JP2019536864A - 有機電子素子封止材用組成物及びこれを用いて形成された封止材 - Google Patents

有機電子素子封止材用組成物及びこれを用いて形成された封止材 Download PDF

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Abstract

本発明の一実施態様に係る封止材用組成物は、1)上記化学式1で表される第1単位、上記化学式2で表される第2単位、及び上記化学式3で表される第3単位を含む第1共重合体;2)上記化学式2で表される第2単位、及び上記化学式3で表される第3単位を含む第2共重合体;3)1以上の光開始剤;及び4)上記光開始剤を溶解させることのできる化合物を含む。

Description

本願は、2016年12月9日付にて韓国特許庁に提出された韓国特許出願第10−2016−0167678号の出願日の利益を主張し、その内容はすべて本明細書に組み込まれる。
本発明は、有機電子素子封止材用組成物及びこれを用いて形成された封止材に関する。
一般的に、有機電子素子は、陽極と陰極との間に提供された有機層に電荷を注入すると、発光又は電気の流れ等のような現象が起こることを特徴とする素子であって、選択された有機物によって多様な機能をする素子を作製することができる。
代表的な例として、有機発光素子(OLED, Organic Light Emitting Diode)は、薄くて軽く、色感に優れていて、次世代フラットパネルディスプレイ分野、フレキシブルディスプレイ、照明分野等で注目されており、既存のガラス基板、シリコンを含む無機物基板、金属基板及びプラスチック基板又は金属箔等のような柔軟な基板の上に作製することができる。しかしながら、このような有機電子素子は、水分及び酸素に非常に脆弱であるから、大気中に露出したとき、又は外部から水分がパネルの内部に流入したとき、発光効率及び寿命が顕著に減少する短所を有している。
このような封止(Encapsulation)技術は、OLED素子の外部から流入する水分と酸素を遮断して、発光材料と電極材料の酸化を防止し、さらには素子の外部から加えられる機械的、物理的衝撃から素子を保護するための必須工程である。
上記のような問題点を解決するために、ガラスキャップ又はメタルキャップを用いるか、又はラミネーティング法を用いた封止フィルムを使用するか、無機物を蒸着して、外部から流入する水分及び酸素を遮断するための試みがなされている。
しかしながら、上記ガラスキャップは、大面積化によるガラス加工にかかるコストが増加し、機械的破損等による大面積化の問題があるという短所があり、柔軟性が要求されるフレキシブルOLEDパネルの作製にも困難がある。メタルキャップの場合は、基板との熱膨脹係数の差による工程上の問題がある。また、上記ラミネーティング法を用いた接着フィルムの場合は、フィルム接着面の界面を通じた水分及び酸素の流入等の問題がある。
また、有機電子素子の封止時に、吸湿剤をパネルの内部に装着したメタルキャップ法を使用する場合、吸湿剤を使用するためのメタルキャップ構造は、所定の高さに突出した延長部が形成され、最後に接着剤を使用してメタルキャップを基板と貼り合わせるか、ガラスを加工してガラスキャップを形成して有機発光素子を封止する場合は、サンドブラストやエッチング等の方法を使用して、一定の溝の内部に吸湿剤を装着して基板と貼り合わせる方法を使用する。このような従来の方式は、パネルが大型化すれば、封止内部空間の拡大によってメタルキャップの加工が難しくなり、ガラスキャップの場合は、外部圧力によって容易に破損するという問題を引き起こす。
このような困難さのため、既存の封止(Encapsulation)工程とは異なる、新たな封止技術の開発が要求されている。
本発明は、有機電子素子の寿命を向上し、外部から流入する酸素と水分等を効果的に遮断できる封止材を製造することができる組成物、及びこれを用いた封止材を提供するためのものである。
本発明の一実施態様は、
1)下記化学式1で表される第1単位、下記化学式2で表される第2単位、及び下記化学式3で表される第3単位を含む第1共重合体;
2)下記化学式2で表される第2単位、及び下記化学式3で表される第3単位を含む第2共重合体;
3)1種以上の光開始剤;及び
4)上記光開始剤を溶解させることのできる化合物
を含む封止材用組成物を提供する。
Figure 2019536864

