鋳造を使用して、所与の組成物を用いてAl合金を形成してもよい。鋳造中、Al材料又はAl合金は、最初に溶融されてもよく、Sc、Zr、Ti、Nb、Ni、Y、Hf、V、Fe、Li、Mn、Cr、Ta、La、Ce、Pr、Nd、Pm、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、又はLuのうちの1つ以上などの分散質形成元素を、純粋な元素として直接、又は予鋳造されたマスター合金の一部として溶融物に直接添加することができる。好適な鋳造及び混合方法は、マスター合金を使用することである。Scに好適なマスター合金としては、2.0重量%のScを有するAl、10.0重量%のScを有するAl、又は20.0重量%のScを有するAlが含まれる。代替的に又は追加的に、Zrは、例えば、10.0重量%のZrを有するAlの予鋳造マスター合金として添加されてもよい。好適な安定性及び強度の形成に貢献する分散質を形成するために、最終組成物中に0.1重量%〜0.5重量%のScを有することが有益である。
標準的な可溶性二次相又は不溶性析出物のいずれかを形成する代替の強化元素については、Mg、Mn、Si、Cu、Ni、Mo、Cr、Zn、Li、V、Fe、B、Zr、V、Bi、Pbを含む標準的な市販のAl合金に既に存在する元素を使用することが有利であり得る。これらの要素の好適な量は、約0.5重量%〜約15.0重量%であり得る。
鋳造のための1つの技術は、熱処理可能なシリーズ(Al2000、Al6000、Al7000、Al800)又は非熱処理シリーズ(Al1000、Al3000、Al4000、Al5000)のいずれかから市販のAl合金を提供し、Al合金組成を溶融し、次いで、純粋な元素の形態で直接的に、又は予鋳造マスター合金を使用することによって、分散質(すなわちSc、Zr)を形成する元素を溶融物に添加することである。
溶体化(熱処理)
図3に示すように、方法100は、鋳造されたAl合金を溶体化すること112を含んでもよい。溶体化112の目的は、固体Al合金又はAl材料内にSc、Zr、Ti、Nb、Ni、Y、Hf、V、Fe、Mn、Cr、Ta、Ce、Pr、Nd、Pm、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、又はLuなどの、分散質又は分散質形成元素を形成する、最も高い可能な量の材料を溶解することである。合金元素は高温でより高い溶解度を有するので、高温が使用される。
いくつかの実施形態では、高い熱安定性のため、したがって分散質形成元素の溶解ダイナミクスが遅いため、溶体化112は、好ましくは、所与の組成のソリダス温度のすぐ下の温度(典型的には10〜30℃)で、多くの場合1時間程度、3時間超、少なくとも24時間、及び潜在的に最大100時間で行われる。例えば、Al5083合金は570℃のソリダス温度を有する。したがって、ScがAl5083に添加される場合、溶体化112の好適な温度及び時間は、540℃〜560℃で約24時間である。ほぼ純粋なAlについては、ソリダスは約660℃であり、Scを添加するときの典型的な溶体化温度及び時間は、630℃〜650℃で24〜72時間である。一般に、大部分のAl合金は560℃〜660℃のソリダス温度を有するため、Al合金を溶体化する112ための好適な温度範囲は、約530℃〜650℃である。いくつかの実施形態では、Al合金を溶体化する112ために、より低い温度(ソリダス温度より60℃以下まで)を使用することができるが、より低い温度の使用は、より長い溶体化時間に対応して、好適な合金を形成することができる。いくつかの実施形態では、溶体化112は、約120時間の好適な溶体化時間で約500℃で実施されてもよい。いくつかの実施形態では、要素の分布を均質化するために、高温処理を使用することもできる。
急冷
図3に示すように、方法100は、鋳造されたAl合金を急冷して114、ビレットを形成することを含み得る。溶体化112の後、処理された材料を水又は油中で急速に冷却して、Al金属マトリックス中の可溶性元素の最高重量パーセントを維持する。急冷114の後、溶体化された元素は、室温でAl中でそれらの溶解限度を超える濃度で存在するため、例えば非平衡に過飽和される。
強塑性変形(ECAE)
図3に示すように、方法100は、鋳造されたAl合金ビレットのECAEなどの強塑性変形116を含んでもよい。いくつかの実施形態では、ECAEは、ビレットの1〜6パスを含んでもよい。いくつかの実施形態では、3〜6パスは、好適に精製されたサブミクロン構造を提供する。ビレットを各パス間で90度回転させることも望ましい場合がある。いくつかの実施形態では、ECAEは、ビレット及びダイを加熱することによって、特定の温度で実施することができる。いくつかの実施形態では、Mg、Mn、Si、Cu、Ni、Mo、Zn、FeなどのAl合金内の元素によって形成される可溶性二次相のためのピーク時効処理温度より上又は下(すなわち、Alについて85℃未満又は200℃超)で、ECAEを実行することが好適である。いくつかの実施形態では、Cr、Fe、Hf、Mg、Mn、Nb、Ni、Sc、Ti、V、Zr、Y、Li、Ta、Mo、La、Ce、Pr、Nd、Pm、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Lu)などの特定の分散質形成元素の時効処理温度(例えば、Alについて250℃〜275℃)未満で、ECAEを実行することが好適である。
