JP2019534574A - 改良されたロードポートのためのシステム、装置、及び方法 - Google Patents
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Abstract
Description
[001] 本願は、2016年11月10日に出願された、「SYSTEMS, APPARATUS, AND METHODS FOR AN IMPROVED LOAD PORT」と題する米国非仮特許出願第15/348,967号(代理人整理番号24538−04/USA)からの優先権を主張し、すべての目的のためにその全体が参照により本書に組み込まれる。
EFEMは一般的に、処理ツールの中へ装填される基板と反応しないガス(例えば、窒素)が満たされた閉鎖環境を提供する。EFEMは、クリーンルーム環境(例えば、ロードポートによって密閉された基板キャリア内の)と処理システムの内部との間で基板を移送することができるロボットを含む。使用時には、EFEMは理想的には正圧に維持された窒素のみの環境である。しかしながら、気密密閉はクリーンルームとEFEMとの間で連続的には維持されていない。例えば、保守中には、作業員が安全に入ることができるように、EFEMには酸素が導入される。その後、残存する酸素を強制的に排出するため、EFEMは再び窒素で満たされる。
しかも、酸素は基板材料と反応し、EFEMを通る基板を汚染することがあるため、EFEMが窒素で満たされた後に、ロードポートの分離区画から酸素が徐々に漏れることは特に問題となる。実施形態によっては、EFEMが窒素で満たされると酸素が除去されるように、閉じ込められている酸素を強制的に排出するように動作可能な、ロードポートの分離区画内の専用の窒素パージサプライを提供することによって、この問題を解決する。幾つかの実施形態では、専用の窒素パージサプライと共に、或いは専用の窒素パージサプライなしで、ロードポートから酸素を強制的に排出するため、分離区画内のファンが使用される。幾つかの実施形態では、EFEM内のファンは、専用の窒素パージサプライと共に、或いは専用の窒素パージサプライなしで、ロードポートから酸素を引き出すために使用される。
Claims (15)
- ロードポートシステムであって、
ドックとキャリアオープナーとを支持するフレームと、
前記キャリアオープナーを上げ下げするように動作可能なエレベータと、
前記エレベータが内部で移動するように動作可能な分離区画であって、機器フロントエンドモジュール(EFEM)の空間から分離された空間を含む分離区画と、
前記分離区画内に閉じ込められた反応性ガスを前記分離区画からパージするように動作可能な、前記分離区画内のパージサプライと、
を備えるロードポートシステム。 - フレーム上に装着されたハウジングであって、前記フレームと共に前記分離区画の空間を画定するハウジングを更に含み、前記パージサプライは前記ハウジングを経由して前記分離区画に入る、請求項1に記載のシステム。
- 前記分離区画内の前記パージサプライは、ファクトリインターフェースドアを通過する基板と反応しないガスで前記分離区画をパージするように動作可能な、請求項1に記載のシステム。
- 前記閉じ込められた反応性ガスは酸素で、非反応性のパージガスは窒素である、請求項3に記載のシステム。
- 前記分離区画内の前記パージサプライは前記分離区画の下端に配置され、上方の閉じ込められた反応性ガスを、前記分離区画の外へ強制的に排出するように構成されている、請求項1に記載のシステム。
- 前記分離区画内の前記パージサプライは前記分離区画の上端に配置され、下方の閉じ込められた反応性ガスを、前記分離区画の外へ強制的に排出するように構成されている、請求項1に記載のシステム。
- 前記分離区画は、前記パージサプライに対向する前記分離区画の側面に配置された開口部を含む、請求項1に記載のシステム。
- ハウジングとフレームによって画定されたエレベータのための分離区画であって、ロードポートに連結可能な機器フロントエンドモジュール(EFEM)の空間から分離された空間を含む分離区画と、
前記分離区画内に閉じ込められた反応性ガスを前記分離区画からパージするように動作可能な、前記分離区画内のパージサプライと、
を備えるロードポート。 - 前記パージサプライは前記ハウジングを経由して前記分離区画に入る、請求項8に記載のロードポート。
- 前記分離区画内の前記パージサプライは、前記EFEMを通過する基板と反応しないガスで前記分離区画をパージするように動作可能な、請求項8に記載のロードポート。
- 前記閉じ込められた反応性ガスは酸素で、非反応性のパージガスは窒素である、請求項10に記載のロードポート。
- 前記分離区画内の前記パージサプライは前記分離区画の下端に配置され、上方の閉じ込められた反応性ガスを、前記分離区画の外へ強制的に排出するように構成されている、請求項8に記載のシステム。
- 前記分離区画内の前記パージサプライは前記分離区画の上端に配置され、下方に閉じ込められた反応性ガスを前記分離区画の外へ強制的に排出するように構成されており、前記分離区画は、前記パージサプライに対向する前記分離区画の側面に配置された開口部を含む、請求項8に記載のシステム。
- 機器フロントエンドモジュール(EFEM)システムをパージするための方法であって、
EFEMシステムを通過する基板と反応しないガスでEFEMを満たすことと、
分離区画内に配置された非反応性ガスサプライを用いて、前記分離区画内に閉じ込められた反応性ガスを前記EFEMに連結されたロードポートの分離区画からパージすることと、
前記分離区画を画定するハウジングを経由して、前記非反応性ガスサプライを前記分離区画に供給することと、
を含む、方法。 - 前記分離区画内のパージサプライは前記分離区画の下端に配置されており、前記閉じ込められた反応性ガスをパージすることは、上方の前記閉じ込められた反応性ガスを前記分離区画の外へ強制的に排出することを含む、請求項14に記載の方法。
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