Figure 2019536864

Figure 2019536864

上記化学式1〜3において、
R1は、直接結合、又はアルキレン基であり、
R2〜R7は、互いに同一であるか異なっており、それぞれ独立して、水素、アルキル基、アルケニル基、アリール基、グリシジル基、イソシアネート基、ヒドロキシ基、カルボキシル基、ビニル基、アクリレート基、メタクリレート基、エポキシド(epoxide)基、環状エーテル(cyclic ether)基、スルフィド(sulfide)基、アセタール(acetal)基、ラクトン(lactone)基、アミド基、アルキルアリール基、アルキルグリシジル基、アルキルイソシアネート基、アルキルヒドロキシ基、アルキルカルボキシル基、アルキルビニル基、アルキルアクリレート基、アルキルメタクリレート基、アルキル環状エーテル基、アルキルスルフィド基、アルキルアセタール基、アルキルラクトン基及びアルキルアミド基からなる群より選択されることができ、
a、b、c及びdは、それぞれ独立して、1〜200である。
また、本発明の別の実施態様は、上記封止材用組成物を用いた封止材を提供する。
本発明の一実施態様に係る封止材用組成物は、有機電子素子の寿命を向上し、外部から流入する酸素と水分等を効果的に遮断できる封止材を製造することができる特徴がある。
また、本発明の一実施態様に係る封止材用組成物は、第1共重合体のような新規なオルガノポリシリコーン系樹脂を導入することにより、上記封止材用組成物を用いた封止材の感度を向上する特徴を有する。
特に、本発明の一実施態様に係る封止材用組成物は、光開始剤を溶解させることのできる化合物を含むことにより、光開始剤の導入量を増加させて、UV硬化時に感度を向上することができる。このように、硬化率を高めることにより、硬化後、硬化物のアウトガスを低減させる特徴を有する。
以下、本願について詳細に説明する。
有機EL素子は、多結晶の半導体デバイスであり、低電圧で高輝度の発光を得るために液晶のバックライト等に使用され、薄型平面表示デバイスとして期待されている。しかしながら、有機EL素子は水分に極めて弱く、金属電界と有機EL層との界面が水分の影響で剥離したり、金属が酸化して高抵抗化したりし、有機物自体が水分によって変質したり、このため発光しなくなり、輝度が低下することもあるという問題点がある。
このような問題点を解決するために、有機EL素子を封止する方法が開発されている。既存の封止方法としては、基板と上部のガラス板との間のフリットガラスをレーザで溶かして両基板の縁を接着して密封する方法、密封ガラス板と有機EL基板との間の端をシーリング材を使用して接着する方式であって、密封ガラス板と有機EL素子との間に吸湿剤や充填材を挿入して、その内部の水分を除去するか機械的強度を高める方式が、有機EL素子において主に使用されている。
しかしながら、フリットガラスを使用した封止技術は、主に小型有機ELで使用する方式であり、密封ガラス板の縁をシーリング材を使用して接着する方式の場合、有機EL素子とガラス板との間に空間ができることにより、強度が低下し、高熱工程時に歪み現象が生じる短所がある。このような封止方法は、有機EL素子の大型化及び柔軟性が要求されるフレキシブル有機ELパネルの作製に導入するには困難がある。
本発明は、有機電子素子の寿命を向上し、外部から流入する酸素と水分等を効果的に遮断できる封止材を製造することができると共に、硬化型システムを導入して、後工程進行の際、工程安定性を有することができる硬化型封止材組成物、そしてこれを用いた封止材を提供するためのものである。
特に、本発明の一実施態様に係る封止材用組成物は、光開始剤を溶解させることのできる化合物を含むことにより、光開始剤の導入量を増加させて、UV硬化時に感度を向上することができる。このように、硬化率を高めることにより、硬化後、硬化物のアウトガスを低減させる特徴を有する。
本発明の一実施態様に係る封止材用組成物は、1)上記化学式1で表される第1単位、上記化学式2で表される第2単位、及び上記化学式3で表される第3単位を含む第1共重合体;2)上記化学式2で表される第2単位、及び上記化学式3で表される第3単位を含む第2共重合体;及び3)1種以上の光開始剤;及び4)上記光開始剤を溶解させることのできる化合物を含む。
本発明において、上記第1共重合体は、上記化学式1で表される第1単位、上記化学式2で表される第2単位、及び上記化学式3で表される第3単位を含むことを特徴とする。
一般的に、シリコーン系樹脂内の一つのシリコン原子に結合される酸素原子の個数が2個である樹脂は、D−typeシリコーン系樹脂と言い、シリコーン系樹脂内の一つのシリコン原子に結合される酸素原子の個数が3個である樹脂は、T−typeシリコーン系樹脂と言う。従来は、D−typeシリコーン系樹脂又はT−typeシリコーン系樹脂をそれぞれ単独で使用するか、D−typeシリコーン系樹脂とT−typeシリコーン系樹脂とを互いに混合して使用してきた。しかしながら、本発明に係る第1共重合体のようなシリコーン系樹脂は、従来のようなD−typeシリコーン系樹脂とT−typeシリコーン系樹脂との混合物ではない、シリコーン系樹脂内にD−typeとT−typeとを同時に含むシリコーン系樹脂であって、従来とは異なるシリコーン系樹脂である。
本発明の一実施態様によれば、シリコーン樹脂内にD−typeとT−typeとを同時に含むことにより、封止材薄膜の適正な強度を得ることができ、封止材組成物の硬化工程時に感度を向上できる特徴がある。
本発明の一実施態様において、上記化学式1のR2は、ビニル基、アクリレート基又はメタクリレート基であってもよいが、これにのみ限定されるものではない。
本発明の一実施態様において、上記化学式2及び3のR3〜R7は、それぞれ独立して、水素又はアルキル基であってもよいが、これにのみ限定されるものではない。
上記第1共重合体において、上記化学式1で表される第1単位:上記化学式2で表される第2単位:上記化学式3で表される第3単位の重量比は、(1〜30):(5〜80):(1〜30)であってもよく、(5〜15):(10〜50):(5〜15)であってもよいが、これにのみ限定されるものではない。
上記第1共重合体の重量平均分子量は、100〜1,000,000であってもよく、1,000〜50,000であってもよいが、これにのみ限定されるものではない。
上記第1共重合体の含量は、封止材用組成物の総重量を基準に20〜90重量%であってもよく、30〜70重量%であってもよいが、これにのみ限定されるものではない。
本発明において、上記第2共重合体は、上記化学式2で表される第2単位、及び上記化学式3で表される第3単位を含むことを特徴とする。上記第2共重合体は、D−typeシリコーン系樹脂であってもよい。
上記第2共重合体において、上記化学式2で表される第2単位:上記化学式3で表される第3単位の重量比は、1:1〜100:1であってもよく、1:1〜10:1であってもよく、3:1〜7:1であってもよいが、これにのみ限定されるものではない。
上記第2共重合体の重量平均分子量は、100〜1,000,000であってもよく、1,000〜50,000であってもよいが、これにのみ限定されるものではない。
上記第2共重合体の含量は、封止材用組成物の総重量を基準に1〜70重量%であってもよく、5〜60重量%であってもよいが、これにのみ限定されるものではない。
本発明の一実施態様によれば、上記第1共重合体と第2共重合体とを同時に適用することにより、封止材薄膜の適正な強度を得ることができ、封止材組成物の硬化工程時に感度を向上できる特徴がある。
本発明において、上記第1共重合体及び第2共重合体は、それぞれ独立して、ランダム共重合体であってもよい。
本発明において、上記光開始剤は、熱的に非活性であるが、化学線にさらされると、自由ラジカルを発生するものである。上記光開始剤としては、共役炭素環系のうち2個の環内炭素原子を持つ化合物である、置換もしくは非置換の多核キノン、例えば、2−ベンジル−2−(ジメチルアミノ)−1−(4−モルホリノフェニル)−1−ブタノン、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、9,10−アントラキノン、2−メチルアントラキノン、2−エチルアントラキノン、2−tert−ブチルアントラキノン、オクタメチルアントラキノン、1,4−ナフトキノン、9,10−フェナントレンキノン、ベンズ(ベンザ)アントラセン−7,12−ジオン、2,3−ナフタセン−5,12−ジオン、2−メチル−1,4−ナフトキノン、1,4−ジメチルアントラキノン、2,3−ジメチルアントラキノン、2−フェニルアントラキノン、2,3−ジフェニルアントラキノン、レテンキノン、7,8,9,10−テトラヒドロナフトラセン−5,12−ジオン、及び1,2,3,4−テトラヒドロベンズ(テトラヒドロベンザ)−アントラセン−7,12−ジオンが挙げられるが、これにのみ限定されるものではない。
上記光開始剤の含量は、封止材用組成物の総重量を基準に0.1〜10重量%であってもよいが、これにのみ限定されるものではない。
上記光開始剤の含量が封止材用組成物の総重量を基準に0.1重量%未満の場合には、硬化を促進する活性ラジカルの数が少なくて、強い紫外線を照射しても、硬化が進行されない問題点が発生するおそれがあり、10重量%を超過する場合には、硬化後100℃未満の温度条件でアウトガス(outgas)が発生して、有機発光素子の寿命を短縮させるおそれがある。
上記光開始剤を溶解させることのできる化合物としては、シリコーン樹脂と混ざって、光学的分離を起こさない種類の化合物を含むことができる。上記光開始剤を溶解させることのできる化合物の具体的な例としては、アクリレート系化合物、メタクリレート系化合物、シロキサン系化合物、シリコーンアクリレート系化合物等が挙げられるが、これにのみ限定されるものではない。上記光開始剤を溶解させることのできる化合物は、デバイスに適用後、アウトガスを発生させないように、バインダーと架橋できる官能基を有する化合物であれば好ましく、シリコーン樹脂と光学的特性を合わせるために、重量平均分子量が1,000以下、好ましくは400以下であることが良い。上記光開始剤を溶解させることのできる化合物としては、α−メタクリロキシγ−ブチロラクトン、メチルメタクリレート、ヒドロキシメチルメタクリレート、スチレン、アダマンタルメチルメタクリレート、1,6−ヘキサジオールジメタクリレート、1,6−ヘキサジオールジアクリレート、1,3−プロパンジオールジメタクリレート、1,3−プロパンジオールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、エチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、ペンタアクリトリトールトリアクリレート、ペンタアクリトリトールテトラアクリレート、テトラエチレングリコールジメタクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ブタンジオールジメタクリレート、ブタンジオールジアクリレート、ジプロピレングリコールジメタクリレート、ジプロピレングリコールジアクリレート、メタクリロキシメチル−ビス−トリメチルシロキシメチルシラン、メタクリロキシメチルジメチルエトキシシラン、メタクリロキシメチルフェニルジメチルシラン、メタクリロキシプロピルトリスエトキシシラン、メタクリロキシトリメチルシラン、メタクリロキシトリメチルシラン、メタクリロキシプロピルトリストリメチルシロキシシラン等が挙げられるが、これにのみ限定されるものではない。
上記光開始剤を溶解させることのできる化合物の含量は、封止材用組成物の総重量を基準に0.1〜30重量%であってもよいが、使用する光開始剤の溶解度によって使用量が変わり得るので、これにのみ限定されるものではない。
また、上記光開始剤を溶解させることのできる化合物は、下記化学式4又は5で表されることができるが、これにのみ限定されるものではない。
Figure 2019536864