いくつかの実施形態では、ECAEは、所与の材料のピーク時効処理温度未満の温度(Alについて85℃未満の温度)又は温暖(175℃〜275℃の温度)状況で実施される。ECAEは、2つの理由で約250℃〜275℃未満の温度で優先的に実施される。第1の理由は、分散質が約250℃〜275℃で核形成を開始することである。第2の理由は、これらの温度でのビレットの中間アニーリング中のサブミクロン構造の実質的な粒成長又はECAE中の動的粒成長が存在し得ることである。更に、Mg、Mn、Si、Cu、Ni、Fe、Znなどの元素が分散質形成元素の他に存在する場合、ECAEは、所与の可溶性相のピーク時効処理温度よりも低い又は高い温度(例えば、Alについて85℃未満又は200℃超の温度)で実施されてもよい。ピーク時効処理及び硬化時に、析出強化合金は、冷間加工、すなわち塑性変形のための制限された容量を有し得ることが分かっている。Mg、Mn、Si、Cu、Ni、Fe、Znなどの特定の元素を含有するAl合金では、典型的には85℃〜200℃で析出硬化が生じる。したがって、Mn、Mg、Si、Zn、Cu、Feなどの所与の二次相元素のピーク時効処理温度より上又は下の温度でAl合金を処理することが好適である。これは、典型的には、85℃〜約200℃の温度に相当する。典型的なピーク時効処理温度を超える(すなわち200℃を超える)温度では、析出物が成長し始め、材料は強度及び利得の延性を低下させ始める。したがって、それは軟質であり、強塑性変形によって処理が容易である。85℃未満の温度では、Al合金に使用されるほとんどの従来の元素の析出は開始されず、したがって、材料はまた、軟質であり、強塑性変形による処理が容易である。
いくつかの実施形態では、Al合金は、溶体化及び急冷パラメータが分散質に関して最適化され、従来の元素が二次相を形成しない場合に、ECAEの前に溶体化及び急冷される。溶体化及び急冷された材料は、析出物を有さない(又はそれがより少ない)ため、強塑性変形中の粒界の転位及び回転の移動を遮断又は減速しない。したがって、溶体化材料では、最適なサブミクロン構造を適切に形成するために、より少数のECAEパスが好適であり得る。
いくつかの実施形態では、最適な数のECAEパスは、特定の分散質を有するAl合金を強化するために有益であることが見出された。例えば、4パスを使用するECAE処理は、1パスよりも良好な結果をもたらすことが見出されている。これは、処理が、分散質が核形成及び成長を開始する温度未満である250℃又は275℃未満の温度で行われる場合に特に好適である。これらの処理条件下では、4つのECAEパスを使用することにより、1回のECAEパスを使用するよりもサブミクロン構造の熱安定性を改善するのに寄与する、より多くの数の高角度境界を有するより良好なサブミクロン構造を提供する。その結果、より高くより安定した全体強度レベルが達成される。これは、実施例において以下に更に記載される。
任意選択的な圧延又は鍛造
図3に示すように、方法100は、任意選択的な圧延又は鍛造118などの追加の処理を含み得る。いくつかの実施形態では、標準的な塑性変形を使用する追加的な処理を使用して、特定のAl合金の最終強度又は硬度を更に増大させることができる。加えて、標準的な圧延及び鍛造工程は、最終製品形状に機械加工する前の最終的なビレット形状に近づけるためにECAEの後に使用することができる。いくつかの実施形態では、圧延又は鍛造は、溶体化、急冷、又はECAEの後、及びアニーリング又は温度時効処理の前に優先的に適用される。これらの工程は、ECAE精錬構造内により多くの転位を導入することによって最終的な硬度を増大させることができる。このような転位は、更なるアニーリング中に析出物によってピンダウンされ得る。
熱処理(時効処理)
図3に示すように、方法100は、ピーク時効処理を含み得る熱処理120を含んでもよい。いくつかの実施形態では、Al合金ビレットは、ピーク時効処理又はアニーリング工程を受けてもよい。いくつかの実施形態では、ピーク時効処理は、少なくとも30分間、1時間より長く、又は2時間より長く、275℃〜350℃の温度にAl合金を曝すことによって行われてもよい。例えば、24時間程度のより長いピーク時効処理時間が、特定のAl合金に好適であり得る。いくつかの実施形態では、ピーク時効処理は、別の処理工程と組み合わせて実行されてもよい。例えば、ピーク時効処理は、以下に更に記載される、ホットアイソタクチックプレス(ヒッピング(HIPing))などの処理を使用して、Al合金を別の金属本体に結合することと同時に行われてもよい。
ピーク時効処理の熱処理中に、Sc、Zr、Ti、Li Nb、Ni、Y、Hf、V、Fe、Mn、Cr、Ta、La、Ce、Pr、Nd、Pm、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、及びLuなどの合金元素は、マトリックス溶液から移動し、多くの場合、直径が1ミクロン未満のサイズを有する極めて微細な分散質を形成し得る。物理的に合金元素が固体溶液から析出して、新たな相中に個別の粒子を形成する。一般に、ピーク時効処理パラメータは、最適な温度及び時間に対応して、最適な強度のための最良の粒径及び分布を達成するべきである。この処理工程は、Al合金全体に微細な析出物を生成するために使用されてもよく、これは、導電率を有害に変化させることなくマトリックスを強化する。
最終処理及び/又は結合
図3に示すように、方法100は、結合122を含み得る最終処理を含んでもよい。いくつかの実施形態では、最終処理は、スパッタリング処理で使用するためにバッキングプレートにAl合金を形成することを含んでもよい。いくつかの実施形態において、バッキングプレートは、結合処理を使用してスパッタリングターゲットに接合されてもよい。一般に使用される結合処理は、ホットアイソタクチックプレス(ヒッピング)である。ヒッピングは、好適な温度に材料(複数可)を加熱して接合させることと、材料(複数可)に圧力を加えることとを含む。ヒッピングは、材料(複数可)が一緒に結合することにつながり、材料(複数可)内の空隙を低減又は排除することができ、粉末を圧密してより高密度の材料を作製することができる。Alバッキングプレートをスパッタリングターゲットに結合するための一般的なヒッピングパラメータは、2時間で約300℃であり得る。他の結合方法としては、エポキシ結合、はんだ付け、ろう付け、爆発結合、機械的接合(キー、ボルトなどを使用する)、又は溶接が含まれる。
硬度と降伏強度との関係
次の項に記載の実施例では、ブリネル硬度を初期試験として使用して、高温におけるAl合金の機械的特性を評価した。ブリネル硬度の測定は、比較的簡単な試験方法であり、引張試験よりも速い。それを使用して、次いで、更なる試験のために分離され得る好適な材料を識別するための初期評価を形成することができる。