Figure 2019536864

本発明の一実施態様において、上記封止材用組成物は、下記化学式6で表される反応性シリコーン系オリゴマーをさらに含むことができる。
Figure 2019536864

上記化学式6において、
R9、R10、R12及びR16は、互いに同一であるか異なっており、それぞれ独立して、直接結合、又はアルキレン基であり、
R8、R11、R13、R14、R15及びR17は、互いに同一であるか異なっており、それぞれ独立して、水素、アルキル基、アルケニル基、アリール基、グリシジル基、イソシアネート基、ヒドロキシ基、カルボキシル基、ビニル基、アクリレート基、メタクリレート基、エポキシド(epoxide)基、環状エーテル(cyclic ether)基、スルフィド(sulfide)基、アセタール(acetal)基、ラクトン(lactone)基、アミド基、アルキルアリール基、アルキルグリシジル基、アルキルイソシアネート基、アルキルヒドロキシ基、アルキルカルボキシル基、アルキルビニル基、アルキルアクリレート基、アルキルメタクリレート基、アルキル環状エーテル基、アルキルスルフィド基、アルキルアセタール基、アルキルラクトン基及びアルキルアミド基からなる群より選択されることができ、
eは、1〜100である。
本発明の一実施態様において、上記反応性シリコーン系オリゴマーの重量平均分子量は、100〜15,000であってもよいが、これにのみ限定されるものではない。
本発明の一実施態様において、上記化学式6のR11及びR13は、それぞれ独立して、ビニル基、アクリレート基又はメタクリレート基であってもよいが、これにのみ限定されるものではない。
本発明の一実施態様において、上記化学式6のR8、R14、R15及びR17は、それぞれ独立して、水素又はアルキル基であってもよいが、これにのみ限定されるものではない。
本発明の一実施態様において、上記化学式6は、下記化学式7で表されることができる。
Figure 2019536864

本発明の一実施態様において、上記反応性シリコーン系オリゴマーは、封止材用組成物の封止材の表面レベリングを調節する役割を果たすことができる。
本発明の一実施態様において、上記封止材用組成物は、第1共重合体、第2共重合体、光開始剤、上記光開始剤を溶解させることのできる化合物、及び反応性シリコーン系オリゴマーを含むことができる。このとき、上記封止材用組成物の総重量を基準に、上記第1共重合体の含量は20〜60重量%、上記第2共重合体の含量は10〜30重量%、上記光開始剤の含量は0.1〜10重量%、上記光開始剤を溶解させることのできる化合物の含量は5〜30重量%、及び上記反応性シリコーン系オリゴマーの含量は5〜30重量%であってもよいが、これにのみ限定されるものではない。
本発明の一実施態様に係る封止材用組成物は、上記シリコーン樹脂材料の硬化速度を調節するために、当該技術分野に知られている単量体をさらに含むことができる。上記単量体の具体的な例としては、アクリレート系単量体、メタクリレート系単量体、シロキサン系単量体等が挙げられるが、これにのみ限定されるものではない。
上記単量体としては、トリエチロールプロパンエトキシトリアクリレート、t−ブチル(メタ)アクリレート、1,5−ペンタンジオールジ(メタ)アクリレート、N,N−ジエチルアミノエチル(メタ)アクリレート、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,4−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ヘキサメチレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,3−プロパンジオールジ(メタ)アクリレート、デカメチレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,4−シクロヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、2,2−ジメチロールプロパンジ(メタ)アクリレート、グリセロールジ(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、グリセロールトリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリトリトールトリ(メタ)アクリレート、ポリオキシエチル化トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、2,2−ジ−(p−ヒドロキシフェニル)プロパンジアクリレート、ペンタエリトリトールテトラ(メタ)アクリレート、2,2−ジ−(p−ヒドロキシフェニル)プロパンジメタクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、ポリオキシエチル−2,2−ジ−(p−ヒドロキシフェニル)プロパンジメタクリレート、ビスフェノールAのジ−(3−メタクリロキシ−2−ヒドロキシプロピル)エーテル、ビスフェノールAのジ−(2−メタクリロキシエチル)エーテル、ビスフェノールAのジ−(3−アクリロキシ−2−ヒドロキシプロピル)エーテル、ビスフェノールAのジ−(2−アクリロキシエチル)エーテル、1,4−ブタンジオールのジ−(3−メタクリロキシ−2−ヒドロキシプロピル)エーテル、トリエチレングリコールジメタクリレート、ポリオキシプロピルトリメチロールプロパントリアクリレート、ブチレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,2,4−ブタントリオールトリ(メタ)アクリレート、2,2,4−トリメチル−1,3−ペンタンジオールジ(メタ)アクリレート、1−フェニルエチレン−1,2−ジメタクリレート、ジアリルフマレート、スチレン、1,4−ベンゼンジオールジメタクリレート、1,4−ジイソプロペニルベンゼン、1,3,5−トリイソプロペニルベンゼン、シリコーン系単量体、シリコーンアクリレート系単量体、シリコーンウレタン系単量体等が挙げられるが、これにのみ限定されるものではない。
また、本出願の一実施態様に係る封止材用組成物は、その用途によって、硬化触媒、粘度調整剤、硬化剤、分散剤、安定剤、硬化促進剤等の添加剤を一つ以上含むことができる。 これら添加剤は、単独又は2種以上混合して使用することができる。
また、本発明の一実施態様に係る封止材は、上記封止材用組成物を用いることを特徴とする。より具体的に、本発明の一実施態様に係る封止材は、1)上記化学式1で表される第1単位、上記化学式2で表される第2単位、及び上記化学式3で表される第3単位を含む第1共重合体;2)上記化学式2で表される第2単位、及び上記化学式3で表される第3単位を含む第2共重合体;及び3)1種以上の光開始剤;及び4)上記光開始剤を溶解させることのできる化合物を含むことができる。また、本発明の一実施態様に係る封止材は、上記化学式4で表される反応性シリコーン系オリゴマーをさらに含むことができる。
本発明の一実施態様に係る封止材において、上記第1共重合体、第2共重合体、光開始剤、光開始剤を溶解させることのできる化合物、反応性シリコーン系オリゴマー等に関する内容は、上述したことと同様であるので、これに関する具体的な説明は省略する。
本発明の一実施態様に係る封止材は、上述した封止材用組成物を用いることを除き、当該技術分野に知られている方法を用いて形成することができる。より具体的に、上記封止材用組成物を基板上に塗布、コーティング、印刷等の方法を用いて形成することができるが、これにのみ限定されるものではない。
本発明の一実施態様に係る封止材用組成物は、有機電子素子の寿命を向上し、外部から流入する酸素と水分等を効果的に遮断できる封止材を製造することができる特徴がある。また、第1共重合体内にD−typeとT−typeとのシリコーン樹脂を同時に含むことにより、特にUV硬化時に少ないエネルギーでも高感度を得ることができ、柔軟性と強度とを同時に有する硬化物を得ると共に、素子に対するアウトガスの影響を最小化する特徴を有する。
本発明の一実施態様に係る封止材は、多様な対象を封止(encapsulation)して保護することに適用されることができる。特に、上記封止材は、外部成分、例えば、水分あるいは湿気に敏感な素子を含む対象の保護に効果的である。封止材が適用できる対象の例としては、光電池装置(photovoltaic device)、整流器(rectifier)、トランスミッタ(transmitter) 又は有機発光素子(organic light emitting diode; OLED)等のような有機電子素子;太陽電池;又は二次電池等が挙げられるが、これにのみ限定されるものではない。
本発明の一実施態様に係る封止材が適用される対象は、無機保護層と本発明の封止材とが多層で形成されて、素子が密封されることができる。上記無機保護層と本発明の封止材とは交互に積層されることができるが、これにのみ限定されるものではない。上記無機保護層は、スパッタリング、蒸発、昇華、化学気相蒸着、金属有機化学気相蒸着、そしてこれらの組み合わせのような真空プロセスで沈積されたものを意味する。
また、硬化過程で生成する副産物又は硬化開始剤中の未反応の残留物に起因するアウトガス(out gas)を最小化して、密封構造の内部における残留可能性を下げており、優れた透明性を示して、トップエミッション(top emission)又はボトムエミッション(bottom emission)等の有機電子素子の形態に関わらず、安定した封止材として形成されることができる。
上記有機電子素子は、上述した材料で封止材を構成することを除き、当該技術分野に知られている通常の構成として提供されることができる。例えば、下部及び/又は上部基板としては、当該技術分野で通常使用されるガラス、金属又は高分子フィルム等を使用することができる。また、有機電子素子は、例えば、1対の電極及び1対の電極の間に形成された有機材料の層を含むことができる。ここで、1対の電極のうちいずれか一つは、透明電極として構成されることができる。また、有機材料の層は、例えば、正孔輸送層、発光層及び電子輸送層等を含むことができる。