引張強度は、通常、降伏強度(yield strength、YS)及び最終引張強度(ultimate tensile strength、UTS)の2つのパラメータによって特徴付けられる。最終引張強度は、引張試験中の最大測定強度であり、明確に定義された点で生じる。降伏強度は、塑性変形が顕著になり、引張試験下で顕著になる応力の量である。弾性ひずみが終わり、塑性ひずみが始まる工学的応力−ひずみ曲線上の明確な点が存在しないため、降伏強度は、一定量の塑性ひずみが生じたときの強度となるように選択される。一般的な工学的構造設計では、降伏強度は、0.2%の塑性歪みが起こったときに選択される。0.2%の降伏強度又は0.2%のオフセット降伏強度は、サンプルの元の断面積から0.2%オフセットして計算される(s=P/A)。降伏強度は、粒径及び相径及び分布の変動などの要因に対して最終引張強度よりもはるかに敏感である。
材料の硬度は、標準的な試験条件下での表面くぼみに対するその抵抗である。これは、局所的塑性変形に対する材料の抵抗の尺度である。硬度インデンターを材料に押し込むことは、インデンターが型押しされる場所における材料の塑性変形(移動)を伴う。材料の塑性変形は、試験される材料の強度を超えるインデンターへの力の量の結果である。したがって、硬度試験インデンターの下で塑性変形される材料が少ないほど、材料の強度が高くなる。同時に、塑性変形が少ないと、浅い硬度の型がもたらされ、したがって、得られる硬度の数はより大きくなる。これは全体的な関係を提供し、材料の硬度が高いほど、期待強度が高くなる。
すなわち、硬度と降伏強度の両方は、塑性変形に対する金属の抵抗の指標である。したがって、これらはほぼ比例している。図4は、Al合金のブリネル硬度と降伏強度との関係を示す。典型的には、約40ksiの降伏強度は、バッキングプレートを形成するために使用されるAl合金に好適である。したがって、図4に示すように、40ksiに対応するブリネル硬度は、約92HBである。しかしながら、その関係は、降伏強度が粒及び相径及び分布などの他の微細構造要因に対してより敏感であるため、降伏強度よりも最終引張強度に関して実証的により正確であることに留意されたい。したがって、各材料の降伏強度と硬度との関係を理解し、実証的に測定することが重要である。このような関係を、以下に示す材料及び実施例について評価した。
以下の非限定的な実施例は、本発明の様々な特徴及び特性を説明するものであり、これらに限定されるものではない。特記しない限り、全ての量は重量パーセントである。
本出願の方法を使用して、あらかじめ入手可能なAl合金よりも高い降伏強度及び/又は硬度を有するAl合金、特に、約300℃の温度まで長時間加熱した後であっても降伏強度及び/又は硬度を維持するAl合金を形成することができる。いくつかの実施形態では、Al合金は、スパッタリングターゲットアセンブリで使用するためのバッキングプレートを形成するのに好適である。所望のAl合金は、降伏強度を約40ksi未満に損なうことなく、約300℃のヒッピング温度に受けられ得るものである。図4を参照して上述したように、初期評価分析では、Al合金に関して、92HBを超えるブリネル硬度が40ksiを超える降伏強度に対応すると判定された。したがって、初期基準点として92HBのブリネル硬度を用いた。
初期比較として、測定されたAl合金がECAE処理を受けた後の、バッキングプレートを形成するのに好適な一般的に入手可能なAl合金の降伏強度を表1に示す。以下の表1に示すように、一般的に入手可能なAl合金が熱安定性を維持する最高温度は、約200〜225℃である。この温度範囲は、バッキングプレートアセンブリに関して所望の300℃のヒッピング温度未満であることに留意されたい。
Figure 2019536894
図5は、ECAEによる処理の有無にかかわらず、1時間のアニーリング後の温度の関数としての2つの非熱処理Al合金、Al3004及びAl5052の降伏強度を示す。2つの合金のそれぞれについての降伏強度は、各合金がECAEに供された後、5倍を超えて増加したことに留意されたい。しかしながら、両方の合金の降伏強度は、少なくとも1時間、300℃の温度においた後に40ksi未満(それぞれ約20〜23ksi)であった。
図6は、ECAEを受けた後、1時間のアニーリング後の温度の関数としての熱処理可能なAl合金Al7075の降伏強度を示す。降伏強度は、少なくとも1時間、300℃の温度においた後に約40ksiまで低下したことに留意されたい。
図7は、ECAEを受け、ピーク時効処理も受けた2つのサンプル、及びECAEを受けずピーク時効処理も受けなかった1つのサンプルについて、1時間のアニーリング後の温度の関数としての熱処理可能なAl合金Al6061の降伏強度を示す。合金の各サンプルは、少なくとも1時間、300℃の温度におかれた後、その降伏強度が約20ksiに低下したことに留意されたい。
図8は、4つの代表的な処理方法について、1時間のアニーリング温度の関数としての熱処理可能なAl合金Al2618のブリネル硬度を示す。全ての場合において、少なくとも1時間、300℃でアニーリングした後、ブリネル硬度は、92未満であり、これは少なくとも40ksiの降伏強度に対応する。この合金、Al2618は、試験された最も熱的に安定なAl合金であることに留意されたい。
実施例1:ECAE後の熱安定性に対する様々な元素を用いた99.999%(5N)Alのドーピングの効果
この実施例では、特定の元素を用いた高純度99.999%(5N)Alのドーピングの効果を評価して、Al合金に好適な熱安定性を提供する好適なドーパントが見出された。研究したドーピング元素は、Si、Cu、Sc、Ti、Mo、Hf、Zr及びMnであった。ドープされたAl合金をECAEに供した後に得られたAlサブミクロン粒径の熱安定性に対する各元素の効果を比較するための実験を行った。この実施例では、各パス間のAlビレットの90度の回転を伴う4回のECAEパスを、鋳造、溶体化、及び急冷後に全てのサンプルに対して行った。その結果を図9で比較する。
図9において、y軸は、材料の平均粒径が直径で1ミクロンを超える前に、各サンプルが1時間受けた最大温度を表す。X軸は、原子百万分率(ppm)のAl合金中の各ドーパントの濃度を提供する。具体的には、10,000ppmは1at.%、1000ppmは0.1at.%、100ppmは0.01at.%、10ppmは0.001at.%、及び1ppmは0.0001at.%に相当する。図9に示すように、Al合金サブミクロン粒の熱安定性を改善するための最も効果的な元素は、Sc、続いてZrであることが見出された。更に、Al合金の熱安定性に実質的な効果を有するためには、少量(約100ppm〜1,000ppm)のSc及びZrのみが必要であった。
図9に示すように、1000ppmのSc(0.1at.%のSc(0.166重量%)を有する5N Al)又はZr(0.1at.%のZr(0.337重量%)を有する5N Al)を有するAl合金のサブミクロン粒構造は、それぞれ400℃及び325℃まで安定である。Sc又はZrのいずれかが1000ppm(0.1at.%)を超えると、安定性の増加は、より多くのSc又はZrが添加されるにつれてより緩やかであり、安定性の増加はプラトーに達する。これは、Al中のSc及びZrの最大溶解度が、それぞれ2,300ppm及び2,800ppm未満であると考えられるためである。これらの値を超えるSc又はZrの濃度は、極めて微細な分散質を生成する効果が低くなり、結果として熱安定性に加えられる効果はより緩やかである。図9にも示されるように、特定の熱処理可能合金で使用され得るTi、Cu及びSiなどの元素は、熱安定性に少なくとも影響を及ぼす。Hf、Mo、又はMnなどの元素は、かなり高い濃度(すなわち、1000ppm超)で存在する場合、Al合金の熱安定性に寄与し得る。
実施例2:ブリネル硬度に対する99.999%Al(5N)におけるSc重量パーセントの影響
この実施例では、Al合金硬度に対するScの量の影響を評価した。高純度99.999%(5N)Alをドープして、0.1at.%(0.166重量%)、0.3at.%(0.5重量%)、1.2at.%(1.98重量%)、5.0at.%(8.06重量%)、7.5at.%(11.90重量%)及び9.5at.%(14.88重量%)のScの原子パーセントでScを有する6つのサンプルを作製した。この例では、従来の熱機械的処理が選択された。すなわち、ECAEではなく、熱間鍛造を含む標準塑性変形を使用した。試験用の材料を形成するために使用された処理には、Al材料を鋳造すること、続いて、溶体化、急冷、及び70%の減少高さまで250℃で各鋳型を熱間鍛造して、最終的なAl合金のビレットを形成することが含まれた。ビレットを、温度を上昇してアニーリングした。サンプルのブリネル硬度の測定を、アニーリング後に室温で材料で行った。結果は、様々なアニーリング温度におけるブリネル硬度に対するSc濃度の効果を示す図10に示されている。250℃〜350℃の温度でアニーリングした後の各サンプルについて得られた平均粒径は、約50〜約150ミクロンであった。
図10に示すように、有効な強化のためのAl中のScの閾値量は、0.1at.%(0.166重量%)のScより大きい。また、0.3at.%(0.5重量%)のScを超える割合を有するAl合金では、強度の最大増加は、1時間、300℃〜350℃の温度でアニーリングした後に達成された。これらの温度は、AlSc分散質のピーク時効処理に対応する。
図10にも示されるように、300℃でのアニーリング後の強度の最大増加は、0.1at.%で生じた。(0.166重量%)のSc及び0.3at.%(0.5重量%)のScは、0.23at.%(例えば、2300ppm又は0.38重量%)であるAl中のScの最大溶解限度のすぐ上にある。図10に示すように、1.2at.%(1.98重量%)のScについて1時間、350℃においた後のブリネル硬度は、0.3at.%(0.5重量%)のScと非常に類似しており、そのことは0.3at.%(0.5重量%)のScと1.2at.%(1.98重量%)のScとの間の比較的小さい差を示す。大量のSc(例えば、5.0at.%(8.06重量%)〜9.5at%(14.88重量%))を添加した後には、硬度のより大きな増加が得られた。硬度は、0.3at.%(0.5重量%)のScで58.6HBから9.5at.%(14.88重量%)のScで79.6HBまで増加した。この結果は、固体溶液中に過飽和された0.23at.%(0.38重量%)のScから析出した極めて微細なAlSc分散質が、300℃〜350℃での溶体化、急冷、及びピーク時効処理を含む様々な熱処理によって影響されなかった過剰なScを有する様々な(AlSc)主相よりも、より好適な強化効果を有することを示す。
測定された最大ブリネル硬度は、9.5at.%(14.88重量%)のScの場合で79.6HBであり、それは依然として所望の硬度92HB未満であり、Al合金の所望の引張強度40ksiに対応する。この実施例は、標準的な塑性変形を用いたAl−Sc合金の従来の熱機械的処理が、溶解限度を超える量のScが使用される場合であっても、好適な硬度及び/又は強度のAl合金を形成するのに十分ではないことを示した。比較的低い硬度に対する1つの寄与要因は、従来の熱機械的処理中に発達した大きな(1ミクロンを超える)粒径であった。別の要因は、0.38重量%を超えるScによって形成された主相の粗粒径であり、それは分散質としての強化に効果的に寄与しない。
Scは、一部の用途では、限られた可用性を有し得ることに留意されたい。したがって、Scの高い重量パーセントが利用できないいくつかの実施形態では、より少ない量(例えば、0.23at.%未満(0.38重量%))のScを追加の処理方法と組み合わせて使用して、好適な硬度又は降伏強度を得ることができる。例えば、約0.38重量%未満のScを有し、上述の様々な方法で処理されたAl合金は、上記の方法で処理されない約0.38重量%を超えるScを有するAl合金と同様の硬度及び/又は降伏強度を有し得る。したがって、これらの状況では、上記のように、Al合金の硬度及び/又は強度を上昇させるために、追加の処理技術が含まれてもよい。
実施例3:Al5083硬度に対するSc及びZr濃度及びECAEパスの数の影響
この実施例では、Al合金硬度に対するSc及びZrの重量パーセントの様々な組み合わせの効果を評価した。最終的なAl合金硬度に対するECAEパスの数の影響も評価した。
実施例1及び2において好適であることが見出されたSc濃度を使用して、特別なAl材料を鋳造した。この実施例では、非熱処理の市販のAl合金、Al5083をベース材料として選択した。初期のAl5083の組成を表2に示し、「実際」とラベル付けする。Al5083仕様はまた、それぞれ「最小」及び「最大」とラベル付けされた各元素について最小及び最大の許容可能な重量パーセント量を表2に提供する。組成は、Mg、Cr、Zn、Mn、Fe、Si及び少量のTi、Cuを含む市販のAl合金に使用される従来の元素を含有する。