以下、実施例を通じて本明細書をより詳細に説明する。ところが、以下の実施例は、本明細書を例示するためのものに過ぎず、本明細書を限定するためのものではない。
<実施例>
<合成例1> 第1共重合体の製造
5,000mlの三口丸底フラスコにTSL8370(Momentive社)を150g、TSL8032(Momentive社)1,250g、TSL8031(Momentive社)65g、トルエン(Toluene)1,600gを入れてよく撹拌した後、常温で水100gを滴下して約1時間撹拌した。
撹拌後、さらに水700gを添加した後、温度を70℃に上げて2hrを撹拌した。撹拌を終えた後、シリコーン層と水層とを分離して、水層は捨ててシリコーンポリマー層を残した。
シリコーンポリマー層を80℃に加熱した後、50%に希釈したKOH溶液を0.5g入れて、120℃に昇温して2時間を撹拌した。最終のシリコーンポリマー層から水を全部除去して、第1共重合体を得た。
GPCによって分子量を測定した結果、ポリスチレンスタンダードで重量平均分子量5,000g/molであった。
<合成例2> 第2共重合体の製造
5,000mlの三口丸底フラスコにTSL8032(Momentive社)450g、TSL8031(Momentive社)100g、トルエン(Toluene)1,200gを入れてよく撹拌した後、常温で水120gを滴下して約1時間撹拌した。
撹拌後、さらに水700gを添加した後、温度を70℃に上げて2hrを撹拌した。撹拌を終えた後、シリコーン層と水層とを分離して、水層は捨ててシリコーンポリマー層を残した。
シリコーンポリマー層を80℃に加熱した後、50%に希釈したKOH溶液を0.5g入れて、120℃に昇温して2時間を撹拌した後、最終生成物を得た。
シリコーンポリマー層から水を全部除去して、第2共重合体を得た。
GPCによって分子量を測定した結果、ポリスチレンスタンダードで重量平均分子量1,600g/molであった。
<合成例3> シリコーンアクリレート化合物Aの製造
5,000mlの三口丸底フラスコに1,1,1,3,5,5,5−ヘプタメチル3−β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリシロキサン(1,1,1,3,5,5,5−heptamethyl 3−beta−(3,4−epoxy cyclohexyl)ethyl trisiloxane)を1,500g、トルエン(Toluene)1,000g、チタニウムイソプロポキシド6gを入れてよく撹拌した。
その後、温度を90℃に上げてアクリル酸(Acrylic acid)300gを滴下し、8時間を撹拌した。撹拌を終えた後、シリカ(Rhodia MicroPearl Zeosil 1165 MP)30gを追加して、常温で2時間さらに撹拌した。
撹拌後、フィルターで濾過してシリカを除去した。次に、真空状態でストリッピング(stripping)を行ってトルエンを全部除去した後、シリコーンアクリレート化合物Aを得た。
<実施例1>
ガラスバイアルに上記合成例1で得た第1共重合体48g、上記合成例2で得た第2共重合体19g、上記化学式7の構造を有するシリコーン系オリゴマー(Momentive 社のTSL9706)19g、α−メタクリロキシγ−ブチロラクトン(味元社)10g、Basf社の光開始剤(TPO)4gをよく撹拌して、シリコーン感光性樹脂組成物を得た。
<実施例2>
ガラスバイアルに上記合成例1で得た第1共重合体44g、上記合成例2で得た第2共重合体16g、上記化学式7の構造を有するシリコーン系オリゴマー(Momentive社のTSL9706)16g、α−メタクリロキシγ−ブチロラクトン(味元社)20g、Basf社の光開始剤(TPO)4gをよく撹拌して、シリコーン感光性樹脂組成物を得た。
<実施例3>
ガラスバイアルに上記合成例1で得た第1共重合体48g、上記合成例2で得た第2共重合体17g、上記化学式7の構造を有するシリコーン系オリゴマー(Momentive社のTSL9706)17g、α−メタクリロキシγ−ブチロラクトン(味元社)10g、Basf社の光開始剤(TPO)8gをよく撹拌して、シリコーン感光性樹脂組成物を得た。
<実施例4>
ガラスバイアルに上記合成例1で得た第1共重合体48g、上記合成例2で得た第2共重合体19g、上記化学式7の構造を有するシリコーン系オリゴマー(Momentive社のTSL9706)19g、1,6−ヘキサジオールジメタクリレート(シグマアルドリッチ社)10g、Basf社の光開始剤(TPO)4gをよく撹拌して、シリコーン感光性樹脂組成物を得た。
<実施例5>
ガラスバイアルに上記合成例1で得た第1共重合体44g、上記合成例2で得た第2共重合体16g、上記化学式7の構造を有するシリコーン系オリゴマー(Momentive社のTSL9706)16g、1,6−ヘキサジオールジアクリレート(シグマアルドリッチ社)20g、Basf社の光開始剤(TPO)4gをよく撹拌して、シリコーン感光性樹脂組成物を得た。
<実施例6>
ガラスバイアルに上記合成例1で得た第1共重合体48g、上記合成例2で得た第2共重合体17g、上記化学式7の構造を有するシリコーン系オリゴマー(Momentive社のTSL9706)17g、1,6−ヘキサジオールジアクリレート(シグマアルドリッチ社)10g、Basf社の光開始剤(TPO)8gをよく撹拌して、シリコーン感光性樹脂組成物を得た。
<実施例7>
ガラスバイアルに上記合成例1で得た第1共重合体38g、上記合成例2で得た第2共重合体34g、上記化学式7の構造を有するシリコーン系オリゴマー(Momentive社のTSL9706)19g、上記合成例3で得たシリコーンアクリレート化合物A5g、Basf社の光開始剤(TPO)4gをよく撹拌して、シリコーン感光性樹脂組成物を得た。
<実施例8>
ガラスバイアルに上記合成例1で得た第1共重合体29g、上記合成例2で得た第2共重合体34g、上記化学式7の構造を有するシリコーン系オリゴマー(Momentive社のTSL9706)19g、上記合成例3で得たシリコーンアクリレート化合物A14g、Basf社の光開始剤(TPO)4gをよく撹拌して、シリコーン感光性樹脂組成物を得た。
<実施例9>
ガラスバイアルに上記合成例1で得た第1共重合体38g、上記合成例2で得た第2共重合体32g、上記化学式7の構造を有するシリコーン系オリゴマー(Momentive社のTSL9706)17g、上記合成例3で得たシリコーンアクリレート化合物A5g、Basf社の光開始剤(TPO)8gをよく撹拌して、シリコーン感光性樹脂組成物を得た。
<比較例1>
ガラスバイアルに上記合成例1で得た第1共重合体48g、上記合成例2で得た第2共重合体24g、上記化学式7の構造を有するシリコーン系オリゴマー(Momentive社のTSL9706)24g、Basf社の光開始剤(TPO)4gをよく撹拌して、シリコーン感光性樹脂組成物を得た。
<比較例2>
ガラスバイアルに上記合成例1で得た第1共重合体48g、上記合成例2で得た第2共重合体22g、上記化学式7の構造を有するシリコーン系オリゴマー(Momentive社のTSL9706)22g、Basf社の光開始剤(TPO)8gをよく撹拌して、シリコーン感光性樹脂組成物を得た。
<比較例3>
ガラスバイアルに上記合成例1で得た第1共重合体76g、上記化学式7の構造を有するシリコーン系オリゴマー(Momentive社のTSL9706)20g、Basf社の光開始剤(TPO)4gをよく撹拌して、シリコーン感光性樹脂組成物を得た。
<比較例4>
ガラスバイアルに上記合成例2で得た第2共重合体76g、上記化学式7の構造を有するシリコーン系オリゴマー(Momentive社のTSL9706)20g、Basf社の光開始剤(TPO)4gをよく撹拌して、シリコーン感光性樹脂組成物を得た。
Figure 2019536864

上記製造された実施例1〜9、及び比較例1〜4の組成物の特性を評価して、下記表2に示す。
Figure 2019536864

<実験例>
1)PI溶解性
PI溶解性は、実施例及び比較例に記載されている組成で配合したとき、パウダータイプの光硬化剤が全部溶けているのかを肉眼で観察して、溶解したか否かを判断した。
2)硬化後粘着テスト
本発明のシリコーン感光性樹脂組成物を所定の前処理をした基板上にスピンコート法、ロールコート法、スクリーン印刷法、アプリケーター法等の方法を使用して、適正な厚さ、例えば4〜40μmの厚さで塗布した後、塗布面の上に同一の基板を被せた。その後、395nmのi−line波長下で1Jのエネルギーを照射した。照射に使用される光源としては、低圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、金属ハロゲン化物ランプ、アルゴンガスレーザ等を使用することができ、場合によって、X線、電子線等も用いることができる。
エネルギーを照射した後、一定の力を加えて上部の基板を押し出したとき、押されるか否かによって硬化又は未硬化を判断した。上部の基板が押し出されて下部の基板と分離したときを未硬化と判断し、上部の基板が堅く固定されて、押されない場合を硬化と判断した。
3)光硬化率(UV Curing Conversion, %)
光硬化率は、FT−IR(IR−Prestige21, Shimadzu社)を使用して確認した。吸光が全然なく、透過度が100%であるフィルムに5μmの厚さで薄膜を塗布した後、同一のフィルムで表面を覆った。このようにして得た試片を、硬化前、1J(@395nmのLED波長)照射、5J(@395nmのLED波長)照射後、試片のFT−IR分析を進行して、1,635cm−1付近(C=C)での透過ピークの透過率(Transmittance, %)強度を測定した。光硬化率は、下記数式1によって計算した。
Figure 2019536864

上記数式1において、
Aは、硬化前の1,635cm−1付近(C=C)での透過率(Transmittance, %)であり、Bは、1J硬化後の1,635cm−1付近(C=C)での透過率(Transmittance, %)であり、Cは、5J硬化後の1,635cm−1付近(C=C)での透過率(Transmittance, %)である。
上記光硬化率が低い場合、未硬化の残余物が多くなることにより、塗膜のアウトガス(Out gas)を多量発生させる原因となる。
4)貯蔵弾性率(Storage Modulus)
貯蔵弾性率(at 25℃, Mpa)は、DMA(TA社のQ800)を使用して確認した。試料を横5.3mm×縦17.7672mm×高さ2mmの型(mold)に入れた後、UV 1J(@395nmのLED波長)を照射して試片を作製した。
このように作製された試片を、DMAを使用して−40℃〜80℃まで1分当たり3℃の昇温速度で分析を進行して、貯蔵弾性率を得た。そのうち25℃でのStorage値を取った。
5)アウトガス
アウトガスは、パイロライザーにサンプリングをしてGC/MSを用いて分析した。パイロライザーの温度は100℃、GCオーブンの温度は300℃の条件で分析を進行して、アウトガスを求めた。
分析サンプルのサンプリングは、組成物を5μmの厚さで薄膜塗布して、窒素雰囲気下でUV硬化を行って、硬化後物質を得て、分析を進行した。露光エネルギーは395nmで1Jで進行した。
上述した通り、本発明の一実施態様に係る封止材用組成物は、有機電子素子の寿命を向上し、外部から流入する酸素と水分等を効果的に遮断できる封止材を製造することができる特徴がある。
また、本発明の一実施態様に係る封止材用組成物は、第1共重合体のような新規なオルガノポリシリコーン系樹脂を導入することにより、上記封止材用組成物を用いた封止材の感度を向上する特徴を有する。
特に、本発明の一実施態様に係る封止材用組成物は、光開始剤を溶解させることのできる化合物をさらに含有することにより、光開始剤の導入量を増加させて、UV硬化時に感度を向上することができる。このように、硬化率を高めることにより、硬化後、硬化物のアウトガスを低減させる特徴を有する。