Figure 2019536894
様々な量の2.0重量%のScマスター合金を有するAl及び10重量%のZrマスター合金を有するAlを、るつぼ内でAl5083とともに溶融させた。増加した量のSc及び/又はZrを有する3つの組成物を生成し、それらは、サンプル1(追加の0.2重量%のZrを有するAl5083)、サンプル2(追加の0.3重量%のSc及び0.2重量%のZrを有するAl5083)及びサンプル3(追加の0.5重量%のSc及び0.2重量%のZrを有するAl5083)と称される。これらの鋳造合金のそれぞれの化学組成を表3に列挙する。
Figure 2019536894
異なる量のAl2.0重量%のScマスター合金を各組成に添加し、初期ベースAl5083に含まれる開始元素の様々な希釈度が得られることに留意されたい。換言すれば、表3に示すように、Sc及びZrの最も高い添加を有する組成はまた、最低量のMg、Mn、Fe、Si、Cr、Zn及びCu元素を有する。
鋳造後、サンプル1〜3を24時間、550℃で溶体化した。この温度は、ベース材料Al5083のソリダス温度よりも20℃低い。溶体化直後に、水の標準的な急冷を行った。1回(1パス)又は4回(4パス)のいずれかで、サンプル1〜3のビレット上で温暖ECAE押出成形を実施した。ダイ及びビレットの温度は200℃であった。各ビレットを各パス間の押出方向に垂直に90度回転させた。ECAE後、各サンプルのクーポンを切断し、1時間、200℃、250℃、300℃、350℃及び400℃の特定の温度でアニーリングした。
比較のために、Al5083ベース材料を使用して対照サンプルを形成した。Al5083ベース材料はまた、200℃で1パス及び4パスでECAEに供され、サンプル1〜3と同じ温度で1時間アニーリングした。
1回のECAEパス後のサンプル1〜3について、室温で材料を用いて実施したブリネル硬度試験の結果を図11に示す。4回のECAEパス後のサンプル1〜3及び対照サンプルについて、室温で材料を用いて実施したブリネル硬度試験の結果を図12に示す。
図11及び図12に示されるように、Al合金が1時間で300℃の温度に、及び350℃程度まで加熱された後であっても、硬度の熱安定性が増加している。これはサンプル2及び3によって示され、この傾向は、サンプルが1又は4回のECAEパスを受けたかどうかによらず同じである。得られた硬度は、サンプル2及び3が1時間、300℃におかれた後で94〜103HBであり、サンプル2及び3が1時間、350℃におかれた後で84〜94HBである。対照的に、図12に示すように、ベースAl5083及びサンプル1は、1時間300℃でアニーリングした後に74HB未満、及び1時間350℃でアニーリングした後に67HB未満の硬度レベルを有し、これは基準硬度値92HB未満である。
図12に示すように、25℃〜250℃のアニーリング温度範囲について、サンプル1〜3は全て、ベース材料Al5083と同等の硬度レベルを有する。250℃未満の温度では、ベース材料Al5083及びサンプル1は、最高硬度を有する。これは、250℃未満ではScまたおそらくZrも硬化に関与しないことを示す。その代わりに、標準合金元素、Mg、Mn、Fe、Si、Cr、Zn及びCuは、全体的な強度に最も寄与する。約250℃では、図11の1パスECAEサンプルについて最も良く分かるように、分散質の効果は、それ自体を発現させ始め、ここで、硬度の注目される増加は、250℃で観察され、約300℃で最大である。これらの温度では、Al(Sc、Zr)分散質は、非常に微細かつ均一に分布した相に核形成し始める。
300℃と350℃の両方におけるサンプル1〜3のAl合金の粒径を光学顕微鏡によって評価した。光学顕微鏡は、約1ミクロンの解像度を有し、1ミクロンを超える粒径のみに対応できることに留意されたい。図13A〜図13Dは、1時間、300℃で熱処理した後の各Al合金の光学顕微鏡で撮影した写真を含む。図14A〜図14Cは、1時間、350℃で熱処理した後のサンプル1〜3の光学顕微鏡で撮影した写真を含む。写真のそれぞれのスケールは、約50μmの範囲を示すわけではない。粒径測定値を以下の表4及び表5に報告する。
Figure 2019536894
Figure 2019536894
図13C、図13D、図14B及び図14Cに示されるように、サンプル2とサンプル3の両方のサブミクロン粒径は、300℃程度の高さ、更には350℃程度の高さで安定である。対照的に、再結晶化は、図13Aに示されるベース材料Al5083に関して300℃で既に生じており、8.05ミクロンの粒径を生成する。サンプル1については、図13Bに示すように、微細構造は300℃でほぼ完全に再結晶化され、図14Aに示すように、350℃でアニーリングした後でもほとんど変わらない4.1ミクロンの粒径をもたらす。この実施例は、ECAEを受けたAl合金のサブミクロン粒径の熱安定性を高めることに基づく、Al(Sc、Zr)分散質の有益な効果を示す。また、Sc及びZrを添加したサンプル2及び3について観察された優れた強度についての説明も提供する。
サンプル1〜3及びAl5083ベース材料については、サンプルを1時間300℃で加熱処理した後、室温でサンプルを用いて引張試験を実施し、これは、ベースプレート材料がヒッピング中に供されるものと同様である。引張試験の結果を図15に示す。大きく合金化されたAl5xxxで作製された市販のバッキングプレート(BP)のデータも含まれる。図15は、1時間、300℃で熱処理した後の室温でのサンプルの最終引張強度(UTS)と降伏強度(YS)の両方に関するデータを示す。図15に示すように、ScとZrの両方を含有するサンプル2及び3は、1時間、300℃でアニーリングした後に、より高い降伏強度を有する。サンプル2は、44.4ksiの降伏強度を測定し、サンプル3は、47.5ksiの降伏強度を測定した。これは、ベースラインAl5083についての23.8ksi、サンプル1についての22.7ksi、及び市販のバッキングプレートAlの28.8ksiと比較される。最終的な引張強度(UTS)の増加はまた、ベースラインAl5083材料についての約40ksiから、サンプル2及び3についての48.7ksi及び49.7ksiまで観察される。本実施例に開示されるように、本明細書に記載される方法は、少なくとも1時間、約300℃〜約400℃の温度においた後に40ksi超、45ksi超、又は50ksi超の降伏強度を有するAl合金を提供する。