Claims (13)

  1. 1)下記化学式1で表される第1単位、下記化学式2で表される第2単位、及び下記化学式3で表される第3単位を含む第1共重合体;
    2)下記化学式2で表される第2単位、及び下記化学式3で表される第3単位を含む第2共重合体;
    3)1種以上の光開始剤;及び
    4)前記光開始剤を溶解させることのできる化合物
    を含む封止材用組成物:
    Figure 2019536864

    Figure 2019536864

    Figure 2019536864

    前記化学式1〜3において、
    R1は、直接結合、又はアルキレン基であり、
    R2〜R7は、互いに同一であるか異なっており、それぞれ独立して、水素、アルキル基、アルケニル基、アリール基、グリシジル基、イソシアネート基、ヒドロキシ基、カルボキシル基、ビニル基、アクリレート基、メタクリレート基、エポキシド(epoxide)基、環状エーテル(cyclic ether)基、スルフィド(sulfide)基、アセタール(acetal)基、ラクトン(lactone)基、アミド基、アルキルアリール基、アルキルグリシジル基、アルキルイソシアネート基、アルキルヒドロキシ基、アルキルカルボキシル基、アルキルビニル基、アルキルアクリレート基、アルキルメタクリレート基、アルキル環状エーテル基、アルキルスルフィド基、アルキルアセタール基、アルキルラクトン基及びアルキルアミド基からなる群より選択されることができ、
    a、b、c及びdは、それぞれ独立して、1〜200である。
  2. 前記化学式1のR2は、ビニル基、アクリレート基又はメタクリレート基であることを特徴とする請求項1に記載の封止材用組成物。
  3. 前記化学式2及び3のR3〜R7は、それぞれ独立して、水素又はアルキル基であることを特徴とする請求項1に記載の封止材用組成物。
  4. 前記第1共重合体において、前記化学式1で表される第1単位:前記化学式2で表される第2単位:前記化学式3で表される第3単位の重量比は、(1〜30):(5〜80):(1〜30)であることを特徴とする請求項1に記載の封止材用組成物。
  5. 前記第2共重合体において、前記化学式2で表される第2単位:前記化学式3で表される第3単位の重量比は、1:1〜100:1であることを特徴とする請求項1に記載の封止材用組成物。
  6. 前記光開始剤を溶解させることのできる化合物は、アクリレート系化合物、メタクリレート系化合物及びシロキサン系化合物からなる群より選択される1種以上を含むことを特徴にする請求項1に記載の封止材用組成物。
  7. 前記光開始剤を溶解させることのできる化合物は、下記化学式4又は5で表されることを特徴とする請求項1に記載の封止材用組成物。
    Figure 2019536864

    Figure 2019536864
  8. 前記封止材用組成物の総重量を基準に、前記第1共重合体の含量は20〜90重量%であり、前記第2共重合体の含量は1〜70重量%であり、前記光開始剤を溶解させることのできる化合物の含量は0.1〜30重量%であり、前記光開始剤の含量は0.1〜10重量%であることを特徴とする請求項1に記載の封止材用組成物。
  9. 前記封止材用組成物は、下記化学式6で表される反応性シリコーン系オリゴマーをさらに含むことを特徴とする請求項1に記載の封止材用組成物:
    Figure 2019536864

    前記化学式6において、
    R9、R10、R12及びR16は、互いに同一であるか異なっており、それぞれ独立して、直接結合、又はアルキレン基であり、
    R8、R11、R13、R14、R15及びR17は、互いに同一であるか異なっており、それぞれ独立して、水素、アルキル基、アルケニル基、アリール基、グリシジル基、イソシアネート基、ヒドロキシ基、カルボキシル基、ビニル基、アクリレート基、メタクリレート基、エポキシド(epoxide)基、環状エーテル(cyclic ether)基、スルフィド(sulfide)基、アセタール(acetal)基、ラクトン(lactone)基、アミド基、アルキルアリール基、アルキルグリシジル基、アルキルイソシアネート基、アルキルヒドロキシ基、アルキルカルボキシル基、アルキルビニル基、アルキルアクリレート基、アルキルメタクリレート基、アルキル環状エーテル基、アルキルスルフィド基、アルキルアセタール基、アルキルラクトン基及びアルキルアミド基からなる群より選択されることができ、
    eは、1〜100である。
  10. 前記化学式6は、下記化学式7で表されることを特徴とする請求項9に記載の封止材用組成物:
    Figure 2019536864
  11. 前記封止材用組成物の総重量を基準に、前記第1共重合体の含量は20〜60重量%、前記第2共重合体の含量は10〜30重量%、前記光開始剤の含量は0.1〜10重量%、前記光開始剤を溶解させることのできる化合物の含量は5〜30重量%、及び前記反応性シリコーン系オリゴマーの含量は5〜30重量%であることを特徴とする請求項9に記載の封止材用組成物。
  12. 請求項1〜11のいずれか一項に記載の封止材用組成物を用いて形成された封止材。
  13. 請求項12に記載の封止材を含む有機電子素子。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102325112B1 (ko) * 2016-12-27 2021-11-12 모멘티브퍼포먼스머티리얼스코리아 주식회사 유기 전자 소자 봉지재용 조성물 및 이를 이용하여 형성된 봉지재
CN112979863B (zh) * 2021-04-29 2022-03-15 宁波市嘉化新材料科技有限公司 一种改性聚丙烯酸酯乳液及其在制备防油防水纸中的用途

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008074982A (ja) * 2006-09-22 2008-04-03 Shin Etsu Chem Co Ltd 加熱硬化型シリコーン組成物及びそれを用いた発光ダイオード素子
WO2011056832A1 (en) * 2009-11-09 2011-05-12 Dow Corning Corporation Process for preparing clustered functional polyorganosiloxanes, and methods for their use
JP2011225884A (ja) * 1995-05-19 2011-11-10 Novartis Ag ポリシロキサン−ポリオールマクロマー、これらの製造法及びこれらの用途
KR20130113635A (ko) * 2012-04-06 2013-10-16 롬엔드하스전자재료코리아유한회사 유기실록산 중합체를 포함하는 감광성 수지 조성물
JP2014001341A (ja) * 2012-06-20 2014-01-09 Momentive Performance Materials Inc 紫外線硬化型シリコーン樹脂組成物、及びそれを用いた画像表示装置
JP2016191001A (ja) * 2015-03-31 2016-11-10 信越化学工業株式会社 画像表示装置用紫外線硬化型液状オルガノポリシロキサン組成物、該組成物を含む画像表示装置用接着剤、該接着剤を用いた画像表示装置及び該接着剤を用いた接着方法
JP2018058951A (ja) * 2016-10-03 2018-04-12 モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社 硬化性ポリオルガノシロキサン組成物および電気・電子機器
JP2019521207A (ja) * 2016-05-19 2019-07-25 モメンティブ パフォーマンス マテリアルズ インコーポレイテッドMomentive Performance Materials Inc. 硬化性、二重硬化、1部型シリコーン組成物

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
HUE05848930T2 (hu) * 2004-12-01 2016-05-30 Henkel IP & Holding GmbH Fluoreszcens detektáló rendszert tartalmazó vulkanizálható szilikon készítmények
KR101553717B1 (ko) * 2009-08-21 2015-09-16 코오롱인더스트리 주식회사 봉지재용 조성물, 경화물 및 유기발광소자
JPWO2011034007A1 (ja) * 2009-09-16 2013-02-14 Jsr株式会社 感放射線性樹脂組成物及びレジストパターン形成方法
KR101253528B1 (ko) 2010-06-29 2013-04-11 차혁진 봉지막의 제조방법,이로부터 제조된 봉지막 및 이를 포함하는 유기전자소자
WO2012036477A2 (ko) * 2010-09-16 2012-03-22 주식회사 엘지화학 감광성 수지 조성물, 드라이 필름 솔더 레지스트 및 회로 기판
JP5494417B2 (ja) 2010-10-28 2014-05-14 信越化学工業株式会社 放射線硬化性シリコーン組成物
TWI624510B (zh) 2014-02-04 2018-05-21 日商道康寧東麗股份有限公司 硬化性聚矽氧組合物、其硬化物及光半導體裝置
KR20160002243A (ko) * 2014-06-30 2016-01-07 제일모직주식회사 경화형 폴리오르가노실록산 조성물, 봉지재, 및 광학기기
JP6359996B2 (ja) * 2015-03-31 2018-07-18 信越化学工業株式会社 画像表示装置用紫外線硬化型液状オルガノポリシロキサン組成物、該組成物を含む画像表示装置用接着剤、該接着剤を用いた画像表示装置及び該接着剤を用いた接着方法
KR20180034937A (ko) * 2016-09-28 2018-04-05 모멘티브퍼포먼스머티리얼스코리아 주식회사 유기 전자 소자 봉지재용 조성물 및 이를 이용하여 형성된 봉지재
KR20180062201A (ko) 2016-11-30 2018-06-08 모멘티브퍼포먼스머티리얼스코리아 주식회사 유기 전자 소자 봉지재용 조성물 및 이를 이용하여 형성된 봉지재
KR102325112B1 (ko) * 2016-12-27 2021-11-12 모멘티브퍼포먼스머티리얼스코리아 주식회사 유기 전자 소자 봉지재용 조성물 및 이를 이용하여 형성된 봉지재

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011225884A (ja) * 1995-05-19 2011-11-10 Novartis Ag ポリシロキサン−ポリオールマクロマー、これらの製造法及びこれらの用途
JP2008074982A (ja) * 2006-09-22 2008-04-03 Shin Etsu Chem Co Ltd 加熱硬化型シリコーン組成物及びそれを用いた発光ダイオード素子
WO2011056832A1 (en) * 2009-11-09 2011-05-12 Dow Corning Corporation Process for preparing clustered functional polyorganosiloxanes, and methods for their use
KR20130113635A (ko) * 2012-04-06 2013-10-16 롬엔드하스전자재료코리아유한회사 유기실록산 중합체를 포함하는 감광성 수지 조성물
JP2014001341A (ja) * 2012-06-20 2014-01-09 Momentive Performance Materials Inc 紫外線硬化型シリコーン樹脂組成物、及びそれを用いた画像表示装置
JP2016191001A (ja) * 2015-03-31 2016-11-10 信越化学工業株式会社 画像表示装置用紫外線硬化型液状オルガノポリシロキサン組成物、該組成物を含む画像表示装置用接着剤、該接着剤を用いた画像表示装置及び該接着剤を用いた接着方法
JP2019521207A (ja) * 2016-05-19 2019-07-25 モメンティブ パフォーマンス マテリアルズ インコーポレイテッドMomentive Performance Materials Inc. 硬化性、二重硬化、1部型シリコーン組成物
JP2018058951A (ja) * 2016-10-03 2018-04-12 モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社 硬化性ポリオルガノシロキサン組成物および電気・電子機器

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