ECAEパスの数の効果を硬度を通じて比較するために、1回及び4回の両方のECAEパスを受けたサンプル2及び3の硬度を比較した。図16は、1回及び4回の両方のECAEパスを受けた後のサンプル2のブリネル硬度を示す。図17は、1回及び4回の両方のECAEパスを受けた後のサンプル3のブリネル硬度を示す。
図16及び図17に示されるように、サンプル2及び3については、4回のECAEパスが、多くの温度範囲でより高い硬度をもたらした。これは、図16及び図17のグラフの左側での25℃でさえ観察された。このことはまた、300℃の温度に加熱された後のサンプル2及び3についても保持される。1回のECAEパスを受けたサンプル2及び3については、1時間、300℃を超える温度においた後に、ブリネル硬度は92HB未満に低下し始めた。4回のECAEパスを受けたサンプル2及び3については、1時間、300℃に加熱した後、ブリネル硬度は102〜103HBを超えたままである。4回のECAEパスを受けたサンプル2及び3については、1時間、約350℃の温度においた後であっても、ブリネル硬度は92HBを超えたままであり、これは、バッキングプレート用途のためのAl合金の基準硬度である。
実施例4:Sc及び/又はZrを有するAl5083の1回のECAEパス後の300℃及び350℃での長時間アニーリングの効果
この実施例では、標準的なアニーリング温度と同様の温度への長時間の曝露の効果を評価した。上記実施例3でサンプル1〜3及びベース材料に使用したものと同じ材料を評価した。
図18は、長時間のアニーリング処理後に測定された硬度を示す。図18は、1回のECAEパスを受けた後で、かつ1〜8時間の300℃と350℃の両方での増加させた持続時間でのサンプル2及び3からの材料の硬度を示す。この種類の試験は、熱処理についての処理エンベロープがどのくらい堅牢であるか、及びAl合金の機械的特性に対する長時間加熱の効果を決定するために行われる。図19は、1〜24時間、300℃まで加熱した後の、4回のECAEパス後のベースラインAl5083合金の材料及びサンプル1〜3の材料の硬度を示す。
図19に示すように、最大24時間、300℃まで加熱した後、4回のECAEパス後のサンプル2及び3において、ブリネル硬度の顕著な低下は検出されなかった。データは、ブリネル硬度が一貫して97HBを超えたままであることを示し、これは、バッキングプレート用途で使用されるAl合金についての所望の限界の92HBを上回る。この実施例に示されるように、ヒッピングなどの熱処理工程の持続時間の変化は、サンプル2及び3の組成物で作製されたAl合金バッキングプレートの結果として生じる機械的特性に対する効果を低下し得る。この実施例は、本明細書に開示されたAl合金から作製されたバッキングプレートが硬度を失うことなくより長いヒッピング時間に耐えることができることを示す。この特性により、本出願に記載されたAl合金で作製されたバッキングプレートをスパッタリングターゲットに結合するために用いられるより長いヒッピング時間を可能にし、したがって、スパッタリングターゲットアセンブリがより高い品質の結合で形成されることを可能にする。
図18の硬度値を図19のものと比較すると、1回のECAEパスの代わりに4回のECAEパスを使用することにより、長いアニーリング時間にわたって硬度がより低下しなくなることが観察され得る。図18に示すように、サンプル3と同様の組成を有し、1回のECAEパスを受けたAl合金について、ブリネル硬度は、8時間、300℃の温度においた後で92HB未満のままである。しかしながら、図19に示すように、サンプル3と同様の組成を有し、4回のECAEパスを受けたAl合金について、ブリネルは、300℃の温度においた後であっても、92〜93HBより高いままである。これは、サブミクロン構造上のECAEパスの回数の影響を実証する。より多くのECAEパスは、より多くの高角度境界を有する、より等軸の、精錬され、かつ均一なサブミクロン粒径を提供する。高角度境界により、構造はより安定しており、分散質の析出力学及び再分配にも影響を及ぼす可能性が高い。
図18にも示されるように、サンプルが約3時間、350℃の温度におかれた後に、1回のECAEパスを受けたサンプル2及び3の強度が増加し得ることが見出された。サンプル2の材料については、94HBを超えるブリネル硬度が得られた。このデータは、好適なヒッピング時間について、300℃より高い、潜在的に350℃までの温度にAl合金を加熱することを含む、ヒッピング処理において使用することができる、より広い範囲の処理パラメータを示唆する。これは更に、特定のターゲットアセンブリ組成のための有益な結合強度及び微細構造をもたらすことができる。Zrを単独で有するサンプル1又はベースラインAl5083材料については、長時間アニーリング後に最小限の利益が観察されたことに留意されたい。
実施例5:4回のECAEパス後のSc及び/又はZrを有するAl5456の熱安定性に対する組成の効果
この実施例では、非熱処理Al合金の硬度に対する組成の効果を評価した。
実施例1及び2に記載された原理及び実施例4に記載の方法に基づいて、4つのAl合金の新しいセットをインゴット冶金によって鋳造した。この実施例では、ベース材料は、非熱処理Al合金Al5456であり、その組成は表3に示され、「実際」とラベル付けされる。Al5456の仕様はまた、それぞれ「最小」及び「最大」とラベル付けされた各元素について、最小及び最大許容可能な重量パーセント量で表6に提供される。このAl合金は、上記実施例3におけるAl5083よりも多くのMg(主合金元素)を含有する。残りの従来の元素は、Al5083と同様であり、すなわちMn、Fe、Cr、Si並びに少量のZn、Ti及びCuである。
Figure 2019536894
実施例3に続く処理と同様に、Al+2.0重量%のScマスター合金及びAl+10重量%のZrマスター合金を、ベースラインAl5456材料とともに溶融させて、表7に列記される4つの組成をサンプル4〜7として生成した。各材料の重量パーセントにおける組成を表7に示す。4つの新しい合金のうちの3つ(サンプル5〜7)について、Zrを0.2重量%で一定に保ったまま、Al中のScの最大溶解度限界未満、それに近い、及びそれよりわずかに大きい3レベル(例えば、0.2重量%、0.3重量%、及び0.5重量%)のScを添加した。第4の合金(サンプル4)については、0.3重量%(最大溶解度限界に近い)のScのみを添加し、Zrを添加しなかった。
Figure 2019536894
実施例3のサンプルと同様に、各新しい組成のために異なる量のマスター合金を添加することにより、Al5456の主元素のいくつかの希釈があった。換言すれば、より多くのマスター合金を使用する組成は、より少ない量の従来の元素Mn、Fe、Cr、Si、Zn、Ti、Cuを有していた。
Al材料をビレットに鋳造した後、サンプル4〜7をベース材料Al5456のソリダス温度未満で24時間(すなわち20℃)、554℃で溶体化し、Al合金を形成した。溶体化後すぐに水の標準的な急冷を行った。各パス間の90度のビレット回転を使用して、サンプル4〜7の温暖ECAE押出を4回(4回のECAEパスを)行った。ダイ及びビレット温度を200℃に維持した。ECAE後、クーポンをサンプル4〜7の材料から切断し、1時間、200℃、250℃、300℃、350℃、400℃、450℃及び500℃でアニーリングした。
比較のために、非熱処理Al5456ベース材料もまた、4回のパスを使用して200℃でECAE押出成形され、サンプル4〜7と同じ温度で1時間アニーリングした。ブリネル硬度試験を実施し、その結果を図20に示す。
図20に示すように、全てのサンプル4〜7は、約300℃の温度に加熱された後に92HBを超えるブリネル硬度を示し、上記のパラメータに従ってAl合金バッキングプレートとして使用するための要件を満たした。図20に更に示されるように、最良の熱安定性及び強度を有するサンプル組成は、サンプル4及び5である。300℃では、両方の組成のブリネル硬度は100〜101HBであり、350℃では、それは約94.7HB(すなわち、92HB超)のままである。これらの2つの組成の優れた硬度は、400℃〜500℃の温度に加熱された後であっても見られる。
図20に更に示されるように、サンプル6及び7については、0.3重量%のSc又は0.5重量%のScの添加は、Sc及びZrの両方が添加されるサンプル5〜7の全てを比較する場合に、0.2重量%のScと比較して有意な利点を提供しなかった。サンプル6及び7のブリネル硬度変化は、300℃〜450℃の温度で同様であった。このことは、0.3重量%が最大溶解度限界の0.38重量%付近にあり、及び0.5重量%がそれをわずかに上回るため、およそ同じ量のSc(0.38重量%未満である可能性が高い)が両方の組成中で析出したという事実に関連し得る。このデータは、より長い溶体化熱処理又はより速い冷却方法がAl中に溶解したより多量のScをもたらすことを示し得る。
図21A〜図21B、図22A〜図22C、及び図23A〜図23Cは、光学顕微鏡で撮影されたサンプル4、5及び7の粒径を示す。サンプル6はサンプル5及び7と同様であるため、示されていない。図21A〜図21B、図22A〜図22C、及び図23A〜図23Cからのデータを表8に要約する。
Figure 2019536894
図21A〜図21B、図22A〜図22C、及び図23A〜図23Cに示されるように、全てのサンプルの組成物は、最大で少なくとも300℃、更には最大で350℃までのサブミクロン粒径を有していた。サンプル4は、0.3重量%のみである。Scは、425℃まででサブミクロン粒径の高い安定性を有し、再結晶化は約425℃でのみ起こった。サンプル5及び7は、400℃で完全に再結晶化され、微小な(すなわち直径が10ミクロン未満)の微細構造を有する。このデータは、サブミクロン粒径が300℃及び更に350℃でAl合金の強化に関与することを示す。それはまた、粒界をピンダウンし、粒成長を遅延させるための分散質の有効性も実証する。
要約すると、実施例5は、Al5083のために実施例3で用いられた処理がまたAl5456のために良好に機能することを示している。本明細書に開示されるように、これらの技術を使用して、Al合金を特定の好適な分散質と組み合わせ、任意の十分に合金化されたAl合金に対する強塑性変形によって得られるサブミクロン微細構造を形成することができる。これは、例えば、1000から8000シリーズまでのAl合金を出発材料として選択することを含む。一般に、多種多様な組成又は元素を、ベースAl合金又は分散質に使用することができ、本明細書に開示された方法に従って高温特性を発達するために使用することができる。これにより、広範なAl材料が特別に調整された特性を有するAl合金を形成するために使用されることを可能にし、また現在利用可能ではない材料を形成することができる。Sc、Zr、Ti、Nb、Ni、Y、Hf、V、Fe、Li、Mn、Cr、Ta、Ce、Pr、Nd、Pm、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、及びLuなどの元素を有する分散質を形成するAl以外の元素を、代替用途のために組み合わせることができる。
実施例6:Al5456及びAl5083にSc及び/又はZrを添加することによる初期組成の効果
図24は、実施例3及び5に記載された2つのベース材料Al5083及びAl5456について、同様のレベルのSc及びZr合金、すなわち0.5Sc+0.2Zr及び0.3Sc+0.2Zrのアニーリング温度に対するブリネル硬度についてのデータを比較する。図24はまた、4回のECAEパスを受けた後の実施例3からのサンプル2及び3、並びに実施例5からのサンプル6及び7の比較を示す。
図24に示すように、Al5456ベースライン材料は、250℃未満の温度でより硬い材料を提供するが、スパッタリングターゲットアセンブリの所望の温度である300℃での利益は最小限である。300℃に近づく温度での硬度のこのレベリングダウンは、以下の点を示す。250℃未満の温度では、主要な強化メカニズムは、サブミクロン粒径からの硬化、分散質ではない溶質、不溶性相、及び遷移元素の可溶性二次相からの硬化である。これらの2つの組成について、Mgの差は、これら2つのサンプルを作製するために使用される材料の強度に対する強い寄与要因である。2つのAl5456ベースのサンプルは、2つのAl5083ベースのサンプルに対してMgが多いので(これらのサンプルの組成について、3.79%〜4.31%対3.32%〜3.78%(表3及び表7を参照))、前者の2つの組成において硬度が高い。約250℃では、以下の3つの現象が起こり始める:従来の元素から生じる強度の損失、サブミクロン粒径のわずかな成長による転位の回復、及びAl(Sc、Zr)分散質の核形成。先の2つの要因は、4つの組成物全てについて、およそ同じレベルまでの硬度損失に寄与する。しかし、最後の現象、すなわち分散質の核形成は、Al合金の強度を増加させ、いくつかの更なる粒成長を停止させる。300℃では、分散質のピーク時効処理が起こり、4つの組成物全てに許容可能な強度を提供する。
全体的に、この比較は、300℃程度の温度で特定の材料特性を改善するために使用することができる従来の元素(例えばMg)の量に制限があることを示す。強化のための要因は、分散質及びサブミクロン粒径のサイズ及び分布のままである。
図24に更に示されるように、最も好適な組成を有するサンプル2及び3については、4回のECAEパスは、全ての研究された温度範囲に対してより高い硬度をもたらした。これは、300℃及び350℃程度の温度を含む。1時間300℃で、ブリネル硬度は102〜103HBを超えたままである。1時間350℃であっても、本開示の方法によるバッキング用途のためのAl合金の所望の硬度である92HB超のままである。上記の実施例に示されるように、本明細書に記載の方法を使用して、少なくとも1時間、約300℃〜約400℃の温度においた後に、80HB超、85HB超、又は90HB超のブリネル硬度を有するAl合金を形成することができる。
本発明の範囲から逸脱することなく、記載した例示的な実施形態に対して様々な修正及び付加を行うことができる。例えば、上述の実施形態は、特定の特徴に言及するものであるが、本発明の範囲はまた、異なる特徴の組み合わせを有する実施形態及び上述の特徴の全てを含むわけではない実施形態を含む。

Claims (10)

  1. 高強度アルミニウム合金を形成する方法であって、
    スカンジウムを含むアルミニウム材料を、前記アルミニウム材料全体に分散されるように、前記アルミニウム材料の溶体化温度まで加熱して、アルミニウム合金を形成することと、そのスカンジウム、
    高強度アルミニウム合金が、少なくとも1時間、約300℃〜約400℃の温度におかれた後に、少なくとも約40ksiの降伏強度を有するように、前記アルミニウム合金を等チャネル角押出で押出成形して、前記高強度アルミニウム合金を形成することと、を含む、方法。
  2. スカンジウムが、約0.1重量%〜約15.0重量%の重量パーセントで前記アルミニウム合金中に存在する、請求項1に記載の方法。
  3. スカンジウムが、約0.1重量%〜約5.0重量%の重量パーセントで前記アルミニウム合金中に存在し、前記アルミニウム合金が、約0.1重量%〜約5.0重量%の重量パーセントでジルコニウムを更に含む、請求項1に記載の方法。
  4. 前記高強度アルミニウム合金を、前記スカンジウムの少なくとも一部分が前記高強度アルミニウム合金全体に分散質を形成するように、少なくとも1時間、約300℃〜約400℃の温度で時効処理することを更に含む、請求項1に記載の方法。
  5. 前記アルミニウム材料を加熱することが、スカンジウムと、酸化物、炭化物、ナノチューブ、ケイ化物、フラーレン、クロム、鉄、ハフニウム、マンガン、ニオブ、ニッケル、スカンジウム、チタン、バナジウム、ジルコニウム、イットリウム、リチウム、タンタル、モリブデン、ランタン、セリウム、プラセオジム、ネオジム、プロメチウム、サマリウム、ユーロピウム、ガドリニウム、テルビウム、ジスプロシウム、ホルミウム、エルビウム、ツリウム、イッテルビウム、及びルテチウムからなる群の少なくとも1つの構成要素と、を含む、アルミニウム材料を加熱することを更に含む、請求項1に記載の方法。
  6. 前記高強度アルミニウム合金が、前記高強度アルミニウム合金が少なくとも1時間、約300℃〜約400℃の温度におかれた後に、直径が1.0ミクロンより小さい平均粒径を有する、請求項1に記載の方法。
  7. 前記高強度アルミニウム合金が、少なくとも2時間、約300℃〜約400℃の温度におかれた後に、少なくとも約40ksiの降伏強度を有する、請求項1に記載の方法。
  8. アルミニウム合金を含むバッキングプレートを備えるスパッタリングアセンブリであって、前記アルミニウム合金が、
    主成分としてアルミニウムを有するアルミニウム材料で形成された金属マトリックスと、
    前記金属マトリックス全体に分散されたスカンジウムを含有する分散質と、を含み、
    前記スカンジウムが、前記アルミニウム合金の重量により、約0.1重量%〜約15.0重量%の重量パーセントで存在し、前記アルミニウム合金が、前記アルミニウム合金が少なくとも1時間、約300℃〜約400℃の温度におかれた後に、少なくとも約40ksiの降伏強度を有する、スパッタリングアセンブリ。
  9. 前記アルミニウム合金が、約0.1重量%〜約5.0重量%の重量パーセントでスカンジウムを含み、前記アルミニウム合金が、約0.1重量%〜約5.0重量%の重量パーセントでジルコニウムを更に含む、請求項8に記載のスパッタリングアセンブリ。
  10. 前記アルミニウム合金が、前記アルミニウム合金全体に分散された第2の分散質を含み、前記第2の分散質が、第2の材料と組み合わされた前記アルミニウム材料で形成され、前記第2の材料が、酸化物、炭化物、ナノチューブ、ケイ化物、フラーレン、クロム、鉄、ハフニウム、マンガン、ニオブ、ニッケル、スカンジウム、チタン、バナジウム、ジルコニウム、イットリウム、リチウム、タンタル、モリブデン、ランタン、セリウム、プラセオジム、ネオジム、プロメチウム、サマリウム、ユーロピウム、ガドリニウム、テルビウム、ジスプロシウム、ホルミウム、エルビウム、ツリウム、イッテルビウム、及びルテチウムからなる群の少なくとも1つの構成要素である、請求項8に記載のスパッタリングアセンブリ。